JP2870076B2 - Method for manufacturing color liquid crystal display element - Google Patents
Method for manufacturing color liquid crystal display elementInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カラー液晶テレビ等に使用されるカラー液
晶表示素子の製造方法に係り、特にはカラーフィルタ上
を被覆するための保護膜の形成方法の改良に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color liquid crystal display element used for a color liquid crystal television or the like, and more particularly, to formation of a protective film for covering a color filter. Method improvement.
カラー液晶表示素子は、一般には第3図に示すよう
に、一対の透明基板1、2がシール材3を介して所定間
隔で対向配置され、この透明基板1、2及びシール材3
によって形成された密封空間内に液晶4が封入されてい
る。In general, as shown in FIG. 3, a color liquid crystal display element has a pair of transparent substrates 1 and 2 opposed to each other at a predetermined interval with a sealing material 3 interposed therebetween.
The liquid crystal 4 is sealed in the sealed space formed by the above.
そして、一方の透明基板1の内面には、一方向(第3
図では、紙面に平行な左右方向)に長く延びる赤色、緑
色、青色の3色のカラーフィルタ5(5R、5G、5B)
が、その方向とは直交する方向(第3図では、紙面に垂
直な方向)に第4図に示すように交互に繰り返して配設
されている。なお、各カラーフィルタ5R、5G、5
Bは、これを通過した各光に対して最適な透過及び遮断
状態が得られるような液晶4の層厚を設定するため、そ
れぞれの膜厚が異なっている。The inner surface of one of the transparent substrates 1 is provided in one direction (third direction).
In the figure, red elongated in the parallel lateral direction) to the paper surface, green, blue three color filters 5 (5 R, 5 G, 5 B)
However, they are alternately and repeatedly arranged in a direction perpendicular to the direction (in FIG. 3, a direction perpendicular to the paper surface) as shown in FIG. In addition, each color filter 5 R , 5 G , 5
B has different thicknesses because the layer thickness of the liquid crystal 4 is set so as to obtain an optimal transmission and blocking state for each light passing therethrough.
これらカラーフィルタ5上の全面は、ポリイミド等の
樹脂からなる保護膜6で覆われ、その上にはカラーフィ
ルタ5と同一方向に長く延びるITO膜等からなる複数本
の透明電極7がその方向とは直交する方向に一定間隔で
配設されている。更に、その上は配向膜8で覆われてお
り、この配向膜8が液晶4に直接接触している。The entire surface of the color filter 5 is covered with a protective film 6 made of a resin such as polyimide, and a plurality of transparent electrodes 7 made of an ITO film or the like extending in the same direction as the color filter 5 are provided thereon. Are arranged at regular intervals in the direction perpendicular to the direction. Further, the upper surface is covered with an alignment film 8, which is in direct contact with the liquid crystal 4.
また、もう一方の透明基板2の内面には、上記透明電
極7と直交する方向に延びるITO膜等からなる複数本の
透明電極9が一定間隔で配設され、この透明電極9と上
記の透明電極7との互いに対向する領域が画素領域を形
成している。透明電極9上は配向膜10で覆われており、
この配向膜10が液晶4に直接接触している。On the inner surface of the other transparent substrate 2, a plurality of transparent electrodes 9 made of an ITO film or the like extending in a direction orthogonal to the transparent electrode 7 are arranged at regular intervals. A region facing the electrode 7 forms a pixel region. The transparent electrode 9 is covered with an alignment film 10,
This alignment film 10 is in direct contact with the liquid crystal 4.
上記構成からなるカラー液晶表示素子を製造する際、
保護膜6は、第4図に示すように、一方の透明基板1上
にカラーフィルタ5(5R、5G、5B)を形成した後、
その上を樹脂で覆う工程によって形成される。この工程
において、保護膜6を形成するには、まず通常の印刷法
により、保護膜6となる材料をカラーフィルタ5上の全
面に塗布する。上記印刷法は、例えば第6図に示すよう
に、ノズル11から滴下された液体状の保護膜用材料12を
複数のローラ13で薄く均一に引き延ばしながら搬送し、
これを最後のローラ14の周面に設けられた印刷用凸版15
の表面に付着させて、これを、移動してくるステージ16
上に載置された透明基板1のカラーフィルタ5上に印刷
することにより行う。このようにしてカラーフィルタ5
上に保護膜用材料が塗布された後、これを予備乾燥して
硬化させることにより、最終的には固形の保護膜6を得
ることができる。When manufacturing a color liquid crystal display device having the above configuration,
Protective film 6, as shown in FIG. 4, after forming the color filter 5 (5 R, 5 G, 5 B) on one of the transparent substrate 1,
It is formed by a process of covering it with a resin. In this step, to form the protective film 6, first, a material to be the protective film 6 is applied to the entire surface of the color filter 5 by a normal printing method. In the printing method, for example, as shown in FIG. 6, the liquid protective film material 12 dropped from the nozzle 11 is transported while being thinly and uniformly stretched by a plurality of rollers 13,
This is applied to the printing relief plate 15 provided on the peripheral surface of the last roller 14.
To the surface of the moving stage 16
This is performed by printing on the color filter 5 of the transparent substrate 1 placed thereon. Thus, the color filter 5
After the material for the protective film is applied thereon, the material is preliminarily dried and cured, whereby the solid protective film 6 can be finally obtained.
上述した従来のカラー液晶表示素子の製造方法では、
保護膜用材料を透明基板1のカラーフィルタ5上に印刷
法により塗布した後、これを予備乾燥する際において、
第5図に示すように、硬化する前の保護膜6′が高さの
低い方へ少しずつ流れ出して、カラーフィルタ5のエッ
ジ部分(破線円内の部分)での膜厚が薄くなり、よって
カラーフィルタ5の被覆性が悪くなってしまうという問
題があった。In the above-described conventional method for manufacturing a color liquid crystal display element,
After applying the material for the protective film on the color filter 5 of the transparent substrate 1 by a printing method, when pre-drying the material,
As shown in FIG. 5, the protective film 6 ′ before being hardened flows out little by little toward the lower side, and the film thickness at the edge portion (the portion within the dashed circle) of the color filter 5 is reduced. There is a problem that the coverage of the color filter 5 is deteriorated.
そこで、被覆性を向上させるためには、高粘度の材料
を用いることが考えられるが、このような材料を用いれ
ば被覆性は上がるが、その反面、保護膜表面の平坦性が
悪くなってしまうという問題がある。Therefore, in order to improve the covering property, it is conceivable to use a high-viscosity material. However, if such a material is used, the covering property is increased, but on the other hand, the flatness of the protective film surface is deteriorated. There is a problem.
更に、透明基板1、カラーフィルタ5及び保護膜6の
それぞれの熱膨張係数が異なるため、保護膜6の硬化後
においても、その後続工程での熱処理の際に、上記の熱
膨張係数の違いによる応力が発生し、この応力が保護膜
6の膜厚の薄い部分(第5図の破線円内の部分)に集中
してしまう。そのため、その部分にクラックが発生し
て、保護膜6の上に形成された透明電極7(第3図参
照)が断線してしまうという問題もあった。Furthermore, since the respective coefficients of thermal expansion of the transparent substrate 1, the color filter 5, and the protective film 6 are different, even after the protective film 6 is cured, the heat treatment in the subsequent process may cause the difference in the above-described coefficient of thermal expansion. A stress is generated, and the stress concentrates on a thin portion of the protective film 6 (a portion within a broken circle in FIG. 5). For this reason, there is also a problem that a crack is generated in that portion and the transparent electrode 7 (see FIG. 3) formed on the protective film 6 is disconnected.
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、保護膜の平坦性を悪化させることな
くカラーフィルタのエッジ部分での被覆性を向上させ、
そのエッジ部分でのクラック発生を防止することのでき
るカラー液晶表示素子の製造方法を提供することにあ
る。The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and its object is to improve coverage at an edge portion of a color filter without deteriorating flatness of a protective film,
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a color liquid crystal display device that can prevent the occurrence of cracks at the edges.
本発明のカラー液晶表示素子の製造方法は、カラー液
晶表示素子を構成する一対の透明基板のうちの一方の透
明基板の内面に形成されたカラーフィルター上に、実質
的に同一の有機化合物からなる保護膜用材料の塗布及び
予備乾燥を複数回行って硬化させることにより複数層か
らなる保護膜を形成する工程を有することを特徴とする
ものである。The method for producing a color liquid crystal display element of the present invention comprises, on a color filter formed on the inner surface of one of the pair of transparent substrates constituting the color liquid crystal display element, substantially the same organic compound. The method is characterized by comprising a step of forming a protective film composed of a plurality of layers by performing application and preliminary drying of the protective film material a plurality of times and curing.
一度に厚い保護膜を形成しようとした場合は、第5図
に示したように硬化前の保護膜が高さの低い方に流れる
度合いが非常に大きくなるため、意図に反して、膜厚の
薄い保護膜しか得られない。If a thick protective film is to be formed at once, the degree of flow of the protective film before curing to the lower one becomes extremely large as shown in FIG. Only a thin protective film can be obtained.
そこで、本発明のように保護膜用材料の塗布及び乾燥
を複数回重ねて行うようにすれば、薄い保護膜を複数層
重ねることができるので、全体としては厚めの保護膜を
得ることができる。しかも、あえて粘度の高い材料を使
用する必要もないので、保護膜表面の平坦性が維持さ
れ、更に膜厚が厚くなることからカラーフィルタのエッ
ジ部分での被覆性が大きく向上し、クラックの発生も防
止できる。Therefore, if the coating and drying of the material for the protective film are performed a plurality of times as in the present invention, a plurality of thin protective films can be laminated, so that a thicker protective film as a whole can be obtained. . In addition, since it is not necessary to use a material having a high viscosity, the flatness of the surface of the protective film is maintained, and the thickness of the protective film is further increased. Can also be prevented.
また、保護膜用材料として、シリコン化合物の添加さ
れたものを使用すれば、保護膜の硬度を高めることがで
きるので、上記のクラックをより一層効果的に防止する
ことが可能になる。In addition, when a material to which a silicon compound is added is used as the material for the protective film, the hardness of the protective film can be increased, so that the cracks can be more effectively prevented.
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら
説明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図(a)〜(e)は、本発明の一実施例の製造工
程の主要部である保護膜の形成工程を示す断面図であ
る。1A to 1E are cross-sectional views showing a process of forming a protective film, which is a main part of a manufacturing process according to one embodiment of the present invention.
本実施例では、まず第1図(a)に示すように、ガラ
ス等でできた透明基板1上に、従来と同様に赤色、緑
色、青色の3色からなるカラーフィルタ5(5R、5G、
5B)を形成する。この3色のカラーフィルタ5R、
5G、5Bの膜厚は、同図では赤色、緑色、青色の順で厚
くなるように示したが、3色とも同じ膜厚でもよく、或
いは青色、緑色、赤色の順で厚くなるように形成しても
よい。In this embodiment, first, as shown in FIG. 1 (a), on a transparent substrate 1 made of glass or the like, similarly to the conventional red, green, color filter 5 consisting of blue three colors (5 R, 5 G ,
5 B ). These three color filters 5 R ,
5 thickness of G, 5 B is red in the figure, the green is shown to be thicker in the blue order, all three colors may be the same thickness, or blue, green, to be thicker red order May be formed.
次に、第1図(b)に示すように、カラーフィルタ5
の形成された透明基板1上に、第6図に示したような印
刷法により第1層目の保護膜21′を塗布する。この際の
保護膜用材料としては、例えば で示されるようなシリコン化合物を20mol%程度含有す
るポリイミド系材料等を使用する。このシリコン化合物
の含有量は、例えば5〜50mol%の範囲が望ましい。Next, as shown in FIG.
A first protective film 21 'is applied by a printing method as shown in FIG. 6 on the transparent substrate 1 on which is formed. As a material for the protective film at this time, for example, A polyimide-based material containing about 20 mol% of a silicon compound as shown by is used. The content of the silicon compound is desirably in the range of, for example, 5 to 50 mol%.
その後、上記の第1層目の保護膜21′を予備乾燥して
硬化させることにより、第1図(c)に示すように固形
の第1層目の保護膜21を得る。この保護膜21の膜厚は、
硬化前の保護膜21′の膜厚と比べて2〜3割程度減少し
ている。Thereafter, the first protective film 21 'is preliminarily dried and cured to obtain a solid first protective film 21 as shown in FIG. 1 (c). The thickness of the protective film 21 is
The thickness is reduced by about 20 to 30% as compared with the thickness of the protective film 21 'before curing.
続いて、上記第1層目の保護膜21上に、この第1層目
の保護膜21の形成方法と同一の方法を重ねて施すことに
より、第2層目の保護膜を形成する。すなわち、まず第
1図(d)に示すように、硬化して得られた第1層目の
保護膜21上に、上記と同様な印刷法により第2層目の保
護膜22′を塗布する。この際の保護膜用材料は、上記第
1層目の保護膜21′を塗布する際に用いた材料と同一の
ものを使用する。このようにして第2層目の保護膜22′
を塗布した後、これを予備乾燥して硬化させることによ
り、第1図(e)に示すように固形の第2層目の保護膜
22を得る。この保護膜22の膜厚は、前記と同様に硬化前
の保護膜22′の膜厚と比べて2〜3割程度減少してい
る。Subsequently, a second protective film is formed on the first protective film 21 by repeatedly applying the same method as the method of forming the first protective film 21. That is, as shown in FIG. 1 (d), a second-layer protective film 22 'is first applied on the first-layer protective film 21 obtained by curing by the same printing method as described above. . At this time, the same material as that used when applying the first-layer protective film 21 'is used. Thus, the second protective film 22 'is formed.
Is applied and then pre-dried and cured to form a solid second-layer protective film as shown in FIG. 1 (e).
Get 22. The film thickness of the protective film 22 is reduced by about 20 to 30% as compared with the film thickness of the protective film 22 'before curing as described above.
以上のようにカラーフィルタ5上に保護膜用材料の塗
布及び乾燥を2回重ねて行うことにより、第1層目の保
護膜21及び第2層目の保護膜22の2層溝造からなる、従
来のほぼ2倍の膜厚を持つ厚い保護膜20が形成される。As described above, by applying and drying the material for the protective film on the color filter 5 twice, a two-layer groove of the first protective film 21 and the second protective film 22 is formed. Thus, a thick protective film 20 having a film thickness almost twice that of the related art is formed.
本実施例によれば、上述したように保護膜用材料の塗
布及び乾燥を2回重ねて行うようにしたので、第5図の
場合と同様にカラーフィルタ5のエッジ部分で第1層目
の保護膜21の膜厚が薄くなったとしても、その上に更に
第2層目の保護膜22が重ねて形成されることにより十分
な膜厚が得られ、よって非常に優れた被覆性を得ること
ができる。しかも、保護膜用材料としてあえて粘度の高
い材料を使用する必要もないので、保護膜20表面の平坦
性を高く維持することができる。According to the present embodiment, as described above, the application and drying of the material for the protective film are performed twice, so that the first layer of the edge portion of the color filter 5 is formed as in the case of FIG. Even if the film thickness of the protective film 21 is reduced, a sufficient film thickness can be obtained by further forming the second layer of the protective film 22 thereon, thereby obtaining very excellent coverage. be able to. In addition, since it is not necessary to use a material having a high viscosity as a material for the protective film, the flatness of the surface of the protective film 20 can be maintained high.
また、上記のようにカラーフィルタ5のエッジ部分で
の保護膜20の膜厚を十分に厚くすることができ、しかも
保護膜用材料としてシリコン化合物の含有されたものを
使用することにより保護膜20の硬度を上げられることか
ら、この保護膜20は後続工程の熱処理時に生じる応力に
対して十分に耐えることができ、従来のようにクラック
が発生するのを防止できる。従って、従来のようなクラ
ックによる透明電極の断線を確実に防止することができ
る。更に、保護膜用材料としてポリイミド系材料を使用
したので、保護膜の熱膨張係数を、透明電極の材料であ
るITOに近づけることができ、よって上記の応力自体を
小さく抑えることもできる。Further, as described above, the thickness of the protective film 20 at the edge portion of the color filter 5 can be made sufficiently large, and further, by using a material containing a silicon compound as the material for the protective film, the protective film 20 can be formed. Since the hardness of the protective film 20 can be increased, the protective film 20 can sufficiently withstand the stress generated at the time of the heat treatment in the subsequent step, and can prevent the occurrence of cracks as in the conventional case. Therefore, disconnection of the transparent electrode due to cracks as in the related art can be reliably prevented. Further, since a polyimide-based material is used as the material for the protective film, the thermal expansion coefficient of the protective film can be made close to that of ITO, which is a material of the transparent electrode, and thus the above-mentioned stress itself can be suppressed to a small value.
次に、第2図は、本発明の他の実施例によって得られ
た保護膜の構造を示す断面図である。Next, FIG. 2 is a sectional view showing the structure of a protective film obtained according to another embodiment of the present invention.
前記実施例は保護膜用材料の塗布及び乾燥工程を2回
重ねて行うようにしたものであるが、本実施例は、前記
実施例と同様な保護膜用材料の塗布及び乾燥工程をn回
(n≧3)重ねて行うようにしたものである。本実施例
では、最終的に、第1層目の保護膜31、第2層目の保護
膜32、・・・、第n層目の保護膜3nからなるn層構造の
保護膜30が得られる。In this embodiment, the steps of applying and drying the material for the protective film are performed twice, and in this embodiment, the steps of applying and drying the material for the protective film are performed n times in the same manner as in the above example. (N ≧ 3). In this embodiment, finally, an n-layer structure protective film 30 including a first protective film 31, a second protective film 32,..., An nth protective film 3n is obtained. Can be
従って、本実施例によれば、保護膜30の膜厚を更に厚
くすることができるので、より一層平坦性及び被覆性に
優れた保護膜を得ることができ、かつ保護膜にクラック
が発生するのをより確実に防止することができる。しか
も、上記の塗布及び乾燥の回数を適宜設定することによ
り、任意の膜厚を得ることができる。Therefore, according to the present embodiment, since the thickness of the protective film 30 can be further increased, a protective film having even more excellent flatness and coverage can be obtained, and cracks occur in the protective film. Can be more reliably prevented. Moreover, an arbitrary film thickness can be obtained by appropriately setting the number of times of application and drying.
なお、上記の各実施例では、保護膜用の材料としてシ
リコン化合物の含有したものを使用したが、保護膜の硬
度を上げる必要がなければ、あえてシリコン化合物を含
有させる必要はない。In each of the above embodiments, a material containing a silicon compound was used as a material for the protective film. However, if it is not necessary to increase the hardness of the protective film, it is not necessary to intentionally include the silicon compound.
また、本発明は、第3図に示した構造のカラー液晶表
示素子だけでなく、カラーフィルタ上に保護膜を形成す
る構造のものであれば、どのようなものにも適用でき
る。Further, the present invention can be applied not only to the color liquid crystal display device having the structure shown in FIG. 3, but also to any device having a structure in which a protective film is formed on a color filter.
本発明によれば、保護膜用材料の塗布及び乾燥を複数
回重ねて行うことにより全体として厚めの保護膜を得る
ことができるので、カラーフィルタのエッジ部分での被
覆性を大きく向上させて、クラックの発生も防止するこ
とができる。しかも、あえて粘度の高い材料を使用する
必要もないので、保護膜表面の平坦性を高く維持するこ
ともできる。According to the present invention, a thicker protective film as a whole can be obtained by performing the coating and drying of the protective film material a plurality of times, so that the coverage at the edge portion of the color filter is greatly improved, Cracks can also be prevented. Moreover, since there is no need to use a material having a high viscosity, the flatness of the surface of the protective film can be maintained high.
また、保護膜用材料としてシリコン化合物の添加され
たものを使用すれば、保護膜の硬度を高めることがで
き、よってクラックの発生をより一層効果的に防止する
ことができる。In addition, when a material to which a silicon compound is added is used as the material for the protective film, the hardness of the protective film can be increased, and thus the occurrence of cracks can be more effectively prevented.
第1図(a)〜(e)は本発明の一実施例の製造工程の
主要部である保護膜の形成工程を示す断面図、 第2図は本発明の他の実施例によって得られた保護膜の
構造を示す断面図、 第3図は一般的なカラー液晶表示素子の構造を示す断面
図、 第4図は従来の保護膜の形成方法を示す断面図、 第5図は従来の保護膜の形成方法の問題点を示す断面
図、 第6図は印刷法による保護膜の塗布工程を示す図であ
る。 1……透明基板、5……カラーフィルタ、20……2層構
造の保護膜、21……第1層目の保護膜、22……第2層目
の保護膜、30……n層構造の保護膜、31……第1層目の
保護膜、32……第2層目の保護膜、33……第3層目の保
護膜、34……第4層目の保護膜、3n……第n層目の保護
膜.1 (a) to 1 (e) are cross-sectional views showing a process of forming a protective film which is a main part of a manufacturing process according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is obtained by another embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a structure of a general color liquid crystal display element, FIG. 4 is a cross-sectional view showing a conventional method of forming a protective film, and FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a problem of a method of forming a film. FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate, 5 ... Color filter, 20 ... Protective film of two-layer structure, 21 ... Protective film of the first layer, 22 ... Protective film of the second layer, 30 ... N-layer structure , A first-layer protective film, 32, a second-layer protective film, 33, a third-layer protective film, 34, a fourth-layer protective film, 3n ... ... n-th protective film.
Claims (2)
基板のうちの一方の透明基板の内面に形成されたカラー
フィルタ上に、実質的に同一の有機化合物からなる保護
膜用材料の塗布及び予備乾燥を複数回行って硬化させる
ことにより複数層からなる保護膜を形成する工程を有す
ることを特徴とするカラー液晶表示素子の製造方法。1. A method of applying a material for a protective film made of substantially the same organic compound to a color filter formed on an inner surface of one of a pair of transparent substrates constituting a color liquid crystal display element. A method for manufacturing a color liquid crystal display element, comprising a step of forming a protective film composed of a plurality of layers by performing predrying a plurality of times and curing.
とを特徴とする請求項1記載のカラー液晶表示素子の製
造方法。2. The method for manufacturing a color liquid crystal display device according to claim 1, wherein said protective film contains a silicon compound.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1341247A JP2870076B2 (en) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | Method for manufacturing color liquid crystal display element |
| US07/556,910 US5194976A (en) | 1989-07-25 | 1990-07-23 | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| EP90114173A EP0410387B2 (en) | 1989-07-25 | 1990-07-24 | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| DE69018721T DE69018721T3 (en) | 1989-07-25 | 1990-07-24 | Liquid crystal display device and its manufacturing method. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1341247A JP2870076B2 (en) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | Method for manufacturing color liquid crystal display element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03200216A JPH03200216A (en) | 1991-09-02 |
| JP2870076B2 true JP2870076B2 (en) | 1999-03-10 |
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ID=18344547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1341247A Expired - Lifetime JP2870076B2 (en) | 1989-07-25 | 1989-12-28 | Method for manufacturing color liquid crystal display element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2870076B2 (en) |
-
1989
- 1989-12-28 JP JP1341247A patent/JP2870076B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03200216A (en) | 1991-09-02 |
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