Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP2770664B2 - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP2770664B2 - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents

Semiconductor device and manufacturing method thereof

Info

Publication number
JP2770664B2
JP2770664B2 JP20864292A JP20864292A JP2770664B2 JP 2770664 B2 JP2770664 B2 JP 2770664B2 JP 20864292 A JP20864292 A JP 20864292A JP 20864292 A JP20864292 A JP 20864292A JP 2770664 B2 JP2770664 B2 JP 2770664B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
substrate
semiconductor device
heat sink
tab
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP20864292A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0661299A (en
Inventor
充男 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP20864292A priority Critical patent/JP2770664B2/en
Publication of JPH0661299A publication Critical patent/JPH0661299A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2770664B2 publication Critical patent/JP2770664B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置及びその製造
方法に関し、特に高密度実装かつ低熱抵抗の半導体装置
及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a semiconductor device with high density mounting and low thermal resistance and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は従来の半導体装置を示す断面図で
あり、図4において半導体チップ1はAgペースト等の
接着剤2を介して放熱板兼キャップ16に接合され、該
キャップと基板4はシーム溶接により気密封止してい
る。また、前記半導体チップ1と前記基板4とはシリコ
ンゴム17により相対的位置決めを行ないTAB5によ
り電気的に接続している。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a sectional view showing a conventional semiconductor device. In FIG. 4, a semiconductor chip 1 is bonded to a heat sink / cap 16 via an adhesive 2 such as Ag paste. Are hermetically sealed by seam welding. The semiconductor chip 1 and the substrate 4 are relatively positioned by a silicon rubber 17 and are electrically connected by a TAB 5.

【0003】次にこの構造の半導体装置を製造する製造
方法について説明する。
Next, a method of manufacturing a semiconductor device having this structure will be described.

【0004】まず、半導体チップにTAB5を接続す
る。次にTAB5の外部リード部を適切な長さに切断
し、中央に半導体チップより小さいサイズのシリコンゴ
ム17を接着した基板4の内部端子11にTAB接続す
る。このときシリコンゴムの厚さにより半導体チップの
高さ方向の位置決めを行なう。
First, a TAB 5 is connected to a semiconductor chip. Next, the external lead portion of the TAB 5 is cut to an appropriate length, and is TAB-connected to the internal terminal 11 of the substrate 4 to which a silicon rubber 17 smaller than the semiconductor chip is adhered at the center. At this time, the height of the semiconductor chip is determined in accordance with the thickness of the silicon rubber.

【0005】次に、半導体チップ1の裏面にAgペース
トを塗布し、キャップ兼放熱板16をかぶせ半導体チッ
プとキャップを接続する。Agペーストが硬化した後、
キャップの外周と基板上のシーリング15との間でシー
ム溶接にて封止して半導体装置を得ていた。
Next, an Ag paste is applied to the back surface of the semiconductor chip 1 and a cap / heat radiating plate 16 is put on the paste to connect the semiconductor chip and the cap. After the Ag paste has cured,
A semiconductor device is obtained by sealing between the outer periphery of the cap and the ceiling 15 on the substrate by seam welding.

【0006】また、半導体装置内にチップコン等の機能
部品を搭載する場合は、基板4に機能部品塔載用凹部1
9を設け、機能部品13を搭載していた。
When a functional component such as a chip capacitor is mounted in a semiconductor device, the substrate 4 has a concave portion 1 for mounting the functional component.
9 and the functional component 13 was mounted.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置にお
いて、半導体チップで裏面→Agペースト→キャップと
いう経路で放熱している。従来の半導体装置ではTAB
リードとシリコンゴムで支持された半導体チップとキャ
ップ兼放熱板を接続することになるが、その際に、半導
体チップの傾きやシリコンゴムの厚さ及び基板への接着
状態による半導体チップ裏面高さのばらつきを生じるた
め、半導体チップとキャップ兼放熱板の接着剤であるA
gペーストの接着後の厚さにばらつきを生じる。また
は、ボイド、剥離を生じる等半導体チップとキャップ兼
放熱板との接着が不完全になるため熱抵抗が大きくな
り、動作時の半導体チップの温度が上昇し、半導体装置
が動作しなくなるとか、または半導体チップが破壊に至
るという不具合が有った。
SUMMARY OF THE INVENTION In a conventional semiconductor device, heat is radiated from a semiconductor chip through a back surface → Ag paste → cap. TAB in conventional semiconductor devices
The semiconductor chip supported by the lead and the silicon rubber is connected to the cap and heat radiating plate. At this time, the height of the back surface of the semiconductor chip depends on the inclination of the semiconductor chip, the thickness of the silicon rubber, and the state of adhesion to the substrate. Due to the variation, the adhesive A between the semiconductor chip and the cap / radiator plate
The thickness of the g paste after bonding varies. Or, the bonding between the semiconductor chip and the cap / radiator plate may be incomplete due to voids, peeling, and the like, so that the thermal resistance increases, the temperature of the semiconductor chip during operation increases, and the semiconductor device stops operating, or There was a problem that the semiconductor chip was destroyed.

【0008】本発明の目的は、高密度実装で、かつ低熱
抵抗の半導体装置およびその製造方法を提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor device having high-density mounting and low thermal resistance, and a method of manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明の半
導体装置は、従来の半導体装置におけるキャップ兼放熱
板を放熱板とリング状キャップに分割し半導体チップを
接着している放熱板の外径より半導体装置と基板の内部
端子とを電気的に接続するTAB電極の端子列間の利距
離が大きくかつ、封止用キャップがリング状であること
を特徴として構成される。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device according to the present invention, wherein a cap / heat radiator is divided into a heat radiator and a ring-shaped cap and a semiconductor chip is bonded. The configuration is characterized in that the distance between the terminal rows of the TAB electrodes for electrically connecting the semiconductor device and the internal terminals of the substrate is larger than the outer diameter, and that the sealing cap is ring-shaped.

【0010】また、本発明の第2の発明の半導体装置の
製造方法は、半導体チップを放熱板に確実に接着した後
に、半導体チップと基板を電気的に接続し、その後リン
グ状キャップを被せ機密封止するということを特徴とし
て構成される。
According to a second aspect of the present invention, in a method of manufacturing a semiconductor device, the semiconductor chip and the substrate are electrically connected to each other after the semiconductor chip is securely bonded to the heat sink, and then the ring-shaped cap is placed thereon. It is characterized by hermetically sealing.

【0011】[0011]

【作用】基板と接続するための電極端子列間距離が放熱
板の外形よりも大きいために、半導体チップを放熱板に
確実に接着した後に半導体チップと基板の接続が可能に
なり、所望の電気特性及び熱抵抗が再現性良く得ること
ができる。
Since the distance between the electrode terminal rows for connection to the substrate is larger than the outer shape of the heat sink, the semiconductor chip can be connected to the substrate after the semiconductor chip is securely bonded to the heat sink, and the desired electric power can be obtained. Characteristics and thermal resistance can be obtained with good reproducibility.

【0012】[0012]

【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0013】図1は本発明の一実施例の半導体装置の断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor device according to one embodiment of the present invention.

【0014】図において、半導体チップ1は熱伝導性の
良好な接着剤2を介して放熱板3に接合されている。こ
の放熱板3は例えばAlNセラミックのような熱伝導の
良好な材料よりなり、半導体チップ搭載用凹部7及びシ
ーム溶接用のシールリング8及びその四隅に基板4への
取付け用脚部9を備える。該脚部の先端に高さ調節用ス
ペーサ10を備える。
In FIG. 1, a semiconductor chip 1 is joined to a heat sink 3 via an adhesive 2 having good thermal conductivity. The heat radiating plate 3 is made of a material having good heat conductivity such as AlN ceramic, and has a recess 7 for mounting a semiconductor chip, a seal ring 8 for seam welding, and legs 9 for attachment to the substrate 4 at four corners thereof. A height adjusting spacer 10 is provided at the tip of the leg.

【0015】また半導体チップ1と基板4との電気的接
続はTAB5により行ない、該基板4は例えばAl2
3 の積層セラミック多層配線基板により形成され内部端
子11と外部端子12の接続及びチップコンデンサ等機
能部品13の搭載も部品搭載用凹部を形成する複雑な構
造にすることなしに可能である。
Electrical connection between the semiconductor chip 1 and the substrate 4 is made by TAB 5, and the substrate 4 is made of, for example, Al 2 O.
The connection between the internal terminal 11 and the external terminal 12 and the mounting of the functional component 13 such as a chip capacitor, which are formed by the three laminated ceramic multilayer wiring boards, are also possible without a complicated structure for forming the component mounting recess.

【0016】さらに、本実施例の半導体装置はリング状
キャップ6を用い、内周、外周をシーム溶接により機密
封止する。
Further, the semiconductor device of this embodiment uses the ring-shaped cap 6 and hermetically seals the inner and outer circumferences by seam welding.

【0017】上述のごとき構成の半導体装置の製造方法
を図2を用いて説明する。
A method of manufacturing the semiconductor device having the above-described structure will be described with reference to FIG.

【0018】まず、半導体チップ1を放熱板3に接着剤
2を介してダイマウントする。ここで接着剤2はAgペ
ースト等の熱伝導の良い接着剤を使用すると良い。この
状態が図2(a)である。このダイマウント工程は従来
半導体装置におけるリードフレームまたはセラミックケ
ースへのダイマウント技術で実現可能なため確実な接着
と放熱経路の確保が可能である。従来の半導体装置では
接着剤の厚さは30〜100μmとばらつきが大きいが
20+15〜20−5μmを実現している。
First, the semiconductor chip 1 is die-mounted on the heat sink 3 via the adhesive 2. Here, the adhesive 2 is preferably an adhesive having good heat conductivity such as an Ag paste. This state is shown in FIG. Since this die mounting process can be realized by a conventional die mounting technology for a lead frame or a ceramic case in a semiconductor device, it is possible to secure a reliable bonding and a heat radiation path. In the conventional semiconductor device, the thickness of the adhesive has a large variation of 30 to 100 μm, but realizes 20 + 15 to 20-5 μm.

【0019】次に、半導体チップ1のバンプ18にTA
B5の内部端子を接続し、TABのサスペンダ部14を
放熱板3へ接続した後にTAB5の外部端子形成を行な
う。この状態が図2(b)である。放熱板3の半導体チ
ップ搭載用凹部7の堀込み量はTAB5のサスペンダ部
14を放熱板3へ接着したときにバンプ18からサスペ
ンダ部14までのTABリードは半導体チップ1の表面
と水平となる様に設定する。例えば、半導体チップ厚T
c=400μm、TAB5のサスペンダ厚Ts=200
μmとすと掘込量は接着剤2の厚さとバンプ18の高さ
を合計100μmとすると掘り込み深さHは、H=Tc
−Ts+100=300(μm)程度が適当である。
Next, the bump 18 of the semiconductor chip 1
After connecting the internal terminals of B5 and connecting the suspender section 14 of TAB to the heat sink 3, external terminals of TAB5 are formed. This state is shown in FIG. The depth of the recess 7 for mounting the semiconductor chip of the heat sink 3 is such that the TAB lead from the bump 18 to the suspender 14 is horizontal with the surface of the semiconductor chip 1 when the suspender 14 of the TAB 5 is bonded to the heat sink 3. Set to. For example, the semiconductor chip thickness T
c = 400 μm, TAB5 suspender thickness Ts = 200
When the thickness of the adhesive 2 and the height of the bump 18 are 100 μm in total, the digging depth H is H = Tc.
It is appropriate that −Ts + 100 = 300 (μm).

【0020】次に、放熱板3を支持し基板4の内部端子
11とTAB5の外部端子とを位置合わせを行ない接続
し、放熱板の脚部9を基板4へ固定する。この状態が図
2(c)である。ここでTAB5の外部端子列間距離
(eL )が放熱板3の外形(eH )よりも大きいため、
放熱板3を支持して従来のTAB実装の技術で基板4へ
の接続が可能である。またTAB5のサスペンダ部14
を固定しているため、バンプ18にかかる応力が緩和で
き、TAB接続が不完全になることを防ぐ。
Next, the heat sink 3 is supported, the internal terminals 11 of the board 4 and the external terminals of the TAB 5 are aligned and connected, and the legs 9 of the heat sink are fixed to the board 4. This state is shown in FIG. Here, since the distance (e L ) between the external terminal rows of the TAB 5 is larger than the outer shape (e H ) of the heat sink 3,
The heat sink 3 is supported and can be connected to the substrate 4 by a conventional TAB mounting technique. Also, the suspender section 14 of TAB5
Is fixed, the stress applied to the bump 18 can be reduced, and the TAB connection is prevented from being incomplete.

【0021】次にリング状キャップ6を被せシーリング
8とシーム溶接する。
Next, the ring-shaped cap 6 is covered and seam-welded to the ceiling 8.

【0022】次にリング状キャップ6とシーリング15
をシーム溶接する。ここでリング状キャップ6とシーリ
ング15の高さ方向の位置のばらつきを高さ調整用スペ
ーサ10で吸収し封止することが可能である。例えば高
さ調整用スペーサ10はシリコンゴム等の400℃程度
の耐熱性と柔軟性を持った素材を使用する。
Next, the ring-shaped cap 6 and the sealing 15
Seam welding. Here, it is possible to absorb the variation in the position of the ring-shaped cap 6 and the sealing 15 in the height direction with the height adjusting spacer 10 and to seal it. For example, the height adjusting spacer 10 is made of a material having heat resistance and flexibility of about 400 ° C. such as silicon rubber.

【0023】以上の製造工程により本実施例の半導体装
置を得る。
The semiconductor device of this embodiment is obtained by the above-described manufacturing steps.

【0024】図3は本発明の第2の実施例を示す断面図
である。
FIG. 3 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention.

【0025】図において、半導体チップ1は熱伝導性の
良好な接着剤2を介して放熱板3に接合されている。こ
の放熱板3は例えばAlNセラミックのような熱伝導の
良好な材料よりなり、半導体チップ搭載用凹部7及びロ
ー付け封着用のAuまたはSnまたは半田のメッキパタ
ーン20及び基板4への取付け用脚部9を備える。
In the figure, a semiconductor chip 1 is joined to a heat sink 3 via an adhesive 2 having good thermal conductivity. The heat radiating plate 3 is made of a material having good thermal conductivity, such as AlN ceramic, and has a concave portion 7 for mounting a semiconductor chip, an Au or Sn or solder plating pattern 20 for brazing and sealing, and a leg portion for attaching to the substrate 4. 9 is provided.

【0026】また、半導体チップ1と基板4との電気的
接続はTAB5により行ない、該基板4は例えばAl2
3 の積層セラミック多層配線基板により形成され内部
端子11と外部端子12の接続及びチップコンデンサ等
機能部品13の搭載も可能であり、内部端子11と同一
面の外周部にロー付け封着用のAuまたはSnまたは半
田のメッキパターン21を備える。
The electrical connection between the semiconductor chip 1 and the substrate 4 is made by TAB 5, and the substrate 4 is made of, for example, Al 2
It is possible to connect the internal terminal 11 to the external terminal 12 and mount the functional component 13 such as a chip capacitor, which is formed of an O 3 laminated ceramic multilayer wiring board. Alternatively, a plating pattern 21 of Sn or solder is provided.

【0027】さらに、本実施例の半導体装置はリング状
キャップ6を用い内周及び外周を半田等の低融点金属ロ
ー材22,23によりロー付け封着する。
Further, in the semiconductor device of this embodiment, the inner periphery and the outer periphery are brazed and sealed with low-melting metal brazing materials 22 and 23 such as solder using the ring-shaped cap 6.

【0028】上述のごとき構成の半導体装置の製造方法
を説明する。
A method of manufacturing the semiconductor device having the above-described configuration will be described.

【0029】半導体チップ1のダイマウント工程から放
熱板3の基板4への取り付け及び、TAB5の外部端子
を基板の内部端子11へ接続するまでは第一の実施例と
同一の製造方法で製造する。
The semiconductor chip 1 is manufactured by the same manufacturing method as in the first embodiment from the die mounting step to the attachment of the heat sink 3 to the substrate 4 and the connection of the external terminals of the TAB 5 to the internal terminals 11 of the substrate. .

【0030】次に、メッキパターン20の上に低融点金
属22を配しまたメッキパターン21上に低融点金属2
3を配した後リング状キャップ6を被せ半導体装置全体
を加熱することによりロー付け封止する。このときリン
グ状キャップ6内周部とメッキパターン20同様にリン
グ状キャップ6の外周部とメッキパターン21の高さ方
向の位置のばらつきは、低融点金属の厚みにより吸収す
る。
Next, a low melting point metal 22 is disposed on the plating pattern 20 and a low melting point metal
After disposing 3, a ring-shaped cap 6 is put on and the whole semiconductor device is heated and sealed by brazing. At this time, similarly to the inner peripheral portion of the ring-shaped cap 6 and the plating pattern 20, the variation in the position in the height direction between the outer peripheral portion of the ring-shaped cap 6 and the plating pattern 21 is absorbed by the thickness of the low melting point metal.

【0031】以上の製造工程により本実施例の半導体装
置を得る。
The semiconductor device of the present embodiment is obtained by the above manufacturing steps.

【0032】本実施例の半導体装置は第1の実施例に比
較し、高さ調整用スペーサが無いため構造が単純とな
る。さらにリング状キャップ6の封止は第1の実施例で
は内周、外周を別々にシーム溶接するため2工程必要と
なるが、本実施例では1工程で封止が完了するため本実
施例は工程の短縮が可能である。
The structure of the semiconductor device of this embodiment is simpler than that of the first embodiment because there is no spacer for height adjustment. Furthermore, in the first embodiment, the sealing of the ring-shaped cap 6 requires two steps for separately seam-welding the inner circumference and the outer circumference. However, in the present embodiment, the sealing is completed in one step. The process can be shortened.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明した様に本発明は、半導体チッ
プと放熱板を従来技術により確実に接合し、前記半導体
チップで発する熱の放熱経路を安定的に確保した後前記
半導体チップと基板とを電気的に接続及び機密封止が可
能なため、放熱性能が高くしかも均一な半導体装置を容
易に実現できるという効果を有する。
As described above, according to the present invention, the semiconductor chip and the heat radiating plate are securely joined by the prior art, and the heat radiating path of the heat generated by the semiconductor chip is stably secured. Since the semiconductor device can be electrically connected and sealed, it is possible to easily realize a uniform semiconductor device having high heat radiation performance.

【0034】また、半導体チップ位置決めのシリコンゴ
ムを使用しないことにより、その分空間ができその空間
を利用し、チップコンデンサ等の機能部品を搭載可能で
あるため機能部品搭載用凹部を持たない単純な構造の基
板を使用できるため部品コストが低減できかつ、半導体
装置全体が高密度化できるという効果を有する。
In addition, since the silicon rubber for positioning the semiconductor chip is not used, a space corresponding to the silicon rubber is created, and the space can be used to mount a functional component such as a chip capacitor. Since a substrate having a structure can be used, parts costs can be reduced, and the entire semiconductor device can be densified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例の各組立工程における断面図
である。
FIG. 2 is a cross-sectional view in each assembly process of one embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施例の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a second embodiment of the present invention.

【図4】従来の半導体装置の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 接着剤 3 放熱板 4 基板 5 TAB 6 キャップ 7 半導チップ搭載用凹部 8 シールリング 9 脚部 10 高さ調整用スペーサ 11 内部端子 12 外部端子 13 機能部品 14 TABサスペンダ 15 シールリング 16 放熱板兼キャップ 17 シリコンゴム 18 バンプ 19 機能部品搭載用凹部 20 メッキパターン 21 メッキパターン 22 ロー材 23 ロー材 eL 外部端子列間距離 eH 放熱板の外形DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 2 Adhesive 3 Heat sink 4 Substrate 5 TAB 6 Cap 7 Semiconductor chip mounting recess 8 Seal ring 9 Leg 10 Height adjustment spacer 11 Internal terminal 12 External terminal 13 Functional component 14 TAB suspender 15 Seal ring 16 Heat sink and cap 17 Silicon rubber 18 Bump 19 Depression for mounting functional components 20 Plating pattern 21 Plating pattern 22 Row material 23 Row material e L Distance between external terminal rows e H External shape of heat sink

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板と、前記基板とTAB接続された半
導体チップと、前記半導体チップの一方向に接合された
放熱板と、前記半導体チップを覆うように前記基板に取
り付けられたリング状キャップを備えた半導体装置につ
いて、前記放熱板の外形が前記TABの外部端子列間距
離よりも小さく、かつ、前記放熱板として熱伝導性がア
ルミナセラミックスに比較し良好な金属またはセラミッ
クスを用い、かつ該放熱板の前記半導体チップの搭載面
の四隅に脚部を有することを特徴とする半導体装置。
1. A substrate, a semiconductor chip TAB-connected to the substrate, a radiator plate joined in one direction of the semiconductor chip, and a ring-shaped cap attached to the substrate so as to cover the semiconductor chip. In the semiconductor device, the outer shape of the heat radiating plate is smaller than the distance between the external terminal rows of the TAB, and the heat radiating plate is made of a metal or ceramic having better heat conductivity than alumina ceramics. A semiconductor device having legs at four corners of a mounting surface of the plate on which the semiconductor chip is mounted.
【請求項2】 前記放熱板の半導体チップの搭載面に半
導体チップ搭載用凹部を有し、該放熱板の凹部に半導体
チップを搭載しかつ凸部にTABのサスペンダを接着す
ることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
2. A heat sink having a semiconductor chip mounting concave portion on a semiconductor chip mounting surface, a semiconductor chip mounted in the concave portion of the heat sink, and a TAB suspender bonded to the convex portion. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項3】 前記放熱板として熱伝導がアルミナセラ
ミックよりも良好な金属またはセラミックスを用い、か
つ該放熱板の半導体チップ搭載面の四隅に脚部を持ち、
該脚部に高さ調整用スペーサを有することを特徴とする
請求項1及び請求項2記載の半導体装置。
3. A heat radiating plate made of metal or ceramics having better heat conduction than alumina ceramic, and having legs at four corners of a semiconductor chip mounting surface of the heat radiating plate.
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein said leg has a height adjusting spacer.
【請求項4】 基板と、前記基板とTAB接続された半
導体チップと、前記半導体チップの一方向に接合された
放熱板と、前記半導体チップを覆うように前記基板に取
り付けられたリング状キャップと備えた、半導体装置の
製造方法において、前記半導体チップを放熱板に接着す
る工程と、前記放熱板に接続された半導体チップと基板
をTABにより電気的に接続する工程と、前記リング状
キャップを前記放熱板上に被せ、前記リング状キャップ
の両端面をシールリングを介してシーム溶接し気密封止
する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造
方法。
4. A substrate, a semiconductor chip TAB-connected to the substrate, a heat sink joined in one direction to the semiconductor chip, and a ring-shaped cap attached to the substrate so as to cover the semiconductor chip. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of bonding the semiconductor chip to a heat sink; a step of electrically connecting a semiconductor chip and a substrate connected to the heat sink by TAB; A step of covering the heat sink with a heat sink and seam-welding both end faces of the ring-shaped cap through a seal ring to hermetically seal the semiconductor device.
JP20864292A 1992-08-05 1992-08-05 Semiconductor device and manufacturing method thereof Expired - Lifetime JP2770664B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20864292A JP2770664B2 (en) 1992-08-05 1992-08-05 Semiconductor device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20864292A JP2770664B2 (en) 1992-08-05 1992-08-05 Semiconductor device and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0661299A JPH0661299A (en) 1994-03-04
JP2770664B2 true JP2770664B2 (en) 1998-07-02

Family

ID=16559627

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20864292A Expired - Lifetime JP2770664B2 (en) 1992-08-05 1992-08-05 Semiconductor device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2770664B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100356801B1 (en) * 2000-10-06 2002-10-18 주식회사 하이닉스반도체 Stack type chip scale package and method for fabricating the same
CN106211555A (en) * 2016-07-28 2016-12-07 广东欧珀移动通信有限公司 Circuit board and mobile terminal with same

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0661299A (en) 1994-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3009788B2 (en) Package for integrated circuit
JPH11195680A (en) Semiconductor device connection structure and connection method
US5193053A (en) Plastic packaged semiconductor device
JP2725448B2 (en) Semiconductor device
JP2770664B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JPH01168045A (en) Hermetically sealed circuit device
JP3398295B2 (en) Piezoelectric component and method of manufacturing the same
JP2734381B2 (en) Semiconductor device mounting structure and method of manufacturing the same
JP3556567B2 (en) Electronic component storage package
JP2014017726A (en) Surface mounting crystal oscillator and mounting method of the same
JP4614594B2 (en) Electronic component storage package
JPH05315467A (en) Hybrid integrated circuit device
JPH09129823A (en) Semiconductor device
JPH0661368A (en) Flip chip type semiconductor device
JP4562301B2 (en) Electronic component storage package
JPS61198656A (en) Semiconductor device
JP2712461B2 (en) Semiconductor device container
JPH0810737B2 (en) Chip carrier and manufacturing method thereof
JP2985520B2 (en) Ceramic structure for encapsulating semiconductor device, method for producing the same, and lid material therefor
JP3372812B2 (en) Electronic component storage package
JP3510813B2 (en) Hybrid module
JP2739349B2 (en) Substrate for mounting electronic components
JP3420362B2 (en) Semiconductor device mounting structure
JPS58103144A (en) Semiconductor device
JPH08139234A (en) Semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19980317