JP2555178B2

JP2555178B2 - 光記録媒体

Info

Publication number: JP2555178B2
Application number: JP1023971A
Authority: JP
Inventors: ▲えい▼一橋本; 潔千葉; 哲生佐藤
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1988-02-03
Filing date: 1989-02-03
Publication date: 1996-11-20
Anticipated expiration: 2011-11-20
Also published as: JPH01294247A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は光記録媒体、更に詳しくは２枚のプラスチッ
ク基板を記録層が内側になるように接着剤により接着し
た貼合せ構造の光記録媒体に関する。

（従来の技術）近年、大容量メモリーの１つとして光ディスクの商品
化，開発が活発である。その中でも書替え可能な光磁気
ディスクの実用化研究が精力的に行われている。

最近の光磁気ディスクの代表的構成として次のものを
挙げることができる。即ち、透明プラスチック基板とし
てポリカーボネート、光磁気記録層にTbFeCo膜を用い、
プラスチック基板と光磁気記録膜の間の誘電体層及び光
磁気記録層の保護膜としてZn Sを用いた媒体である。こ
のように、光磁気記録膜は両面もしくは片面から誘電体
により保護された構造になっている。これにより、光磁
気膜が大気にさらされている場合に比べ光磁気記録膜の
寿命は大幅に長くなる。現在の技術レベルでは５〜６年
と考えられている。

しかし、実用化のためには少なくとも10年の寿命が必
要であることを考えると現在の技術では実用化には不充
分である。

前述の代表的構成の光磁気記録媒体を60℃,90％RHの
加速試験にかけたところ、約50時間で記録膜にピンホー
ルが発生し、C/N及びBER（ビットエラーレート）の低下
が認められた。

又、光磁気記録膜が大気に接したまま保存されると、
大気中の酸素や水により選択的に腐食あるいは酸化され
てしまい、情報の記録，再生が不可能となる。

そこで、一般には、前記光磁気記録膜の表面に保護層
を設けたり、または媒体の記録層側へ透明プラスチック
基板を接着させる（片面記録媒体）とか、２つ媒体をそ
の記録層が対向するように接着させる（両面記録媒体）
ことにより耐久性向上を図ることが試みられている。

しかしながら現状では、SiO,SiO₂の如き防湿性の無機
保護層を設けた場合においても、均一で一様な製膜が難
しく、防湿性が充分な保護層は得られず光磁気記録層の
経時劣化の改善は充分ではない。

また、常温硬化性樹脂による塗膜保護層でも充分な防
湿性は得られず、現段階では前述した保護用の透明プラ
スチック基板を接着させるか或いは２つの光磁気記録媒
体同志を接着させることにより、水分，酸素の記録層へ
の透過を防止することにより、光磁気記録媒体の耐久性
向上を図ることに主眼が置かれている。所謂透明プラス
チック基板の貼合せによる方法である。

しかし実際には、接着により貼合せ構造の光磁気記録
媒体を得ようとする場合、接着剤（樹脂）硬化時の体積
収縮による媒体の反り等の歪及びそれによる記録膜のク
ラック発生等の問題がある。

例えば、熱硬化型樹脂による接着の場合、長時間に亘
る加熱キュアのため、基板である透明プラスチック自体
の熱変形（歪など）に加えて、硬化樹脂の体積収縮に基
く貼合せ媒体の反り、さらには硬化樹脂の収縮が密着し
ている記録膜に歪を発生させ、クラックなどにつながる
等問題点が多く好ましくない。

（発明の目的）本発明の目的は、高温高湿度雰囲気中においても光記
録層の劣化が防止され、耐湿熱劣化性のすぐれた光記録
媒体を供給することにある。

上記本発明の目的は、更に具体的に述べると、光記録
層への透明プラスチック基板の接着貼合せ、或いは光記
録媒体同志の接着貼合せにより、記録層を水分及び酸素
から保護するようになした貼合せ構造の光記録媒体に関
し、高温・長時間の熱硬化によるプラスチック基板の熱
歪等を発生させることなく、光記録層と接触する接着剤
が長期に亘って記録層に対し安定であり、かつ湿熱雰囲
気下においても優れた接着力を有する貼合せ構造の光記
録媒体を提供することである。

（発明の構成）本発明は、前述の貼合せ構造すなわち２枚の透明プラ
スチック基板からなり、少なくともその一方に、記録層
を積層し、記録層が内側になるように透明プラスチック
基板を接着剤により接着させた貼合せ構造の光記録媒体
において、該接着剤が（Ａ）架橋性オリゴマー（Ｂ）多官能のアクリル酸エステル及び／またはメタア
クリル酸エステル（Ｃ）光重合開始剤から主として成る紫外線硬化型樹脂であり、（１）前記架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの分子
量が少くとも150であり、（２）３官能以上のアクリル酸エステル及び／またはメ
タアクリル酸エステルの含有量が少くとも15重量％であ
り、（３）硬化後の膜の軟化点が50℃以上であることを特徴とする光記録媒体である。

本発明においては、紫外線硬化樹脂中、架橋性オリゴ
マーはそのアクロイル基当りの分子量が少くとも150で
あるものを使用する。好ましくは350以上であり、特に
好ましくは1,000以上である。

ここで、アクロイル基当りの分子量が150より小さい
場合、紫外線照射による架橋膜の物性は伸びが小さく脆
いものとなる。その結果、貼合せ接着力は弱くなり、更
に湿熱雰囲気下での低下が著しく実用に適さない。

架橋膜の靱性（タフネス）及び硬化時の体積収縮とい
う点から見て、架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの
分子量は大きい方がより望ましい。

湿熱雰囲気下等での基板変形への接着硬化膜の追随、
更には貼合せ時紫外線照射による硬化収縮に起因する媒
体歪（記録膜の浮き上がりや媒体の反り等）を極力なく
すためには、架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの分
子量は350以上が好ましく、更に1,000以上がより好まし
い。

本発明で用いる架橋性オリゴマーは、分子中に少くと
も１つのエチレン性不飽和結合を有する付加重合可能な
化合物をいい、代表的なものとして次のアクリレート及
び又はメタアクリレート（以下“（メタ）アクリレー
ト”と略称する場合がある）化合物を例示することがで
きる。

ポリエステル（メタ）アクリレート，ポリエーテル
（メタ）アクリレート，ポリウレタン（メタ）アクリレ
ート，エポキシ（メタ）アクリレート，シリコーン（メ
タ）アクリレート等である。これらの具体例として、さ
らに次のものを挙げることができる。

ポリブチレンアジペートジアクリレート，ポリエチレ
ングリコールジメタアクリレート，ポリプロピレングリ
コールジアクリレート，（ポリエステルグリコールとイ
ソシアナートから成る）ポリウレタンのジアクリレー
ト，スピログリコールウレタンジアクリレート，ビスフ
ェノールＡ型エポキシアクリレート，ビスフェノールＦ
型エポキシメタアクリレート，フェノールノボラック型
エポキシアクリレート，クレゾールノボラック型エポキ
シメタアクリレート，ポリジメチルシロキサンジメタク
リレート等。

これらのアクリレート類は実用性に富む架橋性オリゴ
マーとして有用であるが、これら以外の架橋性オリゴマ
ーとして不飽和ポリエステル、ダップ樹脂の如きアリル
樹脂、スチレン共重合体の如きビニル樹脂、あるいは、
側鎖に活性基を有するポリアミド，ポリウレタン，ポリ
エステル，ポリスルホン，ポリエーテルスルホン，ポリ
フェニレンオキシド等の如き樹脂をアクリル酸エステル
変性したものも充分に使用できる。

本発明の架橋性オリゴマーは少くとも15重量％、好ま
しくは25重量％以上用いることが望ましい。

この架橋性オリゴマーは、１種類でもよいし、２種以
上を併用してもよい。

本発明で用いる３官能以上のアクリル酸エステル及び
／またはメタアクリル酸エステルは少くとも15重量％使
用する。好ましくは20重量％以上であり、特に好ましく
は25重量％以上である。

３官能以上のアクリル酸エステル及び／またはメタア
クリル酸エステルが15重量％より少い場合、紫外線によ
り硬化した膜の架橋度が不足し、接着強力などの初期物
性の低下のみならず湿熱雰囲気下における接着力の低下
が著しく実用的でない。

本発明で用いる３官能以上のアクリル酸エステル及び
／またはメタアクリル酸エステルの代表的なものとして
次のものを挙げることができる。

トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート，
テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート（以
上３官能）、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）ア
クリレート，ヘキサメチレンジイソシアートとグリセリ
ン付加物のジアクリレート・ジメタクリレート（以上４
官能）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート，
及び次式（Ａ）で示されるトリアクリレート・トリメタ
アクリレート（以上６官能）等である。

実際に使用する紫外線硬化型樹脂には上記の３官能以
上の（メタ）アクリレートの外に２官能（メタ）アクリ
レートあるいは単官能（メタ）アクリレートを併用する
ことが可能であり、粘度調節及び硬化後の物性最適化の
点から各種のアクリル酸エステルを選ぶことができる。

紫外線照射により得られた本発明の硬化膜の軟化点は
50℃以上でなければならない。好ましくは80℃以上であ
り、特に好ましくは115℃以上である。

ここで用いる「軟化点」の定義は次の通りである。
「ダイナミック熱機械分析装置（米国,Du Pont社製DMA
982型）により測定したヤング率損失Ｅ″の極大値を与
える温度」を架橋により硬化した膜の軟化点とする。

硬化膜の軟化点が50℃より低い場合、硬化膜の耐熱性
が不足し、湿熱雰囲気下における接着力の低下が著しく
好ましくない。

更に、レーザー照射時の瞬間的昇温も繰返されること
により硬化膜の疲労を促進し経時劣化を助長することに
なるので軟化点は50℃より高いことが必要であり、望ま
しくは80℃以上、特に115℃以上であれば極めて優れた
耐熱性を有することになる。

一般に、高分子物質の耐熱性指標としてガラス転移点
（Tg）が多く用いられる。

しかし、架橋高分子の場合、セグメント運動単位がか
なり大きな分布を有すると考えられ、このため試料高分
子の温度変化に伴う熱的状態の変化（熱膨張係数等）は
明瞭でないことが多く、通常の鎖状高分子等で観測され
る明らかなTgを得ることが難しい。このため、試料高分
子の粘弾性の比率tanδ（ヤング率に対するヤング率損
失の比率）をTgと見なす例も見受けられるが、普通tan
δはTgより高く、さらに測定周波数が高い程tanδは高
温側にずれるため好ましい方法とは言えない。

上記の点に留意して、本発明者らは架橋高分子の耐熱
性の指標として、先に定義した硬化膜の軟化点（試料高
分子のヤング率損失Ｅ″の極大値を与える温度）を用い
た。

本発明でいう軟化点を求める硬化膜は次のようにして
作成した。

清浄なガラス板上に測定する紫外線硬化樹脂組成液を
置き、スペーサーにより硬化後の膜厚が0.1〜0.5mmとな
るようにしてドクターナイフで均一に塗布した。次いで
ガラス板ごと樹脂の上部から高圧水銀灯（80w/cm）によ
り紫外線照射して硬化膜を得た。膜厚により照射時間を
加減し、充分架橋し物性的に満足しうる硬化膜を得、軟
化点を測定した。

次に具体例を挙げる。ビスフェノールＡ型エポキシア
クリレート（50wt％），トリメチロールプロパントリア
クリレート（30wt％）及びネオペンチルグリコールジア
クリレート（20wt％）からなる組成物に増感剤としてDa
rocur 1173（Merck社）（1.0wt％）を添加し、上記の方
法に従って紫外線照射により硬化膜を得た。ダイナミッ
ク熱機械分析装置（米国,Du Pont社,DMA 982型）により
測定した該硬化膜のヤング率損失（Ｅ″）は115℃に極
大点を有し、これを該硬化膜の軟化点と見做した。

一方、市販の紫外線硬化型樹脂である大日本インキ化
学工業（株）製品「SD-17」について同様な硬化膜を
得、ヤング率損失（Ｅ″）を測定したところ室温以上で
極大点を示さず、ここでいう軟化点が室温以下であり耐
熱性の低い結果を示した。

なお、本発明において、Tb,Dy,Nd等の希土類金属を含
む光磁気記録膜等の如く酸化し易い記録膜に使用する場
合、特にこの記録膜等直接接して用いる場合、その酸化
劣化の防止という面から前記紫外線硬化型樹脂は、その
酸価が1.5以下であることが好ましい。更に好ましくは
0.9以下、特に好ましくは0.5以下である。酸価が1.5よ
り大きい場合、記録膜が酸化劣化（腐蝕）され易く、例
えば前述の光磁気記録膜の場合湿熱雰囲気下に保つと、
最初記録膜にピンホールが発生し、次第に増加し、次い
で記録膜は透明化し、最後に記録膜自体が消失してしま
う。なお、本発明で用いる「酸価」は、試料1gを中和す
るのに必要な水酸化カリウム（KOH）のミリグラム数で
表わす。

この酸価は、硬化前の液状樹脂については、以下の手
順で測定する。

（ア）試料を必要量を精密にはかり取る。

（イ）滴定容器に移し、二酸化炭素を除いたガス（例え
ばN₂）を容器中へ流し込む。

（ウ）溶媒（通常、エタノール−水等容混合物を用い
る。試料によりエチレングリコールメチルエーテル又は
ジオキサン等の溶媒を用いる）の適当量を加え、かきま
ぜながら加温して試料を溶解する。

（エ）指示薬としてフェノールフタレイン（またはチモ
ールフタレイン）及び必要に応じ予め煮沸して中性にし
た水を加える。

（オ）N/100水酸化カリウム（KOH）を用いて滴定する。

（滴定には、0.02mlまで目盛られたミクロビュレットを
用いる）（カ）酸価（Acid Value）は次式により計算する。

ここで、W:試料の重量［mg］ V:使用した水酸化カリウムの液量［ml］ N:水酸化カリウム液の規定度又硬化後の硬化樹脂については、下記手順で試料を調
整後、液状樹脂の手順（エ）〜（カ）と同じようにして
測定する。

（ア）試料となるべき硬化樹脂を充分に粉砕する。

（イ）粉砕した試料の必要量を精密にはかり取る。

（ウ）滴定容器に移し、二酸化炭素を除いたガス（例え
ばN₂）を容器中へ流し込み充分置換する。

（エ）溶媒（通常、エタノール−水等容混合物を用い
る。試料によりエチレングリコールメチルエーテルまた
はジオキサン等の溶媒を用いる）の適当量を加え、還流
冷却器（reflux condenser）を付けて、少くとも60分間
還流する。

なお、本発明において紫外線硬化型樹脂は、光記録媒体
においては紫外線により硬化した硬化樹脂を、製法にお
いては硬化前の液状樹脂を意味する。

ところで、本発明における紫外線により硬化しうる樹
脂または紫外線照射により硬化した樹脂が示す酸性の度
合い（酸価が１つの指標である）は、樹脂中に含まれる
遊離酸に依存している。即ち、アクリル酸エステルまた
はメタアクリル酸エステル中に含まれる未反応のアクリ
ル酸またはメタアクリル酸に代表されるカルボン酸，エ
ステル反応触媒として一般に用いられる硫酸等の無機
酸、更に製造工程上混入してくる痕跡の酸性物質（Cl^-
等）が主である。

これらを除くためには、酸性物質を中和し、過を繰
返すことが常道であるが、本発明が目指す低い酸価を達
成するためには、さらに蒸留（低分子量化合物），イオ
ン交換，あるいは清浄な水（または水−溶媒混合液）に
よる洗浄が必要であり、これらを組合せるか、有効な方
法を繰返すことが重要である。

更に実際に使用に際して上記紫外線硬化樹脂には周知
の如く光重合開始剤が使用される。かかる光重合開始剤
としては、アセトフェノンやベンゾフェノン及びこれら
の各種誘導体が主であり、これらの具体例としては次の
ものを挙げることができる。

Darocur 1116,Darocur 1173（以上Merck社）。Vicur
55（Stauffer社）,Irgacur 651.Irgacur 184（以上Ciba
-Geigy社）等である。

さらに、ベンゾインエチルエーテルの如きベンゾイン
エーテル系の光重合開始剤を使用することも可能であ
る。

これらは、１種のみ使用することも、また２種以上併
用することもできる。

これら光重合開始剤の使用量は、紫外線硬化型樹脂組
成物100部に対し、少くとも0.3重量部、好ましくは1.0
重量部以上、特に好ましくは2.0重量部以上用いる。

本発明の接着層は、以上の紫外線硬化型樹脂の塗布に
より形成される。中でもスピンコートが膜厚の均一化及
び生産面で好ましく適用される。又、貼り合わせる両基
板に接着層を予め形成し、次いで貼り合わせる方法が気
泡混入防止等から好ましい。

かかる面から紫外線硬化型樹脂の粘度は、25℃におい
て10〜5,000cpsである。好ましくは50〜2,000cps、特に
好ましくは100〜1,000cpsである。

粘度が10cpsより低い場合、樹脂が流れ易く、貼合せ
時にタレ易いなど扱いにくい外、重ね合せる場合に気泡
が発生し易く作業性が劣り好ましくない。

5,000cpsより高い場合、均一な薄層に拡げにくく、か
つ重ね合せる時に大きな押圧が必要である外、一度気泡
が入ると脱泡が困難である。また、自動計量→供給に時
間がかかり作業性もよくない。

なお、粘度の測定はＢ形粘度系BH形（東京計器製）を
用いて常法により行なう。

以上の本発明を、以下光磁気記録媒体を例に説明する
が、本発明は光磁気記録媒体に限定されるものではな
く、光磁気記録層と同様の劣化を伴なう光記録層を用い
る光記録媒体に広く適用できるものであることは、その
趣旨から明らかである。

第１図，第２図は本発明になる光磁気記録媒体の代表
構成例の部分側断面図である。第１図は、光磁気記録層
を設けた透明プラスチック基板１に単なる透明プラスチ
ック基板１′を接着貼り合わせた片面記録媒体の例であ
り、光磁気記録層３にSiO,AlNなどの保護層４を介して
接着層５により透明プラスチック基板１′が貼合されて
いる。第２図は、両面記録媒体の例であり、光磁気記録
層３及び３′上に各々保護層4,4′が形成された透明プ
ラスチック基板1,1′が光磁気記録層3,3′が内側になる
ように接着層５により接着貼合された例である。

尚、図において2,2′は誘電体層である。

これらの接着層５は、スパッタリング等により得られ
た光磁気記録層３（３′）又は保護層４（４′）の上
に、前述の通りスピンコートあるいはロールコート等に
より塗布する外、貼合せる透明プラスチック基板間に介
在させた後押圧して全面に塗布する方法等により設ける
ことができる。塗布厚みは、0.5〜1,000μｍ、好ましく
は10〜500μｍである。次いで、紫外線照射により硬化
接着することができる。

単なる透明プラスチック基板を貼合せる場合、紫外線
照射は単なる透明プラスチック基板側から行なうことで
充分に硬化させることが可能である。一方、光磁気記録
層を形成した透明プラスチック基板同志を貼合せる場
合、記録層の部分は基板のように透明ではないため紫外
線を通しにくく、外周及び内周の記録層のない透明部分
を通過した紫外線による硬化に頼らざるを得ないため短
時間硬化が難しい。このため、一方または両方の貼合せ
面に予め光重合触媒を含むプライマー液を塗布してお
き、その上に接着層を設け貼合せた後紫外線照射し全面
の硬化反応を短時間で終了させることができる。光重合
触媒としては、ベンゾイルパーオキサイド等の過酸化
物，鉄，ニッケル等の金属イオンあるいは酸化還元系触
媒等が多く使用される。

上述の光磁気記録媒体は、接着層を除いてその構成は
特に限定されず、公知の構成がそのまま適用できる。例
えば透明基板としてはポリカーボネート樹脂，アクリル
樹脂等の透明プラスチック基板から、誘電体層としては
ZnS,SiO,AlN等から、光磁気記録層としてはFeTbCo,FeTb
Gd合金等のFeTb系の合金,FeNd系の合金等からなるもの
が挙げられる。中でも光磁気記録層が耐湿性に乏しい例
示のFeTbCo合金等に効果が大きい。そしてこれら誘電体
層，光磁気記録層は常法例えばスパッタリング法等の物
理蒸着法によって形成される。

以下に本発明による上述の光磁気記録媒体の実施例を
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって
いささかの限定を受けるものではない。

実施例１〜4,比較例1,2 第１図に示す積層構成の光磁気記録媒体を以下のよう
にして作成した。なお、第１図において、1,1′は透明
プラスチック基板,2は誘電体層,3は光磁気記録層,4は無
機物保護層,5は接着層である。

すなわち、直径130mm,厚さ1.2mmの円板で1.6μｍピッ
チのグルーブを有するポリカーボネート樹脂（PC）から
成る基板１をターゲット３個装着可能な高周波マグネト
ロンスパッタ装置（日電アネルバ（株）製SPF-430型）
の真空槽内に固定し、４×10^-7Torr以下になるまで排気
する。なお、膜形成において基板１は水冷し、15rpmで
回転させた。

次に、Arガスを真空槽内へ導入し、圧力5.3×10^-3Tor
rになるようにArガスの流量を調整し、直径100mm,厚さ5
mmのZnS円盤をターゲットとし、放電電力100W,放電周波
数13.56MHzで高周波スパッタリングを行ない、誘電体層
２としてZnS膜を650Å堆積した。

次いで記録層３としてTb₂₃Fe₆₉Co₈合金（添数字は組
成（原子％）を示す）に変え、Arガスを真空槽内に導入
し上述と同様の放電条件でTbFeCo合金膜を800Å堆積し
た。更に、無機保護層４として、ターゲットをAlNに変
え、Arガスを真空槽内に導入し上述と同様の放電条件で
AlN膜を500Å堆積した。

第１表に示した架橋性オリゴマー及び多官能アクリレ
ートを含有する紫外線硬化型樹脂による接着層５をスピ
ンコーターにより約50μｍの厚さに均一に塗布した後、
同じポリカーボネートよりなる単なる透明プラスチック
基板１′を気泡を入れないように重ね貼合せると共に、
少なくとも記録層３の側面まで上記紫外線硬化型樹脂で
被覆した。

次いで透明プラスチック基板１′の側から80W/cmの高
圧水銀灯により紫外線を照射し樹脂を硬化させることに
より接着させ、側面被覆の第１図に示す貼合せ構造の片
面記録媒体を得た。得られた各媒体に付いて60℃,90％R
Hの雰囲気下で加速劣化試験を行なった。

一方、前述のように、第１表に記した組成の紫外線硬
化樹脂をガラス板上に塗布し、紫外線照射により硬化膜
を得、ダイナミック熱機械分析装置（DMA 982型）によ
り各々硬化膜の軟化点を測定した。また、その酸価も測
定した。

これらの結果は第１表に示した。なお、第１表におい
て光重合開始剤の添加量単位のPHR（Parts per Hundred
Resin）は樹脂100部に対する添加重量部のことであ
る。

第１表に示した架橋性オリゴマーの化学構造式、（メ
タ）アクリル酸エステル及び光重合開始剤の略号は各々
次の通りである。

・架橋性オリゴマーの化学構造式・３官能以上の（メタ）アクリレート TMPTA:トリメチロールプロパントリアクリレート DPEHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート・他（メタ）アクリレート NPG-DA:ネオペンチルグリコールジアクリレート HD-DM:1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート・光重合開始剤 D:ダロキュア1173（メルク社製） V:バイキュア55（ストウファ・ケミカル社製） B:ベンゾフェノン（和光純薬社製）本発明の実施例１〜４は、比較例1,2に比較して、紫
外線硬化膜の軟化点がいずれも50℃より高く、貼合せ媒
体の湿熱雰囲気下での耐久性結果も極めて良好である。
即ち、60℃,90％RH,1000hr経過後も媒体の反り発生はな
く、貼合せ部接着も強固で剥離の兆候は全く見られず、
かつ媒体の記録膜にもピンホール，孔食の如き劣化は認
められない。これには酸価が1.5以下と小さい点も寄与
していると考えられる。

一方、比較例１は、架橋性オリゴマーのアクロイル基
当りの分子量が107と小さく、硬化膜の軟化点が20℃よ
り低い上に酸価が1.5より大きいため、貼合せ媒体の湿
熱劣化テストにより、媒体反りが大きく、接着部の剥離
を発生し、さらに記録膜は著しい酸化劣化を受け使用に
耐えない。

また、比較例２は、３官能以上の（メタ）アクリレー
トであるトリメチロールプロパントリアクリレート（以
下TMPTAと略す）を僅か10wt％しか含有しないため、硬
化膜の架橋密度が不足し、初期の接着力低下をもたら
し、更に軟化点（40℃）が50℃より低いこと及び酸価が
1.5より大きいことも加わって、湿熱劣化テスト結果
は、媒体の一部剥離及び記録膜の劣化を示した。

実施例５〜8,比較例３実施例１〜４と同様に、マグネトロンスパッタリング
装置を用い、TbFeCo合金ターゲット，In₂ O₃ターゲッ
ト及びTiターゲットにより、ポリカーボネートよりなる
透明プラスチック基板１上にIn₂ O₃（650Å）からなる
誘電体層2,TbFeCo（500Å）からなる光磁気記録層３及
びTi（550Å）からなる保護層４の順に膜を形成させ
た。

第２表に示した架橋性オリゴマー及び多官能アクリレ
ートを含有する紫外線硬化型樹脂による接着層５を、上
記積層体の保護層４上とこれに貼り合わせる透明ポリカ
ーボネート基板上の双方に実施例１〜４と同様にスピン
コーターにより夫々25μｍ厚に形成し、次いで透明ポリ
カーボネート基板を重ね合わせた後紫外線照射により、
第１図に示す貼合せ構造の片面記録媒体を得た。このよ
うに重ね合わせに先立ち両接着面に接着層５を形成して
おくことにより、重ね合わせの際の気泡の混入を効果的
に防止できることがわかった。得られた各媒体に付いて
60℃、90％RHの雰囲気下で加速劣化試験を行った。

また、第２表に示した組成の紫外線硬化樹脂につき硬
化膜の軟化点，酸価も測定した。

これらの結果は第２表に示した。

第２表に示した架橋性オリゴマーの化学構造式、およ
び（メタ）アクリル酸エステルの略号は各々次の通りで
ある。その他略号は第１表と同じである。

・架橋性オリゴマーの化学構造式・３官能以上の（メタ）アクリレート u-4HA:ウレタンジメタクリレート−ジアクリレート（他アクリレート及び光重合開始剤の略号は実施例１〜
４と同じ。）本発明の実施例５〜８は、比較例３に比較して、紫外
線硬化膜の軟化点がいずれも50℃より高く、貼合せ媒体
の湿熱雰囲気下での耐久性試験は優れた結果である。

即ち、60℃,90％RH,1000hr経過後も貼合せ部は強固な
接着で剥離は認められなく、また記録膜の劣化も発生し
なかった。これは酸価が1.5以下と小さいことも寄与し
ていると考えられる。

一方、比較例３は、架橋性オリゴマーのアクロイル基
当りの分子量が121と小さいため、紫外線硬化後に硬化
膜の収縮に起因すると考えられる媒体の反りが大きく実
用上問題である。さらに、硬化膜の軟化点が20℃以下と
低く酸価も1.5より大きいため、60℃,90％RH雰囲気下で
の耐久性結果も、接着層剥離及び記録膜の劣化を示し
た。

（発明の効果）前述したところから明らかなように、本発明によれ
ば、貼合せ構造の光記録媒体において、接着剤として、（Ａ）架橋性オリゴマー（Ｂ）多官能（メタ）アクリル酸エステル（Ｃ）光重合開始剤から主として成り、（１）前記架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの分子
量が少くとも150であり、（２）３官能以上のアクリル酸エステル及び／またはメ
タアクリル酸エステルの含有量が少くとも15重量％であ
り、（３）硬化膜の軟化点が50℃以上であることを特徴とする紫外線硬化型樹脂を用いれば、
高温多湿雰囲気下においても長期耐久性（高接着性の維
持，記録膜の安定性）の充分優れた光記録媒体が得られ
る。特に酸価が1.5以下のものについては記録膜の劣化
に対して有利である。

従って、本発明は上述した如く記録膜劣化が問題とな
るTbFeCo系合金あるいはNdDyFeCo系合金等で代表される
希土類金属と遷移金属の合金膜からなる光磁気記録膜を
用いる光磁気記録媒体において特に大きな効果を奏す
る。このように、本発明は光記録媒体、中でも光磁気記
録媒体の耐久性向上に大きく寄与するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明になる単なる透明プラスチック基板を
貼合せた片面記録の光磁気記録媒体の例の部分概略断面
図である。第２図は、第１図の単なる透明プラスチック基板を記録
層付に替えて貼合せた両面記録の例の部分概略断面図で
ある。 1,1′：透明プラスチック基板,2,2′：誘電体層,3,
3′：光磁気記録層,4,4′：保護層,5:接着層

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】２枚のディスク状の透明プラスチック基板
からなり、少なくともその一方に、記録層を積層し、か
つ記録層が内側になるように透明プラスチック基板を接
着剤により接着させた貼合せ構造の光記録媒体におい
て、該接着剤が（Ａ）架橋性オリゴマー（Ｂ）多官能のアクリル酸エステル及び／またはメタア
クリル酸エステル（Ｃ）光重合開始剤から主として成る紫外線硬化型樹脂であり、（１）前記架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの分子
量が少くとも150であり、（２）３官能以上のアクリル酸エステル及び／またはメ
タアクリル酸エステルの含有量が少くとも15重量％であ
り、（３）硬化後の膜の軟化点が50℃以上であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】前記紫外線硬化樹脂の酸価が1.5以下であ
る請求項第１項記載の光記録媒体。
【請求項３】前記記録層が光磁気記録層である請求項第
１項又は第２項記載の光記録媒体。
【請求項４】該記録層の基板側に誘電体層が、接着側に
保護層が設けられた請求項第１項，第２項又は第３項項
記載の光記録媒体。