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JP2556971B2 - Solder transfer carrier. Film, solder transfer carrier, film recycling method - Google Patents
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JP2556971B2 - Solder transfer carrier. Film, solder transfer carrier, film recycling method - Google Patents

Solder transfer carrier. Film, solder transfer carrier, film recycling method

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JP2556971B2 JP61190168A JP19016886A JP2556971B2 JP 2556971 B2 JP2556971 B2 JP 2556971B2 JP 61190168 A JP61190168 A JP 61190168A JP 19016886 A JP19016886 A JP 19016886A JP 2556971 B2 JP2556971 B2 JP 2556971B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、例えば電子回路素子、電子回路基板、電子
表示素子等の各種電子装置において、ハンダを形成する
必要がある所定箇所にのみ、適量の半田を供給できる、
新しい半田転写キャリア・フィルムと、この半田転写キ
ャリア・フィルムを用いて電子装置等の被転写体の所定
箇所に半田を転写する方法を提供するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention is applicable to various electronic devices such as an electronic circuit element, an electronic circuit board, and an electronic display element only in a predetermined portion where a solder needs to be formed. Can supply solder,
It is intended to provide a new solder transfer carrier film and a method of transferring solder to a predetermined portion of a transfer target such as an electronic device using the solder transfer carrier film.

[従来の技術] 従来、例えば電子回路素子を電子回路基板に実装する
場合に、電子回路基板の導体(及び、又は電子回路素子
の導体)の所定箇所に予め予備半田を設けておき、上記
電子回路素子を上記電子回路基板上に乗せて上記半田を
再び加熱溶融させて、電気的接続をする半田リフロー法
(リフロー・ソルダリング法)が広く採用されている。
[Prior Art] Conventionally, for example, when an electronic circuit element is mounted on an electronic circuit board, preliminary solder is previously provided at a predetermined position of a conductor (and / or a conductor of the electronic circuit element) of the electronic circuit board, and A solder reflow method (reflow soldering method) in which a circuit element is placed on the electronic circuit board and the solder is heated and melted again for electrical connection is widely used.

そして上記予備半田を供給するには、(従来例I)と
して、多数の半田粉末とフラックス等の溶剤とを含む半
田ペーストを上記電子回路基板の所定導体部にスクリー
ン印刷する方法や、また、(従来例II)として、予め上
記電子回路基板を溶融半田槽中に浸漬し予備半田を設け
る方法などがある。
Then, in order to supply the preliminary solder, as a (conventional example I), a method of screen-printing a solder paste containing a large number of solder powders and a solvent such as a flux on a predetermined conductor portion of the electronic circuit board, or ( As a conventional example II), there is a method of previously immersing the electronic circuit board in a molten solder bath to provide preliminary solder.

いずれの場合にも予備半田をリフロー(再加熱溶融)
するまで上記電子回路素子を上記電子回路基板上に仮止
め(仮固定)しておく。
In any case, reflow the pre-solder (reheat and melt)
Until then, the electronic circuit element is temporarily fixed (temporarily fixed) on the electronic circuit board.

前者の半田ペーストを用いる場合にはペーストの粘着
性を利用し、後者の半田浸漬法を用いる場合には予備半
田上にフラックスを塗布してその粘着性を利用し、又は
接着剤を利用して上記電子回路素子を上記電子回路基板
に仮止めしておく。
When the former solder paste is used, the adhesiveness of the paste is used, and when the latter solder dipping method is used, the flux is applied on the preliminary solder to utilize its adhesiveness, or the adhesive is used. The electronic circuit element is temporarily fixed to the electronic circuit board.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、前者(従来例I)の半田ペーストを印
刷する方法は、(I.1)リフロー時に半田ボールが発生
しやすく、ショートの原因になる恐れがある、(I.2)
微小な面積の導体パターンへの半田ペーストの印刷が困
難である、(I.3)互いに隣接する複数の導体間の間隔
(ピッチ)が微小な場合に半田ペーストが導体の外には
み出すと、ショートや半田ボールの発生の原因となりや
すい、(I.4)半田を設けるべき導体面積が小さい場
合、印刷できる半田量が少なくなるので得られる半田厚
が小となる、(I.5)供給する半田量を正確にコントロ
ールするのが困難である、(I.6)半田ペーストが揮発
性のの溶剤を含むベースト(クリーム)状のために基板
に半田ペーストを印刷してから通常数時間、特に長いも
ので高々数日間と短い可使時間以内に素子を基板に搭載
する必要があるなど欠点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the former method (conventional example I) of printing a solder paste, (I.1) solder balls are likely to occur during reflow, which may cause a short circuit. (I.2)
It is difficult to print solder paste on a conductor pattern with a small area. (I.3) If the solder paste sticks out of the conductor when the space (pitch) between adjacent conductors is small, a short circuit occurs. (I.4) Solder amount to be printed is small when the conductor area where the solder is to be provided is small, resulting in a small solder thickness, (I.5) Solder to be supplied It is difficult to control the amount accurately. (I.6) Solder paste is basate (cream) containing volatile solvent, so it is usually several hours after printing solder paste, especially long time. Therefore, there is a drawback in that it is necessary to mount the element on the substrate within a short working time of at most several days.

また後者(従来例II)の半田浸漬法は、(II.1)半田
を設けるべき所定箇所以外の不必要な箇所に余分な半田
の付着を無くすために特別なソルダ・レジスト処理を行
なう必要がある、(II.2)溶融半田槽に浸漬する時に、
熱衝撃で基板や素子に損傷を与える場合がある等の欠点
がある。
Also, the latter (conventional example II) solder dipping method requires (II.1) special solder resist treatment in order to eliminate excess solder from adhering to unnecessary locations other than the prescribed locations where solder should be provided. There is (II.2) when dipping in the molten solder bath,
There is a defect that the substrate and the element may be damaged by thermal shock.

[発明が解決するための手段] 本発明は以上の全ての欠点を除去することを主な目的
とするもので、半田耐熱性の有る支持体フィルムと、前
記支持体フィルム表面の複数の所定箇所に選択的に付着
させた複数の半田層とからなる半田転写キャリア・フィ
ルムを用い、この半田転写キャリア・フィルムを電子回
路素子、電子回路基板等の被転写体上に配置し、前記半
田層を加熱溶融することにより、前記半田を前記被転写
体の所定箇所に転写するものである。
[Means for Solving the Invention] The main purpose of the present invention is to eliminate all of the above-mentioned drawbacks. A support film having solder heat resistance and a plurality of predetermined portions on the surface of the support film are provided. Using a solder transfer carrier film consisting of a plurality of solder layers selectively attached to, the solder transfer carrier film is placed on the transfer target such as an electronic circuit element or an electronic circuit board, and the solder layer is By heating and melting, the solder is transferred to a predetermined portion of the transferred body.

本発明の半田転写キャリア・フィルムの実施例には大
別して次の2種類がある。
The examples of the solder transfer carrier film of the present invention are roughly classified into the following two types.

(A)ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂等の半田耐熱
性のある有機樹脂フィルム上に、半田耐熱性のある接着
剤を介して又は介さずして、半田耐熱性のある金属層を
設け、この金属層上に所定のパターン状の複数の半田層
を設けたもの。
(A) A solder heat resistant metal layer is provided on a solder heat resistant organic resin film such as a polyimide resin or a polyester resin with or without a solder heat resistant adhesive, and the metal layer is formed. A product in which a plurality of solder layers having a predetermined pattern are provided on the top.

(B)半田耐熱性のある金属フィルム上に、所定のパタ
ーン状の複数の半田層を設けたもの。
(B) A plurality of solder layers having a predetermined pattern provided on a metal film having solder heat resistance.

上記Aの半田転写キャリア・フィルムは、半田耐熱性
のある樹脂フィルム上に、半田耐熱性のある金属を、蒸
着法、スパッタリング法等の気相メッキ法や、無電界メ
ッキ法により、樹脂フィルム上に付着させて金属層とす
るか、又は半田耐熱性のある金属フィルムを、半田耐熱
性のある接着剤を介して接着し、次いで周知のホトレジ
ストを半田層を設けるべき所定箇所を除いて形成し、最
後に上記金属層を電極として、通常の電界メッキ法によ
り半田層を電解メッキすることにより得ることができ
る。この電解メッキによって得られた予備半田層は、浸
漬法による半田層が溶融半田槽中に溶けている不純物を
含むために保存性が悪く、また半田厚の均一性が得られ
にくいのに対して、半田汚染が無いので、保存性がよ
く、高い信頼性と組成の均一性が得られ、また半田厚の
均一性が得られる。
The solder transfer carrier film of the above A is a resin film having solder heat resistance, and a metal having heat resistance to solder is deposited on the resin film by vapor phase plating such as vapor deposition or sputtering, or electroless plating. To form a metal layer, or a metal film having solder heat resistance is adhered via an adhesive having heat resistance to solder, and then a well-known photoresist is formed except for a predetermined portion where the solder layer should be provided. Finally, it can be obtained by electrolytically plating a solder layer by a usual electric field plating method using the metal layer as an electrode. The preliminary solder layer obtained by this electrolytic plating has poor storage stability because the solder layer obtained by the dipping method contains impurities dissolved in the molten solder bath, and it is difficult to obtain uniform solder thickness. Since there is no solder contamination, the storage stability is good, high reliability and composition uniformity are obtained, and solder thickness uniformity is obtained.

上記Bの半田転写キャリア・フィルムは、半田耐熱性
のある金属フィルム上に、周知のホトレジストを半田層
を設けるべき所定箇所を除いて形成し、上記金属フィル
ムを電極として、電解メッキ法により半田を電解メッキ
することにより得ることができる。
The solder transfer carrier film B is formed by forming a well-known photoresist on a metal film having solder heat resistance except a predetermined portion where a solder layer should be provided, and using the metal film as an electrode, solder is formed by electrolytic plating. It can be obtained by electrolytic plating.

上記樹脂フィルム、接着剤層、金属層、又は金属フィ
ルムとしては、半田層をその溶融温度以上の加熱により
被転写体に転写する際の温度に耐える必要がある。
The resin film, the adhesive layer, the metal layer, or the metal film needs to withstand the temperature at which the solder layer is transferred to the transfer target by heating at the melting temperature or higher.

また上記金属層又は金属フィルム上に付着している上
記半田層が被転写体に完全に熱転写するのが望ましく、
このために上記金属層又は金属フィルムとしては、少な
くともその表面が被転写体上の銅、錫等の半田濡れ性の
良い被転写金属層部分よりも、半田濡れ性の悪いニッケ
ル、コバール、ステンレス等の金属を用いるのが望まし
い。
Further, it is desirable that the solder layer adhered on the metal layer or the metal film be completely thermally transferred to the transfer target,
Therefore, as the metal layer or the metal film, at least the surface of the transferred metal layer of copper, tin or the like having a good solder wettability on the transferred object, nickel, kovar, stainless steel or the like having a poor solder wettability It is desirable to use the above metal.

[実施例] 第1図及び第2図により本発明の半田転写キャリア・
フィルム10(10a)の一実施例を詳細に説明する。
[Embodiment] The solder transfer carrier of the present invention according to FIGS. 1 and 2.
An example of the film 10 (10a) will be described in detail.

第1図は半田転写キャリア・フィルム10aの平面図、
第2図は第1図のA−A線にそう断面図である。
1 is a plan view of the solder transfer carrier film 10a,
FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG.

第1図、第2図において、半田転写キャリア・フィル
ム10aは長尺のフレキシブル・フィルムの表面上の所定
箇所に矩形、円形等所定パターンの島状の多数の半田層
20と、搬送及び位置決め用のスプロケットホール90を持
っており、通常のリール(図示せず)に巻取ることが出
来る。
In FIG. 1 and FIG. 2, the solder transfer carrier film 10a is a large number of island-shaped solder layers having a predetermined pattern such as a rectangle or a circle at predetermined positions on the surface of a flexible film.
It has 20 and a sprocket hole 90 for carrying and positioning, and can be wound on a normal reel (not shown).

図では半田層20は2行、4列の島状の矩形パターンの
複数の半田層20n、20(n+1)をそれぞれ1組として
いる。
In the figure, the solder layer 20 has a plurality of solder layers 20n and 20 (n + 1) each of which has an island-shaped rectangular pattern of two rows and four columns.

半田転写キャリア・フィルム10aは、例えばポリイミ
ド、ポリエーテル・イミド、ふっ素樹脂、ポリエステル
(ポリエチレン・テレフタレート)等の耐熱性の樹脂フ
ィルム40上にエポキシ樹脂等の耐熱性接着剤層60を介し
て、例えば銅、アルミニーム等の金属箔等の金属層30a
を積層し、また周知のホトリソグラフィー法、スクリー
ン印刷法等により金属層30a上に所定のパターン状半田
層形成予定箇所を残して約1〜100ミクロンのポリイミ
ド樹脂、感光性ポリイミド樹脂、環化ポリブタジエン樹
脂等の耐熱性レジスト層50を設け、またホトレジスト層
50を形成していない金属層30aの露出面に、例えば厚み
約5〜500ミクロンの半田層20を設けたものである。
The solder transfer carrier film 10a is formed, for example, on a heat resistant resin film 40 such as polyimide, polyether imide, fluororesin, polyester (polyethylene terephthalate) or the like via a heat resistant adhesive layer 60 such as epoxy resin, Metal layer 30a such as metal foil such as copper and aluminum
, A well-known photolithography method, a screen printing method, etc., about 1 to 100 microns of polyimide resin, photosensitive polyimide resin, cyclized polybutadiene leaving a predetermined pattern-shaped solder layer formation scheduled portion on the metal layer 30a. A heat resistant resist layer 50 such as resin is provided, and a photoresist layer
For example, the solder layer 20 having a thickness of about 5 to 500 μm is provided on the exposed surface of the metal layer 30a where the 50 is not formed.

上述の樹脂フィルム40上に接着剤層60を介して銅箔30
aを積層したものとして、市販のフレキシブル印刷配線
基板(FPC)が使用できる。例えば市販のポリイミド・
ベース、ポリエステル・ベースFPCの半田耐熱温度は、
それぞれ320度C,30秒、190度C,20秒以上、ベースの厚み
12,25,50,75,100,125ミクロン、銅箔の厚み18,35ミクロ
ン、接着剤層の厚み20ミクロン前後である。
The copper foil 30 is provided on the resin film 40 via the adhesive layer 60.
A commercially available flexible printed wiring board (FPC) can be used as a stack of a. For example, commercially available polyimide
The soldering heat resistance temperature of base and polyester base FPC is
320 degrees C, 30 seconds, 190 degrees C, 20 seconds or more, base thickness
12,25,50,75,100,125 micron, copper foil thickness 18,35 micron, adhesive layer thickness around 20 micron.

少なくとも金属層30aの露出面に、後で説明する加熱
による半田転写時に半田が被転写体に転写しやすいニッ
ケル、コパール、ステンレス等の半田付け性の良くない
金属をメッキなどで被覆しておくのが望ましい。金属層
30aを電極として半田付け性の良くない金属で電解メッ
キすると、金属層30aの露出面のみに半田付け性の良く
ない、即ち半田層20が熱転写しやすい金属メッキ層が形
成される。
At least the exposed surface of the metal layer 30a is coated with a metal having poor solderability such as nickel, copearl, or stainless steel, which is easy to transfer the solder to the transfer target at the time of solder transfer by heating, which will be described later, by plating or the like. Is desirable. Metal layer
When electrolytic plating is performed with a metal having poor solderability using 30a as an electrode, a metal plating layer having poor solderability, that is, the solder layer 20 easily thermally transferred, is formed only on the exposed surface of the metal layer 30a.

多数の半田層20は、金属層30aを共通の電極として半
田を電解メッキすることにより、例えば5〜500ミクロ
ンの任意の所定の厚さに形成することが出来る。
The large number of solder layers 20 can be formed to have an arbitrary predetermined thickness of, for example, 5 to 500 microns by electrolytically plating the solder using the metal layer 30a as a common electrode.

金属層30aの露出面側を、溶融半田槽に入れるか、又
は半田ペーストを印刷した後に加熱しより半田を溶融し
冷却することにより、半田層20を形成することもでき
る。しかしながら、この場合には少なくともその表面が
銅等の半田付け性が良い金属である必要があり、そうす
ると相反して転写時には半田層20が完全に被転写体に転
写しにくくなる。
It is also possible to form the solder layer 20 by putting the exposed surface side of the metal layer 30a in a molten solder bath or by printing a solder paste and then heating it to melt and cool the solder. However, in this case, at least the surface thereof needs to be a metal having a good solderability such as copper, which makes it difficult to completely transfer the solder layer 20 to the transfer target at the time of transfer.

従って、少なくとも露出表面に半田付け性の良くない
金属をメッキなどで被覆した金属層30a上に前者の電解
メッキ法により半田層20aを形成した場合には、半田転
写時に半田層20の完全な転写が可能である。
Therefore, when the solder layer 20a is formed by the former electrolytic plating method on the metal layer 30a where at least the exposed surface is coated with a metal having poor solderability by plating or the like, complete transfer of the solder layer 20 at the time of solder transfer Is possible.

上記半田層20の材料としては、錫63−鉛37%共晶合金
(溶融点:183度C、半田付け温度:通常200〜300度C)
等の最も一般的な錫−鉛系半田、融点を低くするため
に、上記Sn、PbにBi、In、Cdなどの低融点金属を付加し
た、周知の低融点半田(融点70〜170度C)等が用いら
れる。
As the material of the solder layer 20, tin 63-lead 37% eutectic alloy (melting point: 183 ° C, soldering temperature: usually 200 to 300 ° C)
Most common tin-lead type solders such as, for example, well-known low melting point solders (melting point 70 to 170 ° C.) in which low melting point metals such as Bi, In and Cd are added to the above Sn and Pb in order to lower the melting point. ) Etc. are used.

上記樹脂フィルム40の半田耐熱温度は、例えばポリイ
ミド樹脂が320度C,30秒以上、ポリエステル樹脂が190度
C,20秒以上、また上記ふっ素樹脂、ポリエーテル・イミ
ド樹脂がポリイミドとポリエステルの中間に位置するか
ら、上記樹脂の半田耐熱温度を考慮して上記半田材料を
選択して使用する。即ち、例えばポリイミドの場合には
上記の融点183度の共晶合金が使用でき、ポリエステル
の場合にはより融点の低い上記低融点半田を用いるのが
望ましい。
The solder heat resistant temperature of the resin film 40 is, for example, 320 ° C. for polyimide resin, 30 seconds or more, and 190 ° C. for polyester resin.
C, 20 seconds or more, and since the fluororesin and the polyether-imide resin are located between polyimide and polyester, the solder material is selected and used in consideration of the solder heat resistance temperature of the resin. That is, for example, in the case of polyimide, it is preferable to use the eutectic alloy having a melting point of 183 degrees, and in the case of polyester, it is preferable to use the low melting point solder having a lower melting point.

上記の半田転写キャリア・フィルム10aの半田層20上
には、予め半田付け用フラックスを塗布しておくのが望
ましい。
It is desirable to apply a soldering flux on the solder layer 20 of the solder transfer carrier film 10a in advance.

第3図、第4図により、上記の半田転写キャリア・フ
ィルム10aを用いて、任意の被転写体70上に半田層を転
写する方法の一実施例を説明する。
An embodiment of a method for transferring a solder layer onto any transfer target 70 using the above-mentioned solder transfer carrier film 10a will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

第3図、第4図において、10aは樹脂フィルム40上に
接着剤層60を介して金属層30aを設け、金属層30a上のレ
ジスト層50を形成していない露出面(開口部)に半田層
20を形成した半田転写キャリア・フィルム(第1図のB
−B線に沿う断面図)、70は銅、錫メッキ銅、銀、銀−
パラジユーム等の半田付け性の良い金属から成る被転写
部70aを設けた被転写体、また80は加圧を兼ねる加熱工
具(熱板)である。
In FIGS. 3 and 4, 10a is a resin film 40 provided with a metal layer 30a via an adhesive layer 60, and solder is applied to the exposed surface (opening) of the metal layer 30a where the resist layer 50 is not formed. layer
Solder transfer carrier film with 20 formed (B in Fig. 1)
-Cross section along line B), 70 is copper, tin-plated copper, silver, silver-
A transfer-receiving body provided with a transfer-receiving portion 70a made of a metal having good solderability such as a palladium, and 80 is a heating tool (heating plate) that also serves as a pressure.

ここで上記被転写体70は、導体ランド、導体リード等
の被転写部70aを設けた樹脂ベース、セラミック・ベー
ス等のプリント回路基板(即ち、印刷回路又はプリント
基板又は配線基板)を意味するが、金属酸化物のリード
電極上に半田付け性の良い金属膜を予め形成した被転写
部70aをもつ液晶表示装置等の平板型表示装置をも含む
ものとする。
Here, the transferred body 70 means a printed circuit board (that is, a printed circuit or a printed circuit board or a wiring board) such as a resin base or a ceramic base provided with a transferred portion 70a such as a conductor land or a conductor lead. It also includes a flat panel display device such as a liquid crystal display device having a transferred portion 70a in which a metal film having a good solderability is formed in advance on a metal oxide lead electrode.

被転写体70の被転写部70aのパターンに対応させて半
田層20を形成させた半田転写キャリア・フィルム10aを
位置決めして被転写体70の上に搭載して、複数の被転写
部70aと複数の半田層20とを一対一に対応させて接触さ
せ、加熱工具80を半田転写キャリア・フィルム10aの上
から加圧して、半田層20をその溶融温度以上の例えば約
190〜300度Cに加熱すると、半田転写キャリア・フィル
ム10a上の複数の半田層20は溶融して、被転写体70上の
複数の被転写部70a上に一括して転写され、例えば加熱
時間約3〜20秒後に被転写体70から半田転写キャリア・
フィルム10a及び加熱工具80を取去ると、複数の転写半
田層20aが被転写体70上の被転写部70a上に形成される。
The solder transfer carrier film 10a having the solder layer 20 formed thereon corresponding to the pattern of the transferred portion 70a of the transferred body 70 is positioned and mounted on the transferred body 70, and a plurality of transferred portions 70a are formed. The plurality of solder layers 20 are brought into contact with each other in a one-to-one correspondence, the heating tool 80 is pressed from above the solder transfer carrier film 10a, and the solder layers 20 are melted at or above their melting temperature, for example, about
When heated to 190 to 300 ° C., the plurality of solder layers 20 on the solder transfer carrier film 10a are melted and collectively transferred onto the plurality of transferred portions 70a on the transferred body 70. After about 3 to 20 seconds, the solder transfer carrier from the transferred object 70
When the film 10a and the heating tool 80 are removed, a plurality of transfer solder layers 20a are formed on the transferred portion 70a on the transferred body 70.

なお、半田転写時間を短くし、半田を完全に転写させ
るために、被転写体70の下側からホット・プレート、赤
外線等により半田溶融温度以下に加熱しておくのが望ま
しい。
In order to shorten the solder transfer time and transfer the solder completely, it is desirable to heat the transfer target 70 from below to the solder melting temperature or below by a hot plate, infrared rays, or the like.

半田層20aの表面にツララ状の突起や、隣接した異な
る複数の転写半田層20aが短絡するブリッジが生じるの
を防ぐために、上記の半田の熱転写作業を半田溶融温度
以下に加熱した窒素等の不活性ガス雰囲気中で行なうの
が望ましい。
In order to prevent occurrence of a ridge-like protrusion on the surface of the solder layer 20a and a bridge that short-circuits a plurality of different transfer solder layers 20a adjacent to each other, the thermal transfer operation of the solder described above is performed using a non-heated nitrogen or the like. It is desirable to perform in an active gas atmosphere.

第4図に示す半田が転写されてほとんど無くなった使
用済みの半田転写キャリア・フィルム10aは、金属層30a
を電極として半田を再び電解メッキすることにより、複
数回、再使用することができるので、経済的である。
The used solder transfer carrier film 10a shown in FIG. 4 in which the solder has been transferred and almost disappeared is the metal layer 30a.
It is economical because it can be reused a plurality of times by electrolytically plating the solder again with the electrodes as electrodes.

第5図は、本発明の半田転写キャリア・フィルムの他
の実施例を示し、上記の実施例と比較して主に樹脂フィ
ルム40を削除した点が異なる。
FIG. 5 shows another embodiment of the solder transfer carrier film of the present invention, which is different from the above embodiment in that the resin film 40 is mainly deleted.

第5図に示す半田転写キャリア・フィルム10bの断面
図において、40aは銅、、アルミニューム等の金属フィ
ルム、50は金属フィルム40aの上面に半田付着予定箇所
を残して形成されたホトレジスト層、20はホトレジスト
層50の形成されていない金属フィルム40aの一表面の露
出部(開口部)に電解メッキ法等により形成された半田
層である。
In the cross-sectional view of the solder transfer carrier film 10b shown in FIG. 5, 40a is a metal film such as copper or aluminum, 50 is a photoresist layer formed on the upper surface of the metal film 40a, leaving a solder adhesion planned portion, 20 Is a solder layer formed by an electrolytic plating method or the like on the exposed portion (opening) of one surface of the metal film 40a where the photoresist layer 50 is not formed.

上記実施例と同様にして、この実施例でも金属フィル
ム40aの露出面に半田付け性の良くない金属を電解メッ
キしておくことが望ましい。このようにすることによ
り、半田転写時に半田転写キャリア・フィルム10b上の
半田層20を完全に被転写体70に転写することができる。
In this embodiment as well, similarly to the above embodiment, it is desirable to electrolytically plate the exposed surface of the metal film 40a with a metal having poor solderability. By doing so, it is possible to completely transfer the solder layer 20 on the solder transfer carrier film 10b to the transfer target 70 during solder transfer.

この実施例の半田転写キャリア・フィルム10bは、第
3図、第4図に示す上記実施例と同様にして加圧及び加
熱により複数の半田層20を一括して、被転写体70上の複
数の被転写部70aに溶融して転写することができる。
The solder transfer carrier film 10b of this embodiment is similar to the above-described embodiment shown in FIG. 3 and FIG. It is possible to melt and transfer to the transferred portion 70a.

また従来技術として特開昭51−50466号公開特許公報
が知られており、これは半田付けができないセラミッ
ク、レンジン、ペーパー等の半田付けのできない物体
(間接体)の表面に半田ペーストを印刷したものを用意
し、この間接体の半田ペーストの付着した面を配線基板
に密着させ、その状態で加熱処理して、この配線基板上
に半田を転写するものである。
Further, as a conventional technique, Japanese Patent Laid-Open No. 51-50466 is known, which is a method in which a solder paste is printed on the surface of a non-solderable object (indirect body) such as ceramics, rangen, or paper which cannot be soldered. An object is prepared, the surface of the indirect body to which the solder paste is attached is brought into close contact with the wiring board, and heat treatment is performed in this state to transfer the solder onto the wiring board.

そして間接体の表面に粉末状の半田とフラックスとを
混合して作った半田ペーストをスクリーン印刷により印
刷している。
Then, a solder paste made by mixing powdered solder and flux is printed on the surface of the indirect member by screen printing.

しかしながら、この従来技術では、導電パターンを設
けた基板上に直接、半田ペーストを印刷して部品を搭載
後にリフロー半田付けする場合と同様に、半田ペースト
が揮発性とペースト状(クリーム状)のために、間接体
に半田ペーストを印刷してから通常数時間の短い可使時
間内に、導電パターンを設けた基板上に半田を加熱転写
しなければならない制約があり、また粘性のある半田ペ
ーストを印刷した間接体の取扱が面倒であった。
However, in this conventional technique, the solder paste is volatile and paste-like (cream-like) as in the case where the solder paste is directly printed on the substrate provided with the conductive pattern and the components are mounted and then the reflow soldering is performed. In addition, there is a constraint that the solder should be heated and transferred onto the substrate provided with the conductive pattern within a short working time of usually several hours after the solder paste is printed on the indirect body. Handling of the printed indirect body was troublesome.

またこの従来技術では導電パターンを設けた基板上に
直接、半田ペーストを印刷して部品を搭載後にリフロー
半田付けする場合と同様に、リフロー時に半田ボールが
発生し易いこと、微小な面積のパターンの半田層を形成
するのが困難なこと、転写された半田厚の均一性が得ら
れにくいなどの欠点があった。
Further, in this conventional technique, as in the case where solder paste is printed directly on a substrate provided with a conductive pattern and reflow soldering is performed after components are mounted, solder balls are likely to be generated during reflow, and a pattern with a small area is formed. There are drawbacks such as difficulty in forming a solder layer and difficulty in obtaining uniform transferred solder thickness.

これに対して、本発明では支持体フィルムの表面に固
体化した半田層を設けて半田転写キャリア・フィルムと
しているので、上記従来技術の欠点の全てを除去し、可
使時間の制約が全く無く、半田ボールが発生しにくいこ
と、微小な面積のパターンの半田層を形成するのが容易
なこと、転写された半田厚の均一性が得られるなどの利
点がある。
On the other hand, in the present invention, since the solidified solder layer is provided on the surface of the support film to form the solder transfer carrier film, all the above-mentioned drawbacks of the prior art are eliminated, and there is no restriction on the pot life. The advantages are that solder balls are less likely to occur, it is easy to form a solder layer having a pattern of a small area, and the transferred solder thickness is uniform.

[発明の効果] 以上に説明したように、本発明は耐熱性の支持体フィ
ルムの表面の複数の所定箇所に半田層を付着させた半田
転写キャリア・フィルムと、これを用いた半田転写方法
を提供するものであり、非常に簡単な熱転写法により乾
式に、上記半田転写キャリア・フィルム上の半田層を、
電子回路素子、電子回路基板等の被転写体上の所定箇所
に転写し、上記被転写体上に半田層を歩留り良く設ける
ことができる。
[Effects of the Invention] As described above, the present invention provides a solder transfer carrier film having a solder layer attached to a plurality of predetermined locations on the surface of a heat-resistant support film, and a solder transfer method using the same. The solder layer on the above-mentioned solder transfer carrier film is provided in a dry manner by a very simple thermal transfer method.
It is possible to transfer to a predetermined position on a transfer target such as an electronic circuit element or an electronic circuit board, and to provide a solder layer on the transfer target with a good yield.

また本発明では、半田ペーストを電子回路基板、素子
等の所定導電体上に印刷する従来例Iと比べて、予め固
体の半田層を設けた半田転写キャリア・フィルムを用い
るので、従来例Iの欠点(I.1)〜(I.6)を除去でき
る。
Further, in the present invention, as compared with the conventional example I in which the solder paste is printed on a predetermined conductor such as an electronic circuit board or an element, a solder transfer carrier film provided with a solid solder layer in advance is used. Defects (I.1) to (I.6) can be eliminated.

更に本発明では、電子回路基板、素子等を溶融半田槽
に浸漬する従来例IIと比べて、所定箇所にのみ予め半田
層を形成させた半田転写キャリア・フィルムを用いてい
るので、従来例IIの欠点(II.1)〜(II.2)を除去でき
る。
Furthermore, in the present invention, compared with the conventional example II in which the electronic circuit board, the element, etc. are immersed in the molten solder bath, since the solder transfer carrier film in which the solder layer is formed in advance only at a predetermined location is used, The drawbacks (II.1) to (II.2) of can be eliminated.

更に本発明では、半田転写キャリア・フィルム上の半
田層が、電解メッキ法により形成されているので、従来
例I、従来例IIと比べて均一な厚さで、保存性の良い半
田層が得られ、従って被転写体上には半田厚の均一な、
保存性の良い半田層が得られる。
Further, in the present invention, since the solder layer on the solder transfer carrier film is formed by the electrolytic plating method, a solder layer having a uniform thickness and good storage stability can be obtained as compared with the conventional examples I and II. Therefore, the solder thickness is uniform on the transferred object,
A solder layer having good storage stability can be obtained.

また本発明の実施例のように、半田転写キャリア・フ
ィルム上の金属層又はフィルムの少なくとも露出面が半
田付性の悪い金属であって、その上に半田層を電解メッ
キした場合には、半田転写キャリア・フィルム上の半田
層を被転写体上に完全に熱転写でき、一旦熱転写した後
には半田転写キャリア・フィルム上には半田層が残らな
い。
Further, as in the embodiment of the present invention, when the metal layer on the solder transfer carrier film or at least the exposed surface of the film is a metal having poor solderability, and the solder layer is electrolytically plated thereon, the solder The solder layer on the transfer carrier film can be completely thermally transferred onto the transfer target, and no solder layer remains on the solder transfer carrier film after the thermal transfer.

更に本発明の電子回路基板用、半田転写キャリア・フ
ィルム10は、耐熱性の有る金属層を設けた耐熱性の有る
樹脂フィルム又は耐熱性の有る金属フィルムからなり複
数のスプロケット・ホールを持つ長尺な支持体フィルム
を持っている。
Furthermore, the solder transfer carrier film 10 for an electronic circuit board of the present invention is made of a heat-resistant resin film provided with a heat-resistant metal layer or a heat-resistant metal film, and has a long sprocket hole. Have a good support film.

既に述べたように、この長尺な支持体フィルムに設け
た複数のスプロケット・ホールは、搬送及び、又は位置
決め用に用いることができる利点がある。また、これに
より通常の半田転写キャリア・フィルム10は、通常のリ
ールに巻取ることが可能となり、本発明の電子回路基板
用、半田転写キャリア・フィルム10は、コンパクトなリ
ールの状態で供給することができる。
As already mentioned, the sprocket holes provided in this long support film have the advantage that they can be used for transportation and / or positioning. Further, as a result, the normal solder transfer carrier film 10 can be wound up on a normal reel, and the solder transfer carrier film 10 for an electronic circuit board of the present invention can be supplied in a compact reel state. You can

また本発明の電子回路基板用、半田転写キャリア・フ
ィルム10(10a、10b)は、半田転写キャリア・フィルム
10上の固体状の半田層20が電子回路基板からなる被転写
体70の導体ランド部、導体リード部等からなる被転写部
70a上に加熱により固体状の半田が溶融転写されて転写
半田20aとなる。
Further, the solder transfer carrier film 10 (10a, 10b) for an electronic circuit board of the present invention is a solder transfer carrier film.
The solid solder layer 20 on the transfer target part 70 of the transfer target body 70 made of an electronic circuit board is composed of conductor lands, conductor leads, etc.
The solid solder is melt-transferred onto the 70a by heating to become the transfer solder 20a.

この使用済みとなった電子回路基板用、半田転写キャ
リア・フィルムは、金属層30a又は金属フィルム40aを電
極として半田を再び電解メッキして、その金属層30a又
は金属フィルム40aの前記耐熱性レジスト層を設けてい
な前記露出面に、再度、半田層20を付着させることによ
り、その電子回路基板用、半田転写キャリア・フィルム
10(10a、10b)を複数回、再利用することができる。
The used solder transfer carrier film for the electronic circuit board is again electrolytically plated with solder using the metal layer 30a or the metal film 40a as an electrode, and the heat resistant resist layer of the metal layer 30a or the metal film 40a. Solder transfer carrier film for electronic circuit board by attaching the solder layer 20 again to the exposed surface not provided with
10 (10a, 10b) can be reused multiple times.

従って、本発明の電子回路基板用、半田転写キャリア
・フィルム10は、複数回、リサイクルして使用可能なの
で、本発明は、経済的であり、かつ廃棄材料と破棄処分
の必要性とをほとんど無くすことが可能な地球環境に優
しいものである。
Therefore, the solder transfer carrier film 10 for an electronic circuit board of the present invention can be recycled and used a plurality of times, so that the present invention is economical and almost eliminates the need for waste materials and disposal. It is an environmentally friendly thing that can.

又本発明の電子回路基板用、半田転写キャリア・フィ
ルム10を、既に述べたコンパクトなリールの状態で供給
できることは、即ち半田転写キャリア・フィルム10を、
順次、別の通常のリールに巻取ることにより、コンパク
トな状態で使用済みの半田転写キャリア・フィルム10
を、回収することができ、再度、半田を電解メッキをす
ることにより半田転写キャリア・フィルム10を、再度再
生することができ、再使用が可能となる。
Further, for the electronic circuit board of the present invention, the solder transfer carrier film 10 can be supplied in the state of the compact reel described above, that is, the solder transfer carrier film 10.
Solder transfer carrier film 10 that has been used in a compact state by sequentially winding it on another normal reel
Can be recovered, and the solder transfer carrier film 10 can be regenerated by electrolytically plating the solder again, and can be reused.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

図面は、本発明の半田転写キャリア・フィルムと半田転
写方法を説明するためのものである。 第1図は、本発明の半田転写キャリア・フィルムの一実
施例を示す平面図、第2図は第1図のA−A線に沿う断
面図である。 第3図、第4図は、半田転写キャリア・フィルムを用い
た本発明の半田転写方法を示す断面図(第3図は転写
前、及び第4図は転写後を示す)である。 第5図は、本発明の半田転写キャリア・フィルムの他の
実施例を示す断面図である。 (符号の説明) 10,10a,10b……半田転写キャリア・フィルム、20,20a,2
0n,20(n+1)……半田層、30a……金属層、40a……
金属フィルム、50……レジスト層、60……接着剤層、70
……被転写体(電子回路基板、電子回路素子等)、70a
……被転写部、90……スプロケット・ホール。
The drawings are for explaining the solder transfer carrier film and the solder transfer method of the present invention. FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the solder transfer carrier film of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG. 3 and 4 are cross-sectional views showing a solder transfer method of the present invention using a solder transfer carrier film (FIG. 3 shows before transfer and FIG. 4 shows after transfer). FIG. 5 is a sectional view showing another embodiment of the solder transfer carrier film of the present invention. (Explanation of symbols) 10,10a, 10b …… Solder transfer carrier film, 20,20a, 2
0n, 20 (n + 1) …… Solder layer, 30a …… Metal layer, 40a ……
Metal film, 50 ... resist layer, 60 ... adhesive layer, 70
... Transfer target (electronic circuit board, electronic circuit element, etc.), 70a
...... Transfer area, 90 sprocket hole.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】電子回路基板からなる被転写体の複数の所
定箇所に、加熱により半田層を転写し得る半田転写キャ
リア・フィルムにおいて、 耐熱性の有る金属層を設けた耐熱性の有る樹脂フィルム
又は耐熱性の有る金属フィルムからなり複数のスプロケ
ット・ホールを持つ長尺な支持体フィルムと、 前記支持体フィルム上に、前記所定箇所の金属層又は金
属フィルムを露出させるように、半田を付着すべき複数
の所定箇所を除いて設けた耐熱性レジスト層と、 前記金属層又は前記金属フィルムの少なくとも露出面が
半田付け性の良くない金属面である前記露出面に、電解
メッキ法によって設けた複数の半田層とを備えたことを
特徴とする、電気回路基板転写用、半田転写キャリア・
フィルム。
1. A solder transfer carrier film capable of transferring a solder layer by heating at a plurality of predetermined positions of an object to be transferred composed of an electronic circuit board. A heat resistant resin film provided with a heat resistant metal layer. Alternatively, a long support film made of a heat-resistant metal film having a plurality of sprocket holes, and solder is attached on the support film so as to expose the metal layer or the metal film at the predetermined position. And a heat-resistant resist layer provided except for a plurality of predetermined locations, at least the exposed surface of the metal layer or the metal film is a metal surface having poor solderability, the exposed surface is a plurality provided by electrolytic plating method. Solder transfer carrier for electrical circuit board transfer, characterized by having a solder layer of
the film.
【請求項2】電子回路基板からなる被転写体の複数の所
定箇所に、加熱により半田層を転写し得る半田転写キャ
リア・フィルムにおいて、 耐熱性の有る金属層を設けた耐熱性の有る樹脂フィルム
又は耐熱性の有る金属フィルムからなり複数のスプロケ
ット・ホールを持つ長尺な支持体フィルムと、 前記支持体フィルム上に、前記所定箇所の金属層又は金
属フィルムを露出させるように、半田を付着すべき複数
の所定箇所を除いて設けた耐熱性レジスト層と、 前記金属層又は前記金属フィルムの少なくとも露出面が
半田付け性の良くない金属面である前記露出面に、電解
メッキ法によって設けた複数の半田層とを備えた電子回
路基板転写用、半田転写キャリア・フィルムを用い、 前記半田転写キャリア・フィルム上の前記半田層を前記
被転写体に転写した後に、 前記金属層又は前記金属フィルムを電極として前記金属
層又は前記金属フィルム上の前記耐熱性レジスト層を設
けていない前記露出面に、再度、半田層を電解メッキに
より形成することを特徴とする、半田転写キャリア・フ
ィルムの再生方法。
2. A solder transfer carrier film capable of transferring a solder layer by heating at a plurality of predetermined positions of an object to be transferred composed of an electronic circuit board. A heat resistant resin film provided with a heat resistant metal layer. Alternatively, a long support film made of a heat-resistant metal film having a plurality of sprocket holes, and solder is attached on the support film so as to expose the metal layer or the metal film at the predetermined position. And a heat-resistant resist layer provided except for a plurality of predetermined locations, at least the exposed surface of the metal layer or the metal film is a metal surface having poor solderability, the exposed surface is a plurality provided by electrolytic plating method. And a solder transfer carrier film for electronic circuit board transfer, the solder layer on the solder transfer carrier film being transferred to After transferring to the body, a solder layer is formed again by electrolytic plating on the exposed surface of the metal layer or the metal film on which the heat resistant resist layer is not provided, using the metal layer or the metal film as an electrode. A method for recycling a solder transfer carrier film, which is characterized by:
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