JP2887112B2 - Spin processing device - Google Patents
Spin processing deviceInfo
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- guide
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Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はスピン処理装置に係
わり、特に基板を高速回転により乾燥などの処理を行う
スピン処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spin processing apparatus, and more particularly to a spin processing apparatus for performing processing such as drying of a substrate by high-speed rotation.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば液晶基板のような基板に、回路パ
ターンを形成する成膜プロセスやフォトプロセスにおい
ては、ワークとしての矩形状のガラス製の基板の処理と
洗浄とが繰り返し行われる。2. Description of the Related Art In a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a substrate such as a liquid crystal substrate, for example, processing and cleaning of a rectangular glass substrate as a work are repeatedly performed.
【0003】洗浄された基板を乾燥処理させるために
は、上記基板をスピンテーブル上に載置し、このスピン
テーブルとともに高速回転させ、それによって生じる遠
心力を利用して上記基板に付着した洗浄液を除去すると
いうことが行われている。In order to dry the washed substrate, the substrate is placed on a spin table, rotated at high speed together with the spin table, and the cleaning liquid attached to the substrate is removed by utilizing the centrifugal force generated thereby. Elimination is being done.
【0004】図4に従来の矩形状の基板1を保持させる
ためのスピンテーブル2の一例を示す。スピンテーブル
2は本体部3を有する。この本体部3は円盤状の中心部
3aの外周に4本のアーム3bが周方向に90度間隔で
突設されてなる。4本のアーム3bは同じ長さに設定さ
れ、それぞれのアーム3bの先端部は基板保持部3cと
なっている。この基板保持部3cには係合部として所定
間隔で離間した2本の円柱状のガイドピン4およびこの
ガイドピン4に比べて短く形成され、かつ本体部3側に
位置する1本の受けピン5が固定的に突設されている。FIG. 4 shows an example of a conventional spin table 2 for holding a rectangular substrate 1. The spin table 2 has a main body 3. The main body 3 has four arms 3b projecting from the outer periphery of a disk-shaped central portion 3a at intervals of 90 degrees in the circumferential direction. The four arms 3b are set to the same length, and the tip of each arm 3b is a substrate holding part 3c. The substrate holding portion 3c has two cylindrical guide pins 4 spaced apart from each other at a predetermined interval as engaging portions, and one receiving pin formed shorter than the guide pins 4 and located on the main body 3 side. 5 is fixedly protruded.
【0005】そして上記スピンテーブル2は、上記基板
1が4つの角部を各アーム3bの一対のガイドピン4に
係合させるとともに、角部下面が上記受けピン5に支持
される。つまり、基板1は4本のアーム3bがその矩形
の対角線方向に沿う状態で上記スピンテーブル2に保持
されている。In the spin table 2, the substrate 1 has four corners engaged with a pair of guide pins 4 of each arm 3b, and the lower surfaces of the corners are supported by the receiving pins 5. That is, the substrate 1 is held on the spin table 2 in a state where the four arms 3b are along the diagonal direction of the rectangle.
【0006】このように、基板1を保持した上記スピン
テーブル2を高速で回転駆動すれば、遠心力によって上
記基板1に付着した洗浄液が除去されるから、その基板
1を乾燥させることができる。As described above, when the spin table 2 holding the substrate 1 is driven to rotate at a high speed, the cleaning liquid attached to the substrate 1 is removed by centrifugal force, so that the substrate 1 can be dried.
【0007】これらガイドピン4および受けピン5は、
例えばフッ素樹脂のような軟質材料より形成され、スピ
ンテーブル2が基板1を保持して高速回転駆動するとき
に基板1を損傷させずに保持できるようになっている。
この場合、ガイドピン4は基板1の外周部分に当接し、
スピンテーブル2の高速回転時にはガイドピン4の基板
1との当接部分が遠心力を受けるものとなっている。The guide pin 4 and the receiving pin 5 are
For example, the spin table 2 is formed of a soft material such as a fluororesin, and can be held without damaging the substrate 1 when the spin table 2 holds and rotates the substrate 1 at high speed.
In this case, the guide pins 4 come into contact with the outer peripheral portion of the substrate 1,
When the spin table 2 rotates at a high speed, a contact portion of the guide pin 4 with the substrate 1 receives a centrifugal force.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで上記ガイドピ
ン4は、図5に示すような構成となっている。すなわ
ち、上記基板保持部3cの下面側からねじ6を挿通させ
てこのねじ6をナット7により保持し、そして上方から
ガイドピン4がねじ6に螺合されて固定的に設けられて
いる。そのために、ガイドピン4には、その外周面のス
ピンテーブル2内周側の限られた部分だけが基板1と当
接する。すなわち、この当接部分で基板1の保持が繰り
返し行われる。The guide pin 4 has a structure as shown in FIG. That is, the screw 6 is inserted from the lower surface side of the substrate holding portion 3c, the screw 6 is held by the nut 7, and the guide pin 4 is screwed to the screw 6 from above to be fixedly provided. Therefore, only a limited portion of the outer peripheral surface of the guide pin 4 on the inner peripheral side of the spin table 2 contacts the substrate 1. That is, the holding of the substrate 1 is repeatedly performed at the contact portion.
【0009】また、上記スピンテーブル2の高速回転駆
動時には、遠心力によって基板1が上記当接部分に対し
て大きな応力を及ぼし、そのため基板1の外周部分が上
記ガイドピン4に食い込むこととなる。When the spin table 2 is driven at a high speed, the substrate 1 exerts a large stress on the contact portion due to the centrifugal force, so that the outer peripheral portion of the substrate 1 bites into the guide pins 4.
【0010】すなわち、上記ガイドピン4は載置時に上
記基板1の外周部分に接触することがあり、また高速回
転により基板1の外周部分がガイドピン4に食い込み、
さらに処理終了時にこの状態から基板1を移動させる。
この動作が繰り返し行われると、基板1との当接部分だ
けが早期に削られ、円柱状のガイドピン4が、例えばD
字形に偏摩耗したり、あるいは基板1の食い込みからの
移動の際に割れたりする。そのためガイドピン4の寿命
が短いものとなっている。That is, the guide pins 4 may come into contact with the outer peripheral portion of the substrate 1 at the time of mounting, and the outer peripheral portion of the substrate 1 bites into the guide pins 4 by high-speed rotation.
Further, the substrate 1 is moved from this state at the end of the processing.
When this operation is repeatedly performed, only the contact portion with the substrate 1 is cut off at an early stage, and the cylindrical guide pin 4 becomes, for example, D
It may be unevenly worn in the shape of a letter, or cracked when the substrate 1 moves from the bite. Therefore, the life of the guide pin 4 is short.
【0011】本発明は上記の事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、基板の保持をガイドす
る基板ガイドピンの偏摩耗を防止し、この基板ガイドピ
ンの寿命を延長させることができるようにしたスピン処
理装置を提供しようとするものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to prevent uneven wear of a substrate guide pin for guiding the holding of a substrate and extend the life of the substrate guide pin. It is an object of the present invention to provide a spin processing device that can perform the spin processing.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、スピンテーブルを有し、こ
のスピンテーブル上に基板を載置して処理するスピン処
理装置において、上記スピンテーブルには基板保持手段
が設けられており、この基板保持手段は、上記基板の下
面を支持する基板支持手段と、回転自在に設けられたガ
イドローラを有し、このガイドローラが上記基板の外周
面に係合する基板ガイド手段と、を有することを特徴と
するスピン処理装置である。According to a first aspect of the present invention, there is provided a spin processing apparatus having a spin table, wherein a substrate is mounted on the spin table for processing. The spin table is provided with a substrate holding means, the substrate holding means has a substrate supporting means for supporting the lower surface of the substrate, and a guide roller rotatably provided, and the guide roller is provided for the substrate. And a substrate guide means engaged with the outer peripheral surface.
【0013】請求項2記載の発明は、上記ガイドローラ
は合成樹脂より形成されていることを特徴とする請求項
1記載のスピン処理装置である。請求項1の発明による
と、上記スピンテーブルには、基板保持手段が設けら
れ、この基板保持手段は、上記基板の下面を支持する基
板支持手段と、回転自在に設けられたガイドローラを有
しており、このガイドローラが上記基板の外周面に係合
する基板ガイド手段であるため、ガイドローラが回転す
ることにより基板と基板保持手段が常に同じ当接部分で
接触することがなくなり、よって基板保持手段の寿命を
延ばすことが可能となる。[0013] The invention according to claim 2 is the spin processing apparatus according to claim 1, wherein the guide roller is formed of a synthetic resin. According to the first aspect of the present invention, the spin table is provided with substrate holding means, and the substrate holding means has substrate supporting means for supporting a lower surface of the substrate, and a guide roller rotatably provided. Since the guide roller is a substrate guiding means that engages with the outer peripheral surface of the substrate, the rotation of the guide roller prevents the substrate and the substrate holding means from always coming into contact at the same abutting portion. The life of the holding means can be extended.
【0014】請求項2の発明によると、上記ガイドロー
ラは合成樹脂より形成されているため、このガイドロー
ラに基板の外周が当接しても基板の外周を損傷すること
がない。According to the second aspect of the present invention, since the guide roller is formed of a synthetic resin, the outer periphery of the substrate is not damaged even if the outer periphery of the substrate comes into contact with the guide roller.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図1ないし図3に基づいて説明する。図2に示す
スピン処理装置10は、カップ11を有し、このカップ
11は下カップ11aと上カップ11bから構成されて
いる。上記下カップ11aは上端面が開放したお椀状に
形成されており、またこの底面は中心部から外周部に向
かって低く傾斜した緩やかな湾曲形状をなしている。下
カップ11aの底面の中心部分には通孔12が形成され
ており、さらにこの下カップ11aの外周上端部には受
けフランジ13が形成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The spin processing device 10 shown in FIG. 2 has a cup 11, which is composed of a lower cup 11a and an upper cup 11b. The lower cup 11a is formed in a bowl shape with an open upper end surface, and the bottom surface has a gently curved shape inclined downward from the center toward the outer periphery. A through hole 12 is formed at the center of the bottom surface of the lower cup 11a, and a receiving flange 13 is formed at the upper end of the outer periphery of the lower cup 11a.
【0016】上記上カップ11bも中心部分が開放した
凸曲面となっていて、この外周部に係止フランジ14が
設けられている。そしてこれら受けフランジ13と係止
フランジ14とが、例えばパッキング15などを介して
複数のボルト16によって結合して一体化されている。The upper cup 11b also has a convex curved surface with an open central portion, and a locking flange 14 is provided on the outer peripheral portion. The receiving flange 13 and the locking flange 14 are combined and integrated by a plurality of bolts 16 via, for example, a packing 15 or the like.
【0017】上記下カップ11aの中央部に形成された
通孔12には、モータ17に連結された回転軸18が挿
通しており、この回転軸18の上端にスピンテーブル1
9が取り付けられている。スピンテーブル19は、前の
処理行程であらかじめ洗浄処理された矩形状の基板20
をこの上に載置して高速回転駆動させ、基板20に付着
している洗浄液を遠心力によって除去するものである。A rotary shaft 18 connected to a motor 17 is inserted into a through hole 12 formed at the center of the lower cup 11a.
9 is attached. The spin table 19 is provided with a rectangular substrate 20 which has been cleaned in the previous process.
Is mounted thereon and is driven to rotate at a high speed to remove the cleaning liquid adhering to the substrate 20 by centrifugal force.
【0018】上記下カップ11aには、複数の排水路2
1が設けられ、上記高速回転によって除去された洗浄液
がこの排水路21を通過して外方に排出される。また上
記スピン処理装置10では、排気路22が設けられて外
方の吸引手段に接続されており、高速回転により生じる
空気流を外方へ排出して下カップ11aおよび上カップ
11bで形成された空間部分の気流を円滑な流れとして
いる。The lower cup 11a has a plurality of drainage channels 2.
The cleaning liquid removed by the high-speed rotation passes through the drainage channel 21 and is discharged to the outside. Further, in the spin processing apparatus 10, the exhaust path 22 is provided and connected to the external suction means, and the air flow generated by the high-speed rotation is discharged outward to be formed by the lower cup 11a and the upper cup 11b. The air flow in the space is smooth.
【0019】上記スピンテーブル19は、図1に示すよ
うに上記回転軸18に連結された円板状の本体23を有
し、この本体23には周方向に90度ごとに突出したガ
イド部24が4個設けられている。ガイド部24には、
本体23とは別体的に設けられたアーム体25が連結さ
れている。互いに対向する各一対のアーム体25は、矩
形状の基板20を後述するごとく保持できるよう、異な
る長さ寸法に設定されている。As shown in FIG. 1, the spin table 19 has a disk-shaped main body 23 connected to the rotary shaft 18, and the main body 23 has guide portions 24 protruding every 90 degrees in the circumferential direction. Are provided. In the guide part 24,
An arm 25 provided separately from the main body 23 is connected. The pair of arms 25 facing each other are set to have different lengths so as to hold the rectangular substrate 20 as described later.
【0020】上記アーム体25は、アーム部25aと、
保持部25bとを有し、これらがT字状の一体形状をな
している。保持部25bは、外周が円弧に形成されてお
り、上面に基板保持手段である受けピン26と、ガイド
ピン27とを有している。The arm 25 has an arm 25a,
And a holding portion 25b, which form a T-shaped integral shape. The holding portion 25b has an outer periphery formed in an arc shape, and has a receiving pin 26 as a substrate holding means and a guide pin 27 on the upper surface.
【0021】上記受けピン26は、ねじによって保持部
25bに固定され、この形状は円柱状であってその先端
が頂上部でわずかな平面を有する尖状部となっている。
受けピン26は、その材質を例えばPTFEのようなフ
ッ素樹脂としている。The receiving pin 26 is fixed to the holding portion 25b by a screw. The receiving pin 26 has a columnar shape, and its tip is a pointed portion having a slight flat surface at the top.
The material of the receiving pin 26 is, for example, a fluorine resin such as PTFE.
【0022】上記ガイドピン27は、上記本体23の中
心方向から外方側で、上記受けピン26に近接した位置
に設けられている。ガイドピン27は、図3に示すよう
に上部側が小径なローラ受け部30に形成されたシャフ
ト31を有する。上記保持部25bの下面側からはねじ
28が貫通され、このねじ28が保持部25bの上面側
でナット29によって保持固定されている。上記ねじ2
8には上記シャフト31が螺合されている。このローラ
受け部30には、円筒状のガイドローラ32がガタのな
いように回転自在に外嵌されている。このガイドローラ
32は、その外周面に受けピン26上に載置される基板
20の外周面が、当接する高さとなっている。The guide pin 27 is provided at a position close to the receiving pin 26 on the outer side from the center of the main body 23. As shown in FIG. 3, the guide pin 27 has a shaft 31 formed on a roller receiving portion 30 having a small diameter on the upper side. A screw 28 penetrates from the lower surface side of the holding portion 25b, and the screw 28 is held and fixed by a nut 29 on the upper surface side of the holding portion 25b. Screw 2
The shaft 31 is screwed to 8. A cylindrical guide roller 32 is rotatably fitted to the roller receiving portion 30 so that there is no play. The guide roller 32 has such a height that the outer peripheral surface of the substrate 20 placed on the receiving pin 26 abuts on the outer peripheral surface thereof.
【0023】このガイドローラ32は、その材質を例え
ばPCTFEのようなフッ素樹脂としている。このガイ
ドローラ32の上部、つまり基板20の外周面と当接し
ない部分は、上端に向かって小径となるテーパ部32a
に形成されている。The guide roller 32 is made of a fluorine resin such as PCTFE. An upper portion of the guide roller 32, that is, a portion not in contact with the outer peripheral surface of the substrate 20, has a tapered portion 32a having a smaller diameter toward the upper end.
Is formed.
【0024】上記シャフト31の上端には、上記ガイド
ローラ32が抜出するのを阻止する止めねじ33が螺合
される。以上のような構成を有するスピン処理装置10
の作用について、以下に説明する。A set screw 33 for preventing the guide roller 32 from being pulled out is screwed into the upper end of the shaft 31. Spin processing apparatus 10 having the above configuration
The operation of is described below.
【0025】洗浄処理されて洗浄処理液が付着した状態
の基板20は、ロボットなどの搬送手段によってスピン
テーブル19へ移送される。そしてスピンテーブル19
上の受けピン26の上端部に基板20が支持される。こ
の状態で、8本のガイドピン27は基板20の外周部に
位置し、上記基板20が摺動するのを規制している。The substrate 20 having been subjected to the cleaning process and having the cleaning solution attached thereto is transferred to the spin table 19 by a transfer means such as a robot. And spin table 19
The board 20 is supported on the upper end of the upper receiving pin 26. In this state, the eight guide pins 27 are located on the outer peripheral portion of the board 20 and regulate the board 20 from sliding.
【0026】搬送手段により基板20を、スピンテーブ
ル19の受けピン26上に載置する場合、位置合わせの
正確性が損なわれてガイドローラ32のテーパ部32a
に基板20の外周部が当接する場合がある。この場合、
上記ガイドピン27はガイドローラ32が回転自在なた
め、基板20の外周が接触して摺動しても、ガイドロー
ラ32が回転する。そのため軟質材料よりなるガイドロ
ーラ32は、基板20の摺動による摩耗、削りを低減さ
れるものとなっている。When the substrate 20 is placed on the receiving pin 26 of the spin table 19 by the transport means, the accuracy of the positioning is impaired and the tapered portion 32a of the guide roller 32 is lost.
There is a case where the outer peripheral portion of the substrate 20 comes into contact with the substrate. in this case,
Since the guide pin 32 is rotatable with respect to the guide pin 27, the guide roller 32 rotates even if the outer periphery of the substrate 20 comes into contact and slides. Therefore, the guide roller 32 made of a soft material reduces wear and shaving due to sliding of the substrate 20.
【0027】上記基板20をスピンテーブル19上に載
置し、そしてスピンテーブル19を高速回転駆動させる
と、上記基板20は遠心力によってガイドピン27の外
面に強く当接する。When the substrate 20 is placed on the spin table 19 and the spin table 19 is driven to rotate at a high speed, the substrate 20 comes into strong contact with the outer surface of the guide pin 27 by centrifugal force.
【0028】このとき、上記ガイドピン27のガイドロ
ーラ32は、わずかに回転するから、その部位で大きく
食い込むことが防止される。そのためガイドローラ32
の全周に亘りこの食い込みを逃がすことが可能となる。
また、スピンテーブル19に加速あるいは減速が生じた
場合でも、ガイドローラ32に、わずかに微小回転が生
じることにより、基板20の摺動によるガイドローラ3
2の摩耗、削りが低減される。At this time, since the guide roller 32 of the guide pin 27 rotates slightly, it is prevented that the guide roller 32 bites into a large part at that portion. Therefore, the guide roller 32
It is possible to escape this digging over the entire circumference of.
Also, even when the spin table 19 is accelerated or decelerated, the guide roller 32 is slightly rotated so that the guide roller 3 slides on the substrate 20.
2, wear and shaving are reduced.
【0029】さらに、高速回転による基板20の処理が
終了し、基板20をスピンテーブル19上から上昇させ
て取り出す場合には、基板20がガイドローラ32に食
い込んでいる場合がある。しかしながら、食い込みが生
じていても、それが僅かであればガイドローラ32が回
転自在なために、基板20との接触によって、このガイ
ドローラ32が回転するから、上記基板20をガイドロ
ーラ32の食い込みから離脱させることができる。Further, when the processing of the substrate 20 by the high-speed rotation is completed, and the substrate 20 is lifted from the spin table 19 and taken out, the substrate 20 may bite into the guide roller 32 in some cases. However, even if a bite occurs, the guide roller 32 is rotatable if the bite is slight, and the guide roller 32 is rotated by the contact with the substrate 20. Can be removed from
【0030】さらに、上記のようにガイドピン27は、
基板20と当接するガイドローラ32が回転自在に設け
られた構成のため、このガイドローラ32に摩耗が生じ
てもガイドローラ32の一部のみが摩耗あるいは削られ
て、例えばD字形に偏摩耗したり、あるいは同一部分に
繰り返し当接し、その部位に大きく食い込むことが生じ
難いから、上方へ向かい取り出す際に割れが生じること
がなくなる。よって、このガイドローラ32の全周に亘
ってバランスよく摩耗あるいは削られることとなる。Further, as described above, the guide pin 27
Since the guide roller 32 that is in contact with the substrate 20 is rotatably provided, even if the guide roller 32 is worn, only a part of the guide roller 32 is worn or scraped, and the guide roller 32 is unevenly worn, for example, in a D-shape. It is unlikely to cause repeated contact or repeated contact with the same portion, and it is unlikely to dig into that portion. Therefore, the guide roller 32 is worn or scraped over the entire circumference in a well-balanced manner.
【0031】このように、ガイドピン27のガイドロー
ラ32が回転自在に設けられているために、ガイドピン
27は一部分だけが早期に大きく削られるということが
ないから、寿命を延長することが可能となっている。As described above, since the guide roller 32 of the guide pin 27 is rotatably provided, only a part of the guide pin 27 is not sharply cut at an early stage, and the life can be extended. It has become.
【0032】以上、本発明の一実施の形態について説明
したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となってい
る。以下それについて述べる。上記実施の形態では、ガ
イドローラ32および受けピン26の材質をフッ素樹脂
としているが、材質はこれに限らず、例えばピーク材や
UHMWのような合成樹脂であってもよい。なお、上記
実施の形態では、図1に示すように基板20外周の側辺
部を支持しているが、これに限らず基板20の角部を支
持するものであってもよい。Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention can be variously modified. This is described below. In the above embodiment, the material of the guide roller 32 and the receiving pin 26 is a fluororesin. However, the material is not limited to this, and may be a synthetic resin such as a peak material or UHMW. In the above embodiment, as shown in FIG. 1, the side edge of the outer periphery of the substrate 20 is supported. However, the present invention is not limited to this, and may support the corner of the substrate 20.
【0033】[0033]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によると、上記スピンテーブルには、基板保持手段が
設けられ、この基板保持手段は、上記基板の下面を支持
する基板支持手段と、上記基板の外周に当接するガイド
部分が回転自在に設けられたガイドローラであり、この
ガイドローラが上記基板の外周面に係合する基板ガイド
手段であるため、ガイドローラの回転によって基板と基
板保持手段が常に同じ当接部分で接触することがなく、
よって基板保持手段の寿命を延ばすことができる。As described above, according to the first aspect of the present invention, the spin table is provided with the substrate holding means, and the substrate holding means is provided with the substrate supporting means for supporting the lower surface of the substrate. A guide roller abutting on the outer periphery of the substrate is a guide roller rotatably provided, and since the guide roller is a substrate guide means engaged with the outer peripheral surface of the substrate, the substrate and the substrate are rotated by the rotation of the guide roller. The holding means does not always touch at the same abutment part,
Therefore, the life of the substrate holding means can be extended.
【0034】請求項2記載の発明によると、上記ガイド
ローラは合成樹脂より形成されているため、このガイド
ローラに基板の外周が当接しても基板の外周を損傷する
ことがない。According to the second aspect of the present invention, since the guide roller is formed of a synthetic resin, the outer periphery of the substrate is not damaged even if the outer periphery of the substrate comes into contact with the guide roller.
【図1】本発明の一実施の形態に係わるスピン処理装置
の構成を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a spin processing device according to an embodiment of the present invention.
【図2】同実施の形態に係わるスピンテーブルを示す側
断面図。FIG. 2 is a side sectional view showing the spin table according to the embodiment;
【図3】同実施の形態に係わるガイドピンの構成を示す
側断面図。FIG. 3 is a side sectional view showing a configuration of a guide pin according to the embodiment.
【図4】従来のスピンテーブルを示す平面図。FIG. 4 is a plan view showing a conventional spin table.
【図5】従来のガイドピンの構成を示す側断面図。FIG. 5 is a side sectional view showing a configuration of a conventional guide pin.
10…スピン処理装置 11…カップ 12…通孔 17…モータ 18…回転軸 19…スピンテーブル 20…基板 23…本体 24…ガイド部 25…アーム体 26…受けピン 27…ガイドピン 32…ガイドローラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Spin processing apparatus 11 ... Cup 12 ... Through-hole 17 ... Motor 18 ... Rotating shaft 19 ... Spin table 20 ... Substrate 23 ... Main body 24 ... Guide part 25 ... Arm body 26 ... Receiving pin 27 ... Guide pin 32 ... Guide roller
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/304 H01L 21/68 H01L 21/027 B05C 11/08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01L 21/304 H01L 21/68 H01L 21/027 B05C 11/08
Claims (2)
ブル上に基板を載置して処理するスピン処理装置におい
て、 上記スピンテーブルには基板保持手段が設けられてお
り、この基板保持手段は、 上記基板の下面を支持する基板支持手段と、 回転自在に設けられたガイドローラを有し、このガイド
ローラが上記基板の外周面に係合する基板ガイド手段
と、 を有することを特徴とするスピン処理装置。1. A spin processing apparatus having a spin table and mounting and processing a substrate on the spin table, wherein the spin table is provided with substrate holding means. A substrate support means for supporting a lower surface of the substrate; and a substrate guide means having a guide roller rotatably provided, the guide roller engaging with an outer peripheral surface of the substrate. apparatus.
れていることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装
置。2. The spin processing apparatus according to claim 1, wherein said guide roller is formed of a synthetic resin.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22258996A JP2887112B2 (en) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | Spin processing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22258996A JP2887112B2 (en) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | Spin processing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1064874A JPH1064874A (en) | 1998-03-06 |
| JP2887112B2 true JP2887112B2 (en) | 1999-04-26 |
Family
ID=16784847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22258996A Expired - Lifetime JP2887112B2 (en) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | Spin processing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2887112B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6528767B2 (en) * | 2001-05-22 | 2003-03-04 | Applied Materials, Inc. | Pre-heating and load lock pedestal material for high temperature CVD liquid crystal and flat panel display applications |
| US8608146B2 (en) * | 2009-12-18 | 2013-12-17 | Lam Research Ag | Reinforced pin for being used in a pin chuck, and a pin chuck using such reinforced pin |
| US9190310B2 (en) * | 2010-04-16 | 2015-11-17 | Lam Research Ag | Grounded chuck |
-
1996
- 1996-08-23 JP JP22258996A patent/JP2887112B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1064874A (en) | 1998-03-06 |
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