JP2866909B2 - Information storage element and information storage method - Google Patents
Information storage element and information storage methodInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、情報記憶素子および情報記憶方法に関す
る。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an information storage element and an information storage method.
[従来の技術] 発明者らは先に、特開昭63-34797号公報に於いて、情
報記憶素子を提案した。[Prior Art] The inventors have previously proposed an information storage element in JP-A-63-34797.
[発明が解決しようとする課題] 上記情報記憶素子は、情報の読み出しの際、読み出し
のための光照射が行われる部分以外の素子全体の電気容
量Cが存在する。この電気容量Cは上記情報記憶素子で
は比較的大きく、情報記憶素子を大面積化する場合にマ
イナス要因となり得るものである。例えば上記電気容量
Cは素子全体のものであるから、情報記憶素子を大面積
化すればそれに伴い大きくなる。そして、この電気容量
Cが大きくなると情報の記憶や読み出しの際の応答の迅
速性が低下するのである。[Problem to be Solved by the Invention] In the information storage element, the electric capacitance C of the entire element other than the portion where light irradiation for reading is performed at the time of reading information exists. This electric capacity C is relatively large in the information storage element, and can be a negative factor when the information storage element is enlarged. For example, since the electric capacity C is for the entire element, the larger the area of the information storage element is, the larger the capacitance is. Then, when the electric capacity C increases, the quickness of response at the time of storing and reading information decreases.
また、発明者らは特開昭62-139481号公報に於いて光
学像情報対電気信号変換素子を提案した。Further, the inventors have proposed an optical image information-to-electric signal conversion element in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-139481.
この光学像情報対電気信号変換素子は、その名の示す
通り、光学像を電気信号に変換するための素子であり、
上記公報に開示された技術内容からすれば情報の変換
は、光学像情報の照射とその電気信号への変換が同時的
に行われ、光学像情報対電気信号変換素子自体の情報記
憶能力は問題とされていない。しかし同素子に情報記憶
能力が全くない訳ではなく、例えばmsecのオーダーの極
めて短時間を考えれば、この短時間内では記憶能力があ
り、従って光学像情報対電気信号変換素子もこれを所謂
テンポラリーメモリーとして使用することができ、この
意味に於いて情報記憶素子と呼び得るものである。そし
て上記光学像情報対電気信号変換素子を情報記憶素子と
して考える場合、やはり上記の電気容量Cによる問題が
存在するのである。This optical image information-to-electric signal conversion element is, as the name implies, an element for converting an optical image into an electric signal,
According to the technical content disclosed in the above-mentioned publication, information conversion involves simultaneous irradiation of optical image information and conversion to an electrical signal, and the information storage capability of the optical image information-to-electric signal conversion element itself is a problem. And not. However, the element does not have information storage ability at all. Considering a very short time, for example, on the order of msec, the element has the storage ability within this short time, and therefore, the optical image information-to-electrical signal conversion element also uses this as a so-called temporary element. It can be used as a memory and can be called an information storage element in this sense. When the optical image information-to-electrical signal conversion element is considered as an information storage element, there is still a problem due to the electric capacitance C described above.
さらに、特開昭63-34797号公報開示の情報記憶素子の
場合、情報の読み出しは随時可能であるが、情報の記憶
されている情報記憶素子に対して新たな情報を記憶させ
る場合は、同号公報開示の情報記憶方法では事前に消去
の手続きが必要であり、情報記憶素子を一旦初期の情報
記憶のない状態に戻す必要がある。Further, in the case of the information storage element disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-34797, reading of information is possible at any time. However, when new information is stored in the information storage element in which information is stored, the same applies. In the information storage method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-157, an erasing procedure is required in advance, and it is necessary to temporarily return the information storage element to an initial state without information storage.
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであっ
て、その目的とするところは、第1に、上記電気容量の
問題を解決して情報記憶や読み出しの際における応答の
迅速性を低下せしめることなく大面積化の可能な情報記
憶素子の提供にあり、第2に、上記の如き情報記憶素子
に対し、先に記憶された情報の事前の消去のための手続
きをすることなく新たな2値情報の記憶を行い得る、新
規な情報記憶方法の提供にある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to firstly solve the above-mentioned problem of electric capacity and reduce the speed of response in information storage and reading. Secondly, the present invention provides an information storage element having a large area without any problem. Secondly, the information storage element as described above is provided with a new information storage device without performing a procedure for previously erasing previously stored information. Another object of the present invention is to provide a new information storage method capable of storing value information.
[課題を解決するための手段] 以下、本発明を説明する。[Means for Solving the Problems] Hereinafter, the present invention will be described.
本発明の情報記憶素子は、請求項1,2の素子とも「光
により情報を入力、記憶でき、記憶した情報内容を、読
み出し用の光ビームによる掃引により時系列的な電気信
号として読み出すことができ、尚且つ、記憶した情報内
容を消去して記憶前の状態に戻し得る情報記憶素子」で
ある。The information storage element according to the present invention is capable of inputting and storing information by light and reading out the stored information as a time-series electric signal by sweeping with a reading light beam. And an information storage element capable of erasing stored information contents and returning to the state before storage. "
これらの情報記憶素子は、「第1の層と、この第1の
層に接する第2の層と、これら第1および第2の層にそ
れぞれ接して設けられた1対の電極と」を有する。These information storage elements have "a first layer, a second layer in contact with the first layer, and a pair of electrodes provided in contact with the first and second layers, respectively". .
「第1及び第2の層」は、請求項1の素子にあって
は、一方の層が光入力を光電変換する光電変換層として
の機能を有し、他方の層は上記光電変換状態を電気的状
態として記憶する記憶保持層としての機能を有する。In the element of claim 1, one of the first and second layers has a function as a photoelectric conversion layer for photoelectrically converting light input, and the other layer has the above-mentioned photoelectric conversion state. It has a function as a storage holding layer for storing as an electrical state.
また請求項2の素子にあっては、これら第1及び第2
の層は、光入力を光電変換する光電変換層及び上記光電
変換状態を電気的状態として記憶する記憶保持層の機能
を有する。Further, in the element of the second aspect, the first and the second
Has a function of a photoelectric conversion layer for photoelectrically converting light input and a function of a storage holding layer for storing the photoelectric conversion state as an electrical state.
「1対の電極」は、第1及び第2の層を挟んで実質的
に対向しないように設けられる。The “pair of electrodes” is provided so as not to substantially oppose each other with the first and second layers interposed therebetween.
また、本発明の情報記憶方法は請求項1の情報記憶素
子に対して、「一定強度の光ビームを掃引し、この光ビ
ームの掃引に合わせて1対の電極に印加する電圧の極性
を、記憶させるべき2値情報に応じて反転させて、2値
情報の記憶を行う」点を特徴とする。Further, the information storage method of the present invention provides the information storage element according to claim 1 with "sweep of a light beam of a constant intensity, and changing the polarity of a voltage applied to a pair of electrodes in accordance with the sweep of the light beam. Invert according to the binary information to be stored and store the binary information. "
請求項1の素子に於いて、上記第1及び第2の層とし
ては、特開昭63-34797号公報に開示された構造を全て利
用できる。In the device of the first aspect, all of the structures disclosed in JP-A-63-34797 can be used as the first and second layers.
また、特開昭62-139481号公報に記載された全てのフ
ォトダイオード、フォトコンダクター、フォトキャパシ
ター等の光電変換構造部を、請求項2の素子に於ける第
1および第2の層として用い得る。この場合、第1およ
び第2の層は、それぞれの層構成の組合せ、あるいは書
込み、読み出し、消去の各状態に応じて、それぞれが光
電変換層、記憶保持層の何れかの機能を果たすか、ある
いは光電変換層と情報記憶層の機能を併せて果たすこと
になる。Further, all the photoelectric conversion structures such as photodiodes, photoconductors, and photocapacitors described in JP-A-62-139481 can be used as the first and second layers in the device of claim 2. . In this case, the first and second layers each perform any of the functions of the photoelectric conversion layer and the storage holding layer according to the combination of the respective layer configurations or the respective states of writing, reading, and erasing, Alternatively, the functions of the photoelectric conversion layer and the information storage layer are performed together.
[作用] 特開昭63-34797号公報の情報記憶素子、特開昭62-139
481号公報の光学像情報対電気信号変換素子に於いて問
題となる素子全体の電気容量Cは、1対の電極が、光電
変換層や記憶保持層の機能を持つ2都の層を挟んで互い
に対向するところから、かなりに大きなものになる。[Function] Information storage element disclosed in JP-A-63-34797, JP-A-62-139
In the optical image information-to-electrical signal conversion element disclosed in Japanese Patent Publication No. 481, the electric capacitance C of the entire element, which is a problem, is such that a pair of electrodes sandwiches two layers having the functions of a photoelectric conversion layer and a storage layer. From where they are opposed to each other, they become quite large.
そこで請求項1,2の情報記憶素子では、1対の電極が
第1及び第2の層を挟んで実質的に対向しないように設
けられる。「実質的に対向しない」とは、実際に電極対
が第1、第2の層を挟んで対向する部分があったとして
も、その対向面積により形成される電気容量が、情報の
記憶や読み出しの際の応答性に対して問題にならないほ
どに小さいことを意味する。Therefore, in the information storage element of the first and second aspects, the pair of electrodes are provided so as not to substantially oppose each other across the first and second layers. "Substantially no opposition" means that even if there is a portion where the electrode pair actually opposes the first and second layers, the electric capacitance formed by the opposing area is sufficient to store and read information. Means that it is so small that it does not pose a problem for the response at the time.
また、請求項1の情報記憶素子に対し、2値情報を記
憶させる場合、「一定強度の光ビームを掃引し、この光
ビームの掃引に合わせて1対の電極に印加する電圧の極
性を、記憶させるべき2値情報に応じて反転させて、2
値情報の記憶を行う」と、記憶保持層には、その層構造
に応じて2値情報に応じた電荷蓄積の有無、または蓄積
電荷の極性分布が生じるが、これはそれ以前の情報記憶
素子の状態に無関係に実現できる。In the case where binary information is stored in the information storage element according to claim 1, "a light beam having a constant intensity is swept, and the polarity of a voltage applied to a pair of electrodes in accordance with the sweep of the light beam is defined as: Invert according to the binary information to be stored,
When the storage of the value information is performed, the presence or absence of charge storage or the polarity distribution of the stored charge occurs in the storage holding layer according to the layer structure, which is caused by the information storage element before that. Irrespective of the state of
[実施例] 以下、図面を参照しつつ具体的な実施例に即して説明
する。Example Hereinafter, a description will be given of a specific example with reference to the drawings.
請求項1の情報記憶素子の1例を示す第1図に於い
て、符号10は透光性の基板を示す。この基板10の片側の
面には、光電変換層30、記憶保持層40が図の如く積層さ
れ、さらに光電変換層30の露呈した表面には電極20が設
けられ、記憶保持層40の表面には電極50が設けられてい
る。電極20,50は透光性である必要はない。なお、本明
細書中に於いて、基板等の部材に関して「透光性」と言
うとき、これは「部材が透明であるか、あるいは実質的
に透明であること、即ち、その部材を使用波長の光が通
過する際の吸収が、使用目的に照らして問題とならない
程度であること」を意味する。In FIG. 1 showing one example of the information storage element of claim 1, reference numeral 10 denotes a light-transmitting substrate. On one surface of the substrate 10, a photoelectric conversion layer 30 and a storage layer 40 are laminated as shown in the figure, and further, an electrode 20 is provided on the exposed surface of the photoelectric conversion layer 30, and a surface of the storage layer 40 is provided. Is provided with an electrode 50. The electrodes 20, 50 need not be translucent. In the present specification, when a member such as a substrate is referred to as “translucent”, this means that the member is transparent or substantially transparent, that is, the member is used at the wavelength used. Is such that the light does not cause any problem in terms of the intended use. "
光電変換層30は光導電性物質例えばアモルファスシリ
コンによる層である。また記憶保持層40は2層の絶縁膜
41,42を積層した構造であり、例えば、絶縁層41はトン
ネル電流が流れる程度に薄いSiO2層、絶縁層42は数百Å
の厚さの窒化シリコン層である。The photoelectric conversion layer 30 is a layer made of a photoconductive material such as amorphous silicon. The storage layer 40 is a two-layer insulating film.
For example, the insulating layer 41 is an SiO 2 layer thin enough to allow a tunnel current to flow, and the insulating layer 42 is several hundred
Is a silicon nitride layer having a thickness of
情報の記憶、読み出し、消去の際の光Lは、基板10の
側から照射される。なお光Lにより情報記憶素子の掃引
を行う場合、掃引は、第1図の図面に直交する方向へ行
う。Light L for storing, reading, and erasing information is emitted from the substrate 10 side. When the information storage element is swept by the light L, the sweep is performed in a direction orthogonal to the drawing of FIG.
光Lは、第1図の左右方向に就いては、電極20,50を
同時に照射できるに足るだけの幅をもって照射される。The light L is irradiated in the left-right direction of FIG. 1 with a width enough to irradiate the electrodes 20 and 50 simultaneously.
この場合、光Lと電極50の重なり部分が実態の記憶保
持領域になるのであり、従って、この重なり部分の面積
が大きくなるようにするのが望ましい。In this case, the overlapping portion of the light L and the electrode 50 becomes the actual storage area, and therefore, it is desirable to increase the area of the overlapping portion.
電極20,50間に電圧を印加して光Lを照射すると、光
電変換層30にはロウインピーダンス化あるいはロウイン
ピーダンス化とともに付加的な電圧の発生が生じ、記憶
保持層40に電極50との間で電界を生じさせる。この電界
の作用を利用して、情報の記憶や読み出し、消去を行う
ことができる。When a voltage is applied between the electrodes 20 and 50 to irradiate the light L, a low impedance or low impedance is generated in the photoelectric conversion layer 30 and an additional voltage is generated. To generate an electric field. By utilizing the action of the electric field, information can be stored, read, and erased.
このとき、光電変換層30の膜種類・膜構成によって
は、第4図(I)に示すように電極20を基板10との間に
設けても良い。また、光Lの照射時に主として記憶保持
層40の端縁部側面に発生する可能性のある漏れ電流を減
少させるために、第4図(II)に示すように電極50を記
憶保持層40より縮小して形成させたり、あるいは記憶保
持層40の一方の絶縁膜41を第4図(III)に示すよう
に、他方の絶縁膜42より大きく形成したり、あるいは、
これら第4図(II),(III)の方法を組み合わせても
良い。At this time, the electrode 20 may be provided between the photoelectric conversion layer 30 and the substrate 10, as shown in FIG. In addition, in order to reduce a leakage current that may be generated mainly on the side surface of the edge of the storage layer 40 when the light L is irradiated, the electrode 50 is separated from the storage layer 40 as shown in FIG. 4 (III), the one insulating film 41 of the memory holding layer 40 is formed larger than the other insulating film 42, or
These methods shown in FIGS. 4 (II) and (III) may be combined.
また、光電変換層30の端縁部での光電変換を防止する
目的で、第4図(IV)に示すように、この端縁部に遮光
手段91,92を設けたり、第4図(V)に示すように、各
層の積層端部に絶縁膜80を設けるのも有効である。For the purpose of preventing photoelectric conversion at the edge of the photoelectric conversion layer 30, as shown in FIG. 4 (IV), light shielding means 91 and 92 may be provided at the edge, or as shown in FIG. As shown in ()), it is also effective to provide an insulating film 80 at the laminated end of each layer.
光Lの照射されない部分では、光電変換層30は、ハイ
インピーダンス状態であるので、電極20,50間の電気容
量は小さく、従って前述の素子全体としての電気容量C
を小さくすることができる。In the portion where the light L is not irradiated, the photoelectric conversion layer 30 is in a high impedance state, so that the electric capacity between the electrodes 20 and 50 is small.
Can be reduced.
上に説明した、実施例と特開昭63-34797号公報の情報
記憶素子を比較して見ると、上記電気容量の外に以下の
利点がある。即ち、上記実施例の情報記憶素子の場合、
低抵抗且つ均一な成膜に技術を要する透光性電極を必要
としないため、その分、制作が容易である。When comparing the embodiment described above with the information storage element disclosed in JP-A-63-34797, the following advantages are obtained in addition to the above-mentioned electric capacity. That is, in the case of the information storage element of the above embodiment,
Since a light-transmissive electrode that requires a technique for low-resistance and uniform film formation is not required, production is easy accordingly.
第2図は、請求項1の発明の別実施例を示している。
混同の恐れがないと思われるものに就いては、第1図に
於けると同一の符号を付した。FIG. 2 shows another embodiment of the present invention.
Those which are not likely to be confused are denoted by the same reference numerals as in FIG.
この実施例では基板11の片面に、第1図の実施例の場
合と同様に、光電変換層30と記憶保持層40とが設けら
れ、これら光電変換層30と記憶保持層40にそれぞれ接し
て、電極20,51が設けられている。この例では、記憶・
読み出し・消去のための光Lの照射は光電変換層30、記
憶保持層40の積層された側から行われる。このため、基
板11と電極20に就いては透光性が要請されないが、電極
51は透光性のものである必要がある。なお電極20は、光
電変換層30と基板11との間に設けても良い。In this embodiment, a photoelectric conversion layer 30 and a storage holding layer 40 are provided on one surface of a substrate 11 as in the embodiment of FIG. , Electrodes 20 and 51 are provided. In this example,
Irradiation of light L for reading and erasing is performed from the side where the photoelectric conversion layer 30 and the memory holding layer 40 are stacked. For this reason, the substrate 11 and the electrode 20 are not required to have a light-transmitting property.
51 must be translucent. Note that the electrode 20 may be provided between the photoelectric conversion layer 30 and the substrate 11.
光Lにより情報記憶素子の掃引を行う場合、掃引は第
2図の図面に直交する方向へ行う。When the information storage element is swept by the light L, the sweep is performed in a direction orthogonal to the drawing of FIG.
光Lは第2図の左右方向に就いては、電極20,51を同
時に照射できるに足るだけの幅をもって照射される。こ
の実施例の場合も、光Lと電極51の重なり部分が実態の
記憶保持領域になるのであり、従って、この重なり部分
の面積が大きくなるようにするのが望ましい。The light L is radiated in the left-right direction in FIG. 2 with a width sufficient to irradiate the electrodes 20 and 51 simultaneously. Also in this embodiment, the overlapping portion of the light L and the electrode 51 becomes the actual storage area, and therefore, it is desirable that the area of the overlapping portion be large.
記憶保持層の端縁部側面からの漏れ電流の防止や、光
電変換部の端縁部での光電変換を防止するために、第4
図各図に示す方法が有効であることは第1図の実施例の
場合と同様である。In order to prevent leakage current from the side surface of the edge of the storage layer and to prevent photoelectric conversion at the edge of the photoelectric conversion unit,
The effectiveness of the method shown in each figure is the same as that of the embodiment shown in FIG.
この実施例の場合も勿論、電気容量Cを小さくでき
る。また第1図の実施例と比較すると基板11に透光性が
要求されないために基板材料に対する選択の幅が広い。In this embodiment, of course, the capacitance C can be reduced. Compared with the embodiment shown in FIG. 1, since the substrate 11 does not need to have a light-transmitting property, the choice of the substrate material is wider.
第3図も請求項1の発明の1実施例を示している。こ
の実施例では、基板11上に電極21と51とを互いに分離し
て形成し、電極51の上に記憶保持層40を積層し、記憶保
持層40と電極21の上に光電変換層30を設けた構造になっ
ている。FIG. 3 also shows an embodiment of the first aspect of the present invention. In this embodiment, the electrodes 21 and 51 are formed separately from each other on the substrate 11, the storage layer 40 is stacked on the electrode 51, and the photoelectric conversion layer 30 is formed on the storage layer 40 and the electrode 21. The structure is provided.
この例では記憶・読み出し・消去のための光Lの照射
は光電変換層30の側から行われる。このため基板11、電
極21,51に透光性は要請されない。In this example, irradiation of light L for storage / read / erase is performed from the photoelectric conversion layer 30 side. For this reason, the substrate 11 and the electrodes 21 and 51 are not required to have translucency.
光Lにより情報記憶素子の掃引を行う場合、掃引は第
3図の図面に直交する方向へ行う。When the information storage element is swept by the light L, the sweep is performed in a direction orthogonal to the drawing of FIG.
光Lは第3図の左右方向に就いては、電極21,51を同
時に照射できるに足るだけの幅をもって照射される。光
Lと電極51の重なり部分が実態の記憶保持領域になるか
ら、この重なり部分の面積が大きくなるようにするのが
望ましい。The light L is irradiated in the left-right direction of FIG. 3 with a width enough to irradiate the electrodes 21 and 51 simultaneously. Since the overlapping portion of the light L and the electrode 51 becomes the actual storage area, it is desirable to increase the area of this overlapping portion.
記憶保持層の端縁部側面からの漏れ電流の防止や、光
電変換部の端縁部での光電変換を防止するために、第4
図各図に示す方法が有効であることは第1図、第2図の
実施例の場合と同様である。In order to prevent leakage current from the side surface of the edge of the storage layer and to prevent photoelectric conversion at the edge of the photoelectric conversion unit,
The effectiveness of the method shown in each figure is the same as that of the embodiment shown in FIGS.
この実施例の場合も勿論、電気容量Cを小さくでき
る。また第1図の実施例と比較すると基板11に透光性が
要求されないために基板材料に対する選択の幅が広い。In this embodiment, of course, the capacitance C can be reduced. Compared with the embodiment shown in FIG. 1, since the substrate 11 does not need to have a light-transmitting property, the choice of the substrate material is wider.
上に説明した3つの実施例で光電変換層、記憶保持層
に就いては、特開昭63-34794号公報に開示された全ての
光電変換層、記憶保持層を利用できる。Regarding the photoelectric conversion layer and the storage layer in the three embodiments described above, all the photoelectric conversion layers and storage layers disclosed in JP-A-63-34794 can be used.
また、前述したように特開昭62-139481号公報に開示
された全てのフォトコンダクター、フォトキャパシター
等の光電変換構造部を、請求項2の発明の第1および第
2の層として用い得ることがてきる。この場合は、第1
及び第2の層が、それぞれの層構成の組合せ、記憶・読
み出し・消去の各状態に応じて、各々光電変換層と記憶
保持層の何れか、もしくは双方の機能を果たす。また、
この場合、情報の記憶から読み出しまでの時間は数msec
と短く、記憶内容の消去は、時間の経過により行われる
か、あるいは新たな情報の書込み操作により行われるこ
とになる。Further, as described above, all the photoelectric conversion structures such as photoconductors and photocapacitors disclosed in JP-A-62-139481 can be used as the first and second layers of the invention of claim 2. Comes. In this case, the first
And the second layer performs the function of one or both of the photoelectric conversion layer and the storage holding layer, depending on the combination of the respective layer configurations and the respective states of storage / read / erase. Also,
In this case, the time from information storage to reading is several milliseconds
In short, the erasing of the stored contents is performed with the passage of time or performed by a new information writing operation.
従って、第1図乃至第3図の実施例に於いて、光電変
換層と記憶保持層とを、上記「光電変換構造部」により
置き換えれば、請求項2の実施例が得られる。Therefore, in the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the photoelectric conversion layer and the memory holding layer are replaced by the above-mentioned "photoelectric conversion structure portion", whereby the embodiment of claim 2 is obtained.
なお、第1図ないし第3図に示した実施例は、1次元
的な情報記憶素子であり、これらの図面に直交する方向
に1次元的に光像を照射するか、光ビームを掃引して情
報の記憶、読み出し等を行うが、これらの素子を2次元
的に、即ち、第1図ないし第3図に於いて左右方向へ配
列して、2次元的に光ビームを掃引して情報記憶等を行
うようにしても良いことは言うまでもない。The embodiment shown in FIGS. 1 to 3 is a one-dimensional information storage element, and irradiates a light image one-dimensionally or sweeps a light beam in a direction perpendicular to these drawings. These elements are two-dimensionally arranged, that is, arranged in the horizontal direction in FIGS. 1 to 3, and the light beam is swept two-dimensionally. Needless to say, storage or the like may be performed.
さて、請求項1の情報記憶素子に対して情報を記憶さ
せる方法は、基本的には特開昭63-34794号公報記載の方
法である。即ち第1図の例で言えば電極20,50の間に一
定の電圧を印加しつつ、記憶すべき情報に応じて変調さ
れた光ビームを掃引することにより、光電変換の惹起さ
れた部分に対応する記憶保持層に電荷を蓄積させ、この
電荷蓄積量の有無もしくは変化により情報を記憶する。The method of storing information in the information storage element according to claim 1 is basically the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-34794. That is, in the example of FIG. 1, while applying a constant voltage between the electrodes 20 and 50, the light beam modulated according to the information to be stored is swept, so that a portion where photoelectric conversion is caused is generated. Charges are stored in the corresponding storage layer, and information is stored by the presence or absence or change of the charge storage amount.
このため、すでに情報を記憶された素子に新たな情報
を記憶させる場合、上記の記憶方法の場合だと、一旦、
記憶保持層に蓄積された電荷を取り去って、情報記憶素
子を初期の状態に戻す、消去作業が必要であった。For this reason, when storing new information in an element in which information has already been stored, once in the case of the above storage method, once,
An erasing operation of removing the electric charge accumulated in the storage holding layer and returning the information storage element to an initial state was required.
特開昭63-34794号公報にはまた、別の記憶方法とし
て、強度一定の光ビームを掃引しつつ、一対の電極への
印加電圧を、記憶させるべき情報に応じて強度変調させ
る方法が開示されているが、この場合も同様である。Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-34794 also discloses another method of modulating the voltage applied to a pair of electrodes according to the information to be stored while sweeping a light beam of constant intensity. The same applies to this case.
請求項3の発明では、記憶すべき情報が「1」「0」
のような2値情報で有る場合に、情報記憶素子に対して
強度一定の光ビームを掃引しつつ、電極間への印加電圧
を情報により極性変調する。According to the third aspect of the present invention, the information to be stored is “1” “0”
In the case of binary information as described above, the voltage applied between the electrodes is polarity-modulated by the information while sweeping a constant intensity light beam to the information storage element.
第5図は、請求項3の発明の1実施例を示している。
符号100は、請求項1の発明の情報記憶素子をしめす。
この情報記憶素子100の具体的な例は、第1図乃至第3
図に即して説明したものである。符号20a,50aは、情報
記憶素子の第1および第2の層に接して設けられた電極
を示す。これら電極の間に極性変調手段200を介して、
交流電源300から交流電圧を印加し、強度一定の光ビー
ムLBにより情報記憶素子100を掃引しつつ、極性変調手
段200に2値情報信号を入力する。FIG. 5 shows an embodiment of the third aspect of the present invention.
Reference numeral 100 indicates an information storage element according to the first aspect of the present invention.
Specific examples of this information storage element 100 are shown in FIGS.
This is described with reference to the drawing. Reference numerals 20a and 50a indicate electrodes provided in contact with the first and second layers of the information storage element. Through the polarity modulation means 200 between these electrodes,
An AC voltage is applied from an AC power supply 300, and a binary information signal is input to the polarity modulation means 200 while sweeping the information storage element 100 with a light beam LB having a constant intensity.
入力された信号の「1」,「0」に応じて、電極20a,
50aの間に印加される電圧の極性が反転する。このとき
光電変換層の光ビームLBで照射されている部分はロウイ
ンピーダンス状態となっているから、この光電変換層部
分に接した記憶保持層には、電荷の注入が生じ、2値情
報に応じて蓄積電荷の有無、もしくは蓄積電荷の極性の
正負の状態が生ずる。According to the input signal “1” or “0”, the electrodes 20a,
The polarity of the voltage applied during 50a is inverted. At this time, since the portion of the photoelectric conversion layer irradiated with the light beam LB is in a low impedance state, charge injection occurs in the storage holding layer in contact with the photoelectric conversion layer portion, and the charge is injected according to the binary information. As a result, the presence or absence of accumulated charges or the polarity of the accumulated charges is positive or negative.
この状態は、印加電圧の極性に応じて強制的に生ずる
から、それ以前の記憶状態と無関係に実現できるもので
あり、従って、情報の所謂オーバーライトが可能であ
る。なお、請求項3の方法は、前記した電気容量Cに起
因する応答性の問題を考慮しなければ特開昭63-34794号
公報開示の情報記憶素子の全てに対しても適用できる。Since this state is forcibly generated in accordance with the polarity of the applied voltage, it can be realized irrespective of the previous storage state. Therefore, so-called overwriting of information is possible. Incidentally, the method of claim 3 can be applied to all of the information storage elements disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-34794 unless the problem of the responsiveness caused by the capacitance C is considered.
[発明の効果] 以上、本発明によれば新規な情報記憶素子および情報
記憶方法を提供できる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a novel information storage element and information storage method can be provided.
情報記憶素子は、上記の如く情報の記憶・読み出しを
時系列に行うときに、記憶・読み出しの動作が行われる
部位以外の素子全体の電気容量が小さいので記憶や読み
出しの応答が速く、動作の高速化が可能になる。また情
報記憶方法は、所謂オーバーライトが可能であり、記憶
情報の消去の為の手段・時間を省略でき素子の適用範囲
を広げることができる。When the information storage element performs the storage and readout of information in time series as described above, the response of storage and readout is fast because the electric capacity of the entire element other than the part where the storage and readout operation is performed is small, and the operation of the information storage element is fast. Speeding up becomes possible. In addition, the information storage method allows so-called overwriting, so that the means and time for erasing the stored information can be omitted, and the applicable range of the element can be expanded.
第1図は、請求項1の発明の1実施例を説明するための
図、第2図は、請求項1の発明の別の実施例を説明する
ための図、第3図は、請求項1の発明の他の実施例を説
明するための図、第4図は、請求項1の発明の実施例の
変形例を説明するための図、第5図は、請求項3の発明
の実施例を説明するための図である。 10……基板、20,50……電極、30……光電変換層、40…
…記憶保持層FIG. 1 is a diagram for explaining one embodiment of the invention of claim 1, FIG. 2 is a diagram for explaining another embodiment of the invention of claim 1, and FIG. FIG. 4 is a diagram for explaining another embodiment of the first invention, FIG. 4 is a diagram for explaining a modification of the embodiment of the first invention, and FIG. 5 is an embodiment of the third invention. It is a figure for explaining an example. 10 ... substrate, 20,50 ... electrode, 30 ... photoelectric conversion layer, 40 ...
… Memory retention layer
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H04N 5/335 H01L 31/10 Z (56)参考文献 特開 昭63−34797(JP,A) 特開 昭62−139481(JP,A) 特開 平2−262761(JP,A) 特開 平2−297963(JP,A) 特開 平2−29354(JP,A) 特公 昭54−22060(JP,B2)Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 identification symbol FI H04N 5/335 H01L 31 / 10Z (56) References JP-A-63-34797 (JP, A) JP-A-62-139481 (JP, A) JP-A-2-262761 (JP, A) JP-A-2-29763 (JP, A) JP-A-2-29354 (JP, A) JP-B-54-22060 (JP, B2)
Claims (3)
情報内容を、読み出し用の光ビームによる掃引により、
時系列的な電気信号として読み出すことができ、かつ、
記憶した情報内容を消去して記憶前の状態に戻し得る情
報記憶素子であって; 第1の層と、この第1の層に接する第2の層と、これら
第1及び第2の層にそれぞれ接して設けられた1対の電
極とを有し; 上記第1及び第2の層の一方は、光入力を光電変換する
光電変換層としての機能を持ち、他方は上記光電変換状
態を電気的状態として記憶する記憶保持層としての機能
を有し; 上記1対の電極は、上記第1及び第2の層を挟んで実質
的に対向しないこと; を特徴とする情報記憶素子。An information can be input and stored by light, and the stored information can be swept by a light beam for reading.
Can be read out as a time-series electrical signal, and
An information storage element capable of erasing stored information content and returning to a state before storage; a first layer, a second layer in contact with the first layer, and a first layer and a second layer. A pair of electrodes provided in contact with each other; one of the first and second layers has a function as a photoelectric conversion layer for performing photoelectric conversion of a light input, and the other has a function of converting the photoelectric conversion state into an electrical state. An information storage element having a function as a storage holding layer for storing a target state; wherein the pair of electrodes do not substantially face each other across the first and second layers.
情報内容を、読み出し用の光ビームによる掃引により、
時系列的な電気信号として読み出すことができ、かつ、
記憶した情報内容を消去して記憶前の状態に戻し得る情
報記憶素子であって; 第1の層と、この第1の層に接する第2の層と、これら
第1及び第2の層にそれぞれ接して設けられた1対の電
極とを有し; 上記第1及び第2の層は、光入力を光電変換する光電変
換層としての機能と上記光電変換状態を電気的状態とし
て記憶する記憶保持層としての機能とを共に有し; 上記1対の電極は、上記第1及び第2の層を挟んで実質
的に対向しないこと; を特徴とする情報記憶素子。2. Information can be input and stored by light, and the stored information content can be swept by a reading light beam.
Can be read out as a time-series electrical signal, and
An information storage element capable of erasing stored information content and returning to a state before storage; a first layer, a second layer in contact with the first layer, and a first layer and a second layer. A pair of electrodes provided in contact with each other; the first and second layers function as a photoelectric conversion layer for photoelectrically converting a light input and storage for storing the photoelectric conversion state as an electrical state. An information storage element having both functions as a holding layer; and the pair of electrodes do not substantially oppose each other across the first and second layers.
ームを掃引し、この光ビームの掃引に合わせ、記憶させ
るべき二値情報に応じて1対の電極に印加する電圧の極
性を反転させることにより、該二値情報の記憶を行うこ
と; を特徴とする情報記憶方法。3. A storage device according to claim 1, wherein a light beam having a constant intensity is swept over the storage element, and the polarity of the voltage applied to the pair of electrodes according to the binary information to be stored in accordance with the sweep of the light beam. Storing the binary information by inverting the binary information.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1084283A JP2866909B2 (en) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | Information storage element and information storage method |
| US07/503,046 US5079415A (en) | 1989-04-03 | 1990-04-02 | Apparatus for converting optical information into electrical information signal, information storage element and method for storing information in the information storage element |
| US07/776,643 US5351209A (en) | 1989-04-03 | 1991-10-15 | Apparatus for converting optical information into electrical information signal, information storage element and method for storing information in the information storage element |
| US07/776,642 US5235542A (en) | 1989-04-03 | 1991-10-15 | Apparatus for converting optical information into electrical information signal, information storage element and method for storing information in the information storage element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1084283A JP2866909B2 (en) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | Information storage element and information storage method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02263396A JPH02263396A (en) | 1990-10-26 |
| JP2866909B2 true JP2866909B2 (en) | 1999-03-08 |
Family
ID=13826135
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2866909B2 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5422060B2 (en) | 2010-09-27 | 2014-02-19 | 新明和工業株式会社 | Waste collection device |
-
1989
- 1989-04-03 JP JP1084283A patent/JP2866909B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5422060B2 (en) | 2010-09-27 | 2014-02-19 | 新明和工業株式会社 | Waste collection device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02263396A (en) | 1990-10-26 |
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