JP2584066B2 - ペリクルカバーの透明有機薄膜除去器 - Google Patents
ペリクルカバーの透明有機薄膜除去器Info
- Publication number
- JP2584066B2 JP2584066B2 JP22076289A JP22076289A JP2584066B2 JP 2584066 B2 JP2584066 B2 JP 2584066B2 JP 22076289 A JP22076289 A JP 22076289A JP 22076289 A JP22076289 A JP 22076289A JP 2584066 B2 JP2584066 B2 JP 2584066B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- organic thin
- transparent organic
- pellicle cover
- remover
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 33
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、フォトリソグラフィ工程の転写パターン欠
陥発生を防止する目的で、パーティクルからマスク保護
をするペリクルカバーの透明有機薄膜除去器に関するも
のである。
陥発生を防止する目的で、パーティクルからマスク保護
をするペリクルカバーの透明有機薄膜除去器に関するも
のである。
従来の技術 近年、半導体製造の歩留まり安定化の一手段として、
フォトリソグラフィ工程での転写パターン欠陥発生を防
止するため、マスクにパーティクルが付着することを防
止するペリクルカバーをマスクに装着する方法が用いら
れている。
フォトリソグラフィ工程での転写パターン欠陥発生を防
止するため、マスクにパーティクルが付着することを防
止するペリクルカバーをマスクに装着する方法が用いら
れている。
以下にペリクルカバーのマスクへの装着について説明
する。第2図はペリクルカバーフレームのマスクへの装
着例の一つを示すものである。第2図において、3は透
明有機薄膜、4はペリクルカバーのフレーム、5はマス
クである。
する。第2図はペリクルカバーフレームのマスクへの装
着例の一つを示すものである。第2図において、3は透
明有機薄膜、4はペリクルカバーのフレーム、5はマス
クである。
以上ように構成されたペリクルカバーを装着したマス
クを露光に用いると、紫外線により透明有機薄膜が劣化
しペリクルカバーの交換が必要になる。
クを露光に用いると、紫外線により透明有機薄膜が劣化
しペリクルカバーの交換が必要になる。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記構成のペリクルカバー装着マスクの
従来の交換方法では、ペリクルカバーフレームから透明
有機薄膜を取り除くとき、透明有機薄膜を破って取り除
いていたので、透明有機薄膜がマスク面に付着し洗浄を
困難にしたり、マスクパターン面に付着した透明有機薄
膜を取り除く際に発生した静電気でマスクパターンが破
壊されるという課題を有していた。
従来の交換方法では、ペリクルカバーフレームから透明
有機薄膜を取り除くとき、透明有機薄膜を破って取り除
いていたので、透明有機薄膜がマスク面に付着し洗浄を
困難にしたり、マスクパターン面に付着した透明有機薄
膜を取り除く際に発生した静電気でマスクパターンが破
壊されるという課題を有していた。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、透明有機
薄膜をマスクパターン面に付着させることなく、ペリク
ルカバーフレームから除去する優れたペリクルカバー透
明有機薄膜除去器を提供することを目的とする。
薄膜をマスクパターン面に付着させることなく、ペリク
ルカバーフレームから除去する優れたペリクルカバー透
明有機薄膜除去器を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 この目的を達成するために本発明のペリクルカバー透
明有機薄膜除去器は、円筒状をなし側面に粘着剤を塗布
したものであって、円筒の周の長さが、除去しようとす
る透明有機薄膜の長さよりも長く、幅は除去しようとす
る透明有機薄膜の幅よりも広いという構成を有してい
る。
明有機薄膜除去器は、円筒状をなし側面に粘着剤を塗布
したものであって、円筒の周の長さが、除去しようとす
る透明有機薄膜の長さよりも長く、幅は除去しようとす
る透明有機薄膜の幅よりも広いという構成を有してい
る。
作用 この構成によって、透明有機薄膜をペリクルカバーフ
レームより取り除く際に、円筒状の除去器をペリクルカ
バーフレーム上で転がせば、円筒側面に塗ってある粘着
剤に透明有機薄膜を粘着させて除去できる。また、除去
器の幅,円周はそれぞれ除去する透明有機薄膜の幅,長
さよりも大きいのでペリクルカバーフレーム上での除去
器の一回転でペリクルカバーフレームの透明有機薄膜は
除去される。従って、破れた有機薄膜がマスクパターン
面に付着することが防止できる。
レームより取り除く際に、円筒状の除去器をペリクルカ
バーフレーム上で転がせば、円筒側面に塗ってある粘着
剤に透明有機薄膜を粘着させて除去できる。また、除去
器の幅,円周はそれぞれ除去する透明有機薄膜の幅,長
さよりも大きいのでペリクルカバーフレーム上での除去
器の一回転でペリクルカバーフレームの透明有機薄膜は
除去される。従って、破れた有機薄膜がマスクパターン
面に付着することが防止できる。
実施例 以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第1図は本発明の一実施例におけるペリクルカバーの
透明有機薄膜の除去例を示すものである。同図におい
て、1は除去器、2は除去器の粘着面、3は透明有機薄
膜、4はペリクルカバーフレーム、5はマスクである。
透明有機薄膜の除去例を示すものである。同図におい
て、1は除去器、2は除去器の粘着面、3は透明有機薄
膜、4はペリクルカバーフレーム、5はマスクである。
以上のように構成された除去器に用いて、ペリクルカ
バーの有機薄膜を除去する動作について説明する。
バーの有機薄膜を除去する動作について説明する。
まず、除去器1をペリクルカバーフレーム4上にの
せ、除去器1をペリクルカバーフレーム4上で回転させ
る。すると、ペリクルカバーの透明有機薄膜は除去器の
粘着面にはぎ取られ、従来法のように透明有機薄膜を破
ってマスク面に付着させることなくペリクルカバーから
除去できる。
せ、除去器1をペリクルカバーフレーム4上で回転させ
る。すると、ペリクルカバーの透明有機薄膜は除去器の
粘着面にはぎ取られ、従来法のように透明有機薄膜を破
ってマスク面に付着させることなくペリクルカバーから
除去できる。
発明の効果 以上のように本発明は、円筒状をなし側面に粘着剤を
塗布したものを、ペリクルカバーフレーム上を転がすこ
とにより、透明有機薄膜を破ってマスクパターン面に付
着させることなく、透明有機薄膜をペリクルカバーフレ
ームより除去できる優れた除去器を実現できるものであ
る。
塗布したものを、ペリクルカバーフレーム上を転がすこ
とにより、透明有機薄膜を破ってマスクパターン面に付
着させることなく、透明有機薄膜をペリクルカバーフレ
ームより除去できる優れた除去器を実現できるものであ
る。
第1図は本発明の一実施例におけるペリクルカバーの透
明有機薄膜除去器を用いている図、第2図は従来のペリ
クルカバーの透明有機薄膜除去を示す図である。 1……除去器、2……粘着面、3……透明有機薄膜、4
……ペリクルカバーフレーム、5……マスク。
明有機薄膜除去器を用いている図、第2図は従来のペリ
クルカバーの透明有機薄膜除去を示す図である。 1……除去器、2……粘着面、3……透明有機薄膜、4
……ペリクルカバーフレーム、5……マスク。
Claims (1)
- 【請求項1】円筒状をなし側面に粘着剤を塗布したもの
であって、円筒の周の長さが、除去しようとする透明有
機薄膜の長さよりも長く、幅は除去しようとする透明有
機薄膜の幅よりも広いペリクルカバーの透明有機薄膜除
去器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22076289A JP2584066B2 (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | ペリクルカバーの透明有機薄膜除去器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22076289A JP2584066B2 (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | ペリクルカバーの透明有機薄膜除去器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0383062A JPH0383062A (ja) | 1991-04-09 |
| JP2584066B2 true JP2584066B2 (ja) | 1997-02-19 |
Family
ID=16756152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22076289A Expired - Lifetime JP2584066B2 (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | ペリクルカバーの透明有機薄膜除去器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2584066B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008086273A (ja) * | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Tominaga Jushi Kogyosho:Kk | 観賞魚等のすくい取り用具 |
| JP5743450B2 (ja) * | 2010-07-28 | 2015-07-01 | 株式会社東芝 | レチクルチャッククリーナー |
| CN110125094A (zh) * | 2018-02-08 | 2019-08-16 | 华为机器有限公司 | 一种残胶清除系统及残胶清除方法 |
-
1989
- 1989-08-28 JP JP22076289A patent/JP2584066B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0383062A (ja) | 1991-04-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6573980B2 (en) | Removable optical pellicle | |
| JPH10509524A (ja) | ペリクル用の保護マスク | |
| JP2642637B2 (ja) | 防塵膜 | |
| ATE168789T1 (de) | Filmherstellungsverfahren und einstellvorrichtung dazu | |
| JP2584066B2 (ja) | ペリクルカバーの透明有機薄膜除去器 | |
| US4834833A (en) | Mask for etching, and method of making mask and using same | |
| JPH086005A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
| KR20060047206A (ko) | 페리클 프레임 및 그것을 이용한 포토리소그래피용 페리클 | |
| JP2001272768A (ja) | フォトリソグラフィ・マスク | |
| JP4319757B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
| JP2599460B2 (ja) | フォトマスク | |
| JPH03114050A (ja) | ペリクルカバーのフレーム | |
| KR0142791B1 (ko) | 레티클구조 | |
| JPS604944A (ja) | フオトマスク | |
| JP3758339B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
| JPS61241756A (ja) | ホトマスク | |
| KR20050003293A (ko) | 반도체 소자 제조용 포토 마스크 | |
| KR200149834Y1 (ko) | 펠리클을 구비한 마스크 | |
| JPH05216214A (ja) | フォトマスク及びペリクル | |
| JPH04163551A (ja) | ペリクル | |
| JP2939193B2 (ja) | 防塵膜 | |
| JPH02181755A (ja) | ホトマスク | |
| JPH0588015A (ja) | カラーフイルター用のクロムパターン基板の製造方法 | |
| JPH0266546A (ja) | 半導体装置製造用マスク | |
| JPH08114911A (ja) | フォトマスク用ペリクル及びフォトマスク |