JP2863641B2 - Hard substrate coating device - Google Patents
Hard substrate coating deviceInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板を用いた液
晶表示板などの製造に用いられ、フォトレジストなどの
塗布液を硬基板に薄く均一に塗布するための硬基板塗布
装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hard substrate coating apparatus used for manufacturing a liquid crystal display panel using a glass substrate and for applying a coating liquid such as a photoresist to a hard substrate in a thin and uniform manner. is there.
【0002】[0002]
【発明の技術的背景】液晶板の製造工程の中には、ガラ
ス基板などの硬基板にフォトレジストなどの塗布液を薄
く均一な厚さに塗布する工程がある。例えばカラー液晶
板の製造においては、透明電極を予め形成したガラス基
板に、フォトレジストの機能を有する赤のカラ−モザイ
ク液を均一に塗布した後、露光して赤に対応するカラ−
モザイクを硬化させ、余分の液を除去することにより赤
のカラーモザイクを形成している。そしてこれと同様な
処理を緑、青などの他の色について繰り返している。こ
のようにフォトレジストとなる塗布液を塗布する場合、
この液は均一な厚さ(例えば2μ±5%程度)に厳密に
管理して薄く塗布する必要がある。この塗布の厚さが不
均一であると、光の透過率のむらが生じ、品質の低下を
招くことになるからである。2. Description of the Related Art In a manufacturing process of a liquid crystal plate, there is a process of applying a coating liquid such as a photoresist to a thin and uniform thickness on a hard substrate such as a glass substrate. For example, in the production of a color liquid crystal plate, a red color mosaic liquid having a photoresist function is uniformly applied to a glass substrate on which a transparent electrode has been formed in advance, and then exposed to a color corresponding to red.
The mosaic is cured and excess liquid is removed to form a red color mosaic. The same processing is repeated for other colors such as green and blue. When applying a coating liquid to be a photoresist in this way,
This liquid needs to be strictly controlled to a uniform thickness (for example, about 2 μ ± 5%) and to be applied thinly. This is because if the thickness of the coating is non-uniform, the light transmittance becomes uneven, which leads to a deterioration in quality.
【0003】従来はこの塗布のためにスピンコータが用
いられていた。このスピンコータは回転させた基板の回
転中心付近に塗布液を滴下し、この液を遠心力を利用し
て飛散させることにより塗布するものである。しかしこ
のスピンコータを用いる方法では基板の交換に手間取り
作業能率が悪くなるばかりでなく、飛散して捨てられる
液の量が増えることになる。このためコストアップにな
るという問題があった。Conventionally, a spin coater has been used for this coating. In this spin coater, a coating liquid is dropped near a rotation center of a rotated substrate, and the liquid is applied by scattering using a centrifugal force. However, in the method using the spin coater, not only the time and labor efficiency for replacing the substrate are deteriorated, but also the amount of the liquid scattered and discarded increases. For this reason, there was a problem that the cost was increased.
【0004】そこで水平に配設された上下一対のローラ
間に基板を挟んで塗布する装置(いわゆるギーサー)を
用いることが考えられている。この装置は下のローラと
なるマイクロロッドバーの下部を塗布液に浸漬し、この
マイクロロッドバーとこの上方に位置するニップローラ
との間に基板を挟んで送りながら、マイクロロッドバー
により基板の下面に塗布するものである。 In view of this, it has been considered to use an apparatus (so-called Gieser) for coating a substrate between a pair of upper and lower rollers disposed horizontally. In this device, the lower part of the micro rod bar, which is the lower roller, is immersed in the coating liquid, and the substrate is sandwiched and sent between the micro rod bar and the nip roller located above the micro rod bar. It is to be applied .
【0005】 しかしこの場合には、塗布液の色や種類を
変更する際の洗浄作業が面倒になるという問題があっ
た。すなわち給液タンクの交換だけでなく、給液系のフ
ィルタ、切換弁、パイプやギーサーも十分に洗浄して古
い塗布液を完全に除去しなければならず、特にフィルタ
や切換弁は洗浄がしにくいからである。また塗布液槽の
液を循環させる循環系を有する場合には、この循環系か
らも古い液を完全に除去しておかなければならない。こ
のため塗布液を交換する際には洗浄に手間と時間がかか
り、その作業能率が悪く、装置の稼動率が下がるという
問題があった。 [0005] However, in this case, there is a problem that the cleaning operation when changing the color and type of the coating liquid becomes complicated. That is, not only replacement of the supply tank, but also the filters, switching valves, pipes, and greasers of the supply system must be thoroughly washed to completely remove the old coating solution. Because it is difficult. In addition, the coating liquid tank
If you have a circulation system that circulates the liquid,
They must also completely remove the old liquid . For this reason, when replacing the coating liquid, there is a problem that cleaning takes time and labor, the work efficiency is poor, and the operation rate of the apparatus is reduced.
【0006】[0006]
【発明の目的】本発明はこのような事情に鑑みなされた
ものであり、上下のローラ間に硬基板を挟んで送りなが
ら基板の下面に塗布液を塗布する場合に、塗布液の交換
を短時間で能率よくできるようにして、装置の稼働率を
向上させることができる硬基板塗布装置を提供すること
を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and when coating a coating liquid on the lower surface of a substrate while feeding a hard substrate between upper and lower rollers, the replacement of the coating liquid can be shortened. It is an object of the present invention to provide a hard substrate coating apparatus capable of improving the operation rate of the apparatus in a time efficient manner.
【0007】[0007]
【発明の構成】本発明によればこの目的は、塗布液槽に
上部を残して水平に浸漬されたマイクロロッドバーと、
このマイクロロッドバーの上方に配設されたニップロー
ラとの間に硬基板を挟持して送ることにより、前記硬基
板の下面に塗布液を塗布する硬基板塗布装置において、
前記塗布液を収容する給液タンクと、この給液タンクか
ら塗布液をフィルタおよび切換弁を介して前記塗布液槽
に供給する給液系と、前記塗布液槽の塗布液を循環用ポ
ンプおよびフィルタを介して循環させる循環系と、前記
塗布液槽の塗布液を切換弁を介して排液タンクに導く排
液系とを備え、前記給液系および循環系のフィルタと切
換弁と循環用ポンプとを含む前記給液系および循環系で
1つのユニットを形成し、このユニットを着脱交換可能
としたことを特徴とする硬基板塗布装置、により達成さ
れる。According to the present invention, there is provided a micro rod bar which is horizontally immersed in a coating solution tank while leaving its upper part,
In a hard substrate coating apparatus that applies a coating liquid to the lower surface of the hard substrate by nipping and sending the hard substrate between a nip roller disposed above the micro rod bar,
A liquid supply tank for containing the coating liquid, a liquid supply system for supplying the coating liquid from the liquid supply tank to the coating liquid tank via a filter and a switching valve, and a circulation port for the coating liquid in the coating liquid tank;
A circulation system that circulates through a pump and a filter;
Draining the coating liquid from the coating liquid tank to the drain tank via the switching valve
A single unit is formed by the liquid supply system and the circulation system including the liquid supply system and the circulation system filter , the switching valve, and the circulation pump, and this unit is detachable and replaceable. This is achieved by a hard substrate coating apparatus characterized in that:
【0008】 ここに循環系のフィルタを給液系のフィル
タと兼用させるのが望ましい。 [0008] It is desirable to also serve as the liquid supply system of the filter circulation system filters here.
【0009】[0009]
【作用】塗布液は給液タンクからフィルタ、切換弁およ
びパイプを介してギーサーの塗布液槽に供給される。こ
の塗布液槽の液は循環系を循環し清浄に保たれる。塗布
液を変更する時には給液タンクを洗浄液のタンクあるい
は新しい洗浄液の給液タンクに変更すると共に、ユニッ
トを新しい塗布液用のものに変更する。また塗布液槽も
洗浄する。そして給液系によって洗浄液あるいは新しい
塗布液を塗布液槽に供給する。また循環ポンプを作動さ
せて液をフィルタを通して循環させる。洗浄液を供給し
た場合には、その後洗浄液タンクを給液タンクに変更し
同様に新しい塗布液を供給し循環させる。The coating liquid is supplied from the liquid supply tank to the Gieser coating liquid tank via a filter, a switching valve and a pipe. This
The liquid in the coating liquid tank is circulated through the circulation system to be kept clean. When the coating liquid is changed, the supply tank is changed to a cleaning liquid tank or a new cleaning liquid supply tank, and the unit is changed to a new coating liquid. The coating solution tank is also cleaned. Then, a cleaning liquid or a new coating liquid is supplied to the coating liquid tank by a liquid supply system. Also activate the circulation pump
And circulate the liquid through the filter. When the cleaning liquid is supplied, the cleaning liquid tank is thereafter changed to a liquid supply tank, and a new coating liquid is similarly supplied and circulated .
【0010】[0010]
【実施例】図1は本発明の一実施例の全体経路図、図2
はそのギーサーの平面図、図3はその正面断面図、図4
と図5は図3におけるIV−IV線端面図とV−V線端面
図、図6は全体の配置概念図、図7はユニットの正面
図、図8はその平面図、図9は同じく右側面図である。FIG. 1 is an overall route diagram of an embodiment of the present invention, and FIG.
Is a plan view of the gisa, FIG. 3 is a front sectional view thereof, and FIG.
5, FIG. 5 is an end view taken along line IV-IV and VV of FIG. 3, FIG. 6 is a conceptual view of the entire arrangement, FIG. 7 is a front view of the unit, FIG. 8 is a plan view thereof, and FIG. FIG.
【0011】 図6において符号10はガラス基板、12
はローラコンベアであり、ガラス基板10はその下面の
左右の縁をコンベア12のローラに載せた状態で図上左
から右へ送られる。コンベア12の途中にはギーサー1
4が配設されている。このギーサ14は小径で断面円形
なマイクロロッドバー16と、その上方に対向する大径
のニップローラ18と、マイクロロッドバー16の上部
を残してほぼ全体が入る塗布液槽20とを有する。 In FIG . 6, reference numeral 10 denotes a glass substrate;
Is a roller conveyor, and the glass substrate 10 is sent from left to right in the figure with the left and right edges of the lower surface thereof placed on rollers of the conveyor 12. Gieser 1 in the middle of the conveyor 12
4 are provided. The gisa 14 includes a microrod bar 16 having a small diameter and a circular cross section, a nip roller 18 having a large diameter facing above the microrod bar 16, and a coating solution tank 20 in which almost the entirety of the microrod bar 16 except the upper portion is contained.
【0012】 塗布液槽20は、図2ないし図5に示すよ
うに、基板10の送り方向に直交する方向に長く浅い液
溜め部22を持ち、この液溜め部22には給液パイプ2
4から新しい液が供給される一方、排液口26から塗布
液が排出される。給液パイプ24は液溜め部22の一端
寄りの内壁に設けた凹部28(図2、5)の上方に望
み、排液口26は他端寄りの底に開口する。このため塗
布液が液溜め部22をその長手方向に流れて液を均質化
するのに適する。なおこの塗布液の深さは図示しない液
面センサにより監視され、常に一定に管理される。 As shown in FIGS. 2 to 5, the coating liquid tank 20 has a long and shallow liquid reservoir 22 in a direction perpendicular to the direction in which the substrate 10 is fed.
4, while the coating liquid is discharged from the liquid discharge port 26. The liquid supply pipe 24 is viewed above a concave portion 28 (FIGS. 2 and 5) provided on the inner wall near one end of the liquid reservoir 22, and the drain port 26 opens at the bottom near the other end. Therefore, the coating liquid is suitable for flowing in the liquid reservoir 22 in the longitudinal direction thereof to homogenize the liquid. The depth of the coating liquid is monitored by a liquid level sensor (not shown), and is constantly maintained at a constant level.
【0013】 マイクロロッドバー16はその上部が液か
ら露出するように水平に保持されている。すなわち液溜
め部22の両端には上方に半円弧状に開いた凹部を有す
る軸受部30、32が設けられ、この軸受部30、32
とここに上方から被されるキャップ34、36との間に
マイクロロッドバー16を回転自在に保持している。ま
たマイクロロッドバー16の中間部分はバックアップ部
材38により下方から支持されている。このバックアッ
プ部材38は、摺動性に優れた硬質の合成樹脂で作ら
れ、その上面に長手方向に沿って形成された半円形の溝
がマイクロロッドバー16に下方から当接してマイクロ
ロッドバー16のたわみを防止するものである。なおこ
のバックアップ部材38の高さは、この下方に配列され
た多数の調整ねじ40により塗布液槽20の下面から微
調整可能となっている。 The micro rod bar 16 is held horizontally so that its upper part is exposed from the liquid. That is, bearing portions 30 and 32 having concave portions that open upward in a semicircular arc are provided at both ends of the liquid reservoir portion 22, and the bearing portions 30 and 32 are provided.
The micro rod bar 16 is rotatably held between the cap and the caps 34 and 36 covered from above. The intermediate portion of the micro rod bar 16 is supported from below by a backup member 38. The backup member 38 is made of a hard synthetic resin having excellent slidability. A semicircular groove formed on the upper surface of the backup member 38 along the longitudinal direction comes into contact with the micro rod bar 16 from below, and the micro rod bar 16 To prevent deflection. The height of the backup member 38 can be finely adjusted from the lower surface of the coating liquid tank 20 by a number of adjustment screws 40 arranged below the backup member 38.
【0014】 マイクロロッドバー16の一端(図6にお
ける奥側の端)は塗布液槽20により後方へ突出し、こ
の突出端は着脱自在な継手42によって電動モータ44
に接続されている。この電動モータ44はガラス基板1
0の送り速度がコンベア12と等速になるようにその回
転が管理されている。前記ニップローラ18の表面は導
電性ゴムで作られ、マイクロロッドバー16との間にガ
ラス基板10を挟んだ状態でガラス基板10に所定の挟
圧力を付与するように保持されている。One end (the end on the far side in FIG. 6 ) of the micro rod bar 16 projects rearward by the coating solution tank 20, and this projecting end is connected to the electric motor 44 by a detachable joint 42.
It is connected to the. The electric motor 44 is mounted on the glass substrate 1
The rotation is controlled so that the feed speed of 0 is equal to the speed of the conveyor 12. The surface of the nip roller 18 is made of conductive rubber, and is held so as to apply a predetermined clamping force to the glass substrate 10 with the glass substrate 10 sandwiched between the nip roller 18 and the micro rod bar 16.
【0015】 従ってローラコンベア12により図6で左
側から右側へ送られるガラス基板10は、マイクロロッ
ドバー16とニップローラ18との間に進入する。マイ
クロロッドバー16の表面にはその回転により液溜め部
22の塗布液が付着しているから、このマイクロロッド
バー16の回転に伴いガラス基板10の下面にこの塗布
液が塗布されて行く。液溜め部22の液面のレベルと、
ニップローラ18による挟圧力とは一定に管理されてい
るから、ガラス基板10の下面に塗布される液の厚さは
十分に薄くかつ高精度に管理され得る。 [0015] Thus the glass substrate 10 fed from the left side in FIG. 6 to the right the roller conveyor 12, enters between the micro rod bar 16 and the nip roller 18. Since the application liquid in the liquid reservoir 22 is attached to the surface of the micro rod bar 16 by the rotation thereof, the application liquid is applied to the lower surface of the glass substrate 10 with the rotation of the micro rod bar 16. The level of the liquid in the liquid reservoir 22;
Since the holding pressure by the nip roller 18 is controlled to be constant, the thickness of the liquid applied to the lower surface of the glass substrate 10 can be controlled to be sufficiently thin and highly accurate.
【0016】 次にこの塗布液槽20の給液系、排液系お
よび循環系につき説明する。図1および図6において、
50は新しい塗布液を収容する給液タンク、52は排液
タンクである。これらタンク50、52の液面は、例え
ば静電容量式の液面センサ54、56により検出され、
所定の液面レベル以下あるいは以上になるとコントロー
ラ58は液の補充あるいは排液の廃棄を指令したり、装
置全体の停止を指令する。 [0016] Then the liquid supply system of the coating solution tank 20, will be described drainage and circulatory systems. In FIGS. 1 and 6,
Reference numeral 50 denotes a liquid supply tank for storing a new coating liquid, and reference numeral 52 denotes a drainage tank. The liquid levels of these tanks 50, 52 are detected by, for example, capacitance type liquid level sensors 54, 56,
When the liquid level falls below or above a predetermined liquid level, the controller 58 instructs replenishment of the liquid or discard of the discharged liquid, or instructs to stop the entire apparatus.
【0017】 この実施例の給液系は、給液タンク50内
を加圧することにより液を圧送する。すなわち窒素ガス
などの圧力ガスボンベ60から供給されるガス圧はレギ
ュレータ62で調圧され、電磁弁64、逆止弁66、レ
ギュレ−タ68または70、電磁三方向切換弁72、エ
アフィルタ74を介して給液タンク50に導かれる。レ
ギュレータ68、70は設定圧が互いに異なるものであ
り、切換弁72によりいずれかの設定圧が選択される。
給液タンク50は気密に作られ、タンク50内を加圧す
ることにより中の塗布液を給液パイプAに圧送する。 The liquid supply system of this embodiment feeds the liquid by pressurizing the liquid supply tank 50. That is, the gas pressure supplied from the pressure gas cylinder 60 such as nitrogen gas is regulated by the regulator 62, and is passed through the solenoid valve 64, the check valve 66, the regulator 68 or 70, the electromagnetic three-way switching valve 72, and the air filter 74. To the liquid supply tank 50. The regulators 68 and 70 have different set pressures, and one of the set pressures is selected by the switching valve 72.
The liquid supply tank 50 is made airtight, and pressurizes the inside of the tank 50 to pump the coating liquid therein to the liquid supply pipe A.
【0018】 給液パイプAには、2ポート・2位置切換
弁76、給液パイプB、フィルタ78、給液パイプC、
および他の切換弁80が順次接続され、給液パイプDに
よって前記ギーサー14に設けた給液パイプ24に導か
れる。なおフィルタ78の下流側は排液パイプE、切換
弁82を介して排液パイプFによって排液タンク52に
接続されている。 The liquid supply pipe A includes a two-port two-position switching valve 76, a liquid supply pipe B, a filter 78, a liquid supply pipe C,
And another switching valve 80 are sequentially connected, and are led by a liquid supply pipe D to a liquid supply pipe 24 provided in the gheeser 14. The downstream side of the filter 78 is connected to the drainage tank 52 by the drainage pipe E via the drainage pipe E and the switching valve 82.
【0019】 循環系は、ギーサー14の排液口26に接
続された循環用パイプGと、ダイヤフラム式循環用ポン
プ84と、このポンプ84を給液パイプBに接続する循
環用パイプHとを備える。そしてフィルタ78、切換弁
80および給液パイプC、Dは給液系と兼用している。
ポンプ84はガス圧により駆動され、このガス圧は前記
ポンプ60からレギュレータ86、電磁弁88、手動の
絞り制御弁90を介して導かれる。従ってこの制御弁9
0によってポンプ84の作動速度が制御され液の循環流
量が制御可能となっている。また循環用パイプGは分岐
し、切換弁92、排液パイプIを介して排液タンク52
に接続されている。 The circulation system includes a circulation pipe G connected to the drain port 26 of the gieser 14, a diaphragm-type circulation pump 84, and a circulation pipe H connecting the pump 84 to the liquid supply pipe B. . The filter 78, the switching valve 80, and the liquid supply pipes C and D also serve as a liquid supply system.
The pump 84 is driven by gas pressure, and the gas pressure is guided from the pump 60 through a regulator 86, a solenoid valve 88, and a manual throttle control valve 90. Therefore, this control valve 9
With 0, the operation speed of the pump 84 is controlled, and the circulation flow rate of the liquid can be controlled. The circulation pipe G branches off, and the drainage tank 52 is switched via the switching valve 92 and the drainage pipe I.
It is connected to the.
【0020】 なお給液タンク50の液は切換弁94によ
って外へ排出できるようになっている。また前記各切換
弁76、80、82、92、94は前記ボンベ60のガ
ス圧により駆動される。すなわちボンベ60のガスはレ
ギュレータ96で調圧されてから各電磁弁V1 〜V5
を介し各切換弁76、80、82、92、94に分配さ
れる。電磁弁V1 〜V5 、64および切換弁72はコ
ントローラ58によって制御される。各電磁弁V1 〜
V5 、64、切換弁74、電磁弁88等は図6に示す
収納部98に収容されている。 [0020] Note that the liquid in the supply tank 50 is adapted to be discharged to the outside by the switching valve 94. The switching valves 76, 80, 82, 92, 94 are driven by the gas pressure of the cylinder 60. That cylinder 60 of the gas pressure regulated by the regulator 96 V 1 the solenoid valves from ~V 5
Are distributed to the respective switching valves 76, 80, 82, 92, 94. The solenoid valves V 1 to V 5 , 64 and the switching valve 72 are controlled by the controller 58. Each solenoid valve V 1-
V 5 , 64, the switching valve 74, the solenoid valve 88, etc. are housed in a housing 98 shown in FIG.
【0021】 また切換弁76、80、82、フィルタ7
8、ポンプ84、絞り制御弁90は1つのユニット10
0(図1参照)にまとめられ、装置の前面に着脱可能と
なっている。 The switching valves 76, 80, 82, the filter 7
8, the pump 84 and the throttle control valve 90 constitute one unit 10
0 (see FIG. 1) and can be attached to and detached from the front of the apparatus.
【0022】 このユニット100は、図9に示すように
側面L字型を形成する正面パネル102と底面パネル1
04とを持ち、ポンプ84が底面パネル104に取付け
られる一方、切換弁76、80、82、フィルタ78が
前面パネル102に取付けられている。そしてこれら切
換弁76、80、82と、ユニット100外の機器との
接続用のコネクタ76a、80a、82aと、ポンプ8
4のパイプGの接続用コネクタ84a(図1参照)とが
この前面パネル102に設けた円形の窓から前面に臨ん
でいる。またポンプ84を駆動するガスの圧力制御を行
う絞り制御弁90の操作レバー90aが同様に前面パネ
ル102から前面に突出し、手動操作可能となっている
(図9参照)。さらに切換弁76、80、82およびポ
ンプ84へガス圧を供給するためのチューブを断続する
ためのコネクタ106が前面パネル102に設けられて
いる。 [0022] The unit 100 is a front panel 102 forming a side L-shape as shown in FIG. 9 and the bottom panel 1
04, the pump 84 is mounted on the bottom panel 104, while the switching valves 76, 80, 82 and the filter 78 are mounted on the front panel 102. The switching valves 76, 80, and 82, connectors 76a, 80a, and 82a for connecting to devices outside the unit 100, and the pump 8
4 and a connector 84a (see FIG. 1) for connecting the pipe G faces the front from a circular window provided on the front panel 102. Similarly, an operation lever 90a of a throttle control valve 90 for controlling the pressure of gas for driving the pump 84 protrudes from the front panel 102 to the front, and can be manually operated (see FIG. 9). Further, a connector 106 for connecting and disconnecting a tube for supplying gas pressure to the switching valves 76, 80, 82 and the pump 84 is provided on the front panel 102.
【0023】 このユニット100は左右のグリップ10
8、108を掴んで図6に示すように装置の前面から所
定位置に装着される。そして装置側のフレーム110に
設けた左右一対の固定用レバー112および112を回
動することにより、これらレバー112の先端を前面パ
ネル102の前面の受具に係合させて固定される。そし
てこの前面パネル102に現われたコネクタ76a、8
0a、82a、84a、106とに装置側の対応するコ
ネクタをそれぞれ接続する。 [0023] grip 10 This unit 100 is the left and right
As shown in FIG. 6, the user grips 8, 108 to mount the device at a predetermined position from the front of the device. By rotating a pair of left and right fixing levers 112 and 112 provided on the frame 110 on the apparatus side, the tips of these levers 112 are engaged with the receivers on the front surface of the front panel 102 and fixed. The connectors 76a, 8a appearing on the front panel 102
0a, 82a, 84a, and 106 are connected to corresponding connectors on the device side, respectively.
【0024】 次にこの給液、排液および循環系の動作を
説明する。まず新しい液を供給する際には、排液系の切
換弁82、92および94を閉じ、また電磁弁88を閉
じて循環ポンプ84を停止しておく。電磁弁64を開け
ば、三方向切換弁72により決まるレギュレータ68、
90のいずれかの設定圧のガスが給液タンク50に導か
れる。このため新しい液がパイプAに押し上げられる。
切換弁76、80を開けば液はフィルタ78でろ過され
てギーサー14の塗布液槽20に供給される。この液面
を示す信号はコントローラ58に入力され、所定液面レ
ベルになると、コントローラ58は電磁弁V1 を介し
て切換弁76を閉じると共に、電磁弁88を開き循環系
を作動させる。すなわち電磁弁88が開くとポンプ84
が起動し、塗布液槽20の塗布液はパイプG、ポンプ8
4、パイプH、B、フィルタ78、パイプC、切換弁8
0、パイプDを通って循環する。このため液中のゴミな
どはフィルタ78で除去される。 Next this liquid supply, the operation of the drainage and circulatory systems. First, when supplying new liquid, the switching valves 82, 92 and 94 of the drainage system are closed, and the electromagnetic valve 88 is closed to stop the circulation pump 84. When the solenoid valve 64 is opened, the regulator 68 determined by the three-way switching valve 72,
A gas having any one of the set pressures 90 is guided to the liquid supply tank 50. Therefore, new liquid is pushed up to the pipe A.
When the switching valves 76 and 80 are opened, the liquid is filtered by the filter 78 and supplied to the coating liquid tank 20 of the gieser 14. Signal indicating the liquid level is input to the controller 58, when a predetermined liquid level, the controller 58 closes the switching valve 76 via the solenoid valve V 1, actuating the circulation system to open the solenoid valve 88. That is, when the solenoid valve 88 is opened, the pump 84
Is started, and the coating liquid in the coating liquid tank 20 is filled with the pipe G and the pump 8.
4, pipes H and B, filter 78, pipe C, switching valve 8
0, circulate through pipe D. Therefore, dust and the like in the liquid are removed by the filter 78.
【0025】 塗布液の種類を変更するときには、まず切
換弁76、80を閉じ、切換弁92を開いて塗布液槽2
0の塗布液を排液タンク52に排出する。この際切換弁
82を開いてポンプ84を駆動することにより、フィル
タ87などに残る塗布液を排出してもよい。塗布液の排
出が終ると、給液タンク50を洗浄液のタンクに交換
し、各切換弁を適宜開閉してフィルタ78やポンプ84
を簡単に洗浄してからユニット100を取外す。そして
別の洗浄済みのユニット100を装着し、洗浄液のタン
クを新しい塗布液を入れた給液タンク50に交換する。
そして前記のように給液系を作動させ、また循環系を作
動させ、新しい塗布液を塗布液槽20に供給する。 [0025] When changing the type of the coating solution, first close switch valve 76 and 80, the coating solution tank open switching valve 92 2
The application liquid of No. 0 is discharged to the drainage tank 52. At this time, the coating liquid remaining in the filter 87 and the like may be discharged by opening the switching valve 82 and driving the pump 84. When the discharge of the coating liquid is completed, the liquid supply tank 50 is replaced with a cleaning liquid tank, and each switching valve is opened and closed appropriately to open the filter 78 and the pump 84.
, And then the unit 100 is removed. And
Another cleaning unit 100 is mounted, and the tank for the cleaning liquid is replaced with a liquid supply tank 50 containing a new coating liquid.
Then, the liquid supply system and the circulation system are operated as described above, and a new coating liquid is supplied to the coating liquid tank 20.
【0026】 以上の説明では、塗布液の交換時に洗浄液
によりフィルタ78および切換弁76、80、82を簡
単に洗浄しているが、この洗浄を省きユニット100を
取外してから洗浄するようにすれば、装置の停止時間は
さらに短くなり稼働率は一層向上する。 In the above description, the filter 78 and the switching valves 76, 80 and 82 are simply washed with the washing liquid when the coating liquid is replaced. However, this washing can be omitted and the unit 100 can be removed before washing. In addition, the downtime of the apparatus is further reduced, and the operation rate is further improved.
【0027】またこの実施例では循環系のフィルタは給
液系のフィルタ78と兼用しているので、フィルタが1
つで足りることになるが、本発明はこれを別々にしても
よいのは勿論である。さらに給液タンク50からの塗布
液の送出はタンク50の内圧を高めることにより行うの
で、塗布液が汚染されにくくなる。 In this embodiment, the filter of the circulation system is also used as the filter 78 of the liquid supply system.
However, it is a matter of course that the present invention may separate them. Further application from liquid supply tank 50
The liquid is delivered by increasing the internal pressure of the tank 50.
Thus, the coating liquid is less likely to be contaminated.
【0028】[0028]
【発明の効果】本発明は以上のように、マイクロロッド
バーとニップローラとの間に硬基板を挟んで送る場合
に、マイクロロッドバーをその上部を残して水平に浸漬
させる塗布液槽に塗布液を供給する給液系のフィルタお
よび切換弁を含む給液系と、循環ポンプおよびフィルタ
を含む循環系とをユニット化し、このユニットを着脱可
能にしたものであるから、塗布液を交換する場合に給液
系のフィルタや切換弁および循環系のポンプやフィルタ
の洗浄を行う必要がなくなり交換作業が能率良く行える
ようになる。このため装置の稼働率が向上する(請求項
1)。As described above, according to the present invention, when a hard substrate is sandwiched between a microrod bar and a nip roller and fed, the coating solution is applied to a coating solution tank in which the microrod bar is horizontally immersed leaving its upper part. Supply system including a supply system filter and a switching valve, and a circulation pump and a filter
Unitized and circulatory system including, from those made detachable from the unit, the liquid supply when replacing the coating solution
Washing it is unnecessary replacement of performing the system filters and switching valves and circulation pumps and filters <br/> become allow better efficiency. For this reason, the operation rate of the device is improved (claim 1).
【0029】 またここに循環系のフィルタを給液系のフ
ィルタと兼用することができ、この場合にはフィルタの
数が減って望ましい(請求項2)。 In this case, the circulating system filter can also be used as a liquid supply system filter.
It is desirable to reduce the number (claim 2).
【図1】本発明の一実施例の全体経路図FIG. 1 is an overall route diagram of an embodiment of the present invention.
【図2】ギーサーの平面図FIG. 2 is a plan view of Gieser.
【図3】正面断面図FIG. 3 is a front sectional view
【図4】図3におけるIV−IV線端面図FIG. 4 is an end view taken along the line IV-IV in FIG. 3;
【図5】図3におけるV−V線端面図FIG. 5 is an end view taken along line VV in FIG. 3;
【図6】全体の配置概念図FIG. 6 is a conceptual diagram of the entire arrangement.
【図7】ユニットの正面図FIG. 7 is a front view of the unit.
【図8】ユニットの平面図FIG. 8 is a plan view of the unit.
【図9】ユニットの右側面図FIG. 9 is a right side view of the unit.
10 ガラス基板 14 ギーサー 16 マイクロロッドバー 18 ニップローラ 20 塗布液槽 50 給液タンク 76、80、82 切換弁 78 フィルタ 84 循環用ポンプ100 ユニット DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Glass substrate 14 Gieser 16 Micro rod bar 18 Nip roller 20 Application liquid tank 50 Liquid supply tank 76, 80, 82 Switching valve 78 Filter 84 Circulation pump 100 Unit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尾崎 正文 神奈川県綾瀬市小園1005番地 富士マイ クログラフイックス株式会社内 (72)発明者 松岡 寛 神奈川県綾瀬市小園1005番地 富士マイ クログラフイックス株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−258081(JP,A) 実開 昭60−58279(JP,U) 実開 昭50−142774(JP,U) 実開 昭51−97563(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B05C 1/00 - 1/16 B05C 11/10 G03F 7/16──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Masafumi Ozaki 1005 Koizono, Ayase City, Kanagawa Prefecture Inside Fuji Mai Chromaix Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Matsuoka 1005 Koizono, Ayase City, Kanagawa Prefecture Fuji Mai Chromaix Co., Ltd. (56) References JP-A-2-25881 (JP, A) JP-A-60-58279 (JP, U) JP-A-50-142774 (JP, U) JP-A-51-97563 (JP, U) (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) B05C 1/00-1/16 B05C 11/10 G03F 7/16
Claims (2)
たマイクロロッドバーと、このマイクロロッドバーの上
方に配設されたニップローラとの間に硬基板を挟持して
送ることにより、前記硬基板の下面に塗布液を塗布する
硬基板塗布装置において、前記塗布液を収容する給液タ
ンクと、この給液タンクから塗布液をフィルタおよび切
換弁を介して前記塗布液槽に供給する給液系と、前記塗
布液槽の塗布液を循環用ポンプおよびフィルタを介して
循環させる循環系と、前記塗布液槽の塗布液を切換弁を
介して排液タンクに導く排液系とを備え、前記給液系お
よび循環系のフィルタと切換弁と循環用ポンプとを含む
前記給液系および循環系で1つのユニットを形成し、こ
のユニットを着脱交換可能としたことを特徴とする硬基
板塗布装置。1. A hard substrate is sandwiched and sent between a micro rod bar immersed horizontally leaving an upper part in a coating liquid tank and a nip roller disposed above the micro rod bar, whereby In a hard substrate coating apparatus for coating a coating liquid on the lower surface of a hard substrate, a liquid supply tank containing the coating liquid, and a supply liquid supplied from the liquid supply tank to the coating liquid tank via a filter and a switching valve. Liquid system and the coating
The application liquid in the cloth tank is circulated through the circulation pump and filter.
A circulating system for circulating and a switching valve for the coating liquid in the coating liquid tank.
And a drainage system that leads to a drainage tank through the drainage system.
Preliminary circulatory system in the liquid supply system and circulation system to form a unit including a filter and a switching valve and the circulation pump, hard substrate coating apparatus, characterized in that the detachable replace this unit.
ィルタに兼用した請求項1の硬基板塗布装置。Wherein said liquid supply system of filters of the circulatory system off
2. The hard substrate coating apparatus according to claim 1, which is also used as a filter .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1307191A JP2863641B2 (en) | 1991-01-09 | 1991-01-09 | Hard substrate coating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1307191A JP2863641B2 (en) | 1991-01-09 | 1991-01-09 | Hard substrate coating device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04244252A JPH04244252A (en) | 1992-09-01 |
| JP2863641B2 true JP2863641B2 (en) | 1999-03-03 |
Family
ID=11822922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1307191A Expired - Fee Related JP2863641B2 (en) | 1991-01-09 | 1991-01-09 | Hard substrate coating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2863641B2 (en) |
-
1991
- 1991-01-09 JP JP1307191A patent/JP2863641B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04244252A (en) | 1992-09-01 |
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