JP2862610B2 - 触媒組成物 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、一酸化炭素と1種以上のオレフィン性不飽
和化合物とのポリマーを製造するのに触媒として適当に
使用され得る。第VIII族金属とジホスフィンとをベース
にした新規の組成物に関する。
和化合物とのポリマーを製造するのに触媒として適当に
使用され得る。第VIII族金属とジホスフィンとをベース
にした新規の組成物に関する。
一方では一酸化炭素由来の単位と他方では加えられた
オレフィン性不飽和化合物由来の単位とが交互に存在す
る、一酸化炭素と1種以上のオレフィン性不飽和化合物
との線状ポリマーは、モノマーを、 a)第VIII族金属、及び b)一般式R1R2P−R−PR3R4のジホスフィン [式中、R1、R2、R3及びR4は同じまたは異なる必要によ
って極性置換されたヒドロカルビル基であり、且つRは
橋中に少なくとも2つの炭素原子を含む二価有機架橋基
である] をベースとする触媒組成物と高温及び高圧下で接触させ
ることにより製造できることは公知である。
オレフィン性不飽和化合物由来の単位とが交互に存在す
る、一酸化炭素と1種以上のオレフィン性不飽和化合物
との線状ポリマーは、モノマーを、 a)第VIII族金属、及び b)一般式R1R2P−R−PR3R4のジホスフィン [式中、R1、R2、R3及びR4は同じまたは異なる必要によ
って極性置換されたヒドロカルビル基であり、且つRは
橋中に少なくとも2つの炭素原子を含む二価有機架橋基
である] をベースとする触媒組成物と高温及び高圧下で接触させ
ることにより製造できることは公知である。
本出願人らが行なった上記触媒組成物についての調査
では、一酸化炭素を1種以上のオレフィン性不飽和化合
物と重合するためのこれらの活性は、成分c)として一
般式R5R6R7Pのモノホスフィンまたは一般式R5R6HPOのモ
ノホスフィンオキシド[式中、R5及びR6は同じまたは異
なる必要によって極性置換されたヒドロカルビル基であ
り、R7は水素または必要によって極性置換されたヒドロ
カルビル基である]を第VIII族金属1モル当たり0.25〜
2モルの量で含有させることにより大幅に増強し得ると
いう知見が得られた。
では、一酸化炭素を1種以上のオレフィン性不飽和化合
物と重合するためのこれらの活性は、成分c)として一
般式R5R6R7Pのモノホスフィンまたは一般式R5R6HPOのモ
ノホスフィンオキシド[式中、R5及びR6は同じまたは異
なる必要によって極性置換されたヒドロカルビル基であ
り、R7は水素または必要によって極性置換されたヒドロ
カルビル基である]を第VIII族金属1モル当たり0.25〜
2モルの量で含有させることにより大幅に増強し得ると
いう知見が得られた。
成分a)及びb)をベースとし且つ成分c)を前記量
で含有する触媒組成物は新規である。
で含有する触媒組成物は新規である。
即ち本特許出願は、 a)第VIII族金属、 b)一般式R1R2P−R−PR3R4のジホスフィン、及び c)第VIII族金属1モル当たり0.25〜2モルの、一般式
R5R6R7Pのモノホスフィンまたは一般式R5R6HPOのモノホ
スフィンオキシド [式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は同じまたは異なる
必要によって極性置換されたヒドロカルビル基であり、
R7は水素または必要によって極性置換されたヒドロカル
ビル基であり、且つRは橋中に少なくとも2つの炭素原
子を含む二価有機架橋基である] をベースとすることを特徴とする第VIII族金属及びジホ
スフィンをベースとする新規の触媒組成物に関する。
R5R6R7Pのモノホスフィンまたは一般式R5R6HPOのモノホ
スフィンオキシド [式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は同じまたは異なる
必要によって極性置換されたヒドロカルビル基であり、
R7は水素または必要によって極性置換されたヒドロカル
ビル基であり、且つRは橋中に少なくとも2つの炭素原
子を含む二価有機架橋基である] をベースとすることを特徴とする第VIII族金属及びジホ
スフィンをベースとする新規の触媒組成物に関する。
更に本特許出願は、一酸化炭素と1種以上のオレフィ
ン性不飽和化合物とのポリマーの製造におけるこれらの
触媒の適用に関する。
ン性不飽和化合物とのポリマーの製造におけるこれらの
触媒の適用に関する。
本特許出願において第VIII族金属とは、ルテニウム、
ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白
金といった貴金属、鉄、コバルト及びニッケルといった
鉄族金属であると理解されたい。
ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白
金といった貴金属、鉄、コバルト及びニッケルといった
鉄族金属であると理解されたい。
本発明の触媒組成物においては、第VIII族金属はパラ
ジウム、ニッケル及びコバルトから選択するのが好まし
い。第VIII族金属として特に好ましいのはパラジウムで
ある。
ジウム、ニッケル及びコバルトから選択するのが好まし
い。第VIII族金属として特に好ましいのはパラジウムで
ある。
好ましくは、第VIII族金属は触媒組成物中に塩の形態
で配合する。これに非常に適しているのは、塩酸のごと
きハロゲン化水素酸の塩、パラトルエンスルホン酸のご
ときpkaが2未満のスルホン酸の塩、酢酸のごときpkaが
4より大のカルボン酸の塩である。もし第VIII族金属
が、pkaが4より大のカルボン酸の塩の形態で触媒組成
物中に配合されているのであれば、更にこの触媒組成物
中にパラトルエンスルホン酸またはトリフルオロ酢酸の
ごときpkaが2未満の酸を、第VIII族金属1モル当たり
0.5〜50、特に1〜25モルの量で含有することが好まし
い。
で配合する。これに非常に適しているのは、塩酸のごと
きハロゲン化水素酸の塩、パラトルエンスルホン酸のご
ときpkaが2未満のスルホン酸の塩、酢酸のごときpkaが
4より大のカルボン酸の塩である。もし第VIII族金属
が、pkaが4より大のカルボン酸の塩の形態で触媒組成
物中に配合されているのであれば、更にこの触媒組成物
中にパラトルエンスルホン酸またはトリフルオロ酢酸の
ごときpkaが2未満の酸を、第VIII族金属1モル当たり
0.5〜50、特に1〜25モルの量で含有することが好まし
い。
一般式R1R2P−R−PR3R4のジホスフィンにおいては基
R1、R2、R3及びR4は同一であるのが好ましい。基R1、
R2、R3及びR4が未置換のフェニル基であるジホスフィ
ン、または基R1、R2、R3及びR4が少なくともそのうちの
1つがフェニル基が結合しているリン原子に対してオル
トの位置にある1つ以上のアルコキシ置換基を含むフェ
ニル基であるジホスフィンを本発明の触媒組成物中に配
合することは非常に適している。ジホスフィン中に存在
する架橋基Rは橋中に3個の原子を含むのが好ましい。
適当な架橋基Rの例としては−CH2−CH2−CH2−基、−C
H2−C(CH3)2−CH2−及び−CH2−Si(CH3)2−CH2−基
を挙げることができる。触媒組成物中に存在するジホス
フィンの量は第VIII族金属1モル当たり0.5〜1.5モル、
特に0.75〜1.25モルであるのが好ましい。
R1、R2、R3及びR4は同一であるのが好ましい。基R1、
R2、R3及びR4が未置換のフェニル基であるジホスフィ
ン、または基R1、R2、R3及びR4が少なくともそのうちの
1つがフェニル基が結合しているリン原子に対してオル
トの位置にある1つ以上のアルコキシ置換基を含むフェ
ニル基であるジホスフィンを本発明の触媒組成物中に配
合することは非常に適している。ジホスフィン中に存在
する架橋基Rは橋中に3個の原子を含むのが好ましい。
適当な架橋基Rの例としては−CH2−CH2−CH2−基、−C
H2−C(CH3)2−CH2−及び−CH2−Si(CH3)2−CH2−基
を挙げることができる。触媒組成物中に存在するジホス
フィンの量は第VIII族金属1モル当たり0.5〜1.5モル、
特に0.75〜1.25モルであるのが好ましい。
一般式R5R6R7Pのモノホスフィンにおいては、基R5、R
6及びR7が同一のヒドロカルビル基であるのが好まし
い。適したヒドロカルビル基の例としては、フェニル基
のごときアリール基またはn−ブチル基のごときアルキ
ル基を挙げることができる。一般式R5R6HPOのモノホス
フィンオキシドに対しても、ここに存在するR5及びR6が
相互に同一のヒドロカルビル基であることが好ましいと
言える。本発明の触媒組成物に使用するのに適したモノ
ホスフィンオキシドの例としてはジフェニルホスフィン
オキシドを挙げることができる。触媒組成物中に配合さ
れるモノホスフィンまたはモノホスフィンオキシドの量
は、第VIII族金属1モル当たり0.75〜1.25モルであるの
が好ましい。
6及びR7が同一のヒドロカルビル基であるのが好まし
い。適したヒドロカルビル基の例としては、フェニル基
のごときアリール基またはn−ブチル基のごときアルキ
ル基を挙げることができる。一般式R5R6HPOのモノホス
フィンオキシドに対しても、ここに存在するR5及びR6が
相互に同一のヒドロカルビル基であることが好ましいと
言える。本発明の触媒組成物に使用するのに適したモノ
ホスフィンオキシドの例としてはジフェニルホスフィン
オキシドを挙げることができる。触媒組成物中に配合さ
れるモノホスフィンまたはモノホスフィンオキシドの量
は、第VIII族金属1モル当たり0.75〜1.25モルであるの
が好ましい。
触媒組成物の活性を増強するために、更に1,4−キノ
ンを配合してもよい。1,4−ベンゾキノン及び1,4−ナフ
トキノンはこれに非常に適している。使用する1,4−キ
ノンの量は、第VIII族金属1モル当たり10〜1000モル、
特に25〜250モルであるのが好ましい。
ンを配合してもよい。1,4−ベンゾキノン及び1,4−ナフ
トキノンはこれに非常に適している。使用する1,4−キ
ノンの量は、第VIII族金属1モル当たり10〜1000モル、
特に25〜250モルであるのが好ましい。
本発明の触媒組成物を使用することによる重合は好ま
しくは、モノマーを、触媒組成物をポリマーが不溶性ま
たはほぼ不溶性を示す希釈剤中に溶解した溶液と接触さ
せることにより実施する。非常に適した希釈剤はメタノ
ールのごとき低級アルコールである。重合は、所望であ
れば気相中で実施することができる。本発明の触媒組成
物を使用して一酸化炭素と適当に重合することができる
オレフィン性不飽和化合物は、炭素及び水素のみからな
る化合物並びに炭素及び水素に加えて1つ以上のヘテロ
原子を含む化合物である。本発明の触媒組成物は、一酸
化炭素と1種以上のオレフィン性不飽和炭化水素とのポ
リマーの製造に好ましく適用される。適当な炭化水素モ
ノマーの例としてはエテンと、プロペン、ブテン−1、
ヘキセン−1及びオクテン−1といった他のα−オレフ
ィンとを挙げることができる。本発明の触媒組成物は、
一酸化炭素とエテンとのコポリマーの製造や、一酸化炭
素とエテン及び他のα−オレフィン、特にプロペンとの
ターポリマーの製造に適用するのに特に適している。
しくは、モノマーを、触媒組成物をポリマーが不溶性ま
たはほぼ不溶性を示す希釈剤中に溶解した溶液と接触さ
せることにより実施する。非常に適した希釈剤はメタノ
ールのごとき低級アルコールである。重合は、所望であ
れば気相中で実施することができる。本発明の触媒組成
物を使用して一酸化炭素と適当に重合することができる
オレフィン性不飽和化合物は、炭素及び水素のみからな
る化合物並びに炭素及び水素に加えて1つ以上のヘテロ
原子を含む化合物である。本発明の触媒組成物は、一酸
化炭素と1種以上のオレフィン性不飽和炭化水素とのポ
リマーの製造に好ましく適用される。適当な炭化水素モ
ノマーの例としてはエテンと、プロペン、ブテン−1、
ヘキセン−1及びオクテン−1といった他のα−オレフ
ィンとを挙げることができる。本発明の触媒組成物は、
一酸化炭素とエテンとのコポリマーの製造や、一酸化炭
素とエテン及び他のα−オレフィン、特にプロペンとの
ターポリマーの製造に適用するのに特に適している。
ポリマー製造に使用する触媒溶液の量は広範囲にわた
り変えることができるが、好ましくは、重合するべきオ
レフィン性不飽和化合物1モル当たりに使用する量の触
媒溶液に、第VIII族金属を10-7〜10-3、特に10-6〜10-4
モル含有させる。
り変えることができるが、好ましくは、重合するべきオ
レフィン性不飽和化合物1モル当たりに使用する量の触
媒溶液に、第VIII族金属を10-7〜10-3、特に10-6〜10-4
モル含有させる。
ポリマー製造は、温度50〜150℃及び圧力20〜150バー
ル、特に温度75〜125℃及び圧力30〜100バールで実施す
ることが好ましい。重合するべき混合物中のオレフィン
性不飽和化合物と一酸化炭素とのモル比は10:1〜1:10、
特に5:1〜1:5であるのが好ましい。
ル、特に温度75〜125℃及び圧力30〜100バールで実施す
ることが好ましい。重合するべき混合物中のオレフィン
性不飽和化合物と一酸化炭素とのモル比は10:1〜1:10、
特に5:1〜1:5であるのが好ましい。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1 一酸化炭素/エテンコポリマーを次のように製造し
た。容量250mlの撹拌オートクレーブに、メタノール100
mlと二塩化パラジウム0.1mmol及び1,3−ビス[ビス(2
−メトキシフェニル)ホスフィノ]プロパン0.1mmolの
錯体とを含有する触媒溶液を充填した。
た。容量250mlの撹拌オートクレーブに、メタノール100
mlと二塩化パラジウム0.1mmol及び1,3−ビス[ビス(2
−メトキシフェニル)ホスフィノ]プロパン0.1mmolの
錯体とを含有する触媒溶液を充填した。
オートクレーブ中に存在するいかなる空気も排気して
除去した後、1:1一酸化炭素/エテン混合物を、圧力が4
0バールに達するまで吹き込んだ。次いで、オートクレ
ーブの内容物を温度110℃にまで加熱した。2時間後、
室温まで冷却し且つ圧力を解放することにより重合を停
止した。製造されたポリマーを別し、メタノールで洗
浄し、室温で真空乾燥した。
除去した後、1:1一酸化炭素/エテン混合物を、圧力が4
0バールに達するまで吹き込んだ。次いで、オートクレ
ーブの内容物を温度110℃にまで加熱した。2時間後、
室温まで冷却し且つ圧力を解放することにより重合を停
止した。製造されたポリマーを別し、メタノールで洗
浄し、室温で真空乾燥した。
コポリマー3.5gが得られ、重合速度は1時間にパラジ
ウム1g当たりコポリマー165gであった。
ウム1g当たりコポリマー165gであった。
実施例2 一酸化炭素/エテンコポリマーを実施例1のコポリマ
ーとほぼ同様に製造した。但し、触媒溶液は更にトリフ
ェニルホスフィン0.1mmolを含有するものとした。
ーとほぼ同様に製造した。但し、触媒溶液は更にトリフ
ェニルホスフィン0.1mmolを含有するものとした。
コポリマー7.5gが得られ、重合速度は1時間にパラジ
ウム1g当たりコポリマー350gであった。
ウム1g当たりコポリマー350gであった。
実施例3 一酸化炭素/エテンコポリマーを実施例1のコポリマ
ーとほぼ同様に製造した。但し、触媒溶液中のパラジウ
ム錯体は1,3−ビス[ビス(2−メトキシフェニル)ホ
スフィノ]プロパンに代えて1,3−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)プロパン0.1mmolを含有するとした。
ーとほぼ同様に製造した。但し、触媒溶液中のパラジウ
ム錯体は1,3−ビス[ビス(2−メトキシフェニル)ホ
スフィノ]プロパンに代えて1,3−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)プロパン0.1mmolを含有するとした。
コポリマー1.5gが得られ、重合速度は1時間にパラジ
ウム1g当たりコポリマー70gであった。
ウム1g当たりコポリマー70gであった。
実施例4 一酸化炭素/エテンコポリマーを実施例3のコポリマ
ーとほぼ同様に製造した。但し、 a)触媒溶液は更にジフェニルホスフィンオキシド0.1m
molを含有するものとし、 b)反応時間は2時間に代えて1時間とした。
ーとほぼ同様に製造した。但し、 a)触媒溶液は更にジフェニルホスフィンオキシド0.1m
molを含有するものとし、 b)反応時間は2時間に代えて1時間とした。
コポリマー2.5gが得られ、重合速度は1時間にパラジ
ウム1g当たりコポリマー235gであった。
ウム1g当たりコポリマー235gであった。
実施例5 一酸化炭素/エテンコポリマーを実施例1のコポリマ
ーとほぼ同様に製造した。但し、 a)パラジウム錯体として、触媒溶液は更にパラジウム
(パラトシレート)0.1mmol及び1,3−ビス(ジフェニル
ホスフィノ)プロパン0.1mmolの錯体を含有するものと
し、 b)反応温度は110℃に代えて95℃とし、且つ c)反応時間は2時間に代えて30分間とした。
ーとほぼ同様に製造した。但し、 a)パラジウム錯体として、触媒溶液は更にパラジウム
(パラトシレート)0.1mmol及び1,3−ビス(ジフェニル
ホスフィノ)プロパン0.1mmolの錯体を含有するものと
し、 b)反応温度は110℃に代えて95℃とし、且つ c)反応時間は2時間に代えて30分間とした。
コポリマー6.5gが得られ、重合速度は1時間にパラジウ
ム1g当たりコポリマー1220gであった。
ム1g当たりコポリマー1220gであった。
実施例6 一酸化炭素/エテンコポリマーを実施例5のコポリマ
ーとほぼ同様に製造した。但し、触媒溶液は更にトリフ
ェニルホスフィン0.1mmolを含有するとした。
ーとほぼ同様に製造した。但し、触媒溶液は更にトリフ
ェニルホスフィン0.1mmolを含有するとした。
コポリマー12gが得られ、重合速度は1時間にパラジ
ウム1g当たりコポリマー2250gであった。
ウム1g当たりコポリマー2250gであった。
実施例7 一酸化炭素/エテンコポリマーを実施例1のコポリマ
ーとほぼ同様に製造した。但し、 a)使用した触媒溶液は、 メタノール100ml 二酢酸パラジウム0.1mmol、 1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン0.1mmol、
トリ(n−ブチル)ホスフィン0.1mmol、及び トリフルオロ酢酸2.0mmol を含有するものとし、 b)反応温度は110℃に代えて90℃とし、且つ c)反応時間は2時間に代えて30分間とした。
ーとほぼ同様に製造した。但し、 a)使用した触媒溶液は、 メタノール100ml 二酢酸パラジウム0.1mmol、 1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン0.1mmol、
トリ(n−ブチル)ホスフィン0.1mmol、及び トリフルオロ酢酸2.0mmol を含有するものとし、 b)反応温度は110℃に代えて90℃とし、且つ c)反応時間は2時間に代えて30分間とした。
コポリマー9.3gが得られ、重合速度は1時間にパラジ
ウム1g当たりコポリマー1745gであった。
ウム1g当たりコポリマー1745gであった。
実施例8 一酸化炭素/エテンコポリマーを実施例1のコポリマ
ーとほぼ同様に製造した。但し、 a)使用した触媒溶液は、 メタノール100ml 二酢酸パラジウム0.1mmol、 1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン0.1mmol、
トリ(n−ブチル)ホスフィンオキシド0.1mmol、及び
トリフルオロ酢酸2.0mmol を含有するものとし、 b)反応温度は110℃に代えて90℃とし、且つ c)反応時間は2時間に代えて40分間とした。
ーとほぼ同様に製造した。但し、 a)使用した触媒溶液は、 メタノール100ml 二酢酸パラジウム0.1mmol、 1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン0.1mmol、
トリ(n−ブチル)ホスフィンオキシド0.1mmol、及び
トリフルオロ酢酸2.0mmol を含有するものとし、 b)反応温度は110℃に代えて90℃とし、且つ c)反応時間は2時間に代えて40分間とした。
コポリマー13.3gが得られ、重合速度は1時間にパラ
ジウム1g当たりコポリマー1870gであった。
ジウム1g当たりコポリマー1870gであった。
実施例1〜8において実施例2、4及び6〜8は本発
明に従う実施例であり、これらの実施例においては、第
VIII族金属に加えてジホスフィン、モノホスフィンまた
はモノホスフィンオキシドを含有する触媒組成物を使用
した。モノホスフィンまたはモノホスフィンオキシドを
含有しない触媒組成物を使用した実施例1、3及び5は
本発明の範囲外であるが、比較のために本特許出願に包
含されるものとする。第VIII族金属及びジホスフィンを
含有する触媒組成物中にモノホスフィンまたはモノホス
フィンオキシドを含有させると活性が増加することは、
それぞれ実施例1、3及び5で得られた重合速度と実施
例2、4及び6とで得られた重合速度とを比較すること
により明らかに示される。
明に従う実施例であり、これらの実施例においては、第
VIII族金属に加えてジホスフィン、モノホスフィンまた
はモノホスフィンオキシドを含有する触媒組成物を使用
した。モノホスフィンまたはモノホスフィンオキシドを
含有しない触媒組成物を使用した実施例1、3及び5は
本発明の範囲外であるが、比較のために本特許出願に包
含されるものとする。第VIII族金属及びジホスフィンを
含有する触媒組成物中にモノホスフィンまたはモノホス
フィンオキシドを含有させると活性が増加することは、
それぞれ実施例1、3及び5で得られた重合速度と実施
例2、4及び6とで得られた重合速度とを比較すること
により明らかに示される。
13C−NMR分析によって、実施例1から8によって製造
した一酸化炭素/エテンコポリマーは線状構造であっ
て、一方で一酸化炭素由来の単位と他方でエテン由来の
単位とが交互に存在することが立証された。
した一酸化炭素/エテンコポリマーは線状構造であっ
て、一方で一酸化炭素由来の単位と他方でエテン由来の
単位とが交互に存在することが立証された。
Claims (10)
- 【請求項1】a)第VIII族金属、 b)一般式R1R2P−R−PR3R4のジホスフィン、及び c)第VIII族金属1モル当たり0.25〜2モルの、一般式
R5R6R7Pのモノホスフィンまたは一般式R5R6HPOのモノホ
スフィンオキシド [式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は同じまたは異な
る、非置換又は極性置換されたヒドロカルビル基であ
り、R7は水素または非置換あるいは極性置換されたヒド
ロカルビル基であり、且つRは橋中に少なくとも2つの
炭素原子を含む二価有機架橋基である] を含有することを特徴とする、第VIII族金属及びジホス
フィンを含む、一酸化炭素と1種以上のオレフィン性不
飽和化合物との重合用触媒組成物。 - 【請求項2】第VIII族金属としてパラジウムを含有する
ことを特徴とする請求項1に記載の触媒組成物。 - 【請求項3】第VIII族金属が塩の形態でそのなかに配合
されていることを特徴とする請求項1または2に記載の
触媒組成物。 - 【請求項4】基R1、R2、R3及びR4が未置換のフェニル基
または、少なくともそのうちの1つがフェニル基が結合
しているリン原子に対してオルトの位置にある1つ以上
のアルコキシ基を含むフェニル基であるジホスフィンを
含有することを特徴とする請求項1から3のいずれか一
項に記載の触媒組成物。 - 【請求項5】ジホスフィンを第VIII族金属1モル当たり 0.5〜1.5モルの量で含有することを特徴とする請求項1
から4のいずれか一項に記載の触媒組成物。 - 【請求項6】基R5、R6及びR7が同一のヒドロカルビル基
であるモノホスフィンを含有することを特徴とする請求
項1から5のいずれか一項に記載の触媒組成物。 - 【請求項7】基R5、R6及びR7がアリール基またはアルキ
ル基であるモノホスフィンを含有することを特徴とする
請求項6に記載の触媒組成物。 - 【請求項8】基R5及びR6が同一のヒドロカルビル基であ
るモノホスフィンオキシドを含有することを特徴とする
請求項1から7のいずれか一項に記載の触媒組成物。 - 【請求項9】一酸化炭素と1種以上のオレフィン性不飽
和化合物との混合物を請求項1から8のいずれか一項に
記載の触媒組成物と高温及び高圧下で接触することを特
徴とする一酸化炭素と1種以上のオレフィン性不飽和化
合物とのポリマーの製造方法。 - 【請求項10】温度50〜150℃、圧力20〜150バール及び
重合するべき混合物中のオレフィン性不飽和化合物と一
酸化炭素とのモル比10:1〜1:10で実施し、前記触媒組成
物を、重合するべきオレフィン性不飽和化合物1モル当
たり第VIII族金属10-7〜10-3モルを含有するような量で
使用することを特徴とする請求項9に記載の方法。
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|---|---|---|---|
| NL8900139 | 1989-01-20 | ||
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|---|---|
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