JP2661540B2 - Semiconductor chip, TAB tape, inner lead bonder, and method of manufacturing semiconductor device - Google Patents
Semiconductor chip, TAB tape, inner lead bonder, and method of manufacturing semiconductor deviceInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップ、TAB
テープ及びインナーリードボンダー並びに半導体装置の
製造方法に関し、特に、TAB方式の半導体装置を製造
する方法と、その製造方法の実施に用いる半導体チッ
プ、TABテープ及びインナーリードボンダーに関する
ものである。The present invention relates to a semiconductor chip, a TAB,
The present invention relates to a method for manufacturing a tape, an inner lead bonder, and a semiconductor device, and more particularly, to a method for manufacturing a TAB type semiconductor device, and a semiconductor chip, a TAB tape, and an inner lead bonder used for implementing the method.
【0002】[0002]
【従来の技術】LSIのチップからリードを取り出すた
めの接続技術の一つであるTAB方式は、薄型・小型の
高密度実装を可能にするのみならず、例えば100ピン
程度以上の多ピン一括ボンデンィングが可能であること
から、生産性の向上に適しているなど、いくつかの大き
な特徴を有している。ところで、TAB方式の接続技術
は上記のように、多ピンで小型・高密度実装のLSIに
適用することを目的とした技術であるので、必然的に、
インナーリードボンディング工程(LSIチップ上のバ
ンプとTABテープのインナーリードとを、全組一括ボ
ンディングする工程)での、バンプとインナーリードと
の位置合せ精度は高精度であることが要求される。本発
明は、上記のような要求に鑑みてなされたものであっ
て、TAB方式によるLSI(以後、TABLSIと記
す)の製造工程におけるインナーリードボンディング時
の位置合せ精度向上技術に関するものである。2. Description of the Related Art The TAB method, which is one of the connection techniques for extracting leads from an LSI chip, not only enables a thin, small, high-density mounting, but also a multi-pin package of, for example, about 100 pins or more. It has several major features, such as being suitable for improving productivity because of the ability to perform printing. By the way, as described above, the connection technology of the TAB method is a technology intended to be applied to an LSI with a large number of pins and small and high-density mounting.
In the inner lead bonding step (the step of collectively bonding all the sets of the bumps on the LSI chip and the inner leads of the TAB tape), the positioning accuracy of the bumps and the inner leads is required to be high. The present invention has been made in view of the above requirements, and relates to a technology for improving the alignment accuracy at the time of inner lead bonding in a process of manufacturing an LSI (hereinafter, referred to as a TABLSI) by a TAB method.
【0003】LSIは様々な位置合せの集積によって完
成するといっても過言でないほど、その製造工程には位
置合せを必要とする工程が多い。そのため、LSI製造
のための各種の位置合せ技術が研究・開発されている
が、例えば、リソグラフィ工程におけるマスクとウエー
ハとの位置合せのように、ミクロンオーダー或いはそれ
以上の高精度の位置合せが必要なときは、光を用いたパ
ターン認識技術を利用することが多い。TABLSIを
製造する際のインナーリードボンディングでの位置合せ
にも、従来、光を用いたパターン認識技術が応用されて
いる。すなわち、パターンマッチング法による位置合せ
である。以下に、パターンマッチングを用いた従来の位
置合せ方法について説明する。It is not too much to say that an LSI is completed by integration of various alignments, and there are many steps that require alignment in its manufacturing process. For this reason, various alignment technologies for LSI manufacturing have been researched and developed. For example, high-precision alignment on the order of microns or more, such as alignment between a mask and a wafer in a lithography process, is required. In such a case, a pattern recognition technique using light is often used. Conventionally, a pattern recognition technique using light has also been applied to alignment by inner lead bonding when manufacturing a TABLSI. That is, the positioning is performed by the pattern matching method. Hereinafter, a conventional positioning method using pattern matching will be described.
【0004】図7(a)は、従来の位置合せ方法を用い
て製造されるTABLSIの、チップの模式的平面図で
ある。同図を参照すると、正方形のチップ10の四つの
辺に沿って、バンプ1が多数形成されている。これらバ
ンプ1は、それらにボンディングされるTABテープの
インナーリード(後述)を介して、このLSIでの信号
処理に必要な電源、信号などを外部とやり取りするため
のものである。このチップ10の対角に位置する二つの
隅には、位置合せ用の特徴的な形状(この場合は、十字
型のクロスパターン)をした合せマーク11が形成され
ている。この合せマーク11は、通常、チップ上に形成
された金属層をエッチングするなどして形成されるもの
であって、例えば、ウエーハプロスセ中のアルミニウム
配線形成工程で、他のアルミニウム配線と同時に形成さ
れる。合せマーク11の数は二つ以上であっても、勿論
良い。又、チップの形状は、正方形ではなく長方形であ
ってもよい。FIG. 7A is a schematic plan view of a chip of TABLSI manufactured using a conventional alignment method. Referring to FIG. 1, a large number of bumps 1 are formed along four sides of a square chip 10. These bumps 1 are for exchanging a power supply, a signal, and the like necessary for signal processing in the LSI with the outside via an inner lead (described later) of a TAB tape bonded to the bumps 1. At two diagonal corners of the chip 10, alignment marks 11 having a characteristic shape for alignment (in this case, a cross-shaped cross pattern) are formed. The alignment mark 11 is usually formed by etching a metal layer formed on a chip, and is formed at the same time as another aluminum wiring in a step of forming an aluminum wiring in a wafer process, for example. Is done. Of course, the number of alignment marks 11 may be two or more. The shape of the chip may be a rectangle instead of a square.
【0005】次に、TABテープの模式的平面図を示す
図7(b)を参照すると、TABテープ12のデバイス
ホール2の四隅には、位置合せ用の特徴的な形状の合せ
マーク13が設けられている。この合せマーク13は、
例えば、TABテープ12の銅箔をエッチングしてイン
ナーリード3を形成する時に同時に形成される。図7
(b)に示す例では、個々の合せマーク13の平面形状
は、デバイスホール2の直交する二つの辺のそれぞれか
らデバイスホール内に突出する二つのビームが、先端ど
うしでクロスした形状となっている。尚、図7(b)に
は、TABテープ12と共に、デバイスホール2内に配
置されたチップ10も示されている。Next, referring to FIG. 7B which shows a schematic plan view of the TAB tape, alignment marks 13 having a characteristic shape for positioning are provided at four corners of the device hole 2 of the TAB tape 12. Have been. This alignment mark 13
For example, it is formed at the same time when the copper foil of the TAB tape 12 is etched to form the inner leads 3. FIG.
In the example shown in (b), the planar shape of each alignment mark 13 is such that two beams protruding into the device hole from each of two orthogonal sides of the device hole 2 cross each other at the tips. I have. FIG. 7B also shows the chip 10 arranged in the device hole 2 together with the TAB tape 12.
【0006】ここで、図7(b)にはデバイスホール2
を一つだけ描いてあるが、通常のTABテープでは、長
尺テープの長手方向(紙面、左右方向)に、同図に示す
ようなデバイスホール2が所定の間隔を保って多数配置
されており、そのようなTABテープがリール(図示せ
ず)に巻取られている。実際のインナーリードボンディ
ングの際には、リール・ツー・リール(Reel to
Reel)搬送によって、TABテープ12を1デバ
イスホール分だけ長手方向に送り、インナーリードボン
ダーのテープクランパー(図示せず)に固定し、一方、
チップ10を別途、デバイスホール2の下に位置するボ
ンディングステージ(図示せず)上に供給し、そのチッ
プ10上のバンプ1とデバイスホール2周辺のインナー
リード3とを位置合せしたのち両者をボンディングする
という動作を、各デバイスホールごとに順次繰返すこと
になる。Here, FIG. 7B shows a device hole 2
However, in a normal TAB tape, a large number of device holes 2 as shown in the figure are arranged at predetermined intervals in the longitudinal direction of the long tape (paper surface, left-right direction). Such a TAB tape is wound on a reel (not shown). In the case of actual inner lead bonding, a reel-to-reel (Reel to reel)
Reel), the TAB tape 12 is transported in the longitudinal direction by one device hole and fixed to a tape clamper (not shown) of the inner lead bonder.
The chip 10 is separately supplied onto a bonding stage (not shown) located below the device hole 2, the bumps 1 on the chip 10 are aligned with the inner leads 3 around the device hole 2, and then both are bonded. This operation is sequentially repeated for each device hole.
【0007】上記のようなチップ10とTABテープ1
2とを用いて、従来のインナーリードボンディング工程
での位置合せは下記のようにして行われる。先ず、イン
ナーリードボンダーに、パターンマッチングを行うとき
の比較の基準を覚え込ませる(ティーチングする)。こ
のティーチングでは、TABテープの合せマーク13
及びチップの合せマーク11の、それぞれの基準イメー
ジと、インナーリードボンディングされるTABテー
プが、テープクランパー上のどの位置にあるかを検出す
るときの基準位置と、ボンディングされるチップが、
ボンディングステージ上のどの位置にあるかを検出する
ための基準位置と、バンプ1とインナーリード3とが
完全に位置合せされたときに、チップの合せマーク11
とTABテープの合せマーク13とがとるべき相対位置
のそれぞれに関する四種類のデータをボンダーに記憶さ
せることが必要であり、通常、以下のようにしてティー
チングする。The above-described chip 10 and TAB tape 1
2, the alignment in the conventional inner lead bonding step is performed as follows. First, the reference for comparison when performing pattern matching is stored in the inner lead bonder (teaching). In this teaching, the alignment mark 13 of the TAB tape was used.
And the reference image of the alignment mark 11 of the chip, the reference position for detecting where the TAB tape to be inner-lead bonded is located on the tape clamper, and the chip to be bonded,
When the bump 1 and the inner lead 3 are completely aligned with a reference position for detecting the position on the bonding stage, the alignment mark 11 on the chip
It is necessary to store in the bonder four types of data relating to each of the relative positions to be taken by the TAB tape and the alignment mark 13 of the TAB tape. Usually, teaching is performed as follows.
【0008】始めに、TABテープ12の最初のデバイ
スホールをテープクランパーに送って固定する。ボンダ
ーは、その最初のデバイスホールに形成されている合せ
マーク13を二値化画像データとしてボンダーに取込ん
で基準イメージとすると同時に、そのときの合せマーク
13のテープクランパー上の位置データを読込み、その
位置をテープクランパー上のTABテープの基準位置と
する。合せマーク13の二値データ化は、ボンダーの認
識カメラ(図示せず)が合せマーク13とその周辺部に
光を照射し、受光した反射光の強度を所定のスライスレ
ベルで二値化することによって行われる。通常、合せマ
ークの部分を明とし、それ以外の部分を暗とする。First, the first device hole of the TAB tape 12 is sent to a tape clamper and fixed. The bonder takes the alignment mark 13 formed in the first device hole into the bonder as binary image data as a reference image, and at the same time, reads the position data of the alignment mark 13 on the tape clamper at that time, The position is set as a reference position of the TAB tape on the tape clamper. The binarization of the alignment mark 13 is performed by irradiating a light to the alignment mark 13 and its surroundings by a bonder recognition camera (not shown) and binarizing the intensity of the received reflected light at a predetermined slice level. Done by Usually, the part of the alignment mark is made bright, and the other part is made dark.
【0009】次いで、上記の最初のデバイスホールに対
して、ボンディングステージに最初のチップを供給す
る。ボンダーは、TABテープにおけると同様に、その
最初のチップに設けられた合せマーク11を二値化画像
データとして取込んで基準イメージとすると同時に、そ
のときの合せマーク11のボンディングステージ上の位
置データを読込み、その位置をボンディングステージ上
のチップの基準位置とする。Then, the first chip is supplied to the bonding stage for the first device hole. As in the case of the TAB tape, the bonder takes in the alignment mark 11 provided on the first chip as binarized image data and uses it as a reference image, and at the same time, the position data of the alignment mark 11 on the bonding stage. Is read, and that position is set as the reference position of the chip on the bonding stage.
【0010】以上の操作の後、上記最初のデバイスホー
ルと最初のチップとを用いて、チップのバンプ1とTA
Bテープのインナーリード3とを位置合せする。このと
きの位置合せは、作業者がボンダーのモニタースクリー
ン(図示せず)を見ながら、バンプ1とインナーリード
3とを直接位置合せする。ボンダーは、この作業者によ
る位置合せ終了後、最初のデバイスホールの合せマーク
(換言すれば、基準イメージ)1の位置のデータと、こ
れに位置合せされた最初のチップの合せマーク(同、基
準イメージ)3の位置データとから、位置合せが完全に
行われたときに二つの合せマークどうしがとるべき相対
位置を算出し、記憶する。After the above operation, using the first device hole and the first chip, the bump 1 and the TA of the chip are used.
Align the inner lead 3 of the B tape. At this time, the operator directly aligns the bumps 1 with the inner leads 3 while looking at the monitor screen (not shown) of the bonder. After completion of the alignment by the operator, the bonder sets the data of the position of the first device hole alignment mark (in other words, the reference image) 1 and the alignment mark of the first chip aligned with this (the same reference mark). Based on the position data of the image (3), a relative position to be taken between the two alignment marks when the alignment is completed is calculated and stored.
【0011】次に、二番目以降のデバイスホールとチッ
プとの位置合せは、上記のようにしてティーチングされ
た基準イメージ及び位置データに基づいて、自動的に行
われる。すなわち、ボンディング位置に移送されテープ
クランパーに固定されたTABテープ12に対して、認
識カメラは、デバイスホール2のコーナーに配置された
合せマーク13の少なくとも対角に位置する二個以上を
二値化画像データとして捉える。そして、いま捉えた二
値化合せマーク13と既にティーチングされている第一
番目のデバイスホールの二値化合せマーク(基準イメー
ジ)とがマッチングするように、テープクランパーとカ
メラとを相対移動させ(通常は、テープクランパーを固
定しておきカメラを移動させる)、そのときの移動量か
ら、テープクランパー上のTABテープ12の位置を検
出する。同様にして、これから位置合せしようとするチ
ップの二値化合せマーク11と既にティーチングされて
いる最初のチップの合せマークの二値化合せマーク(基
準イメージ)とをマッチングさせるのに必要なカメラの
移動量から、ボンディングステージ上のチップ10の位
置を検出する。Next, the alignment between the second and subsequent device holes and the chip is automatically performed based on the reference image and the position data taught as described above. That is, with respect to the TAB tape 12 transferred to the bonding position and fixed to the tape clamper, the recognition camera binarizes at least two or more diagonally positioned alignment marks 13 arranged at the corners of the device hole 2. Capture as image data. Then, the tape clamper and the camera are relatively moved so that the binarized alignment mark 13 that has just been captured matches the binarized alignment mark (reference image) of the first device hole that has already been taught ( Normally, the camera is moved while the tape clamper is fixed), and the position of the TAB tape 12 on the tape clamper is detected from the movement amount at that time. Similarly, a camera required to match the binarization alignment mark 11 of the chip to be aligned with the binarization alignment mark (reference image) of the alignment mark of the first chip already taught. The position of the chip 10 on the bonding stage is detected from the movement amount.
【0012】そして、上述のようにして検出したテープ
クランパー上のTABテープ12の位置のデータと、ボ
ンディングステージ上のチップ10の位置のデータとか
ら、予めティーチングしてあるTABテープとチップの
相対的な位置データになるように、ボンディングステー
ジのX軸方向、Y軸方向の距離及び回転角を補正する
と、位置合せが完了し、チップのバンプ1上にそれに対
応するTABテープのインナーリード3が位置すること
になる。Then, based on the data of the position of the TAB tape 12 on the tape clamper detected as described above and the data of the position of the chip 10 on the bonding stage, the relative position of the TAB tape and the chip, which have been preliminarily taught, is determined. When the distance and the rotation angle of the bonding stage in the X-axis direction and the Y-axis direction are corrected so as to obtain proper position data, the alignment is completed, and the corresponding inner lead 3 of the TAB tape is positioned on the bump 1 of the chip. Will do.
【0013】ここで、一般に、二つの物体を位置合せす
る方法には、始めにそれら二つの物体を、予め決めてお
いた相対位置になるように強制的に配置した後、その当
初の位置から、予め求めておいた量だけ移動させて位置
合せする方法や、二つの物体の当初の配置は特には強制
せず、二つの物体が配置されたままの状態で当初の相対
位置を測定し、その測定結果に応じて移動量を定める方
法などがあるが、これまでの説明から分るように、イン
ナーリードボンディング工程における従来の位置合せ方
法は、後者の方法である。そして、TABテープとチッ
プとの当初の相対位置を測定する際には、TABテープ
に対してはテープクランパー上の基準位置からのずれを
測定し、チップに対してはボンディングステージ上の基
準位置からのずれを測定するというように、両者の相対
位置を、直接的にではなく、間接的に求めていることに
なる。Here, in general, the method of aligning two objects involves first forcibly arranging the two objects to have a predetermined relative position, and then starting from the initial position. The method of positioning by moving by the amount obtained in advance, and the initial arrangement of the two objects is not particularly limited, and the initial relative position is measured in a state where the two objects are arranged, Although there is a method of determining the amount of movement according to the measurement result, as described above, the conventional alignment method in the inner lead bonding step is the latter method. When measuring the initial relative position between the TAB tape and the chip, the deviation from the reference position on the tape clamper is measured for the TAB tape, and the deviation from the reference position on the bonding stage is measured for the chip. In other words, the relative position between the two is determined not directly but indirectly, such as by measuring the deviation of the two.
【0014】このことから、本発明との関連において、
従来の位置合せ方法での位置合せ精度について考察する
と、その位置合せ精度には、テープクランパー上のT
ABテープの位置を検出するときの精度、ボンディン
グステージ上のチップの位置を検出するときの精度が大
きく影響することが分る。From this, in the context of the present invention,
Considering the positioning accuracy in the conventional positioning method, the positioning accuracy includes the T on the tape clamper.
It can be seen that the accuracy in detecting the position of the AB tape and the accuracy in detecting the position of the chip on the bonding stage are greatly affected.
【0015】[0015]
【発明が解決しようとする課題】これまで述べたよう
に、従来の位置合せ方法で、テープクランパー上のTA
Bテープの位置検出及びボンディングステージ上のチッ
プ位置の検出に用いられるパターンマッチングでは、ボ
ンダーは、チップ或いはTABテープの合せマークとそ
の周辺に光を照射し反射光の強度を強弱に二値化するこ
とにより、合せマークを二値化画像データとして取込
む。ところがその場合、ティーチングに用いた合せマー
クとこれにマッチングされる実際の合せマークとの間
に、合せマークの位置精度、線幅や断面形状などの加工
精度、或いは、色あいや光沢などの仕上り状態に違いが
生じるのは避けられず、二つの合せマーク(基準マーク
と位置合せされる実際の合せマーク)のイメージが完全
にマッチングすることは、実際には有りえない。そし
て、このことに起因して、テープクランパー上のTAB
テープの位置検出の精度及びボンディングステージ上の
チップ位置検出の精度には限界が生じる。つまり、従来
の位置合せ方法には、TABテープとチップとの初期の
相対位置検出の精度に、上記の原因に基づく限界がある
ことになる。As described above, the TA on the tape clamper is determined by the conventional alignment method.
In pattern matching used for detecting the position of the B tape and detecting the position of the chip on the bonding stage, the bonder irradiates light to the alignment mark of the chip or the TAB tape and its periphery, and binarizes the intensity of the reflected light. Thus, the alignment mark is captured as binary image data. However, in this case, between the alignment mark used for teaching and the actual alignment mark to be matched with the alignment mark, the positional accuracy of the alignment mark, processing accuracy such as line width and cross-sectional shape, or finished state such as color tone and gloss It is unavoidable that the images of the two alignment marks (the actual alignment marks that are aligned with the reference mark) are not perfectly matched in practice. And due to this, TAB on the tape clamper
There is a limit to the accuracy of tape position detection and the accuracy of chip position detection on the bonding stage. That is, in the conventional alignment method, there is a limit based on the above-described causes on the accuracy of the initial relative position detection between the TAB tape and the chip.
【0016】又、TABテープとチップとの相対位置を
ティーチングするときには、作業者がインナーリードと
バンプとを位置合せした後、そのときのTABテープの
合せマークとチップの合せマークとを認識カメラでパタ
ーン認識して、それぞれの位置データからTABテープ
とチップとのあるべき相対位置データを算出してボンダ
ーに記憶させるが、このときのティーチングの時にも、
上記のような誤差発生が避けられない。When teaching the relative position between the TAB tape and the chip, the operator aligns the inner lead with the bump, and then uses the camera to recognize the alignment mark of the TAB tape and the alignment mark of the chip at that time. The pattern is recognized, the relative position data between the TAB tape and the chip should be calculated from the respective position data and stored in the bonder, but at the time of teaching at this time,
The occurrence of errors as described above is inevitable.
【0017】以上のようなことから、光を用いたパター
ン認識によりパターンマッチング法で位置合せを行う従
来の位置合せでは、TABテープとチップとの初期の
相対位置の検出精度の限界及び、位置合せ後の両者の
あるべき相対位置をティーチングするときの精度の限界
から、位置合せ精度の向上が困難である。例えば、現
在、リードピッチが60μm程度以下になると、インナ
ーリードとバンプとの位置ずれに起因する障碍発生が顕
著になり、インナーリードボンディング工程での良品率
が急激に低下するという問題が生じている。勿論、合せ
マークの加工精度を向上させ、仕上り状態のロットごと
の管理を厳重にするなどして、例えば、リソグラフィー
工程におけるマスクとウェーハとの位置合せのように、
位置合せ精度をサプミクロン程度にまで高めることは可
能であろう。しかしそのためには、合せマーク形成の際
の、金属膜被着、パターニング、エッチングなどに用い
る全装置の性能を、要求される位置合せ精度に見合った
高度なものに揃えなければならない。又、工程管理も複
雑となる。このようなことから、従来の位置合せ方法
で、その位置合せ精度を向上させることは容易なことで
はない。As described above, in the conventional alignment in which the alignment is performed by the pattern matching method using the pattern recognition using light, the limit of the detection accuracy of the initial relative position between the TAB tape and the chip and the alignment. It is difficult to improve the alignment accuracy due to the limit of accuracy when teaching the relative position that should be the latter. For example, at present, when the lead pitch is about 60 μm or less, the occurrence of a trouble due to the displacement between the inner lead and the bump becomes remarkable, and the problem that the non-defective rate in the inner lead bonding process is sharply reduced has occurred. . Of course, by improving the processing accuracy of the alignment mark and strictly managing the finished lot for each lot, for example, as in the alignment of a mask and a wafer in a lithography process,
It would be possible to increase the alignment accuracy to sub-microns. However, in order to do so, the performance of all devices used for depositing a metal film, patterning, etching, and the like when forming alignment marks must be adjusted to a high level that matches the required alignment accuracy. Also, the process management becomes complicated. For this reason, it is not easy to improve the positioning accuracy by the conventional positioning method.
【0018】従って、本発明は、光を用いた従来の位置
合せ方法によるインナーリードボンディングより高精度
なボンディングが容易に可能な、TABLSIの製造方
法を提供することを目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a TABLSI capable of easily performing bonding with higher precision than inner lead bonding by a conventional alignment method using light.
【0019】本発明の他の目的は、上記のようなTAB
LSIの製造方法を実施する際に必要な半導体チップ、
TABテープ及びインナーリードボンダーを提供するこ
とである。Another object of the present invention is to provide a TAB as described above.
A semiconductor chip required when implementing the LSI manufacturing method,
It is to provide a TAB tape and an inner lead bonder.
【0020】[0020]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の製
造方法は、TAB方式の半導体装置を製造する方法であ
って、半導体チップとTABテープとを相対移動させて
前記半導体チップ上のバンプと前記TABテープのイン
ナーリードとを位置合せする工程と、前記バンプと前記
インナーリードとを電気的に固着接続するボンディング
工程とを含む半導体装置の製造方法において、前記位置
合せ工程では、前記半導体チップ上に設けた位置決め用
部材と前記TABテープに設けた位置決め用部材とを接
触させることによって直接的に定まる半導体チップとT
ABテープとの初期相対位置を移動量決定の基準位置と
した後、前記半導体チップと前記TABテープとをボン
ディング時の位置へ相対移動させることを特徴とする。A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention is a method of manufacturing a TAB type semiconductor device, wherein a semiconductor chip and a TAB tape are moved relative to each other to form a bump on the semiconductor chip. In a method for manufacturing a semiconductor device comprising a step of aligning an inner lead of the TAB tape and a bonding step of electrically fixing and connecting the bump and the inner lead, in the aligning step, A semiconductor chip directly determined by contacting a positioning member provided on the TAB tape with a positioning member provided on the TAB tape;
After setting an initial relative position with respect to the AB tape as a reference position for determining the movement amount, the semiconductor chip and the TAB tape are relatively moved to a position at the time of bonding.
【0021】又、本発明の半導体装置の製造方法は、前
記半導体チップ上に設ける位置決め用部材として、チッ
プの面上に設けた位置合せ専用の導電性のダミーバンプ
を用い、前記TABテープに設ける位置決め用部材とし
て、前記インナーリードを用い、前記ダミーバンプと前
記インナーリードとが接触したことを、前記ダミーダン
プと前記インナーリードとの間の電気的導通の有無によ
って、電気的に検出することを特徴とする。Further, in the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the positioning member provided on the semiconductor chip may be a conductive dummy bump dedicated to positioning provided on the surface of the chip, and the positioning member provided on the TAB tape. Using the inner lead as a member for use, electrically detecting the contact between the dummy bump and the inner lead by the presence or absence of electrical continuity between the dummy dump and the inner lead. I do.
【0022】更に、本発明の半導体装置の御製造方法
は、前記TABテープに設ける位置決め用部材として前
記インナーリードを用いるのに代えて、TABテープの
デバイスホールに突出するように設けた、位置合せ専用
の導電性のダミーインナーリードを用いることを特徴と
する。Further, in the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the positioning may be such that the inner lead is provided so as to protrude into a device hole of the TAB tape, instead of using the inner lead as a positioning member provided on the TAB tape. It is characterized by using a dedicated conductive dummy inner lead.
【0023】[0023]
【実施例】次に、本発明の好適な実施例について、図面
を参照して説明する。図1(a)は、本発明の第1の実
施例に用いた半導体チップとインナーリードとを重ねて
示す模式的平面図である。又、図1(b)は、その断面
図である。尚、図1は、バンプとインナーリードとの位
置合せがまだ完了していない、工程初期の状態を示して
いる。図1と図7とを比較すると、本実施例に用いるチ
ップ20には、従来の位置合せ方法に必要であった合せ
マーク11は形成されていない。替りに、チップ20の
四辺のそれぞれに、信号処理のために電源や信号を外部
とやり取りするための通常の(接続)バンプ1に加え
て、二つのダミーバンプ21を備えている。ダミーダン
プ21は、接続バンプ1の両側に一つずつ配置されてお
り、図1(b)に示すように、高さが接続バンプ1より
も高くされている。又、本実施例に用いるTABテープ
には、従来必要であった合せマーク13は設けられてお
らず、デバイスホール内には、信号処理に用いられる通
常の(接続)インナーリード3が突出しているだけであ
る。Next, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a schematic plan view showing the semiconductor chip and the inner leads used in the first embodiment of the present invention in an overlapping manner. FIG. 1B is a cross-sectional view thereof. FIG. 1 shows an initial state of the process in which the alignment between the bumps and the inner leads has not been completed yet. Comparing FIG. 1 with FIG. 7, the alignment mark 11 required for the conventional alignment method is not formed on the chip 20 used in this embodiment. Instead, two dummy bumps 21 are provided on each of the four sides of the chip 20 in addition to the normal (connection) bumps 1 for exchanging power and signals for external signal processing. The dummy dumps 21 are arranged one on each side of the connection bump 1, and have a height higher than that of the connection bump 1 as shown in FIG. The TAB tape used in this embodiment is not provided with the alignment mark 13 which is conventionally required, and a normal (connection) inner lead 3 used for signal processing protrudes from the device hole. Only.
【0024】本実施例では、上記のようなチップとTA
Bテープとを用いて、以下に述べる手順で位置合せがな
される。先ず、図1(a)に示すように、チップ20の
各辺の両側にあるダミーバンプ21の間に、デバイスホ
ール周辺のインナーリード3が配置されるように、粗く
位置合せする。この粗調整のときには、従来の光を利用
したパターン認識技術を用いることができる。このと
き、接続バンプ1とインナーリード3とがずれていても
構わない。In this embodiment, the above-described chip and TA
Positioning is performed using the B tape in the procedure described below. First, as shown in FIG. 1A, the chip 20 is roughly aligned so that the inner leads 3 around the device holes are arranged between the dummy bumps 21 on both sides of each side of the chip 20. At the time of this coarse adjustment, a conventional pattern recognition technique using light can be used. At this time, the connection bump 1 and the inner lead 3 may be shifted.
【0025】次に、チップ20を吸着保持しているボン
ディングステージ4を1パルスずつ右方向へ移動させて
行くと、図2(a)の平面図に示すように、チップ上辺
では最左端のインナーリード3ALと左側のダミーバンプ
21ALとが接触し、チップ下辺では最左端のインナーリ
ード3CLと左側のダミーバンプ21CLとが接触する。こ
こで、チップ20には、ダミーバンプ21ALと21CLと
を電気的短絡する配線(図示せず)が設けてある。した
がって上記二組のインナーリードとダミーバンプとの接
触により、インナーリード3AL→ダミーバンプ21AL→
チップ内配線→ダミーバンプ21CL→インナーリード3
CLという電気経路が形成される。Next, as the bonding stage 4 holding the chip 20 by suction is moved to the right by one pulse, as shown in a plan view of FIG. lead 3 contact AL and the left dummy bumps 21 AL is, the chip lower contact 3 CL and leftmost inner lead and the left dummy bumps 21 CL is. Here, the chip 20, electrical short-circuiting wires and a dummy bumps 21 AL and 21 CL (not shown) is provided. Therefore, due to the contact between the two sets of inner leads and the dummy bumps, the inner leads 3 AL → the dummy bumps 21 AL →
In-chip wiring → Dummy bump 21 CL → Inner lead 3
An electric path called CL is formed.
【0026】ここで、通常、TABテープには図3の斜
視図に示すように、各インナーリード3の延長部分に
は、それぞれのインナーリードに対応したテストパッド
5が設けられている。このテストパッド5は、インナー
リードボンディング終了後に、これらテストバッド5に
外部からポゴピン6を当ててLSIの電気的試験を行う
ためのものである。本実施例ではこのテストパッド5を
利用して、上記の電気経路が形成されたか否か、言い換
えれば、チップの上辺と下辺とで同時にインナーリード
とダミーバンプとが接触したかどうかを検出できるよう
にしている。すなわち、本実施例では図4の模式的切欠
き斜視図に示すように、デバイスホールの各辺ごとに、
最外端に位置する二つのインナーリードに接触するポゴ
ピン6を、テープクランプパー23に内蔵させるてい
る。このポゴピン6から接続ケーブル(図示せず)を取
り出すことによって、上記の接触の電気的検出が可能で
ある。ボンダーは、以上のようにして、チップ20とT
ABテープとが図2(a)に示すような配置になったこ
とを検出し、そのときのボンディングステージの位置の
データを記憶する。Here, normally, as shown in the perspective view of FIG. 3, a test pad 5 corresponding to each inner lead is provided on an extended portion of each inner lead 3 on the TAB tape. The test pad 5 is used for performing an electrical test of the LSI by applying a pogo pin 6 to the test pad 5 from the outside after the inner lead bonding is completed. In this embodiment, the test pad 5 is used to detect whether or not the above-described electric path has been formed, in other words, whether or not the inner leads and the dummy bumps have simultaneously contacted the upper side and the lower side of the chip. ing. That is, in the present embodiment, as shown in a schematic notched perspective view of FIG.
The pogo pins 6 that come into contact with the two inner leads located at the outermost ends are built in the tape clamp par 23. By taking out a connection cable (not shown) from the pogo pin 6, the above-mentioned contact can be detected electrically. The bonder is connected to the chip 20 and T as described above.
It detects that the AB tape has been arranged as shown in FIG. 2A, and stores the data of the position of the bonding stage at that time.
【0027】同様に、ボンディングステージ4を左方向
に移動させ、図2(b)の平面図に示すように、上辺右
側のダミーバンプ21ARと最右端のインナーリード3AR
とを接触させ、同時に下辺右側のダミーバンプ21CRと
最右端のインナーリード3CRとを接触させてそれらの接
触を電気的に検出し、そのときのボンディングステージ
4の位置のデータを記憶する。Similarly, the bonding stage 4 is moved to the left, and as shown in the plan view of FIG. 2B, the upper right dummy bump 21 AR and the rightmost inner lead 3 AR
Contacting the door, electrically detects the contact thereof by contacting the lower right dummy bumps 21 CR and the rightmost inner leads 3 CR simultaneously, stores the data on the position of the bonding stage 4 at that time.
【0028】次に、以上のようにして得たX軸方向(紙
面左右方向)に関する二つのボンディングステージの位
置データから、それら二つの位置の中間位置のデータを
算出し、ボンディングステージ4をその中間位置に移動
させると、図5の平面図に示すように、チップ上下辺の
各接続バンプ1の真上にインナーリード3がそれぞれ配
置されて、X軸方向の位置合せが完了する。Next, from the position data of the two bonding stages in the X-axis direction (left and right directions on the paper surface) obtained as described above, data at an intermediate position between the two positions is calculated, and the bonding stage 4 is moved to the intermediate position. When it is moved to the position, as shown in the plan view of FIG. 5, the inner leads 3 are respectively arranged just above the connection bumps 1 on the upper and lower sides of the chip, and the alignment in the X-axis direction is completed.
【0029】次いで、Y軸方向(紙面上下方向)につい
ても、上述のX軸方向における位置合せと同様な操作を
行って、四辺についての位置合せを完了する。Next, in the Y-axis direction (vertical direction on the paper surface), the same operation as the above-described alignment in the X-axis direction is performed to complete the alignment on the four sides.
【0030】これまでの説明から分るように、本発明に
おいて、チップとTABテープとの初期の相対位置は、
チップ上のダミーバンプ21とTABテープのインナー
リード3とが最初に接触したときのそれぞれの配置によ
り、チップとTABテープとだけで直接的に決まる。従
って、チップとTABテープとの初期の相対位置を、光
を使ったパターンマッチングにより、認識カメラを介し
て間接的に決める従来の位置合せとは異って、本発明に
よる位置合せには、チップとTABテープとの初期の相
対位置の検出誤差に起因する位置合せ精度の低下はな
い。又、従来の位置合せ方法では、バンプとインナーリ
ードとが完全に位置合せされたときのそれぞれの合せマ
ークの相対位置をボンダーにティーチングするときにも
誤差が生じるが、本発明による位置合せには、そのよう
な原因による位置合せ精度の低下はなく、この点でも位
置合せ精度が向上する。本実施例により、従来、±7μ
mにしかすぎなかった位置合せ精度を、±3μmにまで
向上させることができた。As can be seen from the above description, in the present invention, the initial relative position between the chip and the TAB tape is:
The respective positions of the dummy bumps 21 on the chip and the inner leads 3 of the TAB tape when they first contact each other are directly determined only by the chip and the TAB tape. Therefore, unlike the conventional alignment in which the initial relative position between the chip and the TAB tape is indirectly determined by a pattern matching using light through a recognition camera, the alignment according to the present invention employs a chip. There is no reduction in the alignment accuracy due to an error in the detection of the initial relative position between the tape and the TAB tape. In the conventional alignment method, an error also occurs when teaching the relative position of each alignment mark to the bonder when the bump and the inner lead are completely aligned. There is no decrease in the alignment accuracy due to such causes, and the alignment accuracy is improved in this respect as well. According to this embodiment, the conventional
The alignment accuracy, which was only m, could be improved to ± 3 μm.
【0031】尚、これまでの説明は、チップの各辺ごと
に、通常の接続バンプを挟むように両側にダミーバンプ
を二つ(例えば、X軸方向に平行な上辺におけるダミー
バンプ21AL,21AR)設けた例について行ったが、ダ
ミーバンプの数は二つに限られることなく、各辺当り一
つであってもよい。本発明における位置合せ精度向上効
果は、チップとTABテープとの初期の相対位置が直接
的に決まることによってもたらされるものであるので、
ダミーバンプ数の多寡は、本発明の作用効果に何ら影響
を与えるものではない。但し、ダミーバンプが二つであ
れば、接続バンプのピッチとインナーリードのピッチの
ずれを、ダミーバンプが一つの場合よりもきめ細かく補
正できるので、より精度の高い位置合せができる。In the above description, two dummy bumps (for example, dummy bumps 21 AL and 21 AR on the upper side parallel to the X-axis direction) are provided on both sides of each side of the chip so as to sandwich a normal connection bump. Although the example was provided, the number of dummy bumps is not limited to two, but may be one for each side. The effect of improving the alignment accuracy in the present invention is brought by directly determining the initial relative position between the chip and the TAB tape.
The number of dummy bumps does not affect the operation and effect of the present invention at all. However, if there are two dummy bumps, the difference between the pitch of the connection bumps and the pitch of the inner leads can be corrected more finely than in the case of one dummy bump, so that more accurate alignment can be performed.
【0032】これまで述べた第1の実施例では、チップ
とTABテープとが所定の初期相対位置に配置されたこ
とを検出するために、TABテープのインナーリードを
用いていた。すなわち、LSIとしての信号処理に用い
られる(接続)インナーリード3を、位置合せにも兼用
していたが、次に述べる第2の実施例のように、位置合
せ専用のダミーインナーリードを設けることによって、
位置合せ精度を更に高めることができる。In the first embodiment described above, the inner lead of the TAB tape is used to detect that the chip and the TAB tape are arranged at a predetermined initial relative position. That is, the (connection) inner lead 3 used for signal processing as an LSI is also used for positioning, but a dummy inner lead dedicated to positioning is provided as in the second embodiment described below. By
The alignment accuracy can be further improved.
【0033】図6は、本発明の第2の実施例における、
半導体チップのダミーバンプの配置及び、TABテープ
のインナーリードの配置を示す模式的な平面図であり、
X軸方向、Y軸方向の位置合せが共に完了した状態を示
す。同図を参照して、本実施例では、チップ20の各辺
にダミーバンプ21を二つ並べて設けている。一方、T
ABテープには、それら二つのダミーバンプ21に対応
するダミーインナーリード24を一本設ける。本実施例
では、図6に示すように、ダミーインナーリード24が
それに対応する二つのダミーバンプ21の中央にあると
きに、接続インナーリード3がそれぞれに対応する接続
バンプ1の真上にくるように設計されている。FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention.
It is a schematic plan view showing the arrangement of the dummy bumps of the semiconductor chip and the arrangement of the inner leads of the TAB tape,
This shows a state where the positioning in the X-axis direction and the positioning in the Y-axis direction are both completed. Referring to FIG. 3, in this embodiment, two dummy bumps 21 are provided on each side of a chip 20. On the other hand, T
On the AB tape, one dummy inner lead 24 corresponding to the two dummy bumps 21 is provided. In the present embodiment, as shown in FIG. 6, when the dummy inner lead 24 is located at the center of the two dummy bumps 21 corresponding to the dummy inner lead 24, the connection inner lead 3 is positioned directly above the corresponding connection bump 1. Designed.
【0034】本実施例では、先ず、光を用いたパターン
認識技術によって、各ダミーインナーリード24がそれ
に対応する二つのダミーバンプ21の間に入るように、
粗調整する。この場合、インナーリード24は二つのダ
ミーバンプ21の真中に位置しなくても構わない。次
に、ダミーバンプとダミーインナーリードとの接触を利
用して、第1の実施例におけると同様にX軸方向及びY
軸方向の位置決めを行って、図6に示すように全体の位
置決めを完了する。In this embodiment, first, the dummy inner leads 24 are inserted between the two corresponding dummy bumps 21 by the pattern recognition technique using light.
Adjust roughly. In this case, the inner lead 24 does not have to be located in the middle of the two dummy bumps 21. Next, using the contact between the dummy bumps and the dummy inner leads, the X-axis direction and the Y-axis direction are used in the same manner as in the first embodiment.
The positioning in the axial direction is performed to complete the entire positioning as shown in FIG.
【0035】先に述べた第1の実施例では、LSIとし
ての信号処理に用いる接続インナーリード3とダミーバ
ンプ21とを接触させて、チップとTABテープとの初
期の相対位置設定を行っている。ところが、多ピン対応
のピッチの狭いインナーリードでは、リード幅、リード
厚も共に小さくなるので、剛性が低下している。そのた
め、ダミーバンプとの接触での変形や、TABテープが
最初から持っている微妙なリード変形などにより、初期
の相対位置設定の際に誤差が生じ、全体としての位置合
せ精度が低下する可能性がある。これに対して、本実施
例におけるダミーインナーリード24には、接続インナ
ーリード3とは異って、ピッチ、幅、厚さに対する制限
は特にはないので、ダミーバンプとの接触による変形防
止に必要な剛性を与えることができる。これにより、本
実施例では位置合せ精度を第1の実施例より更に高める
ことができる。In the above-described first embodiment, the initial relative position between the chip and the TAB tape is set by bringing the connection inner leads 3 used for signal processing as an LSI into contact with the dummy bumps 21. However, in the case of an inner lead having a narrow pitch corresponding to a large number of pins, both the lead width and the lead thickness are reduced, so that the rigidity is reduced. Therefore, errors may occur during initial relative position setting due to deformation due to contact with dummy bumps or subtle lead deformation that the TAB tape has from the beginning, and the overall positioning accuracy may decrease. is there. On the other hand, unlike the connection inner lead 3, the dummy inner lead 24 according to the present embodiment has no particular limitation on the pitch, width, and thickness, and is required to prevent deformation due to contact with the dummy bump. Can provide rigidity. As a result, in this embodiment, the positioning accuracy can be further improved than in the first embodiment.
【0036】これまでの第1及び第2の実施例では、ダ
ミーバンプ21の高さを接続バンプ1より高くしてい
た。このことによってバンプの形成工程が従来より複雑
になるものの、ダミーバンプとインナーリード(又は、
ダミーインナーリード)とを接触させるためのボンディ
ングステージの運動としては水平運動のみで良いので、
従来のボンディングステージの機構をそのまま用いるこ
とができるという利点がある。これに対して、ダミーバ
ンプの高さと接続バンプの高さとを同じくすることもで
きる。その場合には、ボンディングステージの水平移動
に加えて、昇降動作を加える。すなわち、ボンディング
ステージをバンプ(ダミーバンプ)とインナーリード
(ダミーインナーリード)とが接触しない高さにまで下
げてから、X軸(Y軸)方向の水平移動を行い、再度、
ボンディングステージを、バンプとインナーリードとが
接触する高さにまで上げる。この水平移動、昇降を繰返
すことによって、ダミーバンプと接続バンプとの高さが
等しく場合でも、インナーリードの変形なしに高精度な
位置合せが可能である。In the first and second embodiments, the height of the dummy bumps 21 is higher than that of the connection bumps 1. This makes the bump formation process more complicated than before, but the dummy bumps and inner leads (or
Since only horizontal movement is required for the movement of the bonding stage to make contact with the dummy inner lead),
There is an advantage that the mechanism of the conventional bonding stage can be used as it is. On the other hand, the height of the dummy bumps and the height of the connection bumps can be the same. In that case, in addition to the horizontal movement of the bonding stage, an elevating operation is performed. That is, after lowering the bonding stage to a height at which the bump (dummy bump) and the inner lead (dummy inner lead) do not come into contact with each other, the bonding stage is horizontally moved in the X-axis (Y-axis) direction, and again.
Raise the bonding stage to a level where the bumps and the inner leads come into contact. By repeating this horizontal movement and ascending / descending, even if the height of the dummy bumps and the height of the connection bumps are equal, high-accuracy alignment can be performed without deformation of the inner leads.
【0037】尚、これまでの説明から、本発明が正方形
のチップにも長方形のチップにも適用可能なことは明ら
かであろう。It should be apparent from the above description that the present invention can be applied to a square chip and a rectangular chip.
【0038】[0038]
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、TAB
LSI製造におけるインナーリードボンディング工程で
の位置合せの際に、先ず始めに、チップとTABテープ
の配置が予め決めておいた相対位置となるように、しか
も、そのときのそれぞれの配置がチップとTABテープ
とだけで直接的にきまるようにしている。その初期の相
対位置の設定に当っては、チップに設けた位置合せ専用
のダミーバンプとTABテープの(ダミー)インナーリ
ードとが接触したことを、電気的に検出することによっ
て、チップとTABテープとが所定の相対位置に配置さ
れたことを検出している。As described above, according to the present invention, TAB
At the time of the alignment in the inner lead bonding step in LSI manufacturing, first, the arrangement of the chip and the TAB tape is set to a predetermined relative position. It works directly with the tape alone. In setting the initial relative position, the chip and the TAB tape are electrically connected to each other by electrically detecting the contact between the dummy bump dedicated to alignment provided on the chip and the (dummy) inner lead of the TAB tape. Is detected at a predetermined relative position.
【0039】これにより、本発明によれば、チップ及び
TABテープの当初の位置を検出するときの誤差に起因
する位置合せ精度の低下を防止することができる。しか
も、光によるパターン認識技術を用いる従来の位置合せ
方法とは異って、インナーリードボンダーへのティーチ
ング時の誤差による位置合せ精度の低下がない。パター
ン認識技術を用いた従来の位置合せ方法で、その位置合
せ精度を高めるには、製造設備の性能向上や工程管理の
高度化など、非常に多大の投資が必要とされるが、本発
明によれば、位置合せ精度を容易に高めることができ
る。Thus, according to the present invention, it is possible to prevent a decrease in alignment accuracy due to an error in detecting the initial positions of the chip and the TAB tape. In addition, unlike the conventional alignment method using a pattern recognition technique using light, there is no reduction in alignment accuracy due to an error at the time of teaching to the inner lead bonder. In order to increase the alignment accuracy by the conventional alignment method using pattern recognition technology, a very large investment such as improvement of the performance of manufacturing equipment and advancement of process management is required. According to this, the alignment accuracy can be easily increased.
【図1】本発明の第1の実施例において、チップをTA
Bテープのデバイスホール内に配置し、粗く位置合せし
たときの状態を示す模式的平面図及び模式的断面図であ
る。FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
It is the schematic top view and schematic cross section which show the state at the time of arrange | positioning in the device hole of B tape and roughly aligning.
【図2】本発明の第1の実施例の製造方法を工程順に説
明するための模式的平面図であって、図1に示す工程以
降の工程に関する図である。FIG. 2 is a schematic plan view for explaining a manufacturing method according to a first embodiment of the present invention in the order of steps, and is a view related to steps after the step shown in FIG.
【図3】TABテープのインナーリードに設けられたテ
ストパッドを示す模式的斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view showing a test pad provided on an inner lead of a TAB tape.
【図4】本発明の第1の実施例に用いたボンダーにおけ
るテープクランパーの構造を示す模式的切欠き斜視図で
ある。FIG. 4 is a schematic cutaway perspective view showing the structure of a tape clamper in the bonder used in the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第1の実施例において、X軸方向の位
置合せが完了したときの状態を示す模式的平面図であ
る。FIG. 5 is a schematic plan view showing a state when alignment in the X-axis direction is completed in the first embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第2の実施例において、X軸方向及び
Y軸方向の位置合せが完了した状態を示す模式的平面図
である。FIG. 6 is a schematic plan view showing a state where alignment in the X-axis direction and the Y-axis direction has been completed in the second embodiment of the present invention.
【図7】従来のTABLSIの製造に用いられるチップ
の平面図及び、チップをTABテープのデバイスホール
内に配置したときの状態を示す模式的平面図である。7A and 7B are a plan view of a chip used for manufacturing a conventional TABLSI and a schematic plan view showing a state when the chip is arranged in a device hole of a TAB tape.
1 接続バンプ 2 デバイスホール 3,3AL,3AR,3CL,3CR インナーリード 4 ボンディングステージ 5 テストパッド 6 ポゴピン 10,20 チップ 11,13 合せマーク 12,22 TABテープ 21,21AL,21AR,21CL,21CR ダミーバン
プ 23 テープクランパー 24 ダミーインナーリードDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Connection bump 2 Device hole 3, 3 AL , 3 AR , 3 CL , 3 CR inner lead 4 Bonding stage 5 Test pad 6 Pogo pin 10, 20 Chip 11, 13 Alignment mark 12, 22 TAB tape 21, 21 AL , 21 AR , 21 CL , 21 CR dummy bump 23 tape clamper 24 dummy inner lead
Claims (7)
であって、半導体チップとTABテープとを相対移動さ
せて前記半導体チップ上のバンプと前記TABテープの
インナーリードとを位置合せする工程と、前記バンプと
前記インナーリードとを電気的に固着接続するボンディ
ング工程とを含む半導体装置の製造方法において、前記
位置合せ工程では、 前記半導体チップ上に設けた位置決め用部材と前記TA
Bテープに設けた位置決め用部材とを接触させることに
よって直接的に定まる半導体チップとTABテープとの
初期相対位置を移動量決定の基準位置とした後、前記半
導体チップと前記TABテープとをボンディング時の位
置へ相対移動させることを特徴とする半導体装置の製造
方法。1. A method of manufacturing a TAB type semiconductor device, comprising: a step of relatively moving a semiconductor chip and a TAB tape to align a bump on the semiconductor chip with an inner lead of the TAB tape; In a method for manufacturing a semiconductor device, the method further comprising: a bonding step of electrically fixing and connecting the bump and the inner lead. In the alignment step, the positioning member provided on the semiconductor chip and the TA
The initial relative position between the semiconductor chip and the TAB tape, which is directly determined by contacting the positioning member provided on the B tape, is used as a reference position for determining the movement amount, and then the semiconductor chip and the TAB tape are bonded. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising:
おいて、 半導体チップの形状が直角平行四辺形であるとき、その
半導体チップの縦方向及び横方向のそれぞれについて、
前記初期相対位置の設定と前記ボンディング時の位置へ
の相対移動とを実行することを特徴とする半導体装置の
製造方法。2. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein when the shape of the semiconductor chip is a right-angled parallelogram, the semiconductor chip has a vertical direction and a horizontal direction.
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: setting the initial relative position and performing relative movement to a position at the time of bonding.
おいて、 前記半導体チップ上に設ける位置決め用部材として、チ
ップの面上に設けた位置合せ専用の導電性のダミーバン
プを用い、前記TABテープに設ける位置決め用部材と
して、前記インナーリードを用い、 前記ダミーバンプと前記インナーリードとが接触したこ
とを、前記ダミーダンプと前記インナーリードとの間の
電気的導通の有無によって、電気的に検出することを特
徴とする半導体装置の製造方法。3. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 2, wherein a conductive dummy bump dedicated to positioning provided on a surface of the chip is used as a positioning member provided on the semiconductor chip. Using the inner lead as a positioning member to be provided, that the dummy bump and the inner lead are in contact with each other is electrically detected by the presence or absence of electrical conduction between the dummy dump and the inner lead. A method for manufacturing a semiconductor device.
おいて、 前記TABテープに設ける位置決め用部材として前記イ
ンナーリードを用いるのに代えて、 TABテープのデバイスホールに突出するように設け
た、位置合せ専用の導電性のダミーインナーリードを用
いることを特徴とする半導体装置の製造方法。4. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein the inner lead is provided so as to protrude into a device hole of the TAB tape, instead of using the inner lead as a positioning member provided on the TAB tape. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising using a conductive dummy inner lead dedicated to alignment.
の製造方法に用いる半導体チップであって、チップの四
辺のそれぞれに少くとも一つ以上の前記ダミーバンプを
備えると共に、 それぞれのダミーバンプは、前記チップの互いに対向す
る辺に配置されたダミーバンプどうしが一つずつ対を成
すように組合され、少なくともそれら対を成すダミーバ
ンプどうしがチップ上に設けられた配線により電気的に
短絡された構造であることを特徴とする半導体チップ。5. A semiconductor chip used in the method of manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein at least one or more of the dummy bumps are provided on each of four sides of the chip, and each of the dummy bumps is Dummy bumps arranged on opposing sides of the chip are combined so as to form one pair at a time, and at least the dummy bumps forming the pair are electrically short-circuited by wiring provided on the chip. A semiconductor chip characterized by the above-mentioned.
用いるTABテープであって、デバイスホールの四辺の
それぞれに少くとも一つ以上の前記ダミーインナーリー
ドを設けたことを特徴とするTABテープ。6. A TAB tape used in the method of manufacturing a semiconductor device according to claim 4, wherein at least one or more of the dummy inner leads are provided on each of four sides of a device hole. .
の製造方法に用いるインナーリードボンダーであって、
前記TABテープを固定するテープクランパーが、前記
ダミーチップに接触するインナーリードのテストパッド
部又は前記ダミーインナーリードのテストパッド部に当
接するポゴピンを内蔵することを特徴とするインナーリ
ードボンダー。7. An inner lead bonder used in the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 3 or 4, wherein:
An inner lead bonder, wherein the tape clamper for fixing the TAB tape includes a test pad portion of the inner lead that contacts the dummy chip or a pogo pin that contacts the test pad portion of the dummy inner lead.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5343694A JP2661540B2 (en) | 1994-03-24 | 1994-03-24 | Semiconductor chip, TAB tape, inner lead bonder, and method of manufacturing semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5343694A JP2661540B2 (en) | 1994-03-24 | 1994-03-24 | Semiconductor chip, TAB tape, inner lead bonder, and method of manufacturing semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07263488A JPH07263488A (en) | 1995-10-13 |
| JP2661540B2 true JP2661540B2 (en) | 1997-10-08 |
Family
ID=12942802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5343694A Expired - Lifetime JP2661540B2 (en) | 1994-03-24 | 1994-03-24 | Semiconductor chip, TAB tape, inner lead bonder, and method of manufacturing semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2661540B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1994
- 1994-03-24 JP JP5343694A patent/JP2661540B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07263488A (en) | 1995-10-13 |
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