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JP2844486B2 - Manufacturing method of liquid crystal display element - Google Patents
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JP2844486B2 - Manufacturing method of liquid crystal display element - Google Patents

Manufacturing method of liquid crystal display element

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JP2844486B2
JP2844486B2 JP4457090A JP4457090A JP2844486B2 JP 2844486 B2 JP2844486 B2 JP 2844486B2 JP 4457090 A JP4457090 A JP 4457090A JP 4457090 A JP4457090 A JP 4457090A JP 2844486 B2 JP2844486 B2 JP 2844486B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶テレビ等に使用される液晶表示素子の
製造方法に係り、特にはその液晶表示素子を構成する透
明基板の内面に配向膜、絶縁膜、保護膜等の膜を形成す
る方法の改良に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display element used for a liquid crystal television or the like, and more particularly, to an alignment film on an inner surface of a transparent substrate constituting the liquid crystal display element. And a method of forming a film such as an insulating film and a protective film.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

液晶表示素子は、一般には第7図に示すように、一対
の透明基板1、2がシール材3を介して所定間隔で対向
配置され、この透明基板1、2及びシート材3によって
形成された密封空間内に液晶4が封入されている。
As shown in FIG. 7, a liquid crystal display element is generally formed by a pair of transparent substrates 1 and 2 opposed to each other at a predetermined interval with a sealing material 3 interposed therebetween. Liquid crystal 4 is sealed in the sealed space.

そして、一方の透明基板1の内面には、一方向(第7
図では、紙面に平行な左右方向)に長く延びる帯状のカ
ラーフィルタ5が設けられており、このカラーフィルタ
5は、前記一方の方向とは直交する方向(第7図では、
紙面に垂直な方向)に赤色、緑色、青色等の順に交互に
複数配設されている。これらカラーフィルタ5上の全面
は、ポリイミド等の樹脂からなる保護膜6で覆われ、そ
の上にはカラーフィルタ5と対応させて前記一方向に長
く延びるITO膜等からなる透明電極7が形成され、前記
一方向とは直交する方向に一定間隔で複数配設されてい
る。更に、その上は配向膜8で覆われており、この配向
膜8が液晶4に直接接触している。
The inner surface of one of the transparent substrates 1 is provided in one direction (the seventh direction).
In the figure, a strip-shaped color filter 5 extending long in the left-right direction parallel to the paper surface is provided, and this color filter 5 is arranged in a direction orthogonal to the one direction (in FIG. 7,
A plurality of colors are arranged alternately in the order of red, green, blue, and the like (in a direction perpendicular to the paper surface). The entire surface of the color filter 5 is covered with a protective film 6 made of a resin such as polyimide, and a transparent electrode 7 made of an ITO film or the like extending in one direction is formed on the protective film 6 so as to correspond to the color filter 5. , Are arranged at regular intervals in a direction orthogonal to the one direction. Further, the upper surface is covered with an alignment film 8, which is in direct contact with the liquid crystal 4.

また、もう一方の透明基板2の内面には、上記透明電
極7と直交する方向に延びるITO膜等からなる複数本の
透明電極9が一定間隔で配設され、この透明電極9と上
記の透明電極7との互いに対向する領域が画素領域を形
成している。透明電極9上は配向膜10で覆われており、
この配向膜10が液晶4に直接接触している。
On the inner surface of the other transparent substrate 2, a plurality of transparent electrodes 9 made of an ITO film or the like extending in a direction orthogonal to the transparent electrode 7 are arranged at regular intervals. A region facing the electrode 7 forms a pixel region. The transparent electrode 9 is covered with an alignment film 10,
This alignment film 10 is in direct contact with the liquid crystal 4.

上記構成からなるカラー液晶表示素子は、透明基板
1、2の内面に保護膜6や配向膜8、10等の膜が形成さ
れている。これらの膜の形成方法の一例として、カラー
フィルタ用の保護膜6の形成工程について以下に述べ
る。
In the color liquid crystal display device having the above configuration, films such as the protective film 6 and the alignment films 8 and 10 are formed on the inner surfaces of the transparent substrates 1 and 2. As an example of a method of forming these films, a process of forming a protective film 6 for a color filter will be described below.

まず、カラーフィルタ5の形成された一方の透明基板
1上に、オフセット印刷等により、保護膜6となる材料
を塗布する。オフセット印刷は、例えば第8図に示すよ
うに、ノズル11から滴下された液体状の保護膜用材料12
を複数のローラ13で薄く均一に引き延ばしながら搬送
し、これをローラ状の版胴14の周面に設けられた印刷用
凸版15の表面に付着させて、これを、移動してくるステ
ージ16上に載置された透明基板1のカラーフィルタ5上
に転写することにより行う。このようにしてカラーフィ
ルタ5上に保護膜用材料が塗布されたら、これを予備乾
燥し、加熱して硬化させることにより、最終的には固形
の保護膜6を得ることができる。
First, a material to be the protective film 6 is applied on one of the transparent substrates 1 on which the color filters 5 are formed by offset printing or the like. In the offset printing, for example, as shown in FIG. 8, a liquid protective film material 12 dropped from a nozzle 11 is used.
Is transported while being stretched thinly and evenly with a plurality of rollers 13, and is adhered to the surface of a printing relief plate 15 provided on the peripheral surface of a roller-shaped plate cylinder 14, and is transferred onto a moving stage 16. Of the transparent substrate 1 placed on the color filter 5 of the transparent substrate 1. When the material for the protective film is applied on the color filter 5 in this way, it is preliminarily dried, heated and cured, so that the solid protective film 6 can be finally obtained.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

上述した従来のカラー液晶表示素子の製造方法では、
保護膜用材料を透明基板1のカラーフィルタ5上に上記
印刷法により塗布した後、これを予備乾燥する際におい
て、硬化前の未だ流動性を有している保護膜用材料が高
さの低い方へ少しずつ流れ出して、カラーフィルタ5の
エッジ部分での膜厚が薄くなり、よってカラーフィルタ
5の被覆性が悪くなってしまうという問題があった。
In the above-described conventional method for manufacturing a color liquid crystal display element,
After the protective film material is applied on the color filter 5 of the transparent substrate 1 by the printing method and then preliminarily dried, the material for the protective film still having fluidity before curing has a low height. Thus, there is a problem that the film gradually flows toward the edge, and the film thickness at the edge portion of the color filter 5 becomes thin, so that the coverage of the color filter 5 becomes poor.

また、透明基板1、カラーフィルタ5、保護膜6及び
この保護膜6の上に形成されるITOのそれぞれの熱膨張
係数が異なるため、保護膜6の硬化後において、その後
続工程での熱処理の際に、上記の熱膨張係数の違いによ
る応力が発生し、この応力が保護膜6の膜厚の薄い部分
に集中するため、その部分にクラックが発生して、保護
膜6の上に形成された透明電極7の断線の原因になると
いう問題もあった。
Further, since the thermal expansion coefficients of the transparent substrate 1, the color filter 5, the protective film 6, and the ITO formed on the protective film 6 are different from each other, after the protective film 6 is cured, heat treatment in a subsequent process is performed. At this time, a stress is generated due to the difference in the coefficient of thermal expansion described above, and the stress is concentrated on a portion where the thickness of the protective film 6 is small. There is also a problem that the transparent electrode 7 may be disconnected.

そこで、本発明者等は、保護膜6の平坦性を悪化させ
ることなくカラーフィルタ5のエッジ部分での被覆性を
向上させ、そのエッジ部分でのクラック発生を防止する
ために、以下の方法を提案した。すなわち、一対の透明
基板1、2のうちの一方の透明基板の内面に形成された
カラーフィルタ5上に、保護膜用材料の塗布及び乾燥を
複数回重ねて行うことにより、複数層からなる保護膜を
形成する方法である。このように保護膜用材料の塗布及
び乾燥を複数回重ねて行うようにすれば、薄い保護膜を
複数層重ねることができるので、全体としては厚めの保
護膜を得ることができる。しかも、あえて粘度の高い材
料を使用する必要もないので、保護膜表面の平坦性が維
持され、更に膜厚が厚くなることからカラーフィルタ5
のエッジ部分での被覆性が大きく向上し、クラックの発
生も防止できる。
Then, the present inventors improved the coverage of the edge portion of the color filter 5 without deteriorating the flatness of the protective film 6 and prevented the occurrence of cracks at the edge portion by the following method. Proposed. In other words, by applying and drying the material for the protective film a plurality of times on the color filter 5 formed on the inner surface of one of the pair of transparent substrates 1 and 2, the protection comprising a plurality of layers is achieved. This is a method of forming a film. When the application and drying of the material for the protective film are performed a plurality of times in this manner, a plurality of thin protective films can be laminated, and thus a thicker protective film as a whole can be obtained. Moreover, since there is no need to use a material having a high viscosity, the flatness of the surface of the protective film is maintained, and the film thickness is further increased.
The coating property at the edge portion of the above is greatly improved, and the occurrence of cracks can be prevented.

ところが、第8図に示したような凸版15を用いた印刷
方法で保護膜用材料を塗布した場合、一般に、第9図に
示すように、この方法によって得られる保護膜6のエッ
ジ部分(すなわち、凸版15の周辺のエッジ部分に対応す
る部分)に突起6aが生じる。この突起6aの高さは、第10
図に示すように膜厚にほぼ比例しており、膜厚が厚くな
るに従い、突起6aの高さも高くなる。このことから、上
記のように保護膜用材料の塗布及び乾燥を複数回重ねて
行い、第11図に示すように複数層からなる保護膜6(6
1、62、63)を形成した場合、各保護膜61、62、63のそ
れぞれの突起61a、62a、63aが互いに重なり合い、保護
膜用材料を一回だけ塗布及び乾燥する場合よりも、更に
一段と高くなってしまうという問題があった。
However, when a material for a protective film is applied by a printing method using a relief plate 15 as shown in FIG. 8, generally, as shown in FIG. 9, an edge portion of the protective film 6 obtained by this method (ie, (A portion corresponding to the peripheral edge portion of the relief plate 15). The height of the projection 6a is the tenth
As shown in the figure, the thickness is almost proportional to the film thickness. As the film thickness increases, the height of the protrusion 6a also increases. From this, the coating and drying of the material for the protective film are performed a plurality of times as described above, and as shown in FIG.
1, 62, 63), the respective protrusions 61a, 62a, 63a of the protective films 61, 62, 63 overlap with each other, so that the protective film material is further applied and dried only once. There was a problem that it would be expensive.

このように突起が高くなると、保護膜6上に配設され
る透明電極7が、突起の部分で断線しやすくなってしま
う。また、透明基板1上に、これと対向する透明基板2
を合わせる時に、上記の突起部分が透明基板2に接触し
て、ギャップが不均一となったり、或いは、ギャップを
規制するためのギャップ材が突起上に載って、同様にギ
ャップ不均一となってしまう場合がある。
When the protrusions are high in this way, the transparent electrode 7 provided on the protective film 6 tends to be disconnected at the protrusions. Further, a transparent substrate 2 facing the transparent substrate 1 is placed on the transparent substrate 1.
When matching, the above-mentioned protrusion contacts the transparent substrate 2 and the gap becomes non-uniform, or the gap material for regulating the gap is placed on the protrusion, and the gap becomes similarly non-uniform. In some cases.

なお、上記のように膜用材料の塗布及び乾燥を複数回
重ねて行うことにより複数層からなる膜を形成した場合
に、その膜のエッジ部分に突起ができるという問題は、
上述した保護膜6を形成する場合のみならず、液晶表示
素子の透明基板1、2の内面に形成される絶縁膜や配向
膜等の各種の膜を形成する場合にも同様に生じていた。
In addition, as described above, when a film having a plurality of layers is formed by performing coating and drying of the film material a plurality of times, a problem that a protrusion is formed at an edge portion of the film is caused by the following problem.
This also occurs not only when the above-described protective film 6 is formed but also when various films such as an insulating film and an alignment film are formed on the inner surfaces of the transparent substrates 1 and 2 of the liquid crystal display element.

本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、複数層からなる膜を形成した場合で
も、そのエッジ部分に生じる突起を低く抑えることので
きる液晶表示素子の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has as its object to manufacture a liquid crystal display element capable of suppressing projections generated at an edge portion thereof even when a film having a plurality of layers is formed. It is to provide a method.

〔課題を解決するための手段〕 本発明は、液晶表示素子を構成する透明基板の内面に
所定の厚さの膜を形成する工程を有する液晶表示素子の
製造方法において、前記透明基板上に膜用材料を塗布し
て乾燥し、焼成する工程を、その塗布領域を順次小さく
しながら複数回重ねて行うことにより、前記所望の厚さ
を、大きさが異なる複数層の膜によって形成することを
特徴とするものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display element, comprising a step of forming a film having a predetermined thickness on the inner surface of a transparent substrate constituting a liquid crystal display element. The step of applying, drying and baking the material is repeated a plurality of times while sequentially reducing the applied area, so that the desired thickness is formed by a plurality of layers having different sizes. It is a feature.

上記の膜用材料を塗布して乾燥させる工程は、膜用材
料を一回塗布する毎に乾燥させ、焼成する工程であって
もよく、或いは、膜用材料を複数回重ねて塗布し、その
後に乾燥させ、焼成する工程とすることも可能であり、
また、膜用材料を複数回重ねて塗布した後に室温で放置
し、その後に乾燥させる工程とすることも可能である。
The step of applying and drying the above-mentioned film material may be a step of drying and firing each time the film material is applied once, or applying the film material a plurality of times, It is also possible to have a process of drying and firing.
It is also possible to adopt a process in which a film material is applied a plurality of times, left at room temperature, and then dried.

膜用材料の塗布領域を順次小さくするための手段は、
凸版を使用した印刷法により膜用材料を塗布する場合に
は、この凸版のサイズを順次小さくすることにより実現
可能である。
Means for sequentially reducing the coating area of the film material is as follows:
When the film material is applied by a printing method using a relief printing plate, it can be realized by sequentially reducing the size of the relief printing plate.

〔作用〕[Action]

透明基板上に膜用材料を塗布して乾燥させ焼成する場
合、前述のように膜のエッジ部分に突起が生じるが、こ
のような塗布及び乾燥の工程を、その塗布領域を順次小
さくしながら複数回重ねて行った場合、これによって形
成されたそれぞれの膜のエッジ部分に生じる突起の位置
が、各膜用材料の塗布領域が異なる分だけ互いにずれ、
よって従来のように突起同士が重なるようなことがなく
なる。従って、全体的な突起の高さは、極力低く抑えら
れる。
When a film material is coated on a transparent substrate, dried, and fired, projections occur at the edge of the film as described above. Such coating and drying steps are performed in a plurality of steps while sequentially reducing the coating area. When performed repeatedly, the positions of the protrusions generated at the edge portions of the respective films formed thereby are shifted from each other by an amount corresponding to the application area of each film material,
Therefore, the protrusions do not overlap each other as in the related art. Therefore, the overall height of the projection is kept as low as possible.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら
説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図(a)及び(b)は、本発明の一実施例の製造
工程の主要部であるカラーフィルタ用の保護膜の形成工
程を示す断面図である。
1 (a) and 1 (b) are cross-sectional views showing a process of forming a protective film for a color filter which is a main part of a manufacturing process according to one embodiment of the present invention.

本実施例では、まず第1図(a)に示すように、表面
に赤色、緑色、青色等のカラーフィルタ5が複数ストラ
イプ状に形成された、ガラス等からなる透明基板1上
に、第8図に示したようなオフセット印刷により、例え
ばポリイミド系材料等からなる保護膜用材料を即座に2
回重ねて塗布した後、低温で予備乾燥し、焼成して本硬
化を行うことにより、第1層目の保護膜61を形成する。
In the present embodiment, first, as shown in FIG. 1 (a), on a transparent substrate 1 made of glass or the like, on the surface of which a plurality of color filters 5 of red, green, blue, etc. are formed in a stripe shape. By the offset printing as shown in FIG.
After repeated application, pre-drying is performed at a low temperature, followed by baking to perform main curing, thereby forming a first-layer protective film 61.

次に、上記第1層目の保護膜61上であって、互いのエ
ッジ部分が重ならない程度の狭い領域に、この第1層目
の保護膜61の形成方法と同一の方法により、第2層目の
保護膜62を重ねて形成する。ただし、この場合、保護膜
用材料の塗布は、第1層目の保護膜61を形成する際に用
いた凸版よりもサイズの小さな凸版を用いて行う。例え
ば、第2図に示すように、第1層目の保護膜61の形成に
凸版151を用いた場合には、これよりも縦及び横方向の
各辺の寸法が共にdだけ小さい凸版152を用いる。な
お、この際の寸法dは、例えば0.1〜2.0mmの範囲内で任
意に選ぶことができる。このように、第1層目よりもサ
イズの小さな凸版152を用いることにより、第1層目の
保護膜61のエッジ部分の内側に、第2層目の保護膜62の
エッジ部分を位置させることができる。
Next, a second region is formed on the first protective film 61 by a method similar to the method of forming the first protective film 61 in a narrow area where the edges do not overlap each other. The protective film 62 of the layer is formed to overlap. However, in this case, the application of the material for the protective film is performed using a relief plate smaller in size than the relief plate used when the first-layer protective film 61 is formed. For example, as shown in FIG. 2, in the case of using a relief plate 15 1 for forming the first layer of the protective film 61, this dimension of each side of the longitudinal and transverse directions than only d are small relief plate 15 Use 2 . The dimension d at this time can be arbitrarily selected within a range of, for example, 0.1 to 2.0 mm. In this way, by using the small relief printing plate 15 2 in size than the first layer, on the inner side of the edge portion of the first layer of the protective film 61, to position the edge portions of the second layer of the protective film 62 be able to.

以上の工程により、第1層目の保護膜61及び第2層目
の保護膜62の2層構造からなる保護膜6が形成される。
なお、その後は、従来と同様に保護膜6上に透明電極7
を形成し、その上を配向膜8で覆うと共に、もう一方の
透明基板2の内面にも透明電極9を形成し、その上を配
向膜10で覆い、これら2つの透明基板1、2をシール材
3を介して張り合わせ、この内部に液晶4を封入するこ
と等により、第3図に示すようなカラー液晶表示素子が
得られる。
Through the above steps, the protective film 6 having a two-layer structure of the first protective film 61 and the second protective film 62 is formed.
After that, the transparent electrode 7 is formed on the protective film 6 as in the prior art.
And a transparent electrode 9 is also formed on the inner surface of the other transparent substrate 2 and the upper surface thereof is covered with an alignment film 10, and these two transparent substrates 1 and 2 are sealed. By laminating through the material 3 and sealing the liquid crystal 4 therein, a color liquid crystal display device as shown in FIG. 3 is obtained.

本実施例によれば、上述したように保護膜用材料の塗
布及び乾燥の工程を2回重ねて行い、その第2回目にお
いて使用する凸版152のサイズを第1回目に使用した凸
版151よりも小さくすることで、保護膜用材料の塗布領
域を順次小さくしたことにより、以下の効果が得られ
る。すなわち、第1図(b)に明らかなように、第2層
目の保護膜62のエッジ部分に生じた突起62aの位置が、
第1層目の保護膜61のエッジ部分に生じた突起61aの位
置よりも、2つの凸版151、152のサイズが互いに異なる
分だけ離れ、よって第11図に示したように突起同士が重
なるようなことがなくなるため、突起の高さを全体的に
低く抑えることができる。
According to this embodiment, carried out repeatedly twice applying and drying steps of the protective film material as described above, letterpress 15 1 the size of the relief plate 15 2 to be used used in the first round at its second round By making the application area of the protective film material smaller sequentially, the following effects can be obtained. That is, as is clear from FIG. 1B, the position of the protrusion 62a generated at the edge portion of the second-layer protective film 62 is
Than the position of the projections 61a that occurred at the edges of the first layer of the protective film 61, apart two letterpress 15 1, 15 are different frequency from each other 2 size, thus the protrusions each other as shown in FIG. 11 Since there is no overlap, the height of the projections can be kept low overall.

この効果を具体的に示すため、透明基板1の表面から
第2層目の保護膜62の突起62aの頂点(突起の最も高い
所)までの高さと、2つの保護膜61、62を合わせた保護
膜6の中央部の膜厚との関係を、第4図に実線で示し
た。また、これと比較するため、凸版のサイズが同一の
ものを用いて形成した、従来の2層構造の保護膜につい
ても、第4図に破線で示した。すると、同図から明らか
なように、膜厚に応じて突起の高さが高くなる傾向は両
者に見られるが、その突起の高さ自体は、本実施例の方
が格段に低くなることが分かる。例えば、膜厚を2.5μ
mとした場合について比較すると、従来における突起の
高さは、平均値が4.5μmで最大値が6.5μmであるのに
対し、本実施例における突起の高さは、平均値が3.5μ
mで最大値が4.5μmとなり、本実施例の方が極めて低
くなる。
In order to specifically show this effect, the height from the surface of the transparent substrate 1 to the top of the projection 62a of the second protective film 62 (the highest point of the projection) and the two protective films 61 and 62 were combined. The relationship with the film thickness at the center of the protective film 6 is shown by a solid line in FIG. In addition, for comparison, a conventional protective film having a two-layer structure formed using the same letterpress having the same size is also shown by a broken line in FIG. Then, as is clear from the figure, the tendency that the height of the protrusion increases according to the film thickness can be seen in both, but the height of the protrusion itself is significantly lower in the present embodiment. I understand. For example, a film thickness of 2.5μ
In comparison with the case of m, the average height of the projections in the prior art is 4.5 μm and the maximum value is 6.5 μm, whereas the average height of the projections in this example is 3.5 μm.
The maximum value is 4.5 μm at m, which is extremely low in this embodiment.

このように突起の高さを低く抑えることができると、
保護膜6上に配設される透明電極7の、突起の所での段
差が小さくなり、よって、従来において突起の所で生じ
ていた断線を回避することができる。更に、突起の高さ
が低いので、対向する透明基板2に接触することもなく
なり、よってギャップを均一に維持することもできるよ
うになる。
If the height of the projection can be kept low in this way,
The step of the transparent electrode 7 provided on the protective film 6 at the projection is reduced, and thus the disconnection which has conventionally occurred at the projection can be avoided. Further, since the height of the projection is low, the projection does not come into contact with the opposing transparent substrate 2, so that the gap can be maintained uniform.

また、膜用材料を即座に2回重ねて塗布し、その後に
乾燥するようにしたので、単に一回だけ塗布した場合と
比べ、その塗布された膜の表面の平坦性が良くなり、よ
って、その後の乾燥で硬化して得られた膜の表面につい
ても、平坦性を向上させることができる。
In addition, since the film material was immediately applied twice and then dried, the flatness of the surface of the applied film was improved as compared with the case where the material was simply applied once, and thus, The flatness of the film obtained by curing by subsequent drying can be improved.

次に、第5図は、本発明の他の実施例によって得られ
た保護膜の構造を示す断面図である。
Next, FIG. 5 is a sectional view showing the structure of a protective film obtained according to another embodiment of the present invention.

第1図に示した実施例は保護膜用材料の2回連続塗布
及び乾燥からなる工程を、その塗布領域を順次小さくし
ながら2回繰り返して行うようにしたものであるが、本
実施例は、前記実施例と同様な保護膜用材料の2回連続
塗布及び乾燥からなる工程を、その塗布領域を順次小さ
くしながらn回(n≧3)繰り返して行うようにしたも
のである。本実施例では、前記実施例と同様、第6図に
示すように各工程毎にサイズの小さくなる凸版151、1
52、・・・・・15nを使用することで、最終的に、第1
層目の保護膜61、第2層目の保護膜62、・・・・・、第
n層目の保護膜6nからなるn層構造の保護膜6が得られ
る。
In the embodiment shown in FIG. 1, a process consisting of continuous application and drying of the material for the protective film is repeated twice while the coating area is gradually reduced. The process comprising the continuous application and drying of the material for the protective film, which is the same as that of the above-mentioned embodiment, is repeated n times (n ≧ 3) while the application area is gradually reduced. In this embodiment, the embodiment as well, small Toppan 15 1 of size for each step as shown in FIG. 6, 1
By using 15 2 ,..., 15 n , the first
The protective film 6 having an n-layer structure including the protective film 61 of the layer, the protective film 62 of the second layer,..., And the protective film 6n of the nth layer is obtained.

本実施例によれば、同一サイズの凸版を使用した場合
と比べて全体の突起の高さを低く抑えることができるこ
とは勿論ながら、保護膜6の膜厚を更に厚くすることが
できるので、より一層平坦性及び被覆性に優れた保護膜
を得ることができ、しかも、上記の塗布及び乾燥からな
る工程を繰り返す回数を適宜設定することにより、任意
の膜厚を得ることもできる。
According to the present embodiment, not only can the height of the entire projections be reduced as compared with the case where a relief plate of the same size is used, but also the film thickness of the protective film 6 can be further increased. A protective film having more excellent flatness and coverage can be obtained, and an arbitrary film thickness can be obtained by appropriately setting the number of times of repeating the above-mentioned steps of coating and drying.

なお、上記の各実施例では、保護膜用材料を即座に連
続して塗布する回数を2回にしたが、もちろん1回にし
てもよく、或いは3回以上行ってもよい。ただ、連続塗
布の回数を増やした方が、その回数に応じて平坦性も向
上すると言える。
In each of the above embodiments, the number of times of immediately and continuously applying the material for the protective film is set to two times, but it may be set to one time or three or more times. However, it can be said that increasing the number of continuous coatings improves the flatness according to the number of continuous coatings.

また、保護膜用材料を塗布及び乾燥する工程として、
膜用材料を複数回重ねて塗布した後に室温で放置し、そ
の後に乾燥させるようにしてもよい。このようにすれ
ば、膜が硬化する前の未だ流動性がある状態で放置され
るため、膜の高い部分が低い部分に向けて流れだし、よ
って膜のエッジ部分と中央部分との厚さの差が小さくな
り、一層平坦な膜を得ることができる。
Further, as a step of applying and drying the material for the protective film,
The film material may be allowed to stand at room temperature after being applied a plurality of times, and then dried. In this way, since the film is left in a state of fluidity before being cured, the high portion of the film flows toward the low portion, and thus the thickness between the edge portion and the central portion of the film is reduced. The difference is small, and a flatter film can be obtained.

更に、本発明は、第3図に示した構造のカラー液晶表
示素子におけるカラーフィルタ用の保護膜を形成する際
のみならず、各種構造の液晶表示素子に使用される配向
膜や絶縁膜等の各種の膜の形成に適用できる。
Further, the present invention is applicable not only to the formation of a protective film for a color filter in the color liquid crystal display device having the structure shown in FIG. It can be applied to the formation of various films.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によれば、透明基板上に膜用材料を塗布して乾
燥させ焼成する工程を、その塗布領域を順次小さくしな
がら複数回重ねて行うようにしたので、膜のエッジ部分
に生じる突起の位置を互いにずらすことができ、突起同
士が重なるようなことがなくなるため、全体的な突起の
高さを極力低く抑えることができる。従って、膜のエッ
ジ部上での透明電極の断線や、ギャップの不均一等の不
良発生を防止することができる。
According to the present invention, the step of applying a film material on a transparent substrate, drying and baking is performed a plurality of times while sequentially reducing the applied area, so that projections generated at the edge portion of the film are formed. Since the positions can be shifted from each other and the projections do not overlap with each other, the overall height of the projections can be suppressed as low as possible. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of defects such as disconnection of the transparent electrode on the edge portion of the film and unevenness of the gap.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(a)及び(b)は本発明の一実施例の製造工程
の主要部であるカラーフィルタ用の保護膜の形成工程を
示す断面図、 第2図は同実施例で使用する凸版のサイズを示す平面
図、 第3図は同実施例によって得られたカラー液晶表示素子
の構造を示す断面図、 第4図は同実施例と従来例とにおける突起の高さと膜厚
との関係を比較して示す図、 第5図は本発明の他の実施例によって得られた保護膜の
構造を示す断面図、 第6図は同実施例で使用する凸版のサイズを示す平面
図、 第7図は従来のカラー液晶表示素子の構造を示す断面
図、 第8図はオフセット印刷による保護膜の塗布工程を示す
図、 第9図は保護膜のエッジ部分に生じる突起と印刷用凸版
との関係を示す図、 第10図は突起の高さと膜厚との一般的な関係を示す図、 第11図は保護膜用材料の塗布及び乾燥を複数回重ねて行
うことにより得られた複数層からなる保護膜の構造を示
す断面図である。 1、2……透明基板、 3……シール材、 4……液晶、 5……カラーフィルタ、 6……保護膜、 6a……突起、 7、9……透明電極、 8、10……配向膜、 15(151、152、153、154、15n)……凸版、 61……第1層目の保護膜、 62……第2層目の保護膜、 63……第3層目の保護膜、 64……第4層目の保護膜、 6n……第n層目の保護膜.
1 (a) and 1 (b) are cross-sectional views showing a process of forming a protective film for a color filter which is a main part of a manufacturing process according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a relief plate used in the embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of a color liquid crystal display device obtained by the same embodiment. FIG. 4 is a relationship between the height of the protrusion and the film thickness in the embodiment and the conventional example. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of a protective film obtained by another embodiment of the present invention, FIG. 6 is a plan view showing the size of a relief plate used in the embodiment, FIG. 7 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional color liquid crystal display element, FIG. 8 is a view showing a step of applying a protective film by offset printing, and FIG. FIG. 10 is a diagram showing the relationship, FIG. 10 is a diagram showing a general relationship between the height of the protrusion and the film thickness, FIG. Is a sectional view showing the structure of a protective film made of a plurality of layers obtained by performing the coating and drying of the protective film material stacked a plurality of times. 1, 2 ... transparent substrate, 3 ... sealing material, 4 ... liquid crystal, 5 ... color filter, 6 ... protective film, 6a ... projection, 7, 9 ... transparent electrode, 8, 10 ... orientation Film 15 (15 1 , 15 2 , 15 3 , 15 4 , 15 n ) ... letterpress, 61 ... 1st protective film, 62 ... 2nd protective film, 63 ... 3rd Protective film of the 64th layer Protective film of the 4th layer 6n Protective film of the nth layer.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】液晶表示素子を構成する透明基板の内面に
所定の厚さの膜を形成する工程を有する液晶表示素子の
製造方法において、 前記透明基板上に膜用材料を塗布して乾燥し、焼成する
工程を、その塗布領域を順次小さくしながら複数回重ね
て行うことにより、前記所定の厚さの膜を大きさが異な
る複数層の膜によって形成することを特徴とする液晶表
示素子の製造方法。
1. A method for manufacturing a liquid crystal display element, comprising: forming a film having a predetermined thickness on an inner surface of a transparent substrate constituting a liquid crystal display element. The baking step is performed a plurality of times while sequentially reducing the application area thereof, whereby the film having the predetermined thickness is formed by a plurality of layers having different sizes. Production method.
【請求項2】前記膜用材料を塗布して乾燥し、焼成する
工程は、膜用材料を複数回重ねて塗布し、その後に乾燥
させ焼成する工程であることを特徴とする請求項1記載
の液晶表示素子の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the step of applying, drying and firing the film material is a step of applying the film material multiple times, followed by drying and firing. Method for manufacturing a liquid crystal display element.
【請求項3】前記膜用材料を塗布して乾燥し、焼成させ
る工程は、膜用材料を複数回重ねて塗布した後に室温で
放置し、その後に乾燥させ焼成する工程であることを特
徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
3. The step of applying, drying and baking the film material is a step of coating the film material a plurality of times, leaving the film material to stand at room temperature, and then drying and baking. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1.
【請求項4】前記膜用材料の塗布は、凸版を使用した印
刷法により行い、該凸版のサイズを順次小さくすること
により前記塗布領域を順次小さくすることを特徴とする
請求項1乃至3のいずれか1つに記載の液晶表示素子の
製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the coating of the film material is performed by a printing method using a relief printing plate, and the size of the relief printing plate is sequentially reduced to sequentially reduce the application area. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of the above.
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