JP2554875B2 - 液晶装置の製造方法 - Google Patents
液晶装置の製造方法Info
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- Liquid Crystal (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶装置の製造方法に関する。さらに詳し
くは、液晶を配向させるラビング方法に関する。
くは、液晶を配向させるラビング方法に関する。
従来の液晶表示装置の配向方法としては、基板上にポ
リイミド系高分子樹脂を塗布した後、布等で一定の方向
にラビングする（特開昭55−143525号公報）方法、又は
ラビング布を巻きつけたドラムを回転させてラビングす
る方法等が行なわれていた。
リイミド系高分子樹脂を塗布した後、布等で一定の方向
にラビングする（特開昭55−143525号公報）方法、又は
ラビング布を巻きつけたドラムを回転させてラビングす
る方法等が行なわれていた。
しかし、前述のラビング布を巻きつけたドラムを回転
させてラビング（以下回転ラビングと呼ぶ）する方法は
均一な配向を得るのには有利であるが、反面条件設定が
非常に困難であり、特に基板の表面とラビング布を巻き
つけた回転体との間隔がバラツクと配向膜にキズ（以下
線ホールドと呼ぶ）が発生してしまう。このキズは表示
装置としての表示品位の低下を起こす欠点となる。即
ち、パネルとなった場合キズの部分が目で確認できるぐ
らいに露出してしまうのである。又、前記間隔の制御は
容易ではなく実用化をする上で問題点となっていた。
させてラビング（以下回転ラビングと呼ぶ）する方法は
均一な配向を得るのには有利であるが、反面条件設定が
非常に困難であり、特に基板の表面とラビング布を巻き
つけた回転体との間隔がバラツクと配向膜にキズ（以下
線ホールドと呼ぶ）が発生してしまう。このキズは表示
装置としての表示品位の低下を起こす欠点となる。即
ち、パネルとなった場合キズの部分が目で確認できるぐ
らいに露出してしまうのである。又、前記間隔の制御は
容易ではなく実用化をする上で問題点となっていた。
そこで、本発明はこのような問題点を解決するもの
で、その目的は均一で線ホールドのない配向が得られる
と共に、条件設定を容易にし量産製造に適した液晶表示
装置の製造方法を提供するところにある。
で、その目的は均一で線ホールドのない配向が得られる
と共に、条件設定を容易にし量産製造に適した液晶表示
装置の製造方法を提供するところにある。
本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基板間に液晶
が挟持され、前記基板の前記液晶に接する側の面には配
向膜が形成されてなる液晶装置の製造方法において、式
（πｒ×Ａ−Ｖ）/Vで表されるラビング密度の値が15〜
1000となる条件下で前記配向膜をラビングすることを特
徴とする。但し、ｒ（cm）はラビング布を巻いたドラム
の直径、Ａ（rpm）は前記ドラムの回転数、Ｖ（cm/mi
n）は基板の移動スピードを表す。
が挟持され、前記基板の前記液晶に接する側の面には配
向膜が形成されてなる液晶装置の製造方法において、式
（πｒ×Ａ−Ｖ）/Vで表されるラビング密度の値が15〜
1000となる条件下で前記配向膜をラビングすることを特
徴とする。但し、ｒ（cm）はラビング布を巻いたドラム
の直径、Ａ（rpm）は前記ドラムの回転数、Ｖ（cm/mi
n）は基板の移動スピードを表す。
上記ラビング密度は15〜1000が好ましく、15未満では
ラビング不足となり配向ムラになるばかりでなく線ホー
ルドが発生してしまう。又、1000を越えるとラビング密
度が高すぎるため配向膜をけずってしまい表面の凹凸が
激しく配向ムラが発生すると共に線ホールドが発生しや
すいのである。
ラビング不足となり配向ムラになるばかりでなく線ホー
ルドが発生してしまう。又、1000を越えるとラビング密
度が高すぎるため配向膜をけずってしまい表面の凹凸が
激しく配向ムラが発生すると共に線ホールドが発生しや
すいのである。
以下、図示した一実施例により本発明を詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明に用いるラビング装置の概略図であ
り、１は図示してない支持体により支持された金属製の
回転体、２は回転体１の周囲に貼られたラビング布であ
る。このラビング布は、ナイロン、ビニロン、ポリエス
テル、アクリル、レーヨン等の一般的な布を用いた。
り、１は図示してない支持体により支持された金属製の
回転体、２は回転体１の周囲に貼られたラビング布であ
る。このラビング布は、ナイロン、ビニロン、ポリエス
テル、アクリル、レーヨン等の一般的な布を用いた。
実施例１ 回転体１の回転数Ａを500（rpm），回転体１の直径ｒ
を10（cm），基板３と支持台４の移動スピードＶを157
（cm/min）と設定した。この時のラビング密度（πｒ×
Ａ−Ｖ）/Vは約100である。
を10（cm），基板３と支持台４の移動スピードＶを157
（cm/min）と設定した。この時のラビング密度（πｒ×
Ａ−Ｖ）/Vは約100である。
まず、酸化スズまたは酸化インジウム等で所定パター
ンの透明電極が形成された基板上にポリイミド樹脂溶液
をスピンナー等で塗布後焼成してポリイミドでなる配向
膜を100〜300Å形成する。このように透明電極と配向膜
が形成された基板を上述の条件でラビング処理した。ラ
ビング布２としては植毛タイプのポリエステルを用い
た。
ンの透明電極が形成された基板上にポリイミド樹脂溶液
をスピンナー等で塗布後焼成してポリイミドでなる配向
膜を100〜300Å形成する。このように透明電極と配向膜
が形成された基板を上述の条件でラビング処理した。ラ
ビング布２としては植毛タイプのポリエステルを用い
た。
以上のようにしてラビング処理された上下基板を組み
合わせシール剤等で一定の間隔をもって接着した後、液
晶を封入して液晶表示装置を構成した。その結果、表示
面にキズ状のものは見えず、均一な表示面が得られた。
従って、線ホールドは発生していないと言える。
合わせシール剤等で一定の間隔をもって接着した後、液
晶を封入して液晶表示装置を構成した。その結果、表示
面にキズ状のものは見えず、均一な表示面が得られた。
従って、線ホールドは発生していないと言える。
又、ラビング布２と基板３との間隔が多少変動しても
線ホールドの発生がなく安定した配向を得ることができ
た。
線ホールドの発生がなく安定した配向を得ることができ
た。
実施例２ ラビング密度を約20に設定し配向剤としてエポキシ樹
脂を使用した以外は実施例１と同様に処理した基板を用
いて液晶表示装置を構成したところ、実施例１と同様の
結果が得られた。
脂を使用した以外は実施例１と同様に処理した基板を用
いて液晶表示装置を構成したところ、実施例１と同様の
結果が得られた。
実施例３ ラビング密度を約500とした以外は実施例１と同様に
処理した基板を用いて液晶表示装置を構成したところ、
実施例１と同様の結果が得られた。
処理した基板を用いて液晶表示装置を構成したところ、
実施例１と同様の結果が得られた。
実施例４ ラビング密度を約1000とした以外は実施例１と同様に
処理した基板を用いて液晶表示装置を構成したところ、
実施例１と同様の結果が得られた。
処理した基板を用いて液晶表示装置を構成したところ、
実施例１と同様の結果が得られた。
実施例５ ラビング密度を約100,ラビング布にレーヨンを用いて
ラビング処理した基板を用いて液晶表示装置を構成した
ところ、実施例１と同様の結果が得られた。
ラビング処理した基板を用いて液晶表示装置を構成した
ところ、実施例１と同様の結果が得られた。
比較例１ ラビング密度を約10に設定（設定の方法としては、
（１）基板の移動スピードを上げる。（２）回転体の直
径を小さくする（３）回転体の回転数を低くするなどい
くつかあげられる。）して、実施例１と同様に処理した
基板を用いて液晶表示装置を製造した。
（１）基板の移動スピードを上げる。（２）回転体の直
径を小さくする（３）回転体の回転数を低くするなどい
くつかあげられる。）して、実施例１と同様に処理した
基板を用いて液晶表示装置を製造した。
この液晶表示装置を観察したところ、表示面に肉眼で
確認できる線状のスジ（線ホールド）があらわれており
表示外観を損なうものであった。又配向が不完全である
ため表示面にムラが見られ、これでは表示装置として使
用することができないものであった。
確認できる線状のスジ（線ホールド）があらわれており
表示外観を損なうものであった。又配向が不完全である
ため表示面にムラが見られ、これでは表示装置として使
用することができないものであった。
比較例２ ラビング密度を約1200に設定して、実施例１と同様に
処理した基板を用いて液晶表示装置を構成した。この液
晶表示装置を観察したところ、比較例１と同じように表
示面には肉眼で確認できる線状のスジ（線ホールド）が
目立つと共に、配向膜の表面の凹凸が激しいために配向
ムラになり結果として表示ムラが起こっており表示装置
としては支障があった。
処理した基板を用いて液晶表示装置を構成した。この液
晶表示装置を観察したところ、比較例１と同じように表
示面には肉眼で確認できる線状のスジ（線ホールド）が
目立つと共に、配向膜の表面の凹凸が激しいために配向
ムラになり結果として表示ムラが起こっており表示装置
としては支障があった。
尚、回転数A,直径r,基板と支持台の移動スピードＶは
本実施例に限定されるものではなく他の条件でも良いの
であって、重要なのはラビング密度を15〜1000に設定し
てやることにより本発明の効果が得られることである。
本実施例に限定されるものではなく他の条件でも良いの
であって、重要なのはラビング密度を15〜1000に設定し
てやることにより本発明の効果が得られることである。
さらに、本発明者は、ラビング密度の好ましい範囲が
15〜1000の範囲にあることを見いだしたものである。つ
まり、15未満ではラビング不足となり配向ムラになるば
かりでなく線ホールドが発生してしまう。又、1000を越
えるとラビング密度が高すぎるため配向膜を削ってしま
い表面の凹凸が激しく配向ムラが発生すると共に線ホー
ルドが発生しやすいのである。
15〜1000の範囲にあることを見いだしたものである。つ
まり、15未満ではラビング不足となり配向ムラになるば
かりでなく線ホールドが発生してしまう。又、1000を越
えるとラビング密度が高すぎるため配向膜を削ってしま
い表面の凹凸が激しく配向ムラが発生すると共に線ホー
ルドが発生しやすいのである。
又、本発明に用いる配向膜は本実施例に限定されるも
のではなく以下のような周知の配向剤にも有効である。
のではなく以下のような周知の配向剤にも有効である。
ポリビニルアルコール，ポリアミドイミド，ポリアミ
ド，ポリエーテルサルフオン，ポリカーボネート，ポリ
エステル，ウレタン樹脂，フエノール樹脂，ケイ素樹脂
などの有機高分子物質。
ド，ポリエーテルサルフオン，ポリカーボネート，ポリ
エステル，ウレタン樹脂，フエノール樹脂，ケイ素樹脂
などの有機高分子物質。
そして、上記配向膜の膜厚は広く一般に用いられてい
る範囲（例えば100〜1000Å）において同様の効果を有
しており本実施例に限定されるものではない。
る範囲（例えば100〜1000Å）において同様の効果を有
しており本実施例に限定されるものではない。
以上述べたように、本発明の液晶装置の製造方法によ
れば、式（πｒ×Ａ−Ｖ）/Vで表されるラビング密度の
値が15〜1000となる条件下で配向膜をラビングすること
により、均一で線ホールドのない配向膜が得られる。ま
た、条件設定もラビング密度の式に基づいて容易に設定
できるので、量産製造に適している。
れば、式（πｒ×Ａ−Ｖ）/Vで表されるラビング密度の
値が15〜1000となる条件下で配向膜をラビングすること
により、均一で線ホールドのない配向膜が得られる。ま
た、条件設定もラビング密度の式に基づいて容易に設定
できるので、量産製造に適している。
第１図は本発明に用いるラビング装置の概略図。 １……回転体 ２……ラビング布 ３……ガラス基板 ４……基板支持台 ５……配向膜
Claims (1)
- 【請求項１】一対の基板間に液晶が挟持され、前記基板
の前記液晶に接する側の面には配向膜が形成されてなる
液晶装置の製造方法において、下記式で表されるラビン
グ密度の値が15〜1000となる条件下で前記配向膜をラビ
ングすることを特徴とする液晶装置の製造方法。 （πｒ×Ａ−Ｖ）/V 但し、 ｒ（cm）はラビング布を巻いたドラムの直径、 Ａ（rpm）は前記ドラムの回転数、 Ｖ（cm/min）は基板の移動スピードを表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62074770A JP2554875B2 (ja) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | 液晶装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62074770A JP2554875B2 (ja) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | 液晶装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63240522A JPS63240522A (ja) | 1988-10-06 |
| JP2554875B2 true JP2554875B2 (ja) | 1996-11-20 |
Family
ID=13556853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62074770A Expired - Lifetime JP2554875B2 (ja) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | 液晶装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2554875B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2574473B2 (ja) * | 1989-08-09 | 1997-01-22 | 富士通株式会社 | 強誘電性液晶表示素子の製造方法 |
| JPH07168186A (ja) * | 1993-10-19 | 1995-07-04 | Optrex Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
| JP3155177B2 (ja) * | 1995-09-06 | 2001-04-09 | シャープ株式会社 | 液晶表示素子用基板の配向処理装置及びラビング布並びに液晶表示素子の製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5439147A (en) * | 1977-09-02 | 1979-03-26 | Hitachi Ltd | Liquid crystal directivity control plane and production thereof |
| JPS5950461B2 (ja) * | 1978-04-14 | 1984-12-08 | 株式会社日立製作所 | マイクログル−プ形成装置 |
| JPS5753729A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-30 | Citizen Watch Co Ltd | Manufacture of liquid crystal display cell |
| JPH0723942B2 (ja) * | 1985-08-08 | 1995-03-15 | 株式会社半導体エネルギ−研究所 | 液晶装置 |
| JPH07107589B2 (ja) * | 1986-09-09 | 1995-11-15 | 旭硝子株式会社 | 液晶表示素子の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-27 JP JP62074770A patent/JP2554875B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63240522A (ja) | 1988-10-06 |
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