JP2864005B2 - Laser machining compensation system by detecting total pulse energy integration - Google Patents
Laser machining compensation system by detecting total pulse energy integrationInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はパルスレーザ光によ
る加工装置に関し、特にプリント配線基板(フレキシブ
ルプリント配線基板を含む)のような基板本体にスルー
ホールあるいはビアホールや溝を設けるのに適したレー
ザ加工装置に対して、トータルパルスエネルギーの積算
量を検出してパルスエネルギーの一時低下に対する補償
を行うレーザ加工補償システムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a processing apparatus using a pulsed laser beam, and more particularly to a laser processing method suitable for providing through holes, via holes, and grooves in a substrate body such as a printed wiring board (including a flexible printed wiring board). The present invention relates to a laser processing compensation system that detects an integrated amount of total pulse energy and compensates for a temporary decrease in pulse energy for an apparatus.
【0002】[0002]
【従来の技術】最近、パルスレーザ光を用いてプリント
配線基板、特に高密度多層プリント配線盤のような基板
本体にビアホールや溝を設けるレーザ加工装置が提供さ
れている。この種のレーザ加工装置は、図4に示すよう
に、レーザ発振器31で発生したパルスレーザ光を、反
射ミラー32,33,34を介して導き、fθレンズと
も呼ばれる加工レンズ35を通してプリント配線基板3
6に照射することにより加工を行うものである。2. Description of the Related Art Recently, there has been provided a laser processing apparatus for providing via holes and grooves in a printed wiring board, particularly a substrate body such as a high-density multilayer printed wiring board using a pulsed laser beam. As shown in FIG. 4, this type of laser processing apparatus guides a pulsed laser beam generated by a laser oscillator 31 via reflection mirrors 32, 33, and 34, and passes the pulsed laser light through a processing lens 35 also called an fθ lens.
6 is processed by irradiation.
【0003】図5はプリント配線基板36の一部を拡大
して示し、一面側に金属膜36−1(通常、導体パター
ンのランド部分)を有する基板本体36−2の他面側に
パルスレーザ光を照射することにより、基板本体36−
2にはビアホール36−3が形成される。例えば、ポリ
イミド、ガラスエポキシのような絶縁樹脂による基板本
体に穴あけする場合、TEA−CO2 レーザであれば1
パルスで40〜50μm厚の穴あけが可能であるので、
0.1mm厚であれば2〜3パルスで穴あけできる。FIG. 5 is an enlarged view of a part of a printed wiring board 36. A pulse laser is provided on the other surface of a substrate body 36-2 having a metal film 36-1 (usually a land portion of a conductor pattern) on one surface. By irradiating light, the substrate body 36-
2, a via hole 36-3 is formed. For example, when a hole is made in a substrate body made of an insulating resin such as polyimide or glass epoxy, a TEA-CO 2 laser is used.
Since it is possible to make a 40-50 μm thick hole with a pulse,
If the thickness is 0.1 mm, drilling can be performed with a few pulses.
【0004】ところで、レーザ発振器には、その出力の
安定化を図るためにパワーメータを組み込まれたものが
あり、これを図6を参照して説明する。図6において、
レーザ発振器40はレーザ発振部41と電源部42、一
部反射型のミラー43、パワーメータ44を内蔵してい
る。パワーメータ44は、パルスレーザ光の一部を受け
て出力を判定するものであり、判定結果はパワー出力モ
ニタ50に送られる。パワー出力モニタ50はこの判定
結果にもとづいて電源部42を制御する。Some laser oscillators have a built-in power meter for stabilizing the output, and this will be described with reference to FIG. In FIG.
The laser oscillator 40 includes a laser oscillation unit 41, a power supply unit 42, a partially reflecting mirror 43, and a power meter 44. The power meter 44 determines the output by receiving a part of the pulse laser beam, and the determination result is sent to the power output monitor 50. The power output monitor 50 controls the power supply section 42 based on this determination result.
【0005】一例をあげて説明すると、3(msec)
毎に1パルス発生させる場合、それらのパワーをパワー
メータ44により全パルスモニタし、最終的に1(se
c)間の平均パワーを算出する。この平均パワーがパワ
ー出力モニタ50を通して電源部42にフィードバック
されることで1(sec)当たりの平均パワーが均一に
なるように制御される。[0005] Explaining with an example, 3 (msec)
When one pulse is generated every time, those powers are monitored for all the pulses by the power meter 44 and finally 1 (se
Calculate the average power during c). The average power is fed back to the power supply section 42 through the power output monitor 50, so that the average power per 1 (sec) is controlled to be uniform.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなレーザ発振器を用いたレーザ加工装置では、レー
ザ発振器から出射後の光路中において発生するエネルギ
ーロスは検出することができず、レーザ発振器の出力制
御に反映されない。However, in a laser processing apparatus using a laser oscillator as described above, energy loss occurring in an optical path after emission from the laser oscillator cannot be detected, and the output of the laser oscillator cannot be detected. Not reflected in control.
【0007】加えて、1(sec)毎に平均パワーを算
出してフィードバックするため、1回当たりの作業が短
時間、例えば数パルス分で終了するような精密なレーザ
加工においては1〜2パルスのパルスエネルギーの変動
があった場合にはこれをカバーし切れず、加工不良とな
ってしまう。In addition, since the average power is calculated and fed back every 1 (sec), one to two pulses are required for precise laser processing in which one operation is completed in a short time, for example, several pulses. When the pulse energy fluctuates, it cannot be covered completely, resulting in processing failure.
【0008】そこで、本発明の課題は、パルスレーザ光
毎にパルスエネルギーをモニタリングできるようにして
パルスエネルギーが低下した場合にはこれを補償できる
ようなレーザ加工補償システムを提供しようとするもの
である。An object of the present invention is to provide a laser processing compensation system which can monitor pulse energy for each pulse laser beam and can compensate for a decrease in pulse energy when the pulse energy decreases. .
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明によるレーザ加工
補償システムは、レーザ発振器からのパルスレーザ光を
導く光路に設けられて1個当たりのパルスエネルギーを
検出するためのエネルギーモニタと、加工条件に応じて
設定される1回の加工当たりのパルス数で決まるエネル
ギーに関するスレッシュホールド値を設定することがで
き、設定されたスレッシュホールド値と前記エネルギー
モニタで検出されたパルスエネルギーの前記1回の加工
当たりのパルス数分の積算値とを比較して前記積算値の
方が低い時に検出信号を出力するエネルギー比較部と、
このエネルギー比較部からの検出信号を受けると前記レ
ーザ発振器にトリガパルスを出力して該レーザ発振器か
ら追加のパルスレーザ光を発生せしめるトリガパルス発
生部とを含むことを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION A laser processing compensation system according to the present invention is provided on an optical path for guiding a pulse laser beam from a laser oscillator. It is possible to set a threshold value related to energy determined by the number of pulses per one processing set according to the threshold value and the set threshold value and the pulse energy detected by the energy monitor per one processing. An energy comparison unit that compares the integrated value of the number of pulses with the integrated value and outputs a detection signal when the integrated value is lower,
A trigger pulse generator for outputting a trigger pulse to the laser oscillator when the detection signal is received from the energy comparator and generating an additional pulse laser beam from the laser oscillator.
【0010】なお、前記エネルギー比較部は、前記積算
値が前記スレッシュホールド値以上になるまで前記検出
信号を出力し、前記トリガパルス発生部は、前記検出信
号がなくなるまで前記トリガパルスを出力する。The energy comparing section outputs the detection signal until the integrated value becomes equal to or larger than the threshold value, and the trigger pulse generating section outputs the trigger pulse until the detection signal disappears.
【0011】また、前記エネルギーモニタは、前記光路
中のうち被加工物に近い方の光路に設けられた一部透過
型のベンディングミラーを通して前記パルスレーザ光の
一部を受光するように構成されている。The energy monitor is configured to receive a part of the pulsed laser light through a partially transmitting bending mirror provided in an optical path closer to a workpiece in the optical path. I have.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】図1〜図3を参照して、プリント
配線基板に穴あけ加工を行う加工装置の場合について、
本発明の好ましい実施の形態を説明する。図1におい
て、太線は電気信号の経路を、細線はレーザ光の経路を
それぞれ示す。レーザ発振器11で発生されたパルスレ
ーザ光は反射ミラー12を経て一部透過型のベンディン
グミラー13に至り、ここで約99%は反射されてX−
Yスキャナ14、fθレンズによる加工レンズ15を通
してX−Yテーブル16上に載置されたプリント配線基
板17に照射される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIGS. 1 to 3, a case of a processing apparatus for making a hole in a printed wiring board will be described.
A preferred embodiment of the present invention will be described. In FIG. 1, a thick line indicates a path of an electric signal, and a thin line indicates a path of a laser beam. The pulse laser beam generated by the laser oscillator 11 reaches a partially transmitting bending mirror 13 via a reflection mirror 12, where about 99% is reflected and X-rays.
The light is irradiated onto a printed wiring board 17 mounted on an XY table 16 through a Y scanner 14 and a processing lens 15 formed by an fθ lens.
【0013】図2を参照して、X−Yスキャナ14は、
パルスレーザ光を振らせるためのものであり、2つのガ
ルバノミラーと呼ばれる反射ミラー14−1、14−2
を組合わせて成るガルバノスキャナと呼ばれるものであ
る。すなわち、2つの反射ミラー14−1、14−2を
ガルバノメータの駆動原理で独立して回動させることに
より、パルスレーザ光をプリント配線基板17上の任意
の位置に照射することができる。Referring to FIG. 2, the XY scanner 14 is
This is for oscillating the pulse laser beam, and is a reflection mirror 14-1 or 14-2 called two galvanometer mirrors.
Is called a galvano scanner. That is, by rotating the two reflection mirrors 14-1 and 14-2 independently based on the driving principle of the galvanometer, it is possible to irradiate an arbitrary position on the printed wiring board 17 with the pulse laser light.
【0014】図1に戻って、X−Yスキャナ14は、内
蔵の駆動部が制御装置20からの制御信号により制御さ
れる。制御装置20は、通常、パーソナルコンピュータ
で実現される。X−Yテーブル16上に位置決め載置さ
れたプリント配線基板17に設ける複数の穴の位置はあ
らかじめ決まっており、これらの穴の位置にパルスレー
ザ光を順に照射するための制御プログラムがあらかじめ
制御装置20にセットされている。X−Yスキャナ14
は、制御装置20からの制御信号によりプリント配線基
板17上に順に所定数のパルスレーザ光を照射する。Returning to FIG. 1, the built-in driving unit of the XY scanner 14 is controlled by a control signal from a control device 20. Control device 20 is generally realized by a personal computer. The positions of a plurality of holes provided in the printed wiring board 17 positioned and mounted on the XY table 16 are predetermined, and a control program for sequentially irradiating the positions of these holes with pulsed laser light is controlled in advance by the control device. It is set to 20. XY scanner 14
Irradiates a predetermined number of pulsed laser beams on the printed wiring board 17 in sequence according to a control signal from the control device 20.
【0015】X−Yテーブル16もまた、内蔵の駆動部
が制御装置20からの制御信号により制御され、X軸方
向ーY軸方向に駆動される。The XY table 16 also has a built-in drive unit controlled by a control signal from the control device 20 to be driven in the X-axis direction-Y-axis direction.
【0016】一方、ベンディングミラー13を透過した
約1%のレーザ光はエネルギーモニタ18に導入されて
パルス毎にパルスエネルギーが検出される。検出された
パルスエネルギーはエネルギー比較回路19に送られ
る。On the other hand, about 1% of the laser light transmitted through the bending mirror 13 is introduced into an energy monitor 18 and pulse energy is detected for each pulse. The detected pulse energy is sent to the energy comparison circuit 19.
【0017】エネルギー比較回路19では、エネルギー
モニタ18からのパルスエネルギーを1回の加工当たり
のパルス数分だけ蓄積する。これは、プリント配線基板
17の材質や加工厚が決まると、これに穴をあけるため
に必要なパルス数も決まるので、蓄積すべきパルス数を
設定しておけば良い。エネルギー比較回路19にはま
た、蓄積されたパルスエネルギーと比較するためのスレ
ッシュホールド値が設定される。このスレッシュホール
ド値も、加工条件、例えばプリント配線基板17の材質
や加工厚によって決まる1回の加工当たりのパルス数に
応じて任意に変更可能である。In the energy comparing circuit 19, the pulse energy from the energy monitor 18 is accumulated for the number of pulses per processing. When the material and processing thickness of the printed wiring board 17 are determined, the number of pulses required to make a hole in the printed wiring board 17 is also determined. Therefore, the number of pulses to be accumulated may be set. In the energy comparison circuit 19, a threshold value for comparison with the stored pulse energy is set. This threshold value can also be arbitrarily changed according to processing conditions, for example, the number of pulses per processing determined by the material and processing thickness of the printed wiring board 17.
【0018】エネルギー比較回路19は、蓄積されたパ
ルスエネルギーとスレッシュホールド値との比較を行
い、蓄積されたパルスエネルギーがスレッシュホールド
値以上であれば、制御装置20に対して穴あけ加工が正
常に行われたことを示す加工完了信号を出力する。この
加工完了信号を受けると、制御装置20はX−Yスキャ
ナ14に対して駆動制御信号を送って次の穴あけ加工を
行わせる。The energy comparing circuit 19 compares the accumulated pulse energy with the threshold value, and if the accumulated pulse energy is equal to or larger than the threshold value, the drilling operation is normally performed on the control device 20. A processing completion signal indicating that the operation has been completed is output. When receiving the processing completion signal, the control device 20 sends a drive control signal to the XY scanner 14 to perform the next drilling processing.
【0019】一方、蓄積されたパルスエネルギーの方が
低い時にはそれを示す検出信号をトリガパルス発生器2
1に出力する。トリガパルス発生器21はこの検出信号
を受けるとレーザ発振器11にトリガパルスを出力し、
追加のパルスレーザ光を1つだけ発生せしめる。On the other hand, when the stored pulse energy is lower, a detection signal indicating the lower is generated by the trigger pulse generator 2.
Output to 1. Upon receiving this detection signal, the trigger pulse generator 21 outputs a trigger pulse to the laser oscillator 11,
Only one additional pulsed laser beam is generated.
【0020】上記の動作を、具体的な数値を例示して図
3をも参照して説明する。加工条件により1回当たりの
パルスレーザ光の個数が決定される。例えば、0.4
(J)のパルスエネルギーを持つパルスレーザ光により
1回の穴あけ加工につき6つのパルスレーザ光を照射す
るものとする。光路中でのエネルギーロスが無いものと
すると、エネルギーモニタ18での正常なパルスエネル
ギーの検出値は4(mJ)となる。これを考慮して、ス
レッシュホールド値VSLとしては4×6×0.8(80
%)=19.2(mJ)が設定されるものとする。1回
目の穴あけ加工では1発目〜6発目のパルスレーザ光P
1〜P6はいずれも正常で、そのエネルギーの蓄積値は
スレッシュホールド値VSLを越え、プリント配線基板1
7には正常にビアホールが形成される。The above operation will be described with reference to FIG. 3 using specific numerical values. The number of pulsed laser beams per operation is determined by the processing conditions. For example, 0.4
The pulse laser beam having the pulse energy of (J) is used to irradiate six pulse laser beams for one drilling operation. Assuming that there is no energy loss in the optical path, the detected value of the normal pulse energy at the energy monitor 18 is 4 (mJ). In view of this, 4 × as threshold value V SL 6 × 0.8 (80
%) = 19.2 (mJ). In the first drilling, the first to sixth pulsed laser light P
1~P6 Both normal accumulation value of the energy exceeds a threshold value V SL, the printed wiring board 1
7, a via hole is normally formed.
【0021】2回目の穴あけ加工において、レーザ発振
器11に起因して4発目、5発目のパルスレーザ光P1
0,P11共にパルスエネルギーが低く、パルスレーザ
光P7〜P12のパルスエネルギーの蓄積値がスレッシ
ュホールド値VSLを下回ったとすると、プリント配線基
板17に形成されるホールはビアホールとならない。エ
ネルギー比較回路19はパルスエネルギーがスレッシュ
ホールド値VSLを下回ったことを検出してトリガパルス
発生器21に検出信号を出力する。トリガパルス発生器
21はこの検出信号を受けるとレーザ発振器11にトリ
ガパルスを出力する。レーザ発振器11はこのトリガパ
ルスを受けると、通常のパルスレーザ光と同じ周期で追
加のパルスレーザ光P13を出力する。その結果、パル
スレーザ光P7〜P13のパルスエネルギーの蓄積値が
スレッシュホールド値VSLを越え、プリント配線基板1
7には正常にビアホールが形成される。In the second drilling, the fourth and fifth pulsed laser beams P1 caused by the laser oscillator 11
0, P11 are both pulse energy is low, when the accumulation value of the pulse energy of the pulsed laser beam P7~P12 is below the threshold value V SL, holes formed in the printed wiring board 17 is not a via hole. Energy comparison circuit 19 detects and outputs a detection signal to the trigger pulse generator 21 to the pulse energy is below the threshold value V SL. Upon receiving this detection signal, the trigger pulse generator 21 outputs a trigger pulse to the laser oscillator 11. Upon receiving this trigger pulse, the laser oscillator 11 outputs an additional pulse laser beam P13 at the same period as the normal pulse laser beam. As a result, the accumulation value of the pulse energy of the pulsed laser light P7~P13 exceeds the threshold value V SL, the printed wiring board 1
7, a via hole is normally formed.
【0022】仮に、追加のパルスレーザ光P13でもパ
ルスエネルギーの蓄積値がスレッシュホールド値VSLを
越えなければ、更に追加のパルスレーザ光が発生され
る。これは、パルスエネルギーの蓄積値がスレッシュホ
ールド値VSLを越えるまで続けられ、この間、制御装置
20はX−Yスキャナ14に対して次の穴あけ加工のた
めの制御信号を送るのを停止している。このようにし
て、プリント配線基板17には正常にビアホールが形成
される。[0022] If the accumulated value of the pulse energy also additional pulsed laser beam P13 unless exceeds the threshold value V SL, are generated more additional pulsed laser beam. This is continued until the accumulated value of the pulse energy exceeds the threshold value V SL , during which the control device 20 stops sending the control signal to the XY scanner 14 for the next drilling operation. I have. In this way, via holes are normally formed in the printed wiring board 17.
【0023】以上、本発明を好ましい実施の形態につい
て説明したが、ベンディングミラー13の設置箇所は、
パルスレーザ光の光路中でのエネルギーロスを考慮し
て、X−Yスキャナ14の手前であって被加工部、つま
りプリント配線基板17に最も低い位置にするのが好ま
しい。また、エネルギーモニタ18としては、パルスレ
ーザ光のパルスエネルギーの1%程度で動作可能なジュ
ールメータと呼ばれるものがあり、これは、パルスレー
ザ光の一部を取り出してその光量を測定するホトダイオ
ード方式と、パルスレーザ光の一部を取り出して分極を
行わせることによりΔVを測定する電圧方式とがある
が、そのいずれも使用可能である。The preferred embodiment of the present invention has been described above.
In consideration of the energy loss in the optical path of the pulsed laser beam, it is preferable to set the lowest position on the portion to be processed, that is, the printed wiring board 17 before the XY scanner 14. As the energy monitor 18, there is a so-called joule meter operable at about 1% of the pulse energy of the pulsed laser light. This is a photodiode type in which a part of the pulsed laser light is taken out and the light amount is measured. There is a voltage method in which ΔV is measured by extracting a part of the pulse laser light and performing polarization, and any of them can be used.
【0024】[0024]
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明におい
てはパルスレーザ光のパルスエネルギーが一時的に低下
した時にこれを検出して追加のパルスレーザ光を発生
し、1回のレーザ加工におけるパルスレーザ光の数を増
やすことで加工不良の発生を防止することができ、加工
歩留まりを大幅に向上させることができる。As described above, according to the present invention, when the pulse energy of the pulse laser beam is temporarily reduced, this is detected and an additional pulse laser beam is generated, and the pulse energy in one laser processing is obtained. By increasing the number of laser beams, the occurrence of processing defects can be prevented, and the processing yield can be greatly improved.
【図1】本発明を適用したレーザ加工装置の概略構成を
示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a laser processing apparatus to which the present invention is applied.
【図2】図1に示されたX−Yスキャナの概略構成図で
ある。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the XY scanner shown in FIG.
【図3】図1の装置による穴あけ加工時の動作を説明す
るための波形図である。FIG. 3 is a waveform chart for explaining an operation at the time of drilling by the apparatus of FIG. 1;
【図4】従来のレーザ加工装置の概略構成を示すブロッ
ク図である。FIG. 4 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a conventional laser processing apparatus.
【図5】図4の装置による穴あけ加工を説明するための
断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining drilling by the apparatus of FIG. 4;
【図6】従来のレーザ発振器におけるパワーモニタ方式
を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a power monitoring method in a conventional laser oscillator.
12,32,33,34 反射ミラー 13 一部透過型のベンディングミラー 15,35 加工レンズ 17,36 プリント配線基板 12, 32, 33, 34 Reflecting mirror 13 Partially transmissive bending mirror 15, 35 Processing lens 17, 36 Printed wiring board
Claims (3)
り加工を行うレーザ加工装置において、前記パルスレー
ザ光を導く光路に設けられて1個当たりのパルスエネル
ギーを検出するためのエネルギーモニタと、加工条件に
応じて設定される1回の加工当たりのパルス数で決まる
エネルギーに関するスレッシュホールド値を設定するこ
とができ、設定されたスレッシュホールド値と前記エネ
ルギーモニタで検出されたパルスエネルギーの前記1回
の加工当たりのパルス数分の積算値とを比較して前記積
算値の方が低い時に検出信号を出力するエネルギー比較
部と、このエネルギー比較部からの検出信号を受けると
前記レーザ発振器にトリガパルスを出力して該レーザ発
振器から追加のパルスレーザ光を発生せしめるトリガパ
ルス発生部とを含むことを特徴とするレーザ加工補償シ
ステム。1. A laser processing apparatus for performing processing using pulsed laser light from a laser oscillator, comprising: an energy monitor provided on an optical path for guiding the pulsed laser light for detecting pulse energy per laser; It is possible to set a threshold value related to energy determined by the number of pulses per one processing set according to the threshold value and the set threshold value and the pulse energy detected by the energy monitor per one processing. An energy comparison unit that compares the integrated value for the number of pulses and outputs a detection signal when the integrated value is lower, and outputs a trigger pulse to the laser oscillator when receiving the detection signal from the energy comparison unit. A trigger pulse generator for generating additional pulsed laser light from the laser oscillator. A laser processing compensation system, characterized in that:
前記スレッシュホールド値以上になるまで前記検出信号
を出力し、前記トリガパルス発生部は、前記検出信号が
なくなるまで前記トリガパルスを出力することを特徴と
する請求項1記載のレーザ加工補償システム。2. The energy comparison unit outputs the detection signal until the integrated value becomes equal to or more than the threshold value, and the trigger pulse generation unit outputs the trigger pulse until the detection signal disappears. The laser processing compensation system according to claim 1, wherein:
うち被加工物に近い方の光路に設けられた一部透過型の
ベンディングミラーを通して前記パルスレーザ光の一部
を受光するように構成されていることを特徴とする請求
項1あるいは2記載のレーザ加工補償システム。3. The energy monitor is configured to receive a part of the pulse laser beam through a partially transmitting bending mirror provided in an optical path closer to a workpiece in the optical path. The laser processing compensation system according to claim 1, wherein:
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP8123540A JP2864005B2 (en) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | Laser machining compensation system by detecting total pulse energy integration |
Applications Claiming Priority (1)
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