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JP2829367B2 - Wafer transfer method - Google Patents
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JP2829367B2 - Wafer transfer method - Google Patents

Wafer transfer method

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JP2829367B2
JP2829367B2 JP8080847A JP8084796A JP2829367B2 JP 2829367 B2 JP2829367 B2 JP 2829367B2 JP 8080847 A JP8080847 A JP 8080847A JP 8084796 A JP8084796 A JP 8084796A JP 2829367 B2 JP2829367 B2 JP 2829367B2
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wafers
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cassette
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良二 斉藤
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハ移載方
法、特に半導体製造装置の1つである縦型拡散CVD装
置に於けるウェーハ移載方法に関するものである。
The present invention relates to a wafer transfer method, and more particularly to a wafer transfer method in a vertical diffusion CVD apparatus which is one of semiconductor manufacturing apparatuses.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造装置の1つに縦型CVD装置
がある。
2. Description of the Related Art One of semiconductor manufacturing apparatuses is a vertical CVD apparatus.

【0003】これは、実願昭63−17237号にも見
られる様に、カセットに装填されたウェーハを移載機に
よってボートに移載し、該ボートを炉内の反応室へ装入
して、加熱反応させ、ウェーハ表面に反応膜を生成する
ものである。
As described in Japanese Utility Model Application No. 63-17237, wafers loaded in a cassette are transferred to a boat by a transfer machine, and the boat is loaded into a reaction chamber in a furnace. , Heat reaction to form a reaction film on the wafer surface.

【0004】拡散CVD装置によるウェーハの処理は、
その性格上、常に同一の条件(処理温度、反応室内に供
給する反応ガス流量、反応室圧力、ボート上のウェーハ
枚数、配置等)で行わなければならない。従って、拡散
CVD装置である特定した処理を行なう場合の、ボート
上でのウェーハの配置、枚数は、同一の処理を行う限り
常に同一でなければならない。
[0004] Processing of a wafer by a diffusion CVD apparatus is as follows.
Due to its nature, it must always be performed under the same conditions (processing temperature, reaction gas flow rate supplied into the reaction chamber, reaction chamber pressure, number of wafers on the boat, arrangement, etc.). Therefore, the arrangement and the number of wafers on the boat when performing the specified processing as the diffusion CVD apparatus must always be the same as long as the same processing is performed.

【0005】ところが、拡散CVD装置による処理ウェ
ーハ総枚数は処理工程が進むに従い、処理不良等の原因
で減少し、変動することが多い。この為、ボート上での
ウェーハ配置を所定のものとするには、減少した分のウ
ェーハを補充しなければならない。
However, the total number of wafers processed by the diffusion CVD apparatus often decreases and fluctuates as processing proceeds, due to processing defects and the like. Therefore, in order to arrange the wafers on the boat in a predetermined arrangement, it is necessary to replenish the reduced wafers.

【0006】従来のウェーハ移載機では、ウェーハの総
枚数変動には対応して移載する様になっていないので、
ボートへのウェーハ移載実行前に、作業者がカセット内
のウェーハ枚数を確認し、定められた枚数に対して不足
があれば、不足枚数分のウェーハを手作業でカセットに
補充していた。
In a conventional wafer transfer machine, transfer is not performed in response to a change in the total number of wafers.
Before the transfer of wafers to the boat, the operator checks the number of wafers in the cassette, and if there is a shortage with respect to the predetermined number, the operator manually refills the cassette with the insufficient number of wafers.

【0007】或は、定められた枚数に対して、実際のウ
ェーハ枚数が不足していても、ウェーハを補充すること
はせず、そのままの枚数でボート上に上方から下方に向
って隙間なく、ウェーハを移載し、ボート上のウェーハ
の配置変化に対しては、その他の条件(反応ガス流量、
処理温度、処理時間等)を変更して対応していた。
[0007] Alternatively, even if the actual number of wafers is insufficient with respect to the predetermined number of wafers, the number of wafers is not replenished, and the number of wafers is left as it is on the boat without any gap from above to below. Transfer the wafers and change the arrangement of the wafers on the boat under other conditions (reaction gas flow rate,
(Processing temperature, processing time, etc.).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】然し乍ら、人手作業に
より不足分のウェーハを補充する方法では、ウェーハを
補充する為の人手が必要となり、非能率であると共に処
理工程の自動化(無人化)に対応できなかった。
However, in the method of replenishing a shortage of wafers by manual labor, manual labor for replenishing wafers is required, which is inefficient and copes with automation (unmanned) of processing steps. could not.

【0009】又、ウェーハを補充することなく、他の処
理条件を変更して同一処理を行う方法では、諸条件の変
更量を決定するのが非常に困難で、変更量を決定する
為、事前に何回もの試し処理を必要としてしまう。従っ
て、頻繁に処理ウェーハの枚数が変動した場合、前記変
更量の決定の為に多大な時間を要し、作業者の作業量も
増大し作業者に負担をかけると共に製品の生産性の面で
も問題があった。
Further, in a method in which another processing condition is changed and the same processing is performed without replenishing the wafer, it is very difficult to determine the amount of change in various conditions. Requires many trial processes. Therefore, when the number of processed wafers fluctuates frequently, a large amount of time is required to determine the change amount, the work amount of the worker increases, and a burden is imposed on the worker, and also in terms of product productivity. There was a problem.

【0010】本発明は、上記実情に鑑みウェーハの枚数
が変動した場合に、その変動分を補充しつつウェーハの
移載を行い得るウェーハ移載方法を提供しようとするも
のである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a wafer transfer method capable of transferring a wafer while replenishing the change when the number of wafers changes.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、ウェーハが装
填された複数のカセットと、ウェーハを所定の間隔をも
ってウェーハの水平面に対して垂直方向に複数枚保持す
るボートとを有し、反応室内に該ウェーハを保持したボ
ートを装入し、該反応室内に反応ガスを供給し、加熱し
てウェーハに所定の処理を行う装置に於けるカセットか
ら該ボートへのウェーハ移載方法に於いて、予め設定さ
れたボート内での製品ウェーハ、モニタウェーハの配列
となる様、ボート上での製品ウェーハ不足分については
ダミーウェーハで補充しつつ移載を行うウェーハ移載方
法に係り、更に又予め設定したボート内での製品ウェー
ハ、モニタウェーハの配列となる様、予め設定したモニ
タウェーハの位置を変えずにボート上での製品ウェーハ
不足分についてはダミーウェーハで補充しつつ移載を行
うウェーハ移載方法に係るものである。従って、カセッ
トに装填されたウェーハの状態に拘らず、常に設定した
配列となる様ボートへのウェーハの移載が行われる。
According to the present invention, there is provided a reaction chamber having a plurality of cassettes loaded with wafers and a boat holding a plurality of wafers at predetermined intervals in a direction perpendicular to the horizontal plane of the wafers. A method of transferring a wafer from a cassette to a boat in an apparatus for performing a predetermined treatment on a wafer by supplying a reaction gas into the reaction chamber, heating the wafer, and charging the boat holding the wafer into the reaction chamber, Regarding the wafer transfer method of transferring the wafer while refilling the dummy wafer for the product wafer shortage on the boat so that the product wafer and monitor wafer in the boat are arranged in a preset manner. Product wafers and monitor wafers are arranged in the same boat. While supplemented with Me wafer is intended according to the wafer transfer method of performing transfer. Therefore, regardless of the state of the wafers loaded in the cassette, the wafers are transferred to the boat so as to always have the set arrangement.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
一実施の形態を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】図1は、本発明が実施される縦型拡散CV
D装置の内部斜視図である。
FIG. 1 shows a vertical diffusion CV in which the present invention is implemented.
It is an internal perspective view of D apparatus.

【0014】図1に於いて1はヒータで、反応室8内の
ウェーハを加熱するものである。4は反応室8内へウェ
ーハ2を載置したボート3をロード・アンロードするボ
ートエレベータ、5はウェーハ2をカセットからボート
3へ及びボート3からカセットへ移載するウェーハ移載
機、6はウェーハ2の移載中に炉口9からの輻射熱及び
空気の巻込みを防止する炉口シャッタ、7はカセットを
複列、多段(図では2列4段)に収納するカセットスト
ッカである。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a heater for heating a wafer in a reaction chamber 8. Reference numeral 4 denotes a boat elevator for loading and unloading the boat 3 on which the wafers 2 are loaded into the reaction chamber 8, reference numeral 5 denotes a wafer transfer machine for transferring the wafers 2 from the cassette to the boat 3 and from the boat 3 to the cassette, and reference numeral 6 denotes a wafer transfer machine. A furnace port shutter for preventing radiant heat and air from being entrapped from the furnace port 9 during the transfer of the wafer 2, and a cassette stocker 7 for storing cassettes in multiple rows and multiple rows (two rows and four rows in the figure).

【0015】前記カセットストッカ7は、後述するシリ
ンダ17より移載機5に対して水平方向に移動可能であ
り、又移載機5はウェーハ2を真空により吸着するウェ
ーハチャック10を有し、更に該ウェーハチャック10
を水平方向に移動させる水平動機構部11と昇降させる
昇降動機構部12と回転させる為の回転動機構部13と
を具備している。
The cassette stocker 7 is movable in a horizontal direction with respect to the transfer machine 5 from a cylinder 17 to be described later. The transfer machine 5 has a wafer chuck 10 for sucking the wafer 2 by vacuum. The wafer chuck 10
It has a horizontal moving mechanism 11 for moving the device in the horizontal direction, an elevating mechanism 12 for elevating and lowering, and a rotating mechanism 13 for rotating.

【0016】前記ウェーハチャック10は所要枚数(本
実施の形態では5枚)の吸着プレート10a,10b,
10c,10d,10eを有し、各吸着プレート10
a,10b,10c,10d,10eはそれぞれ独立し
て動作される電磁弁30a,30b,30c,30d,
30eを介して真空源(図示せず)に接続されている。
The wafer chuck 10 has a required number (five in this embodiment) of suction plates 10a, 10b,
10c, 10d, and 10e.
a, 10b, 10c, 10d, and 10e are independently operated solenoid valves 30a, 30b, 30c, 30d,
It is connected to a vacuum source (not shown) via 30e.

【0017】前記ウェーハチャック10が設けられる前
記昇降動機構部12の昇降テーブル18には、ウェーハ
2の有無を検知するウェーハセンサ15が設けられる。
又ウェーハ検知センサ15によるウェーハ検知を行う際
の基準点検出を行うウェーハ基準位置センサ16は受信
部16a、発信部16bから成り、該受信部16aは前
記昇降テーブル18に設けられ、該発信部16bは前記
カセットストッカ7の各カセットストッカ棚毎に、且各
棚の下方に設けられる。
A wafer sensor 15 for detecting the presence or absence of the wafer 2 is provided on an elevating table 18 of the elevating mechanism 12 in which the wafer chuck 10 is provided.
Further, a wafer reference position sensor 16 for detecting a reference point when a wafer is detected by the wafer detection sensor 15 includes a receiving unit 16a and a transmitting unit 16b. The receiving unit 16a is provided on the elevation table 18, and the transmitting unit 16b Are provided for each cassette stocker shelf of the cassette stocker 7 and below each shelf.

【0018】前記昇降テーブル18は昇降動機構部12
の昇降スクリュー19に螺合しており、昇降モータ20
に連結された昇降スクリュー19に螺合しており、昇降
モータ20による昇降スクリュー19の回転により、昇
降する様になっている。該昇降モータ20には、エンコ
ーダ21が取付けられ、該エンコーダ21により昇降モ
ータ20の回転数、即ち前記昇降テーブル18の昇降距
離、位置が検知される様になっている。
The elevating table 18 is provided with the elevating mechanism 12
Of the lifting motor 20
The lifting screw 19 is connected with the lifting screw 19 and is moved up and down by the rotation of the lifting screw 19 by the lifting motor 20. An encoder 21 is attached to the lift motor 20, and the rotation speed of the lift motor 20, that is, the lift distance and position of the lift table 18 are detected by the encoder 21.

【0019】又、前記水平動機構部11は、特に図示し
ないがスクリュー・ナット機構で前記ウェーハチャック
10を水平駆動する様になっており、該スクリューを駆
動するスライドモータ22、スライドモータの回転量即
ち、ウェーハチャックの移動量を検知するエンコーダ2
3を有している。
Although not shown, the horizontal movement mechanism 11 is adapted to horizontally drive the wafer chuck 10 by means of a screw / nut mechanism. A slide motor 22 for driving the screw and a rotation amount of the slide motor are provided. That is, the encoder 2 for detecting the movement amount of the wafer chuck
Three.

【0020】又、前記回転動機構部13も特に詳細を示
さないが、ウェーハチャック10を回転する回転モータ
24と該ウェーハチャック10の回転角度を検出するエ
ンコーダ25を有している。
The rotation mechanism 13 also includes a rotation motor 24 for rotating the wafer chuck 10 and an encoder 25 for detecting the rotation angle of the wafer chuck 10, although not shown in detail.

【0021】更に又、前記ボートエレベータ4について
も、エレベータモータ26、昇降量を検知するエンコー
ダ27を有している。
The boat elevator 4 also has an elevator motor 26 and an encoder 27 for detecting the amount of elevation.

【0022】前記炉口シャッタ6はシリンダ28によっ
て駆動され、該シリンダ28は電磁弁29により動作・
非動作が選択され、又前記カセットストッカ7のシリン
ダ17は電磁弁31により動作・非動作が選択される様
になっている。
The furnace port shutter 6 is driven by a cylinder 28, which operates by a solenoid valve 29.
Non-operation is selected, and operation or non-operation of the cylinder 17 of the cassette stocker 7 is selected by the solenoid valve 31.

【0023】以下、ウェーハの移載動作の概略について
説明する。
Hereinafter, the outline of the wafer transfer operation will be described.

【0024】カセットストッカ7の移動、ウェーハチャ
ック10の昇降により、移載の対象となるカセットを選
択し、次に回転動機構部13でウェーハチャック10が
ウェーハ取出姿勢となる様回転させる。
The cassette to be transferred is selected by moving the cassette stocker 7 and moving the wafer chuck 10 up and down. Then, the rotating mechanism 13 rotates the wafer chuck 10 so that the wafer chuck 10 is in the wafer unloading position.

【0025】ウェーハチャック10のウェーハ吸着解
放、水平動機構部11、昇降動機構部12、回転動機構
部13の協働により、カセットよりウェーハ2を取出
し、ボート3へ移載する。
The wafer 2 is taken out of the cassette and transferred to the boat 3 by the cooperation of the wafer chuck release of the wafer chuck 10, the horizontal movement mechanism 11, the elevation movement mechanism 12, and the rotation movement mechanism 13.

【0026】ボート3へのウェーハ移載が完了すると、
ロード・アンロードエレベータ4によりボート3を反応
室8内へ装入し、ウェーハ2のCVD処理を行う。
When the wafer transfer to the boat 3 is completed,
The boat 3 is loaded into the reaction chamber 8 by the load / unload elevator 4 and the CVD process of the wafer 2 is performed.

【0027】CVD処理後のウェーハ2のカセット14
側への移載については、上記と逆の作動で行う。
Cassette 14 for wafer 2 after CVD processing
Transfer to the side is performed by the reverse operation.

【0028】次に、ウェーハの移載動作を行わせる為の
制御装置について説明する。
Next, a control device for performing a wafer transfer operation will be described.

【0029】図3中32は主制御部、33は操作部であ
り、該主制御部32には前記ウェーハ基準位置センサ1
6からの検知信号が入力されると共に吸着プレートの電
磁弁30a,30b,30c,30d,30eの動作状
態を検知するセンサ(例えば圧力センサ)34a,34
b,34c,34d,34e、シャッタ6の開閉状態を
検知するセンサ(例えば近接センサ)35、カセットス
トッカ7の位置を検知するセンサ(例えば近接センサ)
36からの検知信号がそれぞれ入力される。
In FIG. 3, reference numeral 32 denotes a main control unit, and 33 denotes an operation unit.
6 and sensors (for example, pressure sensors) 34a, 34 for detecting the operating states of the solenoid valves 30a, 30b, 30c, 30d, 30e of the suction plate.
b, 34c, 34d, 34e, a sensor (for example, a proximity sensor) 35 for detecting the open / close state of the shutter 6, and a sensor (for example, a proximity sensor) for detecting the position of the cassette stocker 7
The detection signals from 36 are input respectively.

【0030】前記主制御部32には、通信制御部37を
介してモータコントローラ38,39,40,41、ウ
ェーハセンサコントローラ42がそれぞれ接続され、又
モータコントローラ38,39,40,41には前記昇
降モータ20、スライドモータ22、回転モータ24、
エレベータモータ26が接続され、ウェーハセンサコン
トローラ42には前記ウェーハ検知センサ15が接続さ
れる。
The main controller 32 is connected to a motor controller 38, 39, 40, 41 and a wafer sensor controller 42 via a communication controller 37, and the motor controller 38, 39, 40, 41 is connected to the motor controller 38, 39, 40, 41. Lifting motor 20, slide motor 22, rotation motor 24,
The elevator motor 26 is connected, and the wafer detection sensor 15 is connected to the wafer sensor controller 42.

【0031】更に、前記モータコントローラ38,3
9,40,41,42には前記エンコーダ21,23,
25,27からの検出信号が入力される。
Further, the motor controllers 38, 3
The encoders 21, 23, 23 and 9,
Detection signals from 25 and 27 are input.

【0032】前記主制御部32は吸着用、プレート用の
電磁弁30a,30b,30c,30d,30eのドラ
イバ43a,43b,43c,43d,43e、及びシ
リンダ17,28動作用の電磁弁31,29を駆動する
ドライバ44,45が接続されている。
The main control unit 32 includes drivers 43a, 43b, 43c, 43d, 43e of solenoid valves 30a, 30b, 30c, 30d, 30e for suction and plates, and solenoid valves 31, 27 for operating the cylinders 17, 28. Drivers 44 and 45 for driving the drive 29 are connected.

【0033】図4に於いて主制御部32の構成の概略を
説明する。
Referring to FIG. 4, an outline of the configuration of the main control unit 32 will be described.

【0034】主制御部32は主に前記操作部33が接続
される入出力制御部46、各電磁弁ドライバ43a,4
3b,43c,43d,43e,44,45が接続され
る電磁弁制御部47、前記通信制御部37が接続される
移載制御実行部48及びプロセッサ49、記憶部50、
ウェーハアレンジメントパラメータ設定部51、移載動
作パラメータ作成部52から成る。
The main control unit 32 mainly includes an input / output control unit 46 to which the operation unit 33 is connected, and the solenoid valve drivers 43a and 43
3b, 43c, 43d, 43e, 44, 45 are connected to an electromagnetic valve control unit 47, a transfer control execution unit 48 to which the communication control unit 37 is connected, a processor 49, a storage unit 50,
It comprises a wafer arrangement parameter setting section 51 and a transfer operation parameter creation section 52.

【0035】以下、図5を併用して移載制御作用につい
て説明する。
Hereinafter, the transfer control operation will be described with reference to FIG.

【0036】図5に示される様に、あるCVD処理に於
いてボート3に装填されるべきウェーハの配列が上側よ
り上サイドダミーウェーハ群S.D(10枚)、モニタ
ウェーハM1(1枚)、製品ウェーハ群P1(25
枚)、モニタウェーハM2(1枚)、製品ウェーハ群P
2(25枚)、モニタウェーハM3(1枚)、製品ウェ
ーハ群P3(25枚)、モニタウェーハM4(1枚)、
製品ウェーハ群P4(25枚)、モニタウェーハM5
(1枚)、下サイドダミーウェーハ群S.D(10枚)
であったとし、カセットストッカ7に収納された各カセ
ットに前工程から渡された製品ウェーハがP1=20
枚、P2=25枚、P3=18枚、P4=25枚、又そ
の他のカセットにサイドダミーウェーハS.D=20
枚、モニタウェーハM=5枚、補充ダミーウェーハF.
D1=21、F.D2=21がそれぞれ装填されている
とする。
As shown in FIG. 5, the arrangement of wafers to be loaded in the boat 3 in a certain CVD process is such that the upper side dummy wafer group S. D (10), monitor wafer M1 (1), product wafer group P1 (25)
Wafer), monitor wafer M2 (1 wafer), product wafer group P
2 (25 wafers), monitor wafer M3 (1 wafer), product wafer group P3 (25 wafers), monitor wafer M4 (1 wafer),
Product wafer group P4 (25 wafers), monitor wafer M5
(1), lower side dummy wafer group S. D (10 pieces)
And the product wafer transferred from the previous process to each cassette stored in the cassette stocker 7 is P1 = 20.
Wafers, P2 = 25 wafers, P3 = 18 wafers, P4 = 25 wafers, and other cassettes with side dummy wafers S.S. D = 20
Wafers, monitor wafers M = 5, refill dummy wafers F.
D1 = 21, F.I. It is assumed that D2 = 21 is loaded.

【0037】予定されたボート上のウェーハの配列につ
いては、操作部33より前記主制御部32へ、製品ウェ
ーハを何枚にするか、モニタウェーハをどの位置に入れ
るか等を入力する。入力されたウェーハの配列条件は、
入出力制御部46で信号処理された後、プロセッサ49
を経てウェーハアレンジメントパラメータ設定部51
で、移載制御を行う為のウェーハ配列が作成され、この
配列は記憶部50で記憶される。又、ウェーハアレンジ
メントパラメータ設定部51は、入力されたウェーハの
配列条件が移載動作を行う上で合理性があるか否かもチ
ェックする。
As for the arrangement of the wafers on the boat, the number of product wafers, the position of the monitor wafer, and the like are input from the operation unit 33 to the main control unit 32. The input wafer arrangement condition is
After signal processing by the input / output control unit 46, the processor 49
Through the wafer arrangement parameter setting unit 51
Thus, a wafer array for performing transfer control is created, and this array is stored in the storage unit 50. The wafer arrangement parameter setting unit 51 also checks whether or not the input wafer arrangement condition is reasonable for performing the transfer operation.

【0038】次に、操作部33よりウェーハの移載開始
を指示する。
Next, the operation unit 33 instructs the start of wafer transfer.

【0039】移載開始の指示があると、カセットストッ
カ7の予定された列、例えばI列にウェーハ検知センサ
15を対峙させる。I列にウェーハ検知センサ15が対
峙しているか否かはセンサ36からの信号により判断す
る。昇降テーブル18を最下位置とし、昇降モータ20
を駆動して、昇降スクリュー19を介して昇降テーブル
18を上昇させる。
When an instruction to start transfer is given, the wafer detection sensor 15 is caused to face a predetermined row of the cassette stocker 7, for example, row I. Whether or not the wafer detection sensor 15 faces row I is determined by a signal from the sensor 36. With the lifting table 18 at the lowest position, the lifting motor 20
Is driven to raise the lifting table 18 via the lifting screw 19.

【0040】ウェーハ検知センサ15は、超音波セン
サ、光センサ等の非接触式センサであり、ウェーハの端
面に測定媒体を発射し、端面からの反射によりウェーハ
の有無を検知するものである。
The wafer detection sensor 15 is a non-contact type sensor such as an ultrasonic sensor and an optical sensor, and emits a measurement medium to the end face of the wafer and detects the presence or absence of the wafer by reflection from the end face.

【0041】ウェーハ検知センサ15の移動量、即ち昇
降テーブル18の移動量は、前記エンコーダ21により
検出され、又各カセット毎にウェーハ基準位置センサ1
6により基準位置が検出され、各カセットに何枚のウェ
ーハがあり、どこの位置のウェーハが欠けているかが検
出される。
The amount of movement of the wafer detection sensor 15, that is, the amount of movement of the lifting table 18, is detected by the encoder 21, and the wafer reference position sensor 1 is provided for each cassette.
6, the reference position is detected, and it is detected how many wafers are in each cassette and where the wafers are missing.

【0042】ウェーハの検知、枚数計測はII列につい
ても行われる。カセットストッカ7の水平移動は、I列
の計数完了後、ドライバ44を経て電磁弁31を動作さ
せ、シリンダ17を駆動することで行われる。カセット
ストッカ7がウェーハ検知センサ15に対してII列の
位置となったかどうかは、前記センサ36により検出さ
れる。
The detection of the number of wafers and the measurement of the number of wafers are also performed for the II row. The horizontal movement of the cassette stocker 7 is performed by operating the solenoid valve 31 via the driver 44 and driving the cylinder 17 after the completion of the counting of the I rows. Whether or not the cassette stocker 7 has reached the position of the II row with respect to the wafer detection sensor 15 is detected by the sensor 36.

【0043】II列のウェーハ枚数計数についても前述
したと同様な手順で行われる。
The counting of the number of wafers in row II is performed in the same procedure as described above.

【0044】ウェーハ枚数の計数が完了すると計数結果
は、入出力制御器46、プロセッサ49を経て移動動作
パラメータ作成部52へ入力される。該移動動作パラメ
ータ作成部52では、前記ウェーハアレンジメントパラ
メータとウェーハ枚数計数結果に基づき、製品ウェーハ
に不足があるとどこのカセットの補充ダミーウェーハを
不足分にあてるか、或はウェーハの移載順序を決定し、
移載動作パラメータを作成し、該移載動作パラメータは
記憶部50へ入力記憶させる。
When the counting of the number of wafers is completed, the counting result is input to the moving operation parameter creating section 52 via the input / output controller 46 and the processor 49. In the transfer operation parameter creation section 52, based on the wafer arrangement parameters and the number of wafers counted, if there is a shortage in the product wafer, which cassette should be filled with the refill dummy wafer, or the transfer order of the wafers can be determined. Decide,
The transfer operation parameters are created, and the transfer operation parameters are input and stored in the storage unit 50.

【0045】移載動作パラメータの作成が完了すると、
この移載動作パラメータに従って、ウェーハの移載動作
が行われる。
When the creation of the transfer operation parameters is completed,
The wafer transfer operation is performed according to the transfer operation parameters.

【0046】ウェーハの移載動作は移載制御実行部48
を介して行われる。ウェーハ1枚、1枚の移載作業につ
いては、前述したのでここでは説明を省略するが、予め
プロセッサ49を経て記憶部50へ入力されている移載
作業シーケンスに基づき行われ、且ウェーハを前記ウェ
ーハ・アレンジメントパラメータで定めた配列とする移
載手順は、前記移載動作パラメータに基づき行われる。
The wafer transfer operation is performed by a transfer control execution unit 48.
Done through. Since the transfer operation of one wafer has been described above, the description is omitted here. However, the transfer operation is performed based on the transfer operation sequence input to the storage unit 50 via the processor 49 in advance, and The transfer procedure in which the arrangement is determined by the wafer arrangement parameters is performed based on the transfer operation parameters.

【0047】前記通信制御部37は、主制御部32から
出力された信号を判断し、動作させるべきモータのモー
タコントローラへ命令信号を発する。又、主制御部32
はウェーハの端数処理を行う場合(本実施の形態では4
枚以下のウェーハの移載を行う場合)、電磁弁30a,
30b,30c,30d,30eのいずれかを選択し、
対応するドライバ43a,43b,43c,43d,4
3eを介して電磁弁30a,30b,30c,30d,
30eを動作させウェーハを吸着プレートに吸引する様
にする。
The communication control section 37 judges the signal output from the main control section 32 and issues a command signal to a motor controller of a motor to be operated. Also, the main control unit 32
Is the case where the fraction processing of the wafer is performed (4 in this embodiment).
When transferring less than two wafers), the solenoid valve 30a,
Select one of 30b, 30c, 30d, 30e
Corresponding drivers 43a, 43b, 43c, 43d, 4
3e, solenoid valves 30a, 30b, 30c, 30d,
30e is operated to suck the wafer to the suction plate.

【0048】而して、移載前カセット内にウェーハが不
足していたとしても、人手作業でウェーハを補充するこ
となく、所望のウェーハ配列となる様ボートへの移載作
業が行われる。
Thus, even if there is a shortage of wafers in the pre-transfer cassette, the transfer operation to the boat is performed so that a desired wafer arrangement is achieved without manually replenishing wafers.

【0049】尚、どこのカセットに何枚ウェーハが不足
していたかというウェーハ枚数計数結果、移載の進行状
態等は、前記操作部に表示される。
The result of counting the number of wafers in which cassette and how many wafers are insufficient, the progress of transfer, and the like are displayed on the operation unit.

【0050】尚、上記実施の形態ではウェーハの枚数計
を自動で行ったが、ウェーハの枚数については作業者が
数え、操作部33を介して入力する様にしてもよいこと
は勿論である。
In the above embodiment, the number of wafers is automatically measured. However, the number of wafers may be counted by an operator and input via the operation unit 33.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、拡散・
CVD装置に供される製品ウェーハに変動があっても、
人手作業による不足分ウェーハの補充をする必要がな
く、所望のウェーハ配列となる様ウェーハの移載が行わ
れるので、ウェーハの移載能率を大幅に向上し得、又工
程途中の人手作業を省略できるので、半導体製造工場に
於ける工程の安定化、製品品質の安定化、自動化の促
進、工場内の無塵化が図れるという優れた効果を発揮す
る。
As described above, according to the present invention, diffusion and
Even if the product wafer supplied to the CVD equipment fluctuates,
There is no need to manually replenish the shortage of wafers, and wafers are transferred so that the desired arrangement of wafers is achieved, so wafer transfer efficiency can be greatly improved and manual work during the process is omitted. As a result, it is possible to achieve excellent effects such as stabilization of processes in a semiconductor manufacturing factory, stabilization of product quality, promotion of automation, and reduction of dust in the factory.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】縦型拡散装置の概要を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an outline of a vertical diffusion device.

【図2】ウェーハ検知センサの説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a wafer detection sensor.

【図3】本発明の一実施の形態を示すブロック図であ
る。
FIG. 3 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.

【図4】主制御部の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a main control unit.

【図5】ウェーハ配列、ウェーハ移載についての説明図
である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of wafer arrangement and wafer transfer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 ウェーハ 3 ボート 5 ウェーハ移載機 7 カセットスットカ 14 カセット 15 ウェーハ検知センサ 32 主制御部 49 プロッセサ 51 ウェーハアレンジメントパラメータ設定部 52 移載動作パラメータ作成部 2 Wafer 3 Boat 5 Wafer transfer machine 7 Cassette stocker 14 Cassette 15 Wafer detection sensor 32 Main control unit 49 Processor 51 Wafer arrangement parameter setting unit 52 Transfer operation parameter creation unit

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ウェーハが装填された複数のカセット
と、ウェーハを所定の間隔をもってウェーハの水平面に
対して垂直方向に複数枚保持するボートとを有し、反応
室内に該ウェーハを保持したボートを装入し、該反応室
内に反応ガスを供給し、加熱してウェーハに所定の処理
を行う装置に於けるカセットから該ボートへのウェーハ
移載方法に於いて、予め設定されたボート内での製品ウ
ェーハ、モニタウェーハの配列となる様、ボート上での
製品ウェーハ不足分についてはダミーウェーハで補充し
つつ移載を行うことを特徴とするウェーハ移載方法。
1. A boat having a plurality of cassettes loaded with wafers and holding a plurality of wafers at predetermined intervals in a direction perpendicular to a horizontal plane of the wafers, wherein the boat holding the wafers is placed in a reaction chamber. In the method of transferring a wafer from a cassette to the boat in an apparatus for charging, supplying a reaction gas into the reaction chamber, heating and performing a predetermined process on the wafer, a predetermined operation in the boat is performed. Product c
A wafer transfer method characterized in that a wafer is transferred while replenishing a shortage of product wafers on a boat with dummy wafers so that wafers and monitor wafers are arranged.
【請求項2】 予め設定したボート内での製品ウェー
ハ、モニタウェーハの配列となる様、予め設定したモニ
タウェーハの位置を変えずにボート上での製品ウェーハ
不足分についてはダミーウェーハで補充しつつ移載を行
う請求項のウェーハ移載方法。
2. A shortage of product wafers on the boat is replenished with dummy wafers without changing the positions of the preset monitor wafers so that a predetermined arrangement of the product wafers and monitor wafers in the boat is obtained. 2. The wafer transfer method according to claim 1 , wherein the transfer is performed.
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