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JP2653968B2 - Electric circuit board and its manufacturing method - Google Patents
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JP2653968B2 - Electric circuit board and its manufacturing method - Google Patents

Electric circuit board and its manufacturing method

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JP2653968B2
JP2653968B2 JP5228142A JP22814293A JP2653968B2 JP 2653968 B2 JP2653968 B2 JP 2653968B2 JP 5228142 A JP5228142 A JP 5228142A JP 22814293 A JP22814293 A JP 22814293A JP 2653968 B2 JP2653968 B2 JP 2653968B2
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/188Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by direct electroplating

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電気回路基板およびそ
の製法、特に印刷配線基板などの電気回路基板における
メタライゼーションに有効なプロセス、及び該プロセス
により作られる新規電気回路基板に関するものである。
具体的には、本発明は、予め金属を貼付けた基板のエッ
チングによって金属回路を製造する操作を必要とせず
に、必要部分に直接電気めっきで金属回路パターンを作
製するために、光で触媒活性が低下または消失する触媒
を用いた導電性高分子のパターン化方法を適用するとい
うものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electric circuit board and an electric circuit board.
And , in particular, to a process effective for metallization on an electric circuit board such as a printed wiring board, and a novel electric circuit board produced by the process.
Specifically, the present invention does not require an operation of manufacturing a metal circuit by etching a substrate to which a metal has been previously attached, and directly produces a metal circuit pattern by electroplating on a necessary portion without using a catalyst. A method for patterning a conductive polymer using a catalyst that reduces or disappears is applied.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の印刷配線基板などの電気回路は
銅、金、酸化スズなどの導電性材料で被覆された絶縁性
基板に、感光性樹脂などのフォトレジスト材を塗りつ
け、所望のパターンのマスクをかけて紫外線などを照
射して、フォトレジスト剤を硬化させ、未硬化部分
を取りのぞいたのち、化学エッチングなどによって、
不要な銅箔部分を除去し電気回路を形成しており、工程
が非常に複雑である。しかもレジストの除去や大部分の
金属を溶解除去するなど資源やエネルギーを無駄に消費
する工程があるという欠点がある。
2. Description of the Related Art A conventional electric circuit such as a printed wiring board is formed by applying a photoresist material such as a photosensitive resin to an insulating substrate covered with a conductive material such as copper, gold, and tin oxide. After applying a mask and irradiating ultraviolet rays etc., the photoresist agent is cured, and after removing the uncured part, by chemical etching etc.
Unnecessary copper foil portions are removed to form an electric circuit, and the process is very complicated. In addition, there is a disadvantage that there is a step of wasting resources and energy, such as removing the resist and dissolving and removing most of the metal.

【0003】この点を改良したスルーホールめっき印刷
配線板の製造法の1つであるフルアディティブ法は、金
属箔を張り付けた基板を用いず、無電解めっきによって
銅などの金属回路を作製するものであり、この方法では
エッチング工程が省略できるが、無電解めっき液の管理
や作業環境など問題があり、主たるプリント基板の製
造方法の位置を占めるに至っていない。
[0003] A full-additive method, which is one of the methods for manufacturing a through-hole plated printed wiring board that improves this point, is to produce a metal circuit such as copper by electroless plating without using a substrate on which a metal foil is adhered. In this method, the etching step can be omitted, but there is a problem in the management of the electroless plating solution, the working environment, and the like , and the method does not occupy the main method of manufacturing a printed circuit board.

【0004】一方、従来の金属に代わる導電体として、
導電性高分子が注目されるようになり、種々の導電性高
分子が合成され検討されているが、不溶不融性のため加
工性に問題があり、用途が限られていた。
On the other hand, as a conductor that replaces the conventional metal,
Conducting polymers have attracted attention, and various conductive polymers have been synthesized and studied. However, their insolubility and infusibility have a problem in workability, and their applications have been limited.

【0005】この点を改良するために、本発明者の一部
は、導電性高分子パターンの作製方法を提供している
(特願平4−69647)。この方法は、導電性高分子
のモノマーの重合能力が光の照射により変化する触媒の
性質を利用して導電性高分子のパターンを作製するもの
であり、具体的には塩化鉄(III)などのピロールの
酸化重合触媒となり、かつ光で還元され酸化性が失われ
る物質を溶液とし他の素材の表面に塗布するか、ポリマ
ーなどに混合した組成物を薄膜またはフィルム、板状な
どに成形し、これにマスクパターンを密着させ、紫外光
または可視光を照射することによって、光照射部分の酸
化性を消失させ、ピロールを重合させなくするものであ
る。
In order to improve this point, some of the present inventors have provided a method for producing a conductive polymer pattern (Japanese Patent Application No. 4-69647). In this method, a pattern of a conductive polymer is produced by utilizing the property of a catalyst in which the polymerization ability of a monomer of the conductive polymer changes by irradiation with light, and specifically, iron (III) chloride or the like is used. A material that becomes a catalyst for oxidative polymerization of pyrrole and is reduced by light and loses its oxidizing property is applied as a solution to the surface of another material, or a composition mixed with a polymer or the like is formed into a thin film, film, or plate. By irradiating ultraviolet light or visible light with a mask pattern adhered to the mask pattern, the oxidizing property of the light-irradiated portion is eliminated and pyrrole is not polymerized.

【0006】すなわち、非照射部分のみに導電性高分子
であるポリピロールが生成することにより導電性のパタ
ーンが作製できる。しかし、この方法では導電性高分子
パターンの導電性が銅などの金属に比べて低いため、発
光ダイオードや液晶など低電流の電子回路には適用可能
であるが、銅プリント基板のような金属電子回路にその
まま代替できないなど不十分な点があった。
In other words, a conductive pattern can be produced by generating polypyrrole, which is a conductive polymer, only in the non-irradiated portion. However, in this method, the conductivity of the conductive polymer pattern is lower than that of a metal such as copper. Therefore, this method can be applied to a low-current electronic circuit such as a light emitting diode or a liquid crystal. There were insufficient points, such as the inability to substitute the circuit as it was.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の主な目的は、
光反応性酸化触媒を用いて作製した導電性高分子のパタ
ーンを用いて、工程の簡単な金属電気回路基板の製造プ
ロセスと、特徴ある新規な電気回路基板を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The main object of the present invention is to:
An object of the present invention is to provide a manufacturing process of a metal electric circuit board whose process is simple using a pattern of a conductive polymer produced using a photoreactive oxidation catalyst, and to provide a novel electric circuit board which is characteristic.

【0008】本発明のもう一つの目的は、金属箔張積層
板を基板として用いず、エッチング工程やレジストの除
去工程を必要としない製造プロセスを提供することであ
る。
Another object of the present invention is to provide a manufacturing process that does not use a metal foil-clad laminate as a substrate and does not require an etching step or a resist removing step.

【0009】本発明の更なる目的は、めっきスルーホー
ルの作製も同時に行うプロセスを提供することである。
It is a further object of the present invention to provide a process for simultaneously producing plated through holes.

【0010】本発明の別な目的は、従来の印刷配線基板
などの工程の短縮化、及び省資源省エネルギー化を図る
製造プロセスを提供することである。
Another object of the present invention is to provide a manufacturing process for shortening the steps of a conventional printed wiring board and the like and saving resources and energy.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の電気回路基板
は、 基板上に形成され光で触媒活性が低下または消失す
る触媒を含む層に対して、電気回路のマスクパターンを
介して光を照射して、前記触媒の触媒活性を前記電気回
路以外の触媒部分について低下または消失させた触媒層
と、 光により触媒活性が低下または消失させた触媒部分
を除去していない前記触媒層に対して、前記触媒により
重合され重合後には導電性高分子を生成するモノマーを
接触させて得られた、前記電気回路のマスクパターンに
対応した形状に形成された導電性高分子回路パターン
と、 前記導電性高分子回路パターンに対して金属を電気
めっきすることにより、前記導電性高分子回路パターン
の形状に形成された金属回路パターンと、からなること
を特徴とする。 前記金属回路パターンは、前記導電性高
分子回路パターンと、該導電性高分子回路パターンに接
触して電流を供給している導電体の少なくとも一部と
を、電気めっき液中にして電気めっきすることにより形
成されているものであっても良い。前記導電性高分子回
路パターンに接触して電流を供給している導電体は、例
えば金属ペーストであり、具体的には、銀ペーストが挙
げられる。 前記触媒層は、例えば、前記光で触媒活性が
低下または消失する触媒とマトリ ックスポリマーとを混
合したものから形成されている。これ以外に、前記触媒
層は、マトリックスポリマーを含まずに、前記光で触媒
活性が低下または消失する触媒から形成されていても良
い。 尚、前記導電性高分子回路パターン形成後で、前記
電気めっきの前に、前記光により触媒活性が低下または
消失させた触媒部分を除去しておいても良い。 上述した
電気回路基板の製法は、例えば、次のようにして行われ
る。 すなわち、次のa)〜d)の工程からなる電気回路
基板の製法が挙げられる。 a)基板上に光で触媒活性が低下または消失する触媒を
含む触媒層を形成する工程、 b)前記触媒層に対して、電気回路のマスクパターンを
介して光を照射して、前記触媒の触媒活性を前記電気回
路以外の触媒部分について低下または消失させる工程、 c)前記光により触媒活性が低下または消失させた触媒
部分を除去せずに、前記触媒層に対して、前記触媒によ
り重合され重合後には導電性高分子を生成するモノマー
を接触させて、前記電気回路のマスクパターンに対応し
た形状に、導電性高分子回路パターンを形成する工程、 d)前記導電性高分子回路パターンに対して、金属を電
気めっきすることにより、前記導電性高分子回路パター
ンの形状に、金属回路パターンを形成する工程。 このよ
うに、a)〜c)の工程により、予め、電気回路の形状
にモノマーを重合させて、直接、導電性高分子回路パタ
ーン自体を形成しておけば、電気回路の形状に金属メッ
キすることは、d)の工程により、容易にできるので、
エッチングにより大量の金属を廃棄することがない。ま
た、導電性高分子自体も余分な部分を取り除く面倒な工
程は必要ない。 前記a)の工程は、前記光で触媒活性が
低下または消失する触媒とマトリックスポリマーとを混
合したものから、前記触媒層を形成することとしても良
く、または、マトリックスポリマーを用いずに前記光で
触媒活性が低下または消失する触媒から、前記触媒層を
形成することとしても良い。 尚、前記c)の工程とd)
の工程との間に、前記光により触媒活性が低下また は消
失させた触媒部分を除去する工程を実行することとして
も良い。 なお、前記d)の工程は、前記導電性高分子回
路パターンと、該導電性高分子回路パターンに接触して
電流を供給している導電体の少なくとも一部とを、電気
めっき液中にして電気めっきすることにより、前記金属
回路パターンを形成することとしても良い。 前記導電性
高分子回路パターンに接触して電流を供給している導電
体は、例えば金属ペーストであり、更に具体的には銀ペ
ーストが挙げられる。 また 電気めっきにおいてはスルー
ホールなどに対するめっきも同時に行うことができる。
An electric circuit board according to the present invention.
Is formed on the substrate and the catalytic activity is reduced or lost by light
The mask pattern of the electric circuit is applied to the layer containing the catalyst
And irradiates the catalyst with the catalyst through the electric circuit.
Catalyst layer degraded or eliminated in the catalyst part other than the channel
And the catalyst part whose catalytic activity has been reduced or eliminated by light
The catalyst layer has not been removed,
After polymerization, a monomer that forms a conductive polymer after polymerization
The mask pattern of the electric circuit obtained by contact
Conductive polymer circuit pattern formed in corresponding shape
A metal to the conductive polymer circuit pattern
By plating, the conductive polymer circuit pattern
Metal circuit pattern formed in the shape of
It is characterized by. The metal circuit pattern has a high conductivity.
Contacting the molecular circuit pattern with the conductive polymer circuit pattern;
With at least a part of the conductor that is supplying current by touch
In an electroplating solution and electroplating
It may be one that has been formed. The conductive polymer cycle
Conductors that supply current by contacting the circuit pattern
For example, a metal paste is used. Specifically, a silver paste is used.
I can do it. The catalyst layer has, for example, a catalytic activity by the light.
Mixing the catalyst and the Matrigel Kkusuporima to reduce or eliminate
It is formed from a combination. In addition, the catalyst
The layer is catalyzed by the light without the matrix polymer
May be formed from a catalyst whose activity decreases or disappears
No. Incidentally, after forming the conductive polymer circuit pattern, the
Prior to electroplating, the light reduces the catalytic activity or
The lost catalyst portion may be removed. Mentioned above
The manufacturing method of the electric circuit board is performed, for example, as follows.
You. That is, an electric circuit including the following steps a) to d)
A method for manufacturing a substrate may be used. a) A catalyst whose catalytic activity decreases or disappears due to light on a substrate
B) forming a mask pattern of an electric circuit on the catalyst layer.
And irradiates the catalyst with the catalyst through the electric circuit.
Reducing or eliminating the catalyst portion other than the road; c) a catalyst whose catalytic activity has been reduced or eliminated by the light
Without removing the part, the catalyst layer
Monomer that forms a conductive polymer after polymerization
To correspond to the mask pattern of the electric circuit.
Forming a conductive polymer circuit pattern in a bent shape; d) applying a metal to the conductive polymer circuit pattern.
The conductive polymer circuit pattern is
Forming a metal circuit pattern in the shape of the metal pattern. This
As described above, the shape of the electric circuit is previously determined by the steps a) to c).
Polymerized into a polymer, and directly into the conductive polymer circuit pattern.
If the pattern itself is formed, the metal
It can be easily done by the step d).
A large amount of metal is not discarded by etching. Ma
In addition, the conductive polymer itself is a troublesome process to remove extra parts.
It is not necessary. In the step a), the catalytic activity is increased by the light.
Mix the degraded or disappearing catalyst with the matrix polymer.
From the combination, the catalyst layer may be formed.
Or with the light without using a matrix polymer
The catalyst layer is removed from the catalyst whose catalytic activity decreases or disappears.
It may be formed. The step c) and d)
Between the steps, the catalyst activity is also reduced by the light extinction
By performing the process of removing the lost catalyst part
Is also good. Note that the step d) is performed by the conductive polymer circuit.
Circuit pattern and the conductive polymer circuit pattern
At least a part of the conductor supplying the electric current is
By plating in a plating solution, the metal
A circuit pattern may be formed. The conductivity
Conductivity supplying current in contact with polymer circuit pattern
The body is, for example, a metal paste, and more specifically, a silver paste.
Rust. Also , through plating in electroplating
Plating for holes and the like can be performed simultaneously.

【0012】本発明おいて、光で触媒活性が低下または
消失する触媒(以下、触媒活性光低下型触媒)は基板自
体に予め含有させるほか、単独または他の物質の存在下
で溶液とし素材表面に塗布した塗布膜としたり、マトリ
ックスポリマー及びその他の物質を含む混合溶液をキャ
スト法、バーコート法などの膜作製法により得た複合膜
あるいはフィルムとして使用される。この触媒を含む層
に、マスク,ネガ、ポジ等を通して、紫外光などの光を
照射し、画像を焼き付けた後、触媒活性を低下または消
失した触媒を除かずに、導電性高分子のモノマー蒸気を
接触させるか、モノマーを含む溶液中に浸漬すると、光
の当たった部分にはモノマーが重合せず、光の遮られた
部分にのみモノマ−が重合し、導電性のパターンが形成
される。この導電性高分子パターン上のみに、金属めっ
きを形成する場合は、例えば、導電性高分子パターンの
末端を銀ペーストなどの導電体で被覆し、銀ペースト部
を電極と接続する。これを電解めっき液中に銀ペースト
部の一部も液中になるように入れ、金属めっきすると電
極に近い導電性高分子パターン部分から徐々に金属が析
出し、次第に全体に成長していき、導電性高分子パター
ン上に金属回路が形成される。
In the present invention , the catalytic activity is reduced by light or
The disappearing catalyst (hereinafter referred to as "catalytic activity reduction type catalyst") is contained in the substrate itself in advance, and is used alone or as a solution in the presence of another substance to form a coating film applied on the material surface, or a matrix polymer and other substances are used. The mixed solution is used as a composite film or film obtained by a film forming method such as a casting method or a bar coating method. The layer containing the catalyst is irradiated with light such as ultraviolet light through a mask, a negative, a positive, or the like, and after printing the image, the monomer vapor of the conductive polymer is removed without removing the catalyst that has reduced or lost the catalytic activity. Is contacted or immersed in a solution containing a monomer, the monomer does not polymerize in a portion where light is irradiated, and a monomer polymerizes only in a portion where light is blocked, thereby forming a conductive pattern. Only on this conductive polymer pattern,
In the case of forming an electrode , for example, the terminal of the conductive polymer pattern is covered with a conductor such as silver paste, and the silver paste portion is connected to the electrode. This is put in the electrolytic plating solution so that a part of the silver paste part is also in the solution, and when the metal is plated, the metal is gradually deposited from the conductive polymer pattern portion close to the electrode and gradually grows as a whole, A metal circuit is formed on the conductive polymer pattern.

【0013】本発明による回路形成によれば、塗布また
はその他一般的な薄膜形成法により他の素材表面に触媒
活性光低下型触媒を含む層を施すことは容易なので、ポ
リマー、セラミック、金属、紙、布などあらゆる固体材
料表面での適用が可能である。
According to the circuit formation according to the present invention, the catalyst is applied to the surface of another material by coating or other general thin film forming method.
Because it is easy to apply the layer containing the active light reducing catalyst , it can be applied to any solid material surface such as polymer, ceramic, metal, paper, and cloth.

【0014】本発明において使用する触媒活性光低下型
触媒としては、鉄、銅などの金属化合物が有効であり、
特に好ましい化合物として、塩化鉄(III)、硫酸鉄
(III)などの鉄(III)の化合物、塩化銅(I
I)、臭化銅(II)などの銅(II)の化合物が挙げ
られる。これらの金属化合物は混合して用いてもよい。
触媒活性光低下型触媒を含ませるためのマトリックスポ
リマーとしては、触媒活性光低下型触媒との混合性のあ
るポリマーはすべて使用できるが、特に、均一な混合性
が得られるものとして、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリメタクリル酸メ
チル、ポリアクリロニトリル、エポキシ樹脂などが好ま
しい。また、ゼラチン、セルロースなどの天然高分子も
用いることができる。
[0014] catalytically active optical reduction type that uses in the present invention
As the catalyst , metal compounds such as iron and copper are effective,
Particularly preferred compounds include iron (III) compounds such as iron (III) chloride and iron (III) sulfate, and copper chloride (I).
I) and copper (II) compounds such as copper (II) bromide. These metal compounds may be used as a mixture.
As the matrix polymer for incorporating the catalyst with reduced catalytic activity light, any polymer that is miscible with the catalyst with reduced catalytic activity can be used .
Are preferred, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, and epoxy resin.
New Natural polymers such as gelatin and cellulose can also be used.

【0015】本発明においてに使用されるモノマーとし
ては、前記触媒活性光低下型触媒により重合され重合後
には導電性高分子を生成するモノマーであり、例えば、
ピロール類、チオフェン類がある。ピロール類として
、例えば、非置換ピロール、N−置換ピロールあるい
は環置換ピロールが例示される。また上述したピロール
類やチオフェン類などの5員環化合物同士を共重合させ
たり、または上述したピロール類やチオフェン類などの
5員環化合物と他の共重合性のモノマーとを共重合させ
ることもできる。これらモノマーの重合は、導電性高分
子の導電率が、0.01S/cm程度以上あれば、その
上に電気めっきできるので、とくに高導電化を図る必要
はなく大気中室温で気相重合または溶液中で浸漬重合す
る方法で十分であり、設備等も簡略化できる。
The monomers used in the present invention include the following:
Is a monomer that generates a conductive polymer, for example,
There are pyrroles and thiophenes. Examples of pyrroles include , for example, unsubstituted pyrrole, N-substituted pyrrole and ring-substituted pyrrole. Pyrrole as described above
By copolymerizing 5-membered cyclic compound together such kind or thiophenes
Or, or, such as the above-mentioned pyrroles and thiophenes
It is also possible to copolymerize a 5-membered ring compound with another copolymerizable monomer. The polymerization of these monomers, the conductivity of the conductive polymer, if more than about 0.01 S / cm, the
Since it is possible to perform electroplating on the upper surface, it is not necessary to particularly increase the conductivity, and a method of vapor phase polymerization at room temperature in the air or immersion polymerization in a solution is sufficient, and the equipment and the like can be simplified.

【0016】本発明において上述の触媒活性光低下型触
媒を、マトリックスポリマーを用いずに単独で使用する
場合は、水、メタノールなどのアルコール類、アセトン
などのケトン類、クロロホルム、1,2−ジクロルエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素、ベンゼンなど炭化水素類
などの有機溶媒あるいは無機溶媒の溶液として塗布す
。勿論、マトリックスポリマーとともにマトリックス
ポリマーを溶解可能な各種溶媒の溶液から、キャスト
法、バーコート法などの方法により複合膜として、触媒
層を形成することもできる。マトリックスポリマーとの
複合化は、他の一般的な膜作製法例えばマトリックス
ポリマーとの混練押し出し等により作製したフィルムや
板などの形状にして触媒層を形成する方法でも良い
In the present invention, the above-mentioned catalytically active light-reducing type
Use medium alone without using matrix polymer
In this case, the solution is applied as a solution of an organic or inorganic solvent such as water, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, halogenated hydrocarbons such as chloroform and 1,2-dichloroethane, and hydrocarbons such as benzene . Of course, from a solution of various solvents that can dissolve the matrix polymer together with the matrix polymer , a catalyst, as a composite film by a method such as a bar coating method ,
Layers can also be formed. The composite with the matrix polymer may be formed by another general method for producing a membrane , for example, a method of forming a catalyst layer in a shape of a film or plate produced by kneading and extrusion with the matrix polymer.

【0017】触媒層に対する光照射は、太陽及び可視光
及び紫外光またはこれらを含む光を発生する装置は、
べて使用することができる。金属電気めっきは、例え
ば、銅、ニッケル、クロムをはじめとし、酸性浴で電気
めっきできる金属はすべて適用できる。
For the irradiation of the catalyst layer with light , any device that generates the sun, visible light, ultraviolet light, or light containing these can be used. For example , metal electroplating
In can all copper, nickel, Metoshi Haji chromium, metals capable electroplating in an acidic bath applications.

【0018】[0018]

【作用】本発明の電気回路基板を形成するプロセスを実
施する場合、電気回路の形状に導電性高分子回路パター
ンを形成する導電性高分子の重合は、気相または溶液中
における触媒層の内、特に、光がマスクされた部分の触
媒活性光低下型触媒は、十分な触媒活性が維持されてい
るので、マスクパターンに対応した部分が顕著に重合が
活性化し、このことにより、マスクパターンの形に十分
な導電性高分子による回路パターンが形成される。 この
ように、予め、導電性高分子による回路パターンが形成
されているので、その回路パターンの導電性により、金
属イオン溶液に浸漬することによって、回路パターンの
形に電気めっきすることができ、直接、金属による電気
回路の回路パターンが形成される。 したがって、余分な
金属層が形成されないので、従来のように、金属層を除
く化学処理が不要となる。また、触媒層の使用では、光
の照射により不活性になった部分は、除去しなくても、
マスクパターン通りに導電性高分子の回路パターンが形
成されるので、触媒の除去工程は必要ない。ただし、触
媒活性光低下型触媒のみを用いた場合などのように、剥
がれ落ち易いものはめっき前などに溶媒で除去すれば良
い。この溶媒での除去は、従来の金属層の除去とは異な
り極めて簡単 に低コストにできるものであり、製造コス
トの増加を招かない。マトリックスポリマーを使用して
十分に付着力のある触媒層を形成した場合には、触媒層
は全く削除する必要はないので、製造コストの増加を一
層招かない。 尚、この方法においてはスルーホールも同
時に作製できるため電解めっき前の貴金属シード工程や
無電解めっき工程もなくすことも可能である。
When the process of forming the electric circuit board according to the present invention is performed , the conductive polymer circuit pattern is formed in the shape of the electric circuit.
The polymerization of the conductive polymer that forms the catalyst is carried out by touching the catalyst layer in the gas phase or in a solution, in particular, the part where light is masked.
The catalytically active light-reducing catalyst maintains sufficient catalytic activity.
Therefore, the portion corresponding to the mask pattern is markedly polymerized.
Activation, which allows the mask pattern
A circuit pattern made of a conductive polymer is formed. this
As before, a circuit pattern of conductive polymer is formed
That the circuit pattern is conductive,
By immersing in the metal ion solution, the circuit pattern
Can be electroplated into a shape, directly by metal
A circuit pattern of the circuit is formed. Therefore, extra
Since the metal layer is not formed, remove the metal layer as before.
And no chemical treatment is required. In addition, the use of a catalyst layer
The part inactivated by the irradiation of
The conductive polymer circuit pattern is shaped according to the mask pattern
As such, there is no need for a catalyst removal step. However, touch
Such as when using only the catalyst with reduced active light.
What is easy to peel off should be removed with a solvent before plating etc.
No. Removal with this solvent is different from conventional metal layer removal.
It is extremely simple and can be manufactured at low cost.
Does not lead to an increase in Using matrix polymer
If a sufficiently adherent catalyst layer is formed,
Does not need to be removed at all, thus reducing production costs.
Do not invite layers. In this method, the same applies to through holes.
Precious metal seed process before electrolytic plating
It is also possible to eliminate the electroless plating step.

【0019】また、導電性高分子の導電率は、0.01
S/cm程度以上あれば電気めっきできるので、とくに
高導電化を図る必要はなく大気中室温で重合したもので
十分であり、設備等も簡略化できる。尚、実施例を以下
に示したが、特にこれらに限定されるものではない。
The conductivity of the conductive polymer is 0.01
Since electroplating can be performed if the S / cm is about S / cm or more, it is not necessary to increase the conductivity, and what is polymerized at room temperature in the atmosphere is sufficient, and the equipment can be simplified. In addition, although the Example was shown below, it is not specifically limited to these.

【0020】[0020]

【実施例】[実施例1] エポキシ樹脂組成物3部を、予め希釈剤10部に塩化鉄
(III)六水塩を塩化鉄(III)としてエポキシ樹
脂組成物との重量比で3:7となるように加え完全に溶
解した溶液に混合し溶解した。この溶液をポリエステル
フィルム表面にバーコート法によって塗布後、150℃
で20分間乾燥し厚さ10μm程度の薄膜を作製した。
得られた薄膜に、電気回路を構築したマスクパターンを
重ね1mの距離から2KWハロゲンランプで30分間光
照射した。光照射後、ピロールモノマーを下部に入れた
密閉容器中に入れ20℃で1時間気相重合させるとマス
ク部分にだけ黒色のポリピロールが生成した。次に室温
で1時間真空乾燥した後、メタノール中に浸漬し溶解性
の鉄化合物を抽出除去後風乾した。4端子法で計った導
電率は光照射部分が絶縁性なのに対しマスク部分は生成
したポリピロールによって0.2S/cmの導電率を示
した。このポリピロールパターン形成部分の一端を銀ペ
ーストで被覆し、負電極と接続し硫酸銅−硫酸混合液中
に銀ペースト部の一部も溶液中になるようにし、正電極
に銅を用いて50mAの電流を流し電気めっきすると、
電極に近い部分からポリピロールパターン上に銅が析出
し、次第に全体に成長し、ポリピロールパターンに基づ
いた銅のパターンが形成された。
[ Example 1] 3 parts of an epoxy resin composition, 10 parts of a diluent in advance and iron (III) chloride hexahydrate as iron (III) chloride in a weight ratio of 3: 7 with the epoxy resin composition. And dissolved in a completely dissolved solution. After applying this solution to the polyester film surface by a bar coating method,
For 20 minutes to produce a thin film having a thickness of about 10 μm.
A mask pattern on which an electric circuit was constructed was superimposed on the obtained thin film, and light was irradiated from a distance of 1 m with a 2 kW halogen lamp for 30 minutes. After irradiation with light, the pyrrole monomer was placed in a closed container containing the pyrrole monomer at the bottom, and was subjected to gas phase polymerization at 20 ° C. for 1 hour. As a result, black polypyrrole was formed only at the mask portion. Next, after vacuum drying at room temperature for 1 hour, the resultant was immersed in methanol to extract and remove soluble iron compounds, and then air-dried. The conductivity measured by the four-terminal method was 0.2 S / cm due to the generated polypyrrole in the mask portion, while the light-irradiated portion was insulative. One end of the polypyrrole pattern forming portion is coated with a silver paste, connected to a negative electrode, so that a part of the silver paste portion is also in a solution in a copper sulfate-sulfuric acid mixture, and 50 mA of copper is used for a positive electrode. When electroplating by applying current,
Copper was deposited on the polypyrrole pattern from a portion close to the electrode, and gradually grew over the entire surface to form a copper pattern based on the polypyrrole pattern.

【0021】[実施例2] ポリ酢酸ビニル2部を酢酸エチル20部に溶解し、この
溶液に無水塩化鉄(III)を固形分中の重量比で30
%となるように加え完全に溶解した。この溶液をポリエ
ステルフィルム表面にバーコート法によって塗布し、7
0℃で20分間乾燥し厚さ10μm程度の薄膜を作製し
た。以下実施例1と同様に光照射し、密閉容器中で20
℃で1時間ピロールを気相重合させると、光の遮られた
マスクパターン部分にだけポリピロールが生成し、導電
率0.4S/cmのパターンが得られた。これを実施例
1と同様に電気めっきすることにより、銅のパターンを
得た。
Example 2 2 parts of polyvinyl acetate was dissolved in 20 parts of ethyl acetate, and anhydrous iron (III) chloride was added to this solution at a weight ratio of 30 to the solid content.
% And completely dissolved. This solution was applied to the surface of a polyester film by a bar coating method.
After drying at 0 ° C. for 20 minutes, a thin film having a thickness of about 10 μm was prepared. Thereafter, light irradiation was performed in the same manner as in Example 1, and 20
When pyrrole was subjected to gas phase polymerization at 1 ° C. for 1 hour, polypyrrole was formed only in the mask pattern portion where light was blocked, and a pattern having a conductivity of 0.4 S / cm was obtained. This was electroplated in the same manner as in Example 1 to obtain a copper pattern.

【0022】[実施例3] アクリルエマルション100部に塩化鉄(III)とし
て重量比で30%となるように塩化鉄(III)六水塩
を加え完全に溶解した溶液を調製した。以下実施例2と
同様に操作し、−30℃、57時間の条件でピロールを
気相重合させた後、メタノール中に浸漬し、残存鉄塩を
抽出除去し風乾した。導電率は光照射部分が絶縁性なの
に対しマスク部分は3.2S/cmあった。これを実施
例1と同様に電気めっきすることにより、銅のパターン
を得た。
Example 3 Iron (III) hexahydrate was added to 100 parts of an acrylic emulsion as iron (III) chloride in a weight ratio of 30% to prepare a completely dissolved solution. Thereafter, the same operation as in Example 2 was performed, and after pyrrole was subjected to gas phase polymerization at -30 ° C. for 57 hours, it was immersed in methanol to extract and remove residual iron salts, and air-dried. The conductivity was 3.2 S / cm in the mask portion while the light irradiation portion was insulative. This was electroplated in the same manner as in Example 1 to obtain a copper pattern.

【0023】[実施例4] ポリメチルメタクリレート2部を酢酸エチル(又はメチ
ルエチルケトン)20部に溶解し、この溶液に無水塩化
鉄(III)を固形分中の重量比で30%となるように
加え完全に溶解した。以下実施例2と同様に複合膜を作
製し、マスクパターンを通して15分間光照射後、室温
でピロールの5%n−ヘキサン溶液に15秒間浸漬する
と、光の遮られたマスクパターン部分にだけポリピロー
ルが生成し、導電率が0.07S/cmのパターンが得
られた。以下実施例1と同様に電気めっきすることによ
り、銅のパターンを得た。
Example 4 2 parts of polymethyl methacrylate were dissolved in 20 parts of ethyl acetate (or methyl ethyl ketone), and anhydrous iron (III) chloride was added to this solution so as to be 30% by weight of the solid content. Completely dissolved. Thereafter, a composite film was prepared in the same manner as in Example 2, and after irradiating with light for 15 minutes through a mask pattern and immersing in a 5% n-hexane solution of pyrrole for 15 seconds at room temperature, polypyrrole was applied only to the mask pattern portion where light was blocked. A pattern having a conductivity of 0.07 S / cm was obtained. Thereafter, electroplating was performed in the same manner as in Example 1 to obtain a copper pattern.

【0024】[実施例5] ポリビニルアルコール10%水溶液に、固形分中の塩化
銅(II)が重量比で30%となるように塩化銅(I
I)二水塩を加え完全に溶解した。以下実施例2と同様
に操作し、ピロール気相重合条件20℃、30分でポリ
ピロールパターンが形成された。ポリビニルアルコール
を不溶化するため150℃で10分間加熱処理した後の
ポリピロールパターンの導電率は2.86S/cmであ
った。このパターンを実施例1同様の条件で、電気めっ
きするとマスクパターンに基づく銅のパターンが得られ
た。
Example 5 Copper (I) chloride was added to a 10% aqueous solution of polyvinyl alcohol such that copper (II) chloride in the solid content was 30% by weight.
I) Dihydrate was added and completely dissolved. Thereafter, the same operation as in Example 2 was carried out, and a polypyrrole pattern was formed in a pyrrole gas phase polymerization condition at 20 ° C. for 30 minutes. The conductivity of the polypyrrole pattern after heating at 150 ° C. for 10 minutes to insolubilize the polyvinyl alcohol was 2.86 S / cm. When this pattern was electroplated under the same conditions as in Example 1, a copper pattern based on the mask pattern was obtained.

【0025】[実施例6] 塩化鉄(III)の10%メタノール溶液をアセテート
フィルムの表面に塗布し、室温暗所で風乾した後、実施
例1と同様の条件で光照射し、ピロールを20℃、90
分間気相重合させた。マスクパターンによるマスク部分
は0.53S/cmの導電率を示した。次に、実施例1
と同様の条件で銅めっきすることによりアセテートフィ
ルムの表面に直接銅の電気回路を形成することができ
た。
Example 6 A 10% methanol solution of iron (III) chloride was applied to the surface of an acetate film, air-dried at room temperature in a dark place, and irradiated with light under the same conditions as in Example 1 to remove pyrrole by 20%. ° C, 90
Vapor phase polymerization was performed for minutes. The mask portion formed by the mask pattern showed a conductivity of 0.53 S / cm. Next, Example 1
Copper plating could be formed directly on the surface of the acetate film by performing copper plating under the same conditions as described above.

【0026】[実施例7] 実施例3においてピロールの気相重合を20℃、1時間
の条件で行うと、導電率1.69S/cmのポリピロー
ルパターンが形成された。このポリピロールパターンの
一端を銀ペーストで被覆し負電極と接続し、硫酸ニッケ
ル−塩化ニッケル−ほう酸混合液中で正電極にニッケル
板を用いて50mAの電流を流し電気めっきしたとこ
ろ、ポリピロールパターン上にニッケルが析出し、ニッ
ケルの電気回路パターンが得られた。
Example 7 When the gas phase polymerization of pyrrole in Example 3 was carried out at 20 ° C. for 1 hour, a polypyrrole pattern having a conductivity of 1.69 S / cm was formed. One end of this polypyrrole pattern was covered with a silver paste and connected to a negative electrode, and a current of 50 mA was passed through a nickel plate to a positive electrode in a nickel sulfate-nickel chloride-boric acid mixed solution to perform electroplating. Nickel was deposited, and a nickel electric circuit pattern was obtained.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明の電気回路基板とその製法は、簡
便な方法で、銅などの金属電気回路を基板上に形成でき
るとともに、この金属配線は、必要な部分にだけ電気め
っきにより形成させることができるため、これまでのよ
うに銅箔などを接着した基板素材を必要としない。
According to the electric circuit board of the present invention and its manufacturing method, a metal electric circuit such as copper can be formed on the board by a simple method.
In addition, since the metal wiring can be formed only on a necessary portion by electroplating, a substrate material to which a copper foil or the like is bonded as in the past is not required.

【0028】また、図1の本発明に従う印刷回路基板製
造プロセスの流れ図と、図2の従来の印刷回路基板製造
プロセスの流れ図で対比されるように、銅箔の大部分を
除去廃棄するエッチング工程やレジストの除去工程が省
略でき、資源の大幅な節約となるばかりでなく、スルー
ホールのめっきも同時にできるため、これまで別工程で
行われたスルーホール無電解めっき工程も不要であり、
高価なパラジウム触媒や無電解銅浴などを使用しなくて
済むため廃水処理や有害物の処理などの問題も大幅に低
減できる。すなわち、これまでの印刷配線基板等の複雑
な製造方法と異なり、工程の短縮化、設備の合理化、資
源の節約、省エネルギー化、無公害化を図ることができ
る。
Further, as compared with the flow chart of the printed circuit board manufacturing process according to the present invention of FIG. 1 and the flow chart of the conventional printed circuit board manufacturing process of FIG. 2, an etching step for removing and discarding most of the copper foil. And the step of removing the resist can be omitted, which not only saves a great deal of resources, but also allows the plating of the through-holes at the same time.
Since an expensive palladium catalyst or an electroless copper bath is not required, problems such as wastewater treatment and treatment of harmful substances can be greatly reduced. That is, unlike a complicated manufacturing method of a printed wiring board or the like, a process can be shortened, equipment can be rationalized, resources can be saved, energy can be saved, and pollution can be reduced.

【0029】また、光で触媒活性が低下または消失する
触媒を利用してなされる導電性高分子による回路パター
ン形成時には、触媒層の内、光が照射された部分を除去
しておく必要がなく、効率的に導電性高分子回路パター
ンが形成される。また、導電性高分子回路パターンを形
成した後には、導電性高分子回路パターンの下以外の位
置の触媒層の除去が必要ならば、溶媒にて容易に除去で
きるので、製造効率が高く、除去に大きなエネルギーを
必要としない。マトリックスポリマーを用いて、十分な
強度の触媒層を形成していれば、除去する必要もなく、
非常に製造効率が高い。また、予め導電性ポリマーにて
回路パターンが形成されるので、基板としてエポキシ積
層板のみならず種々のポリマー、セラミック、金属、
紙、布などを使用でき、これらの表面に金属回路を簡単
に作製することができる。このため電子材料としての応
用範囲が格段に広いという特長がある。
Further , the catalytic activity decreases or disappears due to light.
Circuit pattern made of conductive polymer using catalyst
During the formation of the catalyst layer, the light-irradiated part of the catalyst layer is removed.
Efficient conductive polymer circuit pattern
Is formed. In addition, the conductive polymer circuit pattern
After completion, place the conductive polymer circuit pattern
If it is necessary to remove some of the catalyst layer, it can be easily removed with a solvent.
Production efficiency is high and a large amount of energy is
do not need. Using a matrix polymer,
If a strong catalyst layer is formed, there is no need to remove it,
Very high production efficiency. Also , use a conductive polymer in advance.
Since a circuit pattern is formed, not only epoxy laminates but also various polymers, ceramics, metals,
Paper, cloth, and the like can be used, and a metal circuit can be easily formed on the surface thereof. For this reason, there is a feature that the application range as an electronic material is remarkably wide.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は本発明に従う印刷回路基板製造プロセ
スの流れ図である。
FIG. 1 is a flowchart of a printed circuit board manufacturing process according to the present invention.

【図2】 図2は従来技術の印刷回路基板製造プロセス
の流れ図である。
FIG. 2 is a flowchart of a conventional printed circuit board manufacturing process.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 夏目 幸洋 愛知県海部郡甚目寺町大字上萱津字深見 24番地 アイカ工業株式会社内 (72)発明者 佐治 一良 愛知県海部郡甚目寺町大字上萱津字深見 24番地 アイカ工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−51691(JP,A) 特開 平2−273926(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yukihiro Natsume 24 Fukami, Kamikazu, Oji, Jimaji-cho, Kaifu-gun, Aichi Prefecture (72) Inventor: Kazuyoshi Saji Jika-Jitsu, Jojime-cho, Kaifu-gun, Aichi 24 Fukami Inside Aika Kogyo Co., Ltd. (56) References JP-A-64-51691 (JP, A) JP-A-2-273926 (JP, A)

Claims (12)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板上に形成され光で触媒活性が低下また
は消失する触媒を含む層に対して、電気回路のマスクパ
ターンを介して光を照射して、前記触媒の触媒活性を前
記電気回路以外の触媒部分について低下または消失させ
た触媒層と、 光により触媒活性が低下または消失させた触媒部分を除
去していない前記触媒層に対して、前記触媒により重合
され重合後には導電性高分子を生成するモノマーを接触
させて得られた、前記電気回路のマスクパターンに対応
した形状に形成された導電性高分子回路パターンと、 前記導電性高分子回路パターンに対して金属を電気めっ
きすることにより、前記導電性高分子回路パターンの形
状に形成された金属回路パターンと、 からなることを特徴とする電気回路基板。
1. A catalyst which is formed on a substrate and whose catalytic activity is reduced by light.
Is the mask pattern of the electric circuit against the layer containing the disappearing catalyst.
Irradiate light through the turn to increase the catalytic activity of the catalyst.
The catalyst part other than the electric circuit
Of the catalyst layer and the catalyst part whose catalytic activity has been reduced or eliminated by light.
The catalyst layer not polymerized is polymerized by the catalyst.
After polymerization, contact monomer that generates conductive polymer
Corresponding to the mask pattern of the electric circuit obtained
A conductive polymer circuit pattern formed in a uniform shape, and electrically conductive metal on the conductive polymer circuit pattern.
The shape of the conductive polymer circuit pattern.
An electric circuit board comprising: a metal circuit pattern formed in a shape .
【請求項2】前記金属回路パターンは、前記導電性高分
子回路パターンと、該導電性高分子回路パターンに接触
して電流を供給している導電体の少なくとも一部とを、
電気めっき液中にして電気めっきすることにより形成さ
れていることを特徴とする請求項1記載の電気回路基
板。
2. The method according to claim 1, wherein the metal circuit pattern includes the conductive part.
Contact with the child circuit pattern and the conductive polymer circuit pattern
And at least a part of the conductor supplying the current,
Formed by electroplating in an electroplating solution
The electric circuit board according to claim 1, wherein
Board.
【請求項3】前記導電性高分子回路パターンに接触して
電流を供給している導電体は、金属ペーストであること
を特徴とする請求項2記載の電気回路基板。
3. Contacting the conductive polymer circuit pattern
The conductor supplying the current must be a metal paste
The electric circuit board according to claim 2, wherein:
【請求項4】前記触媒層は、前記光で触媒活性が低下ま
たは消失する触媒とマトリックスポリマーとを混合した
ものから形成されていることを特徴とする請求項1〜3
のいずれか記載の電気回路基板。
4. The catalyst layer according to claim 1 , wherein the catalytic activity is reduced by the light.
Mixed with the disappearing catalyst and matrix polymer
4. The method according to claim 1, wherein the first member is formed from a material.
The electric circuit board according to any one of the above.
【請求項5】前記触媒層は、前記光で触媒活性が低下ま
たは消失する触媒から形成されていることを特徴とする
請求項1〜3のいずれか記載の電気回路基板。
5. The catalyst layer according to claim 1 , wherein the catalytic activity is reduced by the light.
Characterized by being formed from a catalyst that disappears
The electric circuit board according to claim 1.
【請求項6】前記導電性高分子回路パターン形成後で、
前記電気めっきの前に、前記光により触媒活性が低下ま
たは消失させた触媒部分を除去してなることを特徴とす
る請求項5記載の電気回路基板。
6. After forming the conductive polymer circuit pattern,
Before the electroplating, the light reduces the catalytic activity.
Or by removing the lost catalyst part.
The electric circuit board according to claim 5.
【請求項7】次のa)〜d)の工程からなる電気回路基
板の製法。 a)基板上に光で触媒活性が低下または消失する触媒を
含む触媒層を形成する工程、 b)前記触媒層に対して、電気回路のマスクパターンを
介して光を照射して、前記触媒の触媒活性を前記電気回
路以外の触媒部分について低下または消失させる工程、 c)前記光により触媒活性が低下または消失させた触媒
部分を除去せずに、前記触媒層に対して、前記触媒によ
り重合され重合後には導電性高分子を生成するモノマー
を接触させて、前記電気回路のマスクパターンに対応し
た形状に、導電性高分子回路パターンを形成する工程、 d)前記導電性高分子回路パターンに対して、金属を電
気めっきすることにより、前記導電性高分子回路パター
ンの形状に、金属回路パターンを形成する工程。
7. A method for producing an electric circuit board comprising the following steps a) to d) . a ) A catalyst whose catalytic activity decreases or disappears due to light on a substrate
B) forming a mask pattern of an electric circuit on the catalyst layer.
And irradiates the catalyst with the catalyst through the electric circuit.
Reducing or eliminating the catalyst portion other than the road; c) a catalyst whose catalytic activity has been reduced or eliminated by the light
Without removing the part, the catalyst layer
Monomer that forms a conductive polymer after polymerization
To correspond to the mask pattern of the electric circuit.
Forming a conductive polymer circuit pattern in a bent shape; d) applying a metal to the conductive polymer circuit pattern.
The conductive polymer circuit pattern is
Forming a metal circuit pattern in the shape of the metal pattern.
【請求項8】前記a)の工程は、前記光で触媒活性が低
下または消失する触媒とマトリックスポリマーとを混合
したものから、前記触媒層を形成することを特徴とする
請求項7記載の電気回路基板の製法。
8. In the step (a), the catalytic activity is low by the light.
Mixing down or disappearing catalyst with matrix polymer
Forming the catalyst layer from
A method for manufacturing an electric circuit board according to claim 7.
【請求項9】前記a)の工程は、前記光で触媒活性が低
下または消失する触媒から、前記触媒層を形成すること
を特徴とする請求項7記載の電気回路基板の製法。
9. In the step (a), the catalytic activity is low by the light.
Forming the catalyst layer from a catalyst that falls or disappears
The method for producing an electric circuit board according to claim 7, wherein:
【請求項10】前記c)の工程とd)の工程との間に、
前記光により触媒活性が低下または消失させた触媒部分
を除去する工程を行うことを特徴とする請求項9記載の
電気回路基板の製法。
10. The method according to claim 10, wherein the step c) and the step d) are performed between
Catalyst part whose catalytic activity has been reduced or eliminated by the light
10. The method according to claim 9, wherein a step of removing is performed.
Manufacturing method of electric circuit board.
【請求項11】前記d)の工程は、前記導電性高分子回
路パターンと、該導電性高分子回路パターンに接触して
電流を供給している導電体の少なくとも一部とを、電気
めっき液中にして電気めっきすることにより、前記金属
回路パターンを形成することを特徴とする請求項7〜1
0のいずれか記載の電気回路基板の製法。
11. The method according to claim 1 , wherein the step (d) is performed by using the conductive polymer circuit.
Circuit pattern and the conductive polymer circuit pattern
At least a part of the conductor supplying the electric current is
By plating in a plating solution, the metal
A circuit pattern is formed.
0. The method for producing an electric circuit board according to any one of the above items.
【請求項12】前記導電性高分子回路パターンに接触し
て電流を供給している導電体は、金属ペーストであるこ
とを特徴とする請求項11記載の電気回路基板の製法。
12. A conductive polymer circuit pattern,
The conductor that supplies the current is metal paste.
The method for manufacturing an electric circuit board according to claim 11, wherein
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