JP2637803B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体集積回路に関し、特に、バイポーラ
メモリセルやECL論理回路等へ温度変化に影響を受ける
ことなく、安定して電流を供給することのできる電流源
を有する半導体集積回路に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly, to a method for stably supplying a current to a bipolar memory cell or an ECL logic circuit without being affected by a temperature change. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a current source capable of operating.
[従来の技術] 従来のこの種電流供給回路は、特公昭60−55915号公
報に記載されているように第3図に図示されたものであ
った。従来技術では、同図に示すように、トランジスタ
Q1のベースに接続された抵抗R1、R2により発生された基
準電圧VBOを定電流トランジスタQ2のベースに受け、ト
ランジスタQ2に定電流を発生させ、この定電流を例え
ば、ワード線(WB、WT)上に配列されたメモリセル10に
配分し、メモリセル10の情報を保持する保持電流を供給
していた。第3図においてワード線(WB、WT)上のメモ
リセルアレイ20内のセル数を64個とするならばトランジ
スタQ2により発生された定電流は、各々のメモリセルに
1/64ずつ配分されて流れる。ここで、セル内の抵抗R4に
0.4Vの電圧を立て、定電流回路内の抵抗R3に0.8Vの電圧
を立てる場合(以下、R1、R2、…は、抵抗あるいはその
抵抗値を意味するものとする)、R3とR4の関係は64×0.
4V/R4=0.8V/R3を満たす必要がある。これにより、R3=
R4/32となる。よって、R4=20KΩとするならば、R3=20
KΩ/32=625Ωとする必要がある。従って、層抵抗を5K
Ω/□とするプロセスを使用するならばR4は20KΩ/5KΩ
/□=4□の面積で実現できるが、R3は625Ω/5KΩ/□
=0.125□と非常に抵抗長の短いものとなる。そのた
め、抵抗R3とR4を同一のプロセスで形成してしまうと2
つの抵抗の形状は非常に異なったものとなり、製造プロ
セスのゆらぎのため正確にR4/R3=32を実現することは
困難であった。[Prior Art] A conventional current supply circuit of this kind is the one shown in FIG. 3 as described in Japanese Patent Publication No. 60-55915. In the prior art, as shown in FIG.
Receiving resistor R 1 connected to the base of Q 1, the R 2 reference voltage V BO generated by the base of the constant current transistor Q 2, to generate a constant current to the transistor Q 2, the constant current example, the word The current is distributed to the memory cells 10 arranged on the lines (W B , W T ), and a holding current for holding information of the memory cells 10 is supplied. Word lines (W B, W T) in FIG. 3 on the constant current number of cell memory cell array 20 is generated by the transistor Q 2 if the 64 pieces, in each of the memory cells
It is distributed by 1/64 and flows. Here, the resistance R 4 in the cell
When a voltage of 0.4 V is applied and a voltage of 0.8 V is applied to the resistor R 3 in the constant current circuit (hereinafter, R 1 , R 2 ,... Mean resistors or their resistance values), R 3 And the relationship between R 4 is 64 × 0.
It is necessary to satisfy the 4V / R 4 = 0.8V / R 3. This gives R 3 =
The R 4/32. Therefore, if R 4 = 20KΩ, then R3 = 20
It is necessary to set KΩ / 32 = 625Ω. Therefore, the layer resistance is 5K
If a process with Ω / □ is used, R 4 is 20KΩ / 5KΩ
/ □ = 4 □ area, but R 3 is 625Ω / 5KΩ / □
= 0.125 □, which is extremely short. Therefore, if resistors R 3 and R 4 are formed by the same process,
The shapes of the two resistors were very different, and it was difficult to accurately achieve R 4 / R 3 = 32 due to fluctuations in the manufacturing process.
一方、第3図の回路においては、抵抗R4に発生する電
圧、すなわち保持電圧VHは、トランジスタQ1、Q2のベー
ス−エミッタ間電圧をVFとし、ワード線上のメモリセル
数を64として(1)式で表される。On the other hand, in the circuit of FIG. 3, the voltage generated across the resistor R 4, i.e. the holding voltage V H is the base of the transistor Q 1, Q 2 - emitter voltage and V F, the word line the number of memory cells 64 And is expressed by equation (1).
VH=VF・R1R4/64・R2R3 ……(1) そこで、上述の公報の発明においては、抵抗R2とR4と
を同一プロセス同一形状で形成した単位抵抗を用いて形
成し、同様に、抵抗R1とR3とを、同一プロセスで同一形
状で形成した単位抵抗を用いて構成する。このように構
成することにより、メモリセル10の保持電圧VHは、製造
プロセスがゆらいだとしても、抵抗R2とR4、抵抗R1とR3
のそれぞれの抵抗比がゆらぐことがないので、安定化さ
れる。 V H = V F · R 1 R 4/64 · R 2 R 3 ...... (1) where, in the invention of JP above, the formed unit resistor and a resistor R 2 and R 4 in the same process the same shape using formed, similarly, a resistor R 1 and R 3, constructed using unit resistors formed in the same shape in the same process. With this configuration, the holding voltage V H of the memory cell 10, even fluctuates manufacturing process, the resistor R 2 and R 4, resistors R 1 and R 3
Are stabilized because the respective resistance ratios do not fluctuate.
[発明が解決しようとする問題点] 上述した従来回路では、セル内の抵抗R4に立つ電圧、
すなわちメモリセルの保持電圧VHは、前述の(1)式で
与えられる。而して、トランジスタのベース−エミッタ
間電圧は、概略−1.5mV/℃の温度依存性がある。そのた
め、例えば、温度が1000℃上昇すると、R1=R3、R4=64
R2とした場合、抵抗R4に立つ電圧、すなわち保持電圧VH
は、約150mV減少する。従って、従来のものは、高温時
にメモリセルの保持する情報が破壊する恐れがあった。
また、この定電流供給回路によってECL論理回路に電流
を供給する場合には、高温雰囲気において論理回路のノ
イズマージンが低下する。[INVENTION Problems to be Solved point] in the conventional circuit described above, the voltage standing resistance R 4 in the cell,
That holding voltage V H of the memory cell is given by equation (1) above. Thus, the base-emitter voltage of the transistor has a temperature dependence of approximately -1.5 mV / ° C. Therefore, for example, if the temperature rises by 1000 ° C., R 1 = R 3 , R 4 = 64
If the R 2, the voltage standing resistor R 4, i.e. the holding voltage V H
Decreases by about 150 mV. Therefore, in the conventional device, there is a possibility that information held in the memory cell may be destroyed at a high temperature.
Further, when a current is supplied to the ECL logic circuit by the constant current supply circuit, a noise margin of the logic circuit is reduced in a high temperature atmosphere.
[問題点を解決するための手段] 本発明の半導体集積回路は、出力点と電源との間に
接続された第1および第2の抵抗の直列回路と該第1お
よび第2の抵抗の接続点にベースが接続されエミッタが
前記電源に接続された第1のトランジスタとを有する基
準電圧発生回路と、前記出力点にベースが接続された
第2のトランジスタと一端が第2のトランジスタのエミ
ッタに接続され他端が前記電源に接続された第3の抵抗
とを有する電流供給回路と、第2のトランジスタのコ
レクタに接続され複数の第4の抵抗を含む電流被供給回
路と、コレクタが前記第1のトランジスタのベースに
接続された第3のトランジスタと一端が前記第3のトラ
ンジスタのエミッタに接続され他端が前記電源に接続さ
れた第5の抵抗とアノードが前記第3のトランジスタの
ベースに接続されカソードが前記電源に接続されたダイ
オードとを有する温度補償回路と、を具備し、そして前
記第2の抵抗と前記第5の抵抗との比が前記電流被供給
回路へ供給される電流が温度依存性を持たなくなる値に
設定されていることを特徴とするものである。[Means for Solving the Problems] A semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises a series circuit of first and second resistors connected between an output point and a power supply, and connection of the first and second resistors. A reference voltage generating circuit having a first transistor having a base connected to a point and an emitter connected to the power supply, a second transistor having a base connected to the output point, and one end connected to the emitter of the second transistor; A current supply circuit having a third resistor connected to the power supply and having the other end connected to the power supply; a current supply circuit connected to a collector of the second transistor and including a plurality of fourth resistors; A third transistor connected to the base of the first transistor, a fifth resistor having one end connected to the emitter of the third transistor and the other end connected to the power supply, and an anode connected to the third transistor; A temperature compensation circuit having a diode connected to the base of the power supply and having a cathode connected to the power supply, and wherein a ratio of the second resistance to the fifth resistance is supplied to the current supplied circuit. The current to be supplied is set to a value that has no temperature dependency.
[実施例] 次に、図面を参照して本発明の実施例について説明す
る。Example Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は、本発明の一実施例を示す回路図である。図
に示すようにこの実施例でも、第3図に示した従来例と
同様に、出力点と電源との間に接続された第1の抵抗R1
と第2の抵抗R2との直接接続体と2つの抵抗体の接続点
へベースが接続され電源にエミッタが接続された第1の
トランジスタQ1とから定電圧源が構成され、この定電圧
源の出力点には、定電流源を構成する第2のトランジス
タQ2のベースが接続されている。第2のトランジスタQ2
と電源との間には第3の抵抗が接続され、そのコレクタ
には、定電流源から電流の供給を受ける回路としてメモ
リセルアレイ20が接続されている。メモリセルアレイ20
においてワード線(WT、WB)上には64個のメモリセル10
が接続されており、各メモリセルにおいては、抵抗R4、
R4′のうちいずれか一方の抵抗に保持電圧VHが立てられ
ている。ここでは、抵抗R4側に電圧がかかっているもの
とする。FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention. As shown in the figure, also in this embodiment, as in the conventional example shown in FIG. 3, the first resistor R 1 connected between the output point and the power supply is provided.
When the second resistor R 2 directly to the connecting member and the constant voltage source from the first transistor Q 1 Tokyo the emitter to base connected power supply is connected to the connection point between the two resistors is configured, the constant voltage The output point of the source is connected to the base of a second transistor Q2 that forms a constant current source. Second transistor Q 2
A third resistor is connected between the power supply and the power supply, and a memory cell array 20 is connected to a collector of the third resistor as a circuit that receives supply of current from a constant current source. Memory cell array 20
, 64 memory cells 10 on the word lines (WT, WB)
Are connected, and in each memory cell, a resistor R 4 ,
The holding voltage VH is set at one of the resistors R 4 ′. Here, it is assumed that affects the voltage to the resistor R 4 side.
以上の回路構成は従来例と同様であるが、本実施例で
は更に第3のトランジスタQ3、ダイオードDおよび第5
の抵抗から構成される温度補償回路が付加されている。
すなわち、第3のトランジスタのコレクタは第1のトラ
ンジスタのベースに接続され、そのエミッタは、第5の
抵抗R5を介して電源へ、そのベースは、カソードが電源
に接続されたダイオードDのアノードへ接続されてい
る。The above circuit configuration is the same as that of the conventional example, but in this embodiment, the third transistor Q 3 , the diode D and the fifth
A temperature compensation circuit composed of the above resistors is added.
That is, the collector of the third transistor being connected to the base of the first transistor, its emitter, to the power supply via a resistor R 5 of the fifth, the base, an anode of a diode D whose cathode is connected to a power source Connected to
定電圧回路の出力点に現れる出力電圧VBOは、ダイオ
ードDのオフセット電圧および第1、第2のトランジス
タQ1、Q2のベース−エミッタ間の電圧をVF、第3のトラ
ンジスタQ3のベース−エミッタ間の電圧をVF、ダイオー
ドDのアノード電位をVF′として、(2)式で表され
る。Output voltage V BO at the output point of the constant voltage circuit, the offset voltage and the first diode D, a second base of the transistor Q 1, Q 2 - the voltage between the emitter V F, the third transistor Q 3 Assuming that the voltage between the base and the emitter is V F and the anode potential of the diode D is V F ′, it is expressed by the equation (2).
VBO=(1+R1/R2)VF+(R1/R5)(VF−VF′) ……(2) この電圧によって定電流回路は駆動されるが、定電流
回路の電流が64個のメモリセルに等分に配分されるもの
とすると、保持電圧VHは(3)式で与えられる。 V BO = (1 + R 1 / R 2) V F + (R 1 / R 5) (V F -V F ') ...... (2) Although the constant current circuit is driven by this voltage, constant current circuit of the current Is equally distributed to 64 memory cells, the holding voltage VH is given by equation (3).
VH=(VBO−VF)(1/R3)(1/6)R4 =[(R1/R2)VF +(R1/R5)(VF−VF′)](R4/64R3) =(R1/R3)[(R4/R2)VF+(R4/R5)(VF−VF′)]/
64 ……(3) (3)式より、R1とR3の比およびR4とR2、R5の比を正
確に取るならば、VHは所定の設計値に設定する事がで
き、R1〜R5の抵抗値の絶対値に左右されないことが分か
る。そこで、この実施例でも、抵抗R1とR3とを、また抵
抗R2、R4およびR5を、それぞれ、同一のプロセスを用い
た同一サイズの単位抵抗によって形成するものとし、た
とえ製造プロセスにおいてゆらぎが生じたとしても、そ
のゆらぎが保持電圧VHに影響を与えることのないように
なされている。 V H = (V BO -V F ) (1 / R 3) (1/6) R 4 = [(R 1 / R 2) V F + (R 1 / R 5) (V F -V F ') ] (R 4 / 64R 3) = (R 1 / R 3) [(R 4 / R 2) V F + (R 4 / R 5) (V F -V F ')] /
64 …… (3) From the equation (3), if the ratio of R 1 to R 3 and the ratio of R 4 to R 2 and R 5 are accurately determined, V H can be set to a predetermined design value. , R 1 to R 5 are not affected by the absolute values of the resistance values. Therefore, in this embodiment, the resistors R 1 and R 3 and the resistors R 2 , R 4 and R 5 are formed by unit resistors of the same size using the same process, respectively. fluctuations even occurs, the fluctuation is made so as not to affect the holding voltage V H in.
次に、本発明による保持電圧の温度保償について説明
する。Next, the temperature compensation of the holding voltage according to the present invention will be described.
今、(3)式においてR1/R3=64であるものとする
と、(4)式が得られる。Now, assuming that R 1 / R 3 = 64 in equation (3), equation (4) is obtained.
VH=(R4/R2)VF+(R4/R5)(VF−VF′) ……(4) ここでVFの温度特性ΔVF/ΔTが、 ΔVF/ΔT=−(Eg−VF)/T [但し、Eg:シリコンのエネルギーギャップ電圧(125
0mV)、T:温度]、で与えられることを考慮すると、
(5)式が得られる。 V H = (R 4 / R 2) V F + (R 4 / R 5) (V F -V F ') ...... (4) Temperature characteristics [Delta] V F / [Delta] T here V F is, ΔV F / ΔT = − (Eg−V F ) / T [Eg: Silicon energy gap voltage (125
0mV), T: temperature],
Equation (5) is obtained.
ΔVH/ΔT=−(R4/R2)(Eg−VF) +(R4/R5)(VF−VF′) ……(5) ここで、ΔVH/ΔT=0とおくことにより、 R2/R5=(Eg−VF)/(VF−VF′) ……(6) が得られ、さらに、VF=800mV、VF′=725mVとすると、
R2/R5=6.0が得られる。そこで、このように抵抗R2、R5
の比を設定すれば、上記条件のもとでは、VHを温度変化
に感応しないものとすることができる。このときのVHの
値は、(6)式を(4)式に代入し、R2/R4=2.5とし
て、 VH=(R4/R2)Eg=500mV となる。 ΔV H / ΔT = - (R 4 / R 2) (Eg-V F) + (R 4 / R 5) (V F -V F ') ...... (5) Here, ΔV H / ΔT = 0 by placing, R 2 / R 5 = ( Eg-V F) / (V F -V F ') ...... (6) is obtained, further, V F = 800mV, V F ' When = 725MV,
R 2 / R 5 = 6.0 is obtained. Therefore, the resistance R 2, R 5 thus
By setting the ratio, under the above conditions, it can be made insensitive to V H to the temperature change. The value of V H in this case, by substituting (6) in equation (4), as R 2 / R 4 = 2.5, becomes V H = (R 4 / R 2) Eg = 500mV.
次に、第2図を参照して本発明の他の実施例について
説明する。Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
第1図の実施例において、R2、R4、R5とR1、R3を異な
る製造プロセスで作った場合、メモリセル内の保持電圧
VHは一定に保てるが、抵抗R1およびR3に立つ電圧は、抵
抗R1およびR3と抵抗R2、R4およびR5との比精度が取られ
ていないので、それぞれの抵抗値のばらつきに応じてば
らつく。このばらつきを小さくするために、この実施例
においては、抵抗R1、R3に並列にR2、R4、R5と同一プロ
セス同一形状の抵抗R1′、R3′を接続し、製造プロセス
のゆらぎによるR1、R3に立つ電圧のゆらぎを抑えてい
る。In the embodiment of FIG. 1, when R 2 , R 4 , R 5 and R 1 , R 3 are made by different manufacturing processes, the holding voltage in the memory cell
V H is maintained constant, the voltage standing resistor R 1 and R 3, the relative accuracy of the resistors R 1 and R 3 and the resistor R 2, R 4 and R 5 are not taken, the resistance values Varies according to the variation of To reduce this variability, in this embodiment, in parallel with the resistor R 1, R 3 R 2, R 4, R 5 and resistors R 1 of the same process the same shape ', R 3' is connected to, production The fluctuation of the voltage at R 1 and R 3 due to process fluctuation is suppressed.
[発明の効果] 以上説明したように本発明は、定電流回路へ印加する
電圧を発生する基準電圧発生回路に、ダイオード、トラ
ンジスタおよび抵抗よりなる温度保償回路を接続するも
のであるので、本発明によれば、定電流回路によって電
流が供給される電流被供給回路において温度変化による
影響を除去することができる。したがって、電流被供給
回路としてメモリセルアレイを用いた場合には、温度上
昇によりメモリ内容の破壊を防止することができ、ま
た、ECL論理回路を用いた場合には、温度上昇によるノ
イズマージンの低下を抑止することができる。[Effects of the Invention] As described above, the present invention connects a temperature compensation circuit including a diode, a transistor, and a resistor to a reference voltage generation circuit that generates a voltage to be applied to a constant current circuit. According to the present invention, it is possible to eliminate the influence of a temperature change in a current supply circuit to which a current is supplied by a constant current circuit. Therefore, when a memory cell array is used as a current supply circuit, it is possible to prevent the memory contents from being destroyed due to a rise in temperature, and when an ECL logic circuit is used, a reduction in noise margin due to a rise in temperature can be prevented. Can be deterred.
第1図、第2図は、それぞれ、本発明の実施例を示す回
路図、第3図は、従来例を示す回路図である。 10……メモリセル、20……メモリセルアレイ、R1〜R5…
…抵抗またはその抵抗値、Q1〜Q3……トランジスタ、D
……ダイオード、VBO……基準電圧発生回路出力電圧、V
H……保持電圧。1 and 2 are circuit diagrams showing an embodiment of the present invention, respectively, and FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional example. 10 memory cells, 20 memory cell arrays, R 1 to R 5
... resistance or resistance value that, Q 1 ~Q 3 ...... transistor, D
…… Diode, V BO …… Reference voltage generation circuit output voltage, V
H: Holding voltage.
Claims (1)
スタのベースと出力点との間に接続された第1の抵抗
と、前記第1のトランジスタのベースと電源との間に接
続された第2の抵抗と、コレクタが前記第1のトランジ
スタのベースに接続された第3のトランジスタと、一端
が前記第3のトランジスタのエミッタに接続され他端が
前記電源に接続された第5の抵抗と、アノードが前記第
3のトランジスタのベースに接続されカソードが前記電
源に接続されたダイオードとを有する基準電圧発生回路
と、 前記出力点にベースが接続された第2のトランジスタ
と、一端が第2のトランジスタのエミッタに接続され他
端が前記電源に接続された第3の抵抗とを有する電流供
給回路と、 前記第2のトランジスタのコレクタに接続された複数の
電流被供給回路であって、各々が第4の抵抗を有し前記
第2のトランジスタのコレクタ電流を分配して受ける複
数の電流被供給回路とを備え、 前記第1乃至第5の抵抗は前記第4の抵抗の電圧降下の
温度依存性を補償するように設定されるとともに、前記
第1および第3の抵抗は同じプロセスにより形成された
抵抗体で構成され、前記第2、第4および第5の抵抗は
前記第1および第3の抵抗のための抵抗体のプロセスと
は異なるプロセスにより形成された抵抗体で構成される
ことを特徴とする半導体集積回路。1. A first transistor, a first resistor connected between a base of the first transistor and an output point, and a second resistor connected between a base of the first transistor and a power supply. A third resistor having a collector connected to the base of the first transistor, a fifth resistor having one end connected to the emitter of the third transistor, and the other end connected to the power supply. A reference voltage generating circuit having a diode having an anode connected to the base of the third transistor and a cathode connected to the power supply; a second transistor having a base connected to the output point; A current supply circuit having a third resistor connected to the emitter of the transistor and having the other end connected to the power supply; and a plurality of currents connected to the collector of the second transistor. A plurality of current supply circuits, each having a fourth resistance, and receiving and distributing a collector current of the second transistor, wherein the first to fifth resistances are the fourth resistances. Are set so as to compensate for the temperature dependence of the voltage drop of the resistor, and the first and third resistors are constituted by resistors formed by the same process, and the second, fourth and fifth resistors are formed. A semiconductor integrated circuit, wherein the resistor is constituted by a resistor formed by a process different from the process of the resistor for the first and third resistors.
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|---|---|---|---|---|
| JPH0681036B2 (en) * | 1985-11-28 | 1994-10-12 | 日本電気株式会社 | Semiconductor logic circuit |
-
1988
- 1988-12-17 JP JP63318799A patent/JP2637803B2/en not_active Expired - Lifetime
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