JP2933779B2 - 伝送システム - Google Patents
伝送システムInfo
- Publication number
- JP2933779B2 JP2933779B2 JP4187111A JP18711192A JP2933779B2 JP 2933779 B2 JP2933779 B2 JP 2933779B2 JP 4187111 A JP4187111 A JP 4187111A JP 18711192 A JP18711192 A JP 18711192A JP 2933779 B2 JP2933779 B2 JP 2933779B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- photovoltaic element
- light guide
- transmission system
- wavelength band
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Optical Communication System (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばMOS(Metal
Oxide Semiconductor)型集積回路への光パワー及び/
又は信号の伝送システムに関する。
Oxide Semiconductor)型集積回路への光パワー及び/
又は信号の伝送システムに関する。
【0002】
【従来の技術】図12に従来技術に基づいたMOS型集
積回路素子の駆動回路の一般的構成を示す。図12に示
すように、通常、MOS型集積回路素子を駆動するため
に、MOS型集積回路素子が電源ライン用の配線Vccに
直接結線された構成が採用されており、信号Vinを入力
するために専用の配線が設けられている。一般的に、こ
れらMOS型集積回路素子や配線などの電子回路部品は
専用の電子回路基板に実装されている。
積回路素子の駆動回路の一般的構成を示す。図12に示
すように、通常、MOS型集積回路素子を駆動するため
に、MOS型集積回路素子が電源ライン用の配線Vccに
直接結線された構成が採用されており、信号Vinを入力
するために専用の配線が設けられている。一般的に、こ
れらMOS型集積回路素子や配線などの電子回路部品は
専用の電子回路基板に実装されている。
【0003】この様なMOS型集積回路素子を搭載した
機器を複雑化、高性能化するために、信号伝送用の配線
の高密度化、高速化、高信頼化、及び信号の低ノイズ化
が望まれている。
機器を複雑化、高性能化するために、信号伝送用の配線
の高密度化、高速化、高信頼化、及び信号の低ノイズ化
が望まれている。
【0004】上述のような信号伝送用の配線に対する要
望に応えるために、透明平板内に光信号を伝送して必要
な箇所でその光信号を受け、光電変換素子によって光信
号を電気信号に戻すという手法、即ち、光バスの概念に
基づいた手法が盛んに提案されている。
望に応えるために、透明平板内に光信号を伝送して必要
な箇所でその光信号を受け、光電変換素子によって光信
号を電気信号に戻すという手法、即ち、光バスの概念に
基づいた手法が盛んに提案されている。
【0005】図13、14、15に上記光バスの概念に
よる素子の代表例を示す。
よる素子の代表例を示す。
【0006】図13は光バスの模式図である(1991
年11月22日付日経産業新聞)。この光バスは平板光
導波路となるガラス基板101の表面に直径2mmの窪
みである凹レンズ102が適所に多数形成されている。
このガラス基板101の表面上に、光源103と受光素
子104が対になって凹レンズ102に重なるようには
め込まれたボード105が形成されており、そのボード
105上にプロセッサー106が形成されている。凹レ
ンズ102は光の出入口として働き、1つの光源103
から発せられた光は凹レンズ102よりガラス基板10
1内に入射して、ガラス基板101中で反射しながら進
行し、複数個の凹レンズ102から出射して受光素子1
04に検出されるように構成されている。
年11月22日付日経産業新聞)。この光バスは平板光
導波路となるガラス基板101の表面に直径2mmの窪
みである凹レンズ102が適所に多数形成されている。
このガラス基板101の表面上に、光源103と受光素
子104が対になって凹レンズ102に重なるようには
め込まれたボード105が形成されており、そのボード
105上にプロセッサー106が形成されている。凹レ
ンズ102は光の出入口として働き、1つの光源103
から発せられた光は凹レンズ102よりガラス基板10
1内に入射して、ガラス基板101中で反射しながら進
行し、複数個の凹レンズ102から出射して受光素子1
04に検出されるように構成されている。
【0007】図14はプレーナ型光集積の概念図である
(1991年11月22日電子情報通信学会集積フォト
ニクス研究会資料)。この光集積システムは、図14に
示されるように、透明基板111の一方の表面にGaA
s素子からなる発光素子112、光検出器113、レン
ズ114及びミラー115などの光学素子が設けられて
おり、透明基板111の他方の表面にはミラー116が
形成されている。上述のような構造を有する光集積シス
テムは、発光素子112より出射された光が透明基板1
11内を反射しながらジグザグに伝搬し、途中でレンズ
114及びミラー115など光学素子により変調を受け
て光検出器113に到達する構成になっている。
(1991年11月22日電子情報通信学会集積フォト
ニクス研究会資料)。この光集積システムは、図14に
示されるように、透明基板111の一方の表面にGaA
s素子からなる発光素子112、光検出器113、レン
ズ114及びミラー115などの光学素子が設けられて
おり、透明基板111の他方の表面にはミラー116が
形成されている。上述のような構造を有する光集積シス
テムは、発光素子112より出射された光が透明基板1
11内を反射しながらジグザグに伝搬し、途中でレンズ
114及びミラー115など光学素子により変調を受け
て光検出器113に到達する構成になっている。
【0008】図15は半導体レーザー波長域コンパクト
ディスクプレーヤーに装備される光学式ピックアップを
示す側面図である(公開特許公報 昭62ー11715
0号)。この光学式ピックアップは、平板状の透明基板
121の相対する2面に反射ミラー122及び回折格子
123が形成されて、透明基板121内部に、図15中
に斜線を施した部分で示すような、反射ミラー122に
反射された光が進行する光路が形成されている。さら
に、透明基板121の前記相対する2面において前記光
路に当たる位置に、半導体レーザからなる発光素子12
4、受光素子125及びレンズ126などの光学素子が
配置されている。透明基板121上には、前記光路を経
た光を記録媒体であるコンパクトディスク127に対し
て授受する投光部128が設けられている。
ディスクプレーヤーに装備される光学式ピックアップを
示す側面図である(公開特許公報 昭62ー11715
0号)。この光学式ピックアップは、平板状の透明基板
121の相対する2面に反射ミラー122及び回折格子
123が形成されて、透明基板121内部に、図15中
に斜線を施した部分で示すような、反射ミラー122に
反射された光が進行する光路が形成されている。さら
に、透明基板121の前記相対する2面において前記光
路に当たる位置に、半導体レーザからなる発光素子12
4、受光素子125及びレンズ126などの光学素子が
配置されている。透明基板121上には、前記光路を経
た光を記録媒体であるコンパクトディスク127に対し
て授受する投光部128が設けられている。
【0009】上述のような構造の光学式ピックアップに
於て、発光素子124より出射される光は透明基板12
1上に設けられた反射ミラー122及び回折格子129
によりコンパクトディスク127に照射され、コンパク
トディスク127からの反射光は反射ミラー122、回
折格子123及びレンズ126に反射されて、受光素子
125に検知される構成になっている。
於て、発光素子124より出射される光は透明基板12
1上に設けられた反射ミラー122及び回折格子129
によりコンパクトディスク127に照射され、コンパク
トディスク127からの反射光は反射ミラー122、回
折格子123及びレンズ126に反射されて、受光素子
125に検知される構成になっている。
【0010】以上3つの例は光ガイド基板の代表的な活
用例である。上述の全ての例に共通しているのは、光信
号を光ガイド基板の内部に伝搬させていること、及び光
ガイド基板の相対する2面上に数種の電子部品及び光学
素子の集積化を行い一体化を図って小型化を目指してい
ることである。
用例である。上述の全ての例に共通しているのは、光信
号を光ガイド基板の内部に伝搬させていること、及び光
ガイド基板の相対する2面上に数種の電子部品及び光学
素子の集積化を行い一体化を図って小型化を目指してい
ることである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】各種機器の高密度化、
小型化、高性能化に伴い、MOS型集積回路素子を初め
とした電子回路部品を各種機器に搭載している。この結
果、電子回路部品の電源ライン用の配線に多大な面積を
必要としてきており、電子回路基板の上での高密度実装
化に支障を来し、且つ、電気配線において誘導に伴うノ
イズの問題が発生している。
小型化、高性能化に伴い、MOS型集積回路素子を初め
とした電子回路部品を各種機器に搭載している。この結
果、電子回路部品の電源ライン用の配線に多大な面積を
必要としてきており、電子回路基板の上での高密度実装
化に支障を来し、且つ、電気配線において誘導に伴うノ
イズの問題が発生している。
【0012】このノイズの問題に関しては、上述したよ
うに光ガイド基板を用いることによる信号伝送用配線の
光配線化の提案が行われ、種々の検討がなされており、
信号伝送用配線で発生するノイズ及びクロストークなど
については改善が行われつつある。
うに光ガイド基板を用いることによる信号伝送用配線の
光配線化の提案が行われ、種々の検討がなされており、
信号伝送用配線で発生するノイズ及びクロストークなど
については改善が行われつつある。
【0013】電源ライン用の配線の問題については有効
な提案がなされておらず、更なる高密度実装化を妨げて
いる。電源ライン用の配線によるノイズ及びクロストー
ク等についても改善されていない。
な提案がなされておらず、更なる高密度実装化を妨げて
いる。電源ライン用の配線によるノイズ及びクロストー
ク等についても改善されていない。
【0014】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、各種機器において、電子回路部品の高密度化及
び低ノイズ化を可能にする伝送システムを提供すること
を目的とする。
であり、各種機器において、電子回路部品の高密度化及
び低ノイズ化を可能にする伝送システムを提供すること
を目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の伝送システム
は、起電力発生用の光を発する光源と、該光源からの起
電力発生用の光を導く光ガイド部と、該光ガイド部を介
して該光源からの起電力発生用の光を受けて起電する光
起電力素子と、該光起電力素子に隣接して形成されると
共に該光起電力素子に接続され、該光起電力素子から供
給される起電力を受けて駆動される集積回路素子とを備
え、該光源と、該光ガイド部と、該光起電力素子と、該
集積回路素子とが一体に形成されており、そのことによ
り上記目的が達成される。
は、起電力発生用の光を発する光源と、該光源からの起
電力発生用の光を導く光ガイド部と、該光ガイド部を介
して該光源からの起電力発生用の光を受けて起電する光
起電力素子と、該光起電力素子に隣接して形成されると
共に該光起電力素子に接続され、該光起電力素子から供
給される起電力を受けて駆動される集積回路素子とを備
え、該光源と、該光ガイド部と、該光起電力素子と、該
集積回路素子とが一体に形成されており、そのことによ
り上記目的が達成される。
【0016】前記光起電力素子と前記集積回路素子とが
電子回路基板に搭載されていてもよい。
電子回路基板に搭載されていてもよい。
【0017】前記光起電力素子と前記集積回路素子とが
電子回路基板に搭載され、該光起電力素子に照射される
光起電力発生用の光を通す開口が該電子回路基板に設け
られていてもよい。
電子回路基板に搭載され、該光起電力素子に照射される
光起電力発生用の光を通す開口が該電子回路基板に設け
られていてもよい。
【0018】前記光ガイド部が、光ガイド基板からな
り、該光ガイド基板を導かれる起電力発生用の光を前記
光起電力素子に照射する手段が該光ガイド基板に備わっ
ていてもよい。
り、該光ガイド基板を導かれる起電力発生用の光を前記
光起電力素子に照射する手段が該光ガイド基板に備わっ
ていてもよい。
【0019】前記光ガイド基板を導かれる光のうち、前
記光起電力素子に照射される光を除いた光の該光ガイド
基板外への放射を防止する反射膜が該光ガイド基板に付
設されていてもよい。
記光起電力素子に照射される光を除いた光の該光ガイド
基板外への放射を防止する反射膜が該光ガイド基板に付
設されていてもよい。
【0020】又、本発明の伝送システムは、入力信号用
の光を発する光源と、該光源からの入力信号用の光を導
く光ガイド部と、該光ガイド部を介して該光源からの入
力信号用の光を受けて任意の電気信号に変換する狭波長
域光起電力素子と、該狭波長域光起電力素子に隣接して
形成されると共に該狭波長域光起電力素子に接続され、
該狭波長域光起電力素子からの任意の電気信号が入力さ
れる集積回路素子とを備え、該光源と、該光ガイド部
と、該狭波長域光起電力素子と、該集積回路素子とが一
体に形成されており、そのことにより上記目的が達成さ
れる。
の光を発する光源と、該光源からの入力信号用の光を導
く光ガイド部と、該光ガイド部を介して該光源からの入
力信号用の光を受けて任意の電気信号に変換する狭波長
域光起電力素子と、該狭波長域光起電力素子に隣接して
形成されると共に該狭波長域光起電力素子に接続され、
該狭波長域光起電力素子からの任意の電気信号が入力さ
れる集積回路素子とを備え、該光源と、該光ガイド部
と、該狭波長域光起電力素子と、該集積回路素子とが一
体に形成されており、そのことにより上記目的が達成さ
れる。
【0021】前記光源と前記狭波長域光起電力素子を複
数備え、該光源から各光源毎に波長を異ならせて光を発
し、各光をそれぞれ別の狭波長域光起電力素子で受光し
てもよい。
数備え、該光源から各光源毎に波長を異ならせて光を発
し、各光をそれぞれ別の狭波長域光起電力素子で受光し
てもよい。
【0022】前記狭波長域光起電力素子と前記集積回路
素子とが電子回路基板に搭載されていてもよい。
素子とが電子回路基板に搭載されていてもよい。
【0023】前記狭波長域光起電力素子と前記集積回路
素子とが電子回路基板に搭載され、該狭波長域光起電力
素子に照射される入力信号用の光を通す開口が該電子回
路基板に設けられていてもよい。
素子とが電子回路基板に搭載され、該狭波長域光起電力
素子に照射される入力信号用の光を通す開口が該電子回
路基板に設けられていてもよい。
【0024】前記光ガイド部が、光ガイド基板からな
り、該光ガイド基板を導かれる入力信号用の光を前記狭
波長域光起電力素子に照射する手段が該光ガイド基板に
備わっていてもよい。
り、該光ガイド基板を導かれる入力信号用の光を前記狭
波長域光起電力素子に照射する手段が該光ガイド基板に
備わっていてもよい。
【0025】前記光ガイド基板を導かれる光のうち、前
記狭波長域光起電力素子に照射される光を除いた光の該
光ガイド基板外への放射を防止する反射膜が該光ガイド
基板に付設されていてもよい。
記狭波長域光起電力素子に照射される光を除いた光の該
光ガイド基板外への放射を防止する反射膜が該光ガイド
基板に付設されていてもよい。
【0026】更に、本発明の伝送システムは、起電力発
生用の光を発する第1の光源と、入力信号用の光を発す
る第2の光源と、該第1の光源からの起電力発生用の光
及び該第2の光源からの入力信号用の光を導く光ガイド
部と、該光ガイド部を介して該第1の光源からの起電力
発生用の光を受けて起電する光起電力素子と、該第2の
光源からの入力信号用の光を受けて任意の電気信号に変
換する狭波長域光起電力素子と、該光起電力素子及び該
狭波長域光起電力素子に隣接して形成されると共に該光
起電力素子及び該狭波長域光起電力素子に接続され、該
光起電力素子から供給される起電力を受けて駆動され、
且つ該狭波長域光起電力素子からの任意の電気信号が入
力される集積回路素子とを備え、該第1の光源と、該第
2の光源と、該光ガイド部と、該光起電力素子と、該狭
波長域光起電力素子と、該集積回路素子とが一体に形成
されており、そのことにより上記目的が達成される。
生用の光を発する第1の光源と、入力信号用の光を発す
る第2の光源と、該第1の光源からの起電力発生用の光
及び該第2の光源からの入力信号用の光を導く光ガイド
部と、該光ガイド部を介して該第1の光源からの起電力
発生用の光を受けて起電する光起電力素子と、該第2の
光源からの入力信号用の光を受けて任意の電気信号に変
換する狭波長域光起電力素子と、該光起電力素子及び該
狭波長域光起電力素子に隣接して形成されると共に該光
起電力素子及び該狭波長域光起電力素子に接続され、該
光起電力素子から供給される起電力を受けて駆動され、
且つ該狭波長域光起電力素子からの任意の電気信号が入
力される集積回路素子とを備え、該第1の光源と、該第
2の光源と、該光ガイド部と、該光起電力素子と、該狭
波長域光起電力素子と、該集積回路素子とが一体に形成
されており、そのことにより上記目的が達成される。
【0027】前記第2の光源と前記狭波長域光起電力素
子を複数備え、該第2の光源から各第2の光源毎に波長
を異ならせて光を発し、各光をそれぞれ別の狭波長域光
起電力素子で受光してもよい。
子を複数備え、該第2の光源から各第2の光源毎に波長
を異ならせて光を発し、各光をそれぞれ別の狭波長域光
起電力素子で受光してもよい。
【0028】前記光起電力素子と、前記狭波長域光起電
力素子と前記集積回路素子とが電子回路基板に搭載され
ていてもよい。
力素子と前記集積回路素子とが電子回路基板に搭載され
ていてもよい。
【0029】前記光起電力素子と、前記狭波長域光起電
力素子と前記集積回路素子とが電子回路基板に搭載さ
れ、該光起電力素子に照射される光起電力発生用の光と
該狭波長域光起電力素子に照射される入力信号用の光と
を通す開口が該電子回路基板に設けられていてもよい。
力素子と前記集積回路素子とが電子回路基板に搭載さ
れ、該光起電力素子に照射される光起電力発生用の光と
該狭波長域光起電力素子に照射される入力信号用の光と
を通す開口が該電子回路基板に設けられていてもよい。
【0030】前記光ガイド部が、光ガイド基板からな
り、該光ガイド基板を導かれる起電力発生用の光を前記
光起電力素子に照射する手段及び入力信号用の光を前記
狭波長域光起電力素子に照射する手段が該光ガイド基板
に備わっていてもよい。
り、該光ガイド基板を導かれる起電力発生用の光を前記
光起電力素子に照射する手段及び入力信号用の光を前記
狭波長域光起電力素子に照射する手段が該光ガイド基板
に備わっていてもよい。
【0031】前記光ガイド基板を導かれる光のうち、前
記光起電力素子及び前記狭波長域光起電力素子に照射さ
れる光を除いた光の該光ガイド基板外への放射を防止す
る反射膜が該光ガイド基板に付設されていてもよい。
記光起電力素子及び前記狭波長域光起電力素子に照射さ
れる光を除いた光の該光ガイド基板外への放射を防止す
る反射膜が該光ガイド基板に付設されていてもよい。
【0032】前記光起電力素子が、離隔して配設された
p電極及びn電極と、該p電極と該n電極との間に設け
られ、p型半導体層とn型半導体層とを1組とする複数
組の半導体層が、各組の半導体層の該p型半導体層を該
p電極側となし、且つ該p型半導体層と該n型半導体層
との接合部の面積を該p電極に近い組の方が該p電極に
遠い組より大きくした状態で積層された積層体と、該積
層体の外表面に形成され、各n型半導体層を、該当する
n型半導体層に隣合う別の組のp型半導体層に短絡させ
る短絡用電極とを備えていてもよい。
p電極及びn電極と、該p電極と該n電極との間に設け
られ、p型半導体層とn型半導体層とを1組とする複数
組の半導体層が、各組の半導体層の該p型半導体層を該
p電極側となし、且つ該p型半導体層と該n型半導体層
との接合部の面積を該p電極に近い組の方が該p電極に
遠い組より大きくした状態で積層された積層体と、該積
層体の外表面に形成され、各n型半導体層を、該当する
n型半導体層に隣合う別の組のp型半導体層に短絡させ
る短絡用電極とを備えていてもよい。
【0033】前記狭波長域光起電力素子が、離隔して配
設されたp電極及びn電極と、該p電極と該n電極との
間に設けられ、p型半導体層とn型半導体層とを1組と
する複数組の半導体層が、各組の半導体層の該p型半導
体層を該p電極側となし、且つ該p型半導体層と該n型
半導体層との接合部の面積を該p電極に近い組の方が該
p電極に遠い組より大きくした状態で積層された積層体
と、該積層体の外表面に形成され、各n型半導体層を、
該当するn型半導体層に隣合う別の組のp型半導体層に
短絡させる短絡用電極と該短絡用電極が形成された該積
層体を被って設けられ、入力信号用の光を透過させるフ
ィルタとして機能する光学多層膜とを備えていてもよ
い。
設されたp電極及びn電極と、該p電極と該n電極との
間に設けられ、p型半導体層とn型半導体層とを1組と
する複数組の半導体層が、各組の半導体層の該p型半導
体層を該p電極側となし、且つ該p型半導体層と該n型
半導体層との接合部の面積を該p電極に近い組の方が該
p電極に遠い組より大きくした状態で積層された積層体
と、該積層体の外表面に形成され、各n型半導体層を、
該当するn型半導体層に隣合う別の組のp型半導体層に
短絡させる短絡用電極と該短絡用電極が形成された該積
層体を被って設けられ、入力信号用の光を透過させるフ
ィルタとして機能する光学多層膜とを備えていてもよ
い。
【0034】
【作用】本発明の伝送システムにおいては、光起電力素
子による起電力を集積回路素子の電源として利用してい
るので、電気配線に換わり光ガイド基板等を用いて光パ
ワーを光起電力素子に伝送する。
子による起電力を集積回路素子の電源として利用してい
るので、電気配線に換わり光ガイド基板等を用いて光パ
ワーを光起電力素子に伝送する。
【0035】集積回路素子に入力される信号について
も、光学多層膜の作用により特定波長域の光線のみを検
出する狭波長域光起電力素子によって、光ガイド部の内
部を導かれた光信号を電気信号に変換して集積回路素子
に入力する。
も、光学多層膜の作用により特定波長域の光線のみを検
出する狭波長域光起電力素子によって、光ガイド部の内
部を導かれた光信号を電気信号に変換して集積回路素子
に入力する。
【0036】更に、光起電力素子と狭波長域光起電力素
子とを同時に備えることにより、集積回路素子の電源及
び入力信号を同時に伝送する。
子とを同時に備えることにより、集積回路素子の電源及
び入力信号を同時に伝送する。
【0037】
【実施例】本発明の実施例について以下に説明する。
【0038】〈第1実施例〉図1に本実施例の光パワー
伝送システムの模式図を示す。
伝送システムの模式図を示す。
【0039】この光パワー伝送システムは、透明な光ガ
イド基板1の一端に光源2が設けられ、電子回路基板3
が光ガイド基板1上に積層されている。この電子回路基
板3上には電子回路部品4が搭載されている。
イド基板1の一端に光源2が設けられ、電子回路基板3
が光ガイド基板1上に積層されている。この電子回路基
板3上には電子回路部品4が搭載されている。
【0040】光ガイド基板1は、電子回路基板3との界
面に反射膜1aを有しており、この反射膜1aには電子
回路部品4の搭載場所に対応させて、光ガイド基板1内
部を伝搬する光を取り出すために開口1bが設けられて
いる。電子回路基板3とは反対側の面には、開口1bに
光が集光するようにフレネルミラー1cが一体形成され
ている。
面に反射膜1aを有しており、この反射膜1aには電子
回路部品4の搭載場所に対応させて、光ガイド基板1内
部を伝搬する光を取り出すために開口1bが設けられて
いる。電子回路基板3とは反対側の面には、開口1bに
光が集光するようにフレネルミラー1cが一体形成され
ている。
【0041】電子回路基板3には、搭載されている電子
回路部品4に開口1bから取り出した光が届くように、
光ガイド基板1の開口1bに一致させて開口3aが設定
されている。
回路部品4に開口1bから取り出した光が届くように、
光ガイド基板1の開口1bに一致させて開口3aが設定
されている。
【0042】電子回路部品4の外観を図2(a)、
(b)に示す。図2(a)は電子回路部品4の斜視図で
あり、図2(b)は電子回路部品4の電子回路基板3側
から見た平面図である。
(b)に示す。図2(a)は電子回路部品4の斜視図で
あり、図2(b)は電子回路部品4の電子回路基板3側
から見た平面図である。
【0043】電子回路部品4は、図2(a)に示すパッ
ケージ4aに中に、図1に示すように、例えばMOS型
集積回路素子等の低消費電力型集積回路素子4b及び光
起電力素子4cが隣接して形成されている。パッケージ
4aは、通常の集積回路のパッケージと同じく樹脂など
でモールドしたものであり、図示するようにリードピン
4dが形成されている。図2(b)に示すように、パッ
ケージ4aの一部には保護用のガラスなどからなる窓4
eが設けられており、この窓4eの形成位置に光起電力
素子4cが実装されている。この電子回路部品4は、窓
4eを開口1b及び開口3aに一致させて電子回路基板
3にリードピン4dを半田することにより取り付けられ
ている。但し、光起電力素子4cの光軸をフレネルミラ
ー1cの光軸と一致させる。
ケージ4aに中に、図1に示すように、例えばMOS型
集積回路素子等の低消費電力型集積回路素子4b及び光
起電力素子4cが隣接して形成されている。パッケージ
4aは、通常の集積回路のパッケージと同じく樹脂など
でモールドしたものであり、図示するようにリードピン
4dが形成されている。図2(b)に示すように、パッ
ケージ4aの一部には保護用のガラスなどからなる窓4
eが設けられており、この窓4eの形成位置に光起電力
素子4cが実装されている。この電子回路部品4は、窓
4eを開口1b及び開口3aに一致させて電子回路基板
3にリードピン4dを半田することにより取り付けられ
ている。但し、光起電力素子4cの光軸をフレネルミラ
ー1cの光軸と一致させる。
【0044】本実施例で使用する光起電力素子4cの上
面図を図3(a)に示し、断面図を図3(b)に示す。
面図を図3(a)に示し、断面図を図3(b)に示す。
【0045】この光起電力素子4cは、図示するよう
に、p電極11上に第1のp型半導体層12、第1のn
型半導体層13、第2のp型半導体層14、第2のn型
半導体層15、第3のp型半導体層16、第3のn型半
導体層17、第4のp型半導体層18及び第4のn型半
導体層19がこの順に積層形成され、その面積もこの順
で次第に小さくなっている。更に、第4のn型半導体層
19上にはn電極20が形成されている。第1のn型半
導体層13と第2のp型半導体層14とは短絡用電極2
1で短絡され、第2のn型半導体層15と第3のp型半
導体層16とは短絡用電極22で短絡されており、第3
のn型半導体層17と第4のp型半導体層18とは短絡
用電極23で短絡されている。
に、p電極11上に第1のp型半導体層12、第1のn
型半導体層13、第2のp型半導体層14、第2のn型
半導体層15、第3のp型半導体層16、第3のn型半
導体層17、第4のp型半導体層18及び第4のn型半
導体層19がこの順に積層形成され、その面積もこの順
で次第に小さくなっている。更に、第4のn型半導体層
19上にはn電極20が形成されている。第1のn型半
導体層13と第2のp型半導体層14とは短絡用電極2
1で短絡され、第2のn型半導体層15と第3のp型半
導体層16とは短絡用電極22で短絡されており、第3
のn型半導体層17と第4のp型半導体層18とは短絡
用電極23で短絡されている。
【0046】上述のような光起電力素子4cの作製方法
を説明する。
を説明する。
【0047】先ず、厚さ200〜400μmの第1のp
型半導体層12の表面に厚さ10〜100μmの第1の
n型半導体層13をエピタキシャル成長させる。第1の
n型半導体層13上に厚さ10〜100μmの第2のp
型半導体層14をエピタキシャル成長させる。更に、第
2のp型半導体層14上に、厚さ10〜100μmの第
2のn型半導体層15、厚さ10〜100μmの第3の
p型半導体層16、厚さ10〜100μmの第3のn型
半導体層17、厚さ10〜100μmの第4のp型半導
体層18及び厚さ10〜100μmの第4のn型半導体
層19を順次エピタキシャル成長させる。
型半導体層12の表面に厚さ10〜100μmの第1の
n型半導体層13をエピタキシャル成長させる。第1の
n型半導体層13上に厚さ10〜100μmの第2のp
型半導体層14をエピタキシャル成長させる。更に、第
2のp型半導体層14上に、厚さ10〜100μmの第
2のn型半導体層15、厚さ10〜100μmの第3の
p型半導体層16、厚さ10〜100μmの第3のn型
半導体層17、厚さ10〜100μmの第4のp型半導
体層18及び厚さ10〜100μmの第4のn型半導体
層19を順次エピタキシャル成長させる。
【0048】次に、フォトエッチングにより、第4のp
型半導体層18及び第4のn型半導体層19をメサエッ
チングして図3(b)に示すように側面に傾斜をつけ
る。続いて、第3のp型半導体層16及び第3のn型半
導体層17、第2のp型半導体層14及び第2のn型半
導体層15、第1のp型半導体層12及び第1のn型半
導体層13の順にメサエッチングを行う。
型半導体層18及び第4のn型半導体層19をメサエッ
チングして図3(b)に示すように側面に傾斜をつけ
る。続いて、第3のp型半導体層16及び第3のn型半
導体層17、第2のp型半導体層14及び第2のn型半
導体層15、第1のp型半導体層12及び第1のn型半
導体層13の順にメサエッチングを行う。
【0049】最後に、この状態の半導体層からなる積層
体上全面に、蒸着法により金属を付着させ、フォトエッ
チングによりp電極11、n電極20及び短絡用電極2
1、22、23にパターン形成し、熱処理を行うことで
オーミック性電極とする。
体上全面に、蒸着法により金属を付着させ、フォトエッ
チングによりp電極11、n電極20及び短絡用電極2
1、22、23にパターン形成し、熱処理を行うことで
オーミック性電極とする。
【0050】後述する従来の光起電力素子は、誘電体分
離法の手法で形成されており、それに比べて比較的容易
な技術で作製することが出来る。
離法の手法で形成されており、それに比べて比較的容易
な技術で作製することが出来る。
【0051】上述のようにして作製された光起電力素子
4cは、第1のp型半導体層12と第1のn型半導体層
13との接合部、第2のp型半導体層14と第2のn型
半導体層15との接合部、第3のp型半導体層16と第
3のn型半導体層17との接合部及び第4のp型半導体
層18と第4のn型半導体層19との接合部の4組のp
・n接合部を有す。
4cは、第1のp型半導体層12と第1のn型半導体層
13との接合部、第2のp型半導体層14と第2のn型
半導体層15との接合部、第3のp型半導体層16と第
3のn型半導体層17との接合部及び第4のp型半導体
層18と第4のn型半導体層19との接合部の4組のp
・n接合部を有す。
【0052】この様な構造を有する光起電力素子4cに
おいて起電力を得る原理を、図4(a)、(b)を参照
して説明する。尚、この光起電力素子4cは、各p・n
接合で発生する光電流を揃えるという理由により、4組
のp・n接合部の受光域の受光量が各々一致するよう
に、受光面積を設定してある。
おいて起電力を得る原理を、図4(a)、(b)を参照
して説明する。尚、この光起電力素子4cは、各p・n
接合で発生する光電流を揃えるという理由により、4組
のp・n接合部の受光域の受光量が各々一致するよう
に、受光面積を設定してある。
【0053】図4(a)にこの光起電力素子4cに光が
照射されていない状態でのエネルギー帯構造を示し、図
4(b)に光が照射されている状態でのエネルギー帯構
造を示す。
照射されていない状態でのエネルギー帯構造を示し、図
4(b)に光が照射されている状態でのエネルギー帯構
造を示す。
【0054】光起電力素子4cに光が照射されていない
ときは、図4(a)中に一点鎖線で示すようにフェルミ
準位は全く一様であるので、光起電力は発生しない。
ときは、図4(a)中に一点鎖線で示すようにフェルミ
準位は全く一様であるので、光起電力は発生しない。
【0055】これに対し、光起電力素子4cに光が照射
されているときは、図4(b)中に一点鎖線で示すよう
に、光の吸収により各々のp・n接合部でフェルミ準位
がeVpだけ変化している。第1のn型半導体層13と
第2のp型半導体層14との間、第2のn型半導体層1
5と第3のp型半導体層16との間及び第3のn型半導
体層17と第4のp型半導体層18との間は各々短絡用
電極21、22、23によって、短絡されているので、
第1のn型半導体層13と第2のp型半導体層14、第
2のn型半導体層15と第3のp型半導体層16、及び
第3のn型半導体層17と第4のp型半導体層18とは
各々等電位である。従って、本実施例では、光起電力素
子4cに4組のp・n接合部が構成されているので、
(4×Vp)の出力電圧が得られていることが分かる。
されているときは、図4(b)中に一点鎖線で示すよう
に、光の吸収により各々のp・n接合部でフェルミ準位
がeVpだけ変化している。第1のn型半導体層13と
第2のp型半導体層14との間、第2のn型半導体層1
5と第3のp型半導体層16との間及び第3のn型半導
体層17と第4のp型半導体層18との間は各々短絡用
電極21、22、23によって、短絡されているので、
第1のn型半導体層13と第2のp型半導体層14、第
2のn型半導体層15と第3のp型半導体層16、及び
第3のn型半導体層17と第4のp型半導体層18とは
各々等電位である。従って、本実施例では、光起電力素
子4cに4組のp・n接合部が構成されているので、
(4×Vp)の出力電圧が得られていることが分かる。
【0056】なお、より大きな光起電力を発生させるた
めには、各層を形成する半導体の材料として、照射され
る光線の波長に対し量子効率の高いものを選ぶことが望
ましい。光源2としても、例えばハロゲンランプのよう
に、発する光が比較的波長帯域が広く、強度が大きいも
のが望ましい。
めには、各層を形成する半導体の材料として、照射され
る光線の波長に対し量子効率の高いものを選ぶことが望
ましい。光源2としても、例えばハロゲンランプのよう
に、発する光が比較的波長帯域が広く、強度が大きいも
のが望ましい。
【0057】本実施例の光起電力素子4cは、4組のp
・n接合部を有する構造であるが、更に多くのp・n接
合部を有する構造にしてもよい。
・n接合部を有する構造であるが、更に多くのp・n接
合部を有する構造にしてもよい。
【0058】以上の様な構成を有する光パワー伝送シス
テムに於ける動作を、図5(a)に示す構成図に基づい
て説明する。
テムに於ける動作を、図5(a)に示す構成図に基づい
て説明する。
【0059】光源2より出射される光線は光ガイド基板
1の内部に閉じ込められ伝搬される。伝搬された光線
は、フレネルレンズ1cによって反射され、光ガイド基
板1の開口1bから取り出される。取り出された光線
は、電子回路基板3の開口3a及び電子回路部品4の窓
4eを通過して、電子回路部品4に実装搭載された光起
電力素子4cに照射される。
1の内部に閉じ込められ伝搬される。伝搬された光線
は、フレネルレンズ1cによって反射され、光ガイド基
板1の開口1bから取り出される。取り出された光線
は、電子回路基板3の開口3a及び電子回路部品4の窓
4eを通過して、電子回路部品4に実装搭載された光起
電力素子4cに照射される。
【0060】光線を照射された光起電力素子4cにおい
ては、上述したように、光起電力が発生する。この光起
電力を電源としてMOS型集積回路素子等の低消費電力
型集積回路素子4bが直接駆動される。この時、図5
(b)に示すように光起電力素子4cと並列に適度な容
量を持ったコンデンサー4fを形成すると、集積回路素
子4bの電源の安定性を得ることが出来る。
ては、上述したように、光起電力が発生する。この光起
電力を電源としてMOS型集積回路素子等の低消費電力
型集積回路素子4bが直接駆動される。この時、図5
(b)に示すように光起電力素子4cと並列に適度な容
量を持ったコンデンサー4fを形成すると、集積回路素
子4bの電源の安定性を得ることが出来る。
【0061】本実施例の光パワー伝送システムにおいて
は、集積回路素子4bの電源を、電気配線ではなく、光
パワーとして光ガイド基板1を用いて伝送させている。
従って、電気配線は、集積回路素子4bと光起電力素子
4cとを接続する部分しか必要ではないので、極めて短
いものでよい。その結果、各種電子部品の電子回路基板
3上の搭載密度を高めることができることにより、機器
の小型化が図れ、且つ電源配線における誘導に伴うノイ
ズを低減することにより、機器の高信頼化が達成出来
る。
は、集積回路素子4bの電源を、電気配線ではなく、光
パワーとして光ガイド基板1を用いて伝送させている。
従って、電気配線は、集積回路素子4bと光起電力素子
4cとを接続する部分しか必要ではないので、極めて短
いものでよい。その結果、各種電子部品の電子回路基板
3上の搭載密度を高めることができることにより、機器
の小型化が図れ、且つ電源配線における誘導に伴うノイ
ズを低減することにより、機器の高信頼化が達成出来
る。
【0062】尚、本実施例で使用した、大きな光起電力
を得ることが出来る光起電力素子4cとして、図6に示
すp・n接合部の直列構成を有する従来の光起電力素子
(電子材料、1987年9月号、p78〜84、シリコ
ン直接接着技術を用いたホトボルカプラとその応用)を
用いることもできる。
を得ることが出来る光起電力素子4cとして、図6に示
すp・n接合部の直列構成を有する従来の光起電力素子
(電子材料、1987年9月号、p78〜84、シリコ
ン直接接着技術を用いたホトボルカプラとその応用)を
用いることもできる。
【0063】この従来の光起電力素子は、図示するよう
に、ポリシリコンからなる基板131の一方の面に、p
型半導体層132aとn型半導体層132bとからなる
複数のp・n接合部132が形成され各々SiO2膜1
33によって分離されており、隣合うp・n接合部13
2が直列に接続されるように、Al配線134が形成さ
れている。
に、ポリシリコンからなる基板131の一方の面に、p
型半導体層132aとn型半導体層132bとからなる
複数のp・n接合部132が形成され各々SiO2膜1
33によって分離されており、隣合うp・n接合部13
2が直列に接続されるように、Al配線134が形成さ
れている。
【0064】しかし、この様な構造を有しているので、
本実施例で用いた垂直積層型の光起電力素子4cに比べ
て、素子が大型化する。又、本実施例のように、受光器
として用いる場合はp・n接合部132の広がった面全
体にわたり光線を当てる必要があるので、照度の均一性
に注意する必要がある。
本実施例で用いた垂直積層型の光起電力素子4cに比べ
て、素子が大型化する。又、本実施例のように、受光器
として用いる場合はp・n接合部132の広がった面全
体にわたり光線を当てる必要があるので、照度の均一性
に注意する必要がある。
【0065】〈第2実施例〉図7に本実施例の光パワー
及び信号伝送システムの模式図を示す。図1に示す光パ
ワー及び信号伝送システムと同様の働きをする部位には
図1と同じ符号を附している。
及び信号伝送システムの模式図を示す。図1に示す光パ
ワー及び信号伝送システムと同様の働きをする部位には
図1と同じ符号を附している。
【0066】この光パワー及び信号伝送システムは、透
明な光ガイド基板1の一端にパワー光源2a及び信号光
源2bが設けられ、電子回路基板3が光ガイド基板1上
に積層されている。この電子回路基板3上には電子回路
部品4が搭載されている。
明な光ガイド基板1の一端にパワー光源2a及び信号光
源2bが設けられ、電子回路基板3が光ガイド基板1上
に積層されている。この電子回路基板3上には電子回路
部品4が搭載されている。
【0067】光ガイド基板1及び電子回路基板3は第1
実施例と同様の構成をしている。パワー光源2aとして
は、比較的波長帯域が広く、強度の大きいものを用い、
信号光源2bとしては、比較的波長帯域が狭いものを用
いるのが望ましい。
実施例と同様の構成をしている。パワー光源2aとして
は、比較的波長帯域が広く、強度の大きいものを用い、
信号光源2bとしては、比較的波長帯域が狭いものを用
いるのが望ましい。
【0068】電子回路部品4は、第1実施例と同じく、
窓4eが形成されたパッケージ4aに中に、集積回路素
子4b、光起電力素子4c及び狭波長域光起電力素子4
gが隣接して形成されている。電子回路基板3には開口
3aが、窓4eと一致するように形成されており、パワ
ー光源2a及び信号光源2bからの光線が、光起電力素
子4c及び狭波長域光起電力素子4gに照射されるよう
になっている。光起電力素子4cとしては、第1実施例
と同様に図3に示す構造のものを用いる。
窓4eが形成されたパッケージ4aに中に、集積回路素
子4b、光起電力素子4c及び狭波長域光起電力素子4
gが隣接して形成されている。電子回路基板3には開口
3aが、窓4eと一致するように形成されており、パワ
ー光源2a及び信号光源2bからの光線が、光起電力素
子4c及び狭波長域光起電力素子4gに照射されるよう
になっている。光起電力素子4cとしては、第1実施例
と同様に図3に示す構造のものを用いる。
【0069】図8に本実施例の狭波長域光起電力素子4
gの断面図を示す。図3に示す光起電力素子4cと同様
の働きをする部位には図3と同じ符号を附している。
gの断面図を示す。図3に示す光起電力素子4cと同様
の働きをする部位には図3と同じ符号を附している。
【0070】この狭波長域光起電力素子4gは、第1実
施例の光起電力素子4cと同様の構造を有する光起電力
素子のn電極20側の表面のp・n接合部の受光域を被
って、フィルタとして機能する光学多層膜24が形成さ
れている。この光学多層膜24は、特定の波長域の光し
か透過しないように、複数の膜を積層させて形成してあ
る。この積層させる膜の種類を変えることで、光学多層
膜24の光透過域特性を変えることが出来る。
施例の光起電力素子4cと同様の構造を有する光起電力
素子のn電極20側の表面のp・n接合部の受光域を被
って、フィルタとして機能する光学多層膜24が形成さ
れている。この光学多層膜24は、特定の波長域の光し
か透過しないように、複数の膜を積層させて形成してあ
る。この積層させる膜の種類を変えることで、光学多層
膜24の光透過域特性を変えることが出来る。
【0071】本実施例の狭波長域光起電力素子4gは上
述のような構造を有しているので、材料として使用した
半導体の持つ光吸収域の範囲内で、任意に狭波長域光起
電力素子4gの感度波長を調整することが出来る。
述のような構造を有しているので、材料として使用した
半導体の持つ光吸収域の範囲内で、任意に狭波長域光起
電力素子4gの感度波長を調整することが出来る。
【0072】本実施例においては、狭波長域光起電力素
子4gでは、例えばクロック信号を扱うためのものであ
るので、光ガイド基板1内に共存するパワー光源2aか
らの光線と信号光源2bからの光線とを波長分離して検
出を行う必要がある。従って、図8に示す狭波長域光起
電力素子4gの光学多層膜24は、その感度波長が信号
光源2bの波長帯域と一致するように調節してある。
子4gでは、例えばクロック信号を扱うためのものであ
るので、光ガイド基板1内に共存するパワー光源2aか
らの光線と信号光源2bからの光線とを波長分離して検
出を行う必要がある。従って、図8に示す狭波長域光起
電力素子4gの光学多層膜24は、その感度波長が信号
光源2bの波長帯域と一致するように調節してある。
【0073】以上の様な構成を有する光パワー及び信号
伝送システムに於ける動作を、図9(a)に示す構成図
に基づいて説明する。
伝送システムに於ける動作を、図9(a)に示す構成図
に基づいて説明する。
【0074】パワー光源2aは、第1実施例の光源2と
同様で集積回路素子4bを駆動させるための光を出射す
る。これに対して、信号光源2bは、例えばクロック周
波数で駆動させる。パワー光源2a及び信号光源2bよ
り出射される光線は光ガイド基板1の内部に閉じ込めら
れ伝搬される。伝搬された光線は、フレネルレンズ1c
によって反射され、光ガイド基板1の開口1bから取り
出される。取り出された光線は、電子回路基板3の開口
3a及び電子回路部品4の窓4eを通過して、電子回路
部品4に実装搭載された光起電力素子4c及び狭波長域
光起電力素子4gに照射される。
同様で集積回路素子4bを駆動させるための光を出射す
る。これに対して、信号光源2bは、例えばクロック周
波数で駆動させる。パワー光源2a及び信号光源2bよ
り出射される光線は光ガイド基板1の内部に閉じ込めら
れ伝搬される。伝搬された光線は、フレネルレンズ1c
によって反射され、光ガイド基板1の開口1bから取り
出される。取り出された光線は、電子回路基板3の開口
3a及び電子回路部品4の窓4eを通過して、電子回路
部品4に実装搭載された光起電力素子4c及び狭波長域
光起電力素子4gに照射される。
【0075】光起電力素子4cにおいては、第1実施例
と同様に光起電力が発生し、この光起電力を電源として
集積回路素子4bが直接駆動される。この時、図9
(b)に示すように光起電力素子4cと並列に適度な容
量を持ったコンデンサー4fを形成すると、集積回路素
子4bの電源の安定性を得ることが出来る。
と同様に光起電力が発生し、この光起電力を電源として
集積回路素子4bが直接駆動される。この時、図9
(b)に示すように光起電力素子4cと並列に適度な容
量を持ったコンデンサー4fを形成すると、集積回路素
子4bの電源の安定性を得ることが出来る。
【0076】狭波長域光起電力素子4gにおいては、上
述したように、光学多層膜24によって信号光源2bの
波長帯域の光線のみが検出され、電気信号に変換され
る。本実施例では、この電気信号がクロック信号で、図
示するように集積回路素子4bに入力される。
述したように、光学多層膜24によって信号光源2bの
波長帯域の光線のみが検出され、電気信号に変換され
る。本実施例では、この電気信号がクロック信号で、図
示するように集積回路素子4bに入力される。
【0077】尚、狭波長域光起電力素子4gでは、クロ
ック信号だけではなく、同じ方法で種々の信号を伝送す
ることが出来る。
ック信号だけではなく、同じ方法で種々の信号を伝送す
ることが出来る。
【0078】本実施例の光パワー及び信号伝送システム
においては、集積回路素子4bの電源及び入力信号を、
電気配線ではなく、光パワー及び光信号として光ガイド
基板1を用いて伝送させている。従って、従来に比べ
て、電気配線を大幅に低減することが出来る。その結
果、各種電子部品の電子回路基板3上の搭載密度を高め
ることにより、機器の小型化が図れ、且つ、電源ライン
用の配線及び信号ライン用の配線における誘導に伴うノ
イズを低減することにより、機器の高信頼化が達成出来
る。
においては、集積回路素子4bの電源及び入力信号を、
電気配線ではなく、光パワー及び光信号として光ガイド
基板1を用いて伝送させている。従って、従来に比べ
て、電気配線を大幅に低減することが出来る。その結
果、各種電子部品の電子回路基板3上の搭載密度を高め
ることにより、機器の小型化が図れ、且つ、電源ライン
用の配線及び信号ライン用の配線における誘導に伴うノ
イズを低減することにより、機器の高信頼化が達成出来
る。
【0079】尚、本実施例では、電子回路基板3に光起
電力素子4cと狭波長域光起電力素子4gとを同時に搭
載しているが、狭波長域光起電力素子4gのみを搭載し
て、集積回路素子4bへの入力信号のみを光配線化した
構成の信号伝送システムとすることも可能である。この
場合は、集積回路素子4bの電源は従来通り電気配線に
よることになり、パワー光源2aは必要ない。
電力素子4cと狭波長域光起電力素子4gとを同時に搭
載しているが、狭波長域光起電力素子4gのみを搭載し
て、集積回路素子4bへの入力信号のみを光配線化した
構成の信号伝送システムとすることも可能である。この
場合は、集積回路素子4bの電源は従来通り電気配線に
よることになり、パワー光源2aは必要ない。
【0080】〈第3実施例〉本実施例は電源及び複数の
信号を光配線化した光パワー及び信号伝送システムであ
る。
信号を光配線化した光パワー及び信号伝送システムであ
る。
【0081】この光パワー及び信号伝送システムは、図
7に示す第2実施例の光パワー及び信号伝送システムに
おいて、信号光源2bを伝送する信号の数だけ配し、そ
れぞれ感度波長が異なる狭波長域光起電力素子4gを伝
送する信号の数だけ配している。
7に示す第2実施例の光パワー及び信号伝送システムに
おいて、信号光源2bを伝送する信号の数だけ配し、そ
れぞれ感度波長が異なる狭波長域光起電力素子4gを伝
送する信号の数だけ配している。
【0082】この光パワー及び信号伝送システムにおい
ては、集積回路素子4bを駆動させるための電源は第1
及び第2実施例と同様の原理で、光ガイド基板1により
光配線化して伝送する。集積回路素子4bへの入力信号
についても、第2実施例と同様の原理で、各々の信号光
源2bを変調させて光信号を発信させて光ガイド基板1
を伝搬させ、その光信号が、信号光源2bの波長に対応
するように光学多層膜24が調整された狭波長域光起電
力素子4gによって電気信号に変換される。この電気信
号が集積回路素子4bに入力される。
ては、集積回路素子4bを駆動させるための電源は第1
及び第2実施例と同様の原理で、光ガイド基板1により
光配線化して伝送する。集積回路素子4bへの入力信号
についても、第2実施例と同様の原理で、各々の信号光
源2bを変調させて光信号を発信させて光ガイド基板1
を伝搬させ、その光信号が、信号光源2bの波長に対応
するように光学多層膜24が調整された狭波長域光起電
力素子4gによって電気信号に変換される。この電気信
号が集積回路素子4bに入力される。
【0083】本実施例において、信号光源2bとして、
その発振波長域がある幅を持っているような発光ダイオ
ードを用いた場合は、受光側である狭波長域光起電力素
子4gの光学多層膜24の設計を変更して感度波長を調
節することで複数の信号の伝送が可能になる。この場合
には、発光ダイオードの設計変更は必要ではなく、その
発振波長域の一部を重複しないように各々の狭波長域光
起電力素子4bの感度波長に割り当てることで、同じ設
計の同じ半導体材料でできた発光ダイオードを使用する
ことが出来る。
その発振波長域がある幅を持っているような発光ダイオ
ードを用いた場合は、受光側である狭波長域光起電力素
子4gの光学多層膜24の設計を変更して感度波長を調
節することで複数の信号の伝送が可能になる。この場合
には、発光ダイオードの設計変更は必要ではなく、その
発振波長域の一部を重複しないように各々の狭波長域光
起電力素子4bの感度波長に割り当てることで、同じ設
計の同じ半導体材料でできた発光ダイオードを使用する
ことが出来る。
【0084】本実施例の光パワー及び信号伝送システム
においては、集積回路素子4bの電源及び複数の入力信
号を、光ガイド基板1を用いて伝送させているので、従
来に比べて電気配線を大幅に低減することが出来る。そ
の結果、第1及び第2実施例と同様に機器の小型化及び
高信頼化が達成出来る。
においては、集積回路素子4bの電源及び複数の入力信
号を、光ガイド基板1を用いて伝送させているので、従
来に比べて電気配線を大幅に低減することが出来る。そ
の結果、第1及び第2実施例と同様に機器の小型化及び
高信頼化が達成出来る。
【0085】尚、本実施例では、電子回路基板3に光起
電力素子4cと狭波長域光起電力素子4gとを同時に搭
載しているが、第2実施例と同様に、狭波長域光起電力
素子4gのみを搭載して、信号伝送システムとすること
も可能である。この場合も、集積回路素子4bの電源は
従来通り電気配線によることになり、パワー光源2aは
必要ない。
電力素子4cと狭波長域光起電力素子4gとを同時に搭
載しているが、第2実施例と同様に、狭波長域光起電力
素子4gのみを搭載して、信号伝送システムとすること
も可能である。この場合も、集積回路素子4bの電源は
従来通り電気配線によることになり、パワー光源2aは
必要ない。
【0086】上記第1乃至第3実施例においては、光ガ
イド基板1の内部を伝搬する光線を取り出すためにフレ
ネルレンズ1cを使用しているが、そのほかにも、反射
ミラーやグレーティング等の光学素子を取り付け、又
は、それらの光学素子を光ガイド基板1と一体形成する
構成によっても上記実施例と同様の効果が得られる。
イド基板1の内部を伝搬する光線を取り出すためにフレ
ネルレンズ1cを使用しているが、そのほかにも、反射
ミラーやグレーティング等の光学素子を取り付け、又
は、それらの光学素子を光ガイド基板1と一体形成する
構成によっても上記実施例と同様の効果が得られる。
【0087】〈第4実施例〉図10に、本実施例の光パ
ワー伝送システムの模式図を示す。この光パワー伝送シ
ステムでは、第1乃至第3実施例と異なり光ガイド基板
を使用しない。
ワー伝送システムの模式図を示す。この光パワー伝送シ
ステムでは、第1乃至第3実施例と異なり光ガイド基板
を使用しない。
【0088】この光パワー伝送システムは、電子回路基
板3上に多数個の電子回路部品4が搭載されており、電
子回路基板3を挟んで電子回路部品4とは反対側に対向
させて、光源2cとして多数個の発光ダイオードが搭載
されている。電子回路部品4は、第1実施例と同じく、
窓4eが形成されたパッケージ4aに中に、集積回路素
子4b及び光起電力素子4cが隣接して形成されてい
る。電子回路基板3には開口3aが、窓4eと一致する
ように形成されており、光源2cからの光線を電子回路
部品4に取り込めるようになっている。光起電力素子4
cも第1実施例と同様に図3に示す構造のものを用い
る。
板3上に多数個の電子回路部品4が搭載されており、電
子回路基板3を挟んで電子回路部品4とは反対側に対向
させて、光源2cとして多数個の発光ダイオードが搭載
されている。電子回路部品4は、第1実施例と同じく、
窓4eが形成されたパッケージ4aに中に、集積回路素
子4b及び光起電力素子4cが隣接して形成されてい
る。電子回路基板3には開口3aが、窓4eと一致する
ように形成されており、光源2cからの光線を電子回路
部品4に取り込めるようになっている。光起電力素子4
cも第1実施例と同様に図3に示す構造のものを用い
る。
【0089】上述のような構造を有する光パワー伝送シ
ステムに於て、光源2cから発せられた光線は、光起電
力素子4cに照射され、光起電力に変換される。この光
起電力が、直接に集積回路素子4bの駆動に作用する。
ステムに於て、光源2cから発せられた光線は、光起電
力素子4cに照射され、光起電力に変換される。この光
起電力が、直接に集積回路素子4bの駆動に作用する。
【0090】本実施例の光パワー伝送システムによって
も、電気配線の大幅な低減が図れるので、各種機器の高
密度実装化を促進でき、且つ電源配線における誘導に伴
うノイズを低減することにより、機器の高信頼化が達成
出来る。
も、電気配線の大幅な低減が図れるので、各種機器の高
密度実装化を促進でき、且つ電源配線における誘導に伴
うノイズを低減することにより、機器の高信頼化が達成
出来る。
【0091】本実施例では光源2cを電子回路基板3を
挟んで電子回路部品4とは反対側に形成しているが、光
源2cを電子回路基板3に対して電子回路部品4と同じ
側に配しても構わない。この時は、パッケージ4aに形
成する窓4eは光源2c側に設け、電子回路基板3の開
口3aは必要ない。
挟んで電子回路部品4とは反対側に形成しているが、光
源2cを電子回路基板3に対して電子回路部品4と同じ
側に配しても構わない。この時は、パッケージ4aに形
成する窓4eは光源2c側に設け、電子回路基板3の開
口3aは必要ない。
【0092】〈第5実施例〉本実施例の信号伝送システ
ムは、図10に示す第4実施例の光パワー伝送システム
において、光起電力素子4cの代わりに狭波長域光起電
力素子を用いる。
ムは、図10に示す第4実施例の光パワー伝送システム
において、光起電力素子4cの代わりに狭波長域光起電
力素子を用いる。
【0093】光源2cによる光線の波長を光源2c毎に
変えて、それに対応させて狭波長域光起電力素子の光学
多層膜の設定を選択することで、空間多重信号伝送が可
能になる。尚、伝送させる信号は1種類でも構わない。
変えて、それに対応させて狭波長域光起電力素子の光学
多層膜の設定を選択することで、空間多重信号伝送が可
能になる。尚、伝送させる信号は1種類でも構わない。
【0094】本実施例の信号伝送システムにおいては、
集積回路素子4bの入力信号を空間伝送させているの
で、従来に比べて、電気配線を低減させることが出来
る。その結果、他の実施例と同様の効果が得られる。
集積回路素子4bの入力信号を空間伝送させているの
で、従来に比べて、電気配線を低減させることが出来
る。その結果、他の実施例と同様の効果が得られる。
【0095】本実施例と第4実施例とを組み合わせて、
電子回路部品4に光起電力素子4c及び狭波長域光起電
力素子4gを実装させて、光パワー及び信号伝送システ
ムにすれば、より大幅に電気配線を低減させることが出
来る。
電子回路部品4に光起電力素子4c及び狭波長域光起電
力素子4gを実装させて、光パワー及び信号伝送システ
ムにすれば、より大幅に電気配線を低減させることが出
来る。
【0096】〈第6実施例〉図11に本実施例の光パワ
ー伝送システムの模式図を示す。
ー伝送システムの模式図を示す。
【0097】この光パワー伝送システムは、電子回路基
板3上に多数個の電子回路部品4が搭載されており、電
子回路基板3を挟んで電子回路部品4とは反対側に、端
部に光源2が設けられた反射ミラー5が対向配設されて
いる。この反射ミラー5は光源2からの光線を電子回路
基板3の方向に集光させる働きをする。電子回路部品4
は、第1実施例と同じく、窓4eが形成されたパッケー
ジ4aに中に、集積回路素子4b及び光起電力素子4c
が隣接して形成されている。電子回路基板3には開口3
aが、窓4eと一致するように形成されており、光源2
からの光線を電子回路部品4に取り込めるようになって
いる。光起電力素子4cも第1実施例と同様に図3に示
す構造のものを用いる。
板3上に多数個の電子回路部品4が搭載されており、電
子回路基板3を挟んで電子回路部品4とは反対側に、端
部に光源2が設けられた反射ミラー5が対向配設されて
いる。この反射ミラー5は光源2からの光線を電子回路
基板3の方向に集光させる働きをする。電子回路部品4
は、第1実施例と同じく、窓4eが形成されたパッケー
ジ4aに中に、集積回路素子4b及び光起電力素子4c
が隣接して形成されている。電子回路基板3には開口3
aが、窓4eと一致するように形成されており、光源2
からの光線を電子回路部品4に取り込めるようになって
いる。光起電力素子4cも第1実施例と同様に図3に示
す構造のものを用いる。
【0098】上述のような構造を有する光パワー伝送シ
ステムに於て、光源2から発せられた光線は、反射ミラ
ー5によって反射されて光起電力素子4cに照射され
る。照射された光線は、光起電力素子4cで光起電力に
変換され、直接に集積回路素子4bを駆動させる。
ステムに於て、光源2から発せられた光線は、反射ミラ
ー5によって反射されて光起電力素子4cに照射され
る。照射された光線は、光起電力素子4cで光起電力に
変換され、直接に集積回路素子4bを駆動させる。
【0099】本実施例の光パワー伝送システムによって
も、電気配線の大幅な低減が図れ、他の実施例と同様の
効果が得られる。
も、電気配線の大幅な低減が図れ、他の実施例と同様の
効果が得られる。
【0100】本実施例では光源2を電子回路基板3を挟
んで電子回路部品4とは反対側に形成しているが、第4
及び第5実施例と同様に、光源2を電子回路基板3に対
して電子回路部品4と同じ側に配しても構わない。この
時も、パッケージ4aに形成する窓4eは光源2側に設
け、電子回路基板3の開口3aは必要ない。
んで電子回路部品4とは反対側に形成しているが、第4
及び第5実施例と同様に、光源2を電子回路基板3に対
して電子回路部品4と同じ側に配しても構わない。この
時も、パッケージ4aに形成する窓4eは光源2側に設
け、電子回路基板3の開口3aは必要ない。
【0101】本実施例において、光源2を信号光源に
し、光起電力素子4cを狭波長域光起電力素子4gにす
ることで、信号伝送システムを構成することもできる。
又、第2実施例のように、光源2としてパワー光源2a
及び信号光源2bを備えさせ、電子回路部品4に光起電
力素子4c及び狭波長域光起電力素子4gを実装させる
ことにより、光パワー及び信号伝送システムを構成する
こともできる。
し、光起電力素子4cを狭波長域光起電力素子4gにす
ることで、信号伝送システムを構成することもできる。
又、第2実施例のように、光源2としてパワー光源2a
及び信号光源2bを備えさせ、電子回路部品4に光起電
力素子4c及び狭波長域光起電力素子4gを実装させる
ことにより、光パワー及び信号伝送システムを構成する
こともできる。
【0102】上記第1乃至第6実施例では、光起電力素
子4cは集積回路素子4bと一体形成した構成を採用し
ているが、光起電力素子4cのみを単独でモールドして
おき、従来の集積回路素子4bを積み上げ状に形成した
構成を用いてもよい。
子4cは集積回路素子4bと一体形成した構成を採用し
ているが、光起電力素子4cのみを単独でモールドして
おき、従来の集積回路素子4bを積み上げ状に形成した
構成を用いてもよい。
【0103】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の伝送システムによれば、比較的容易な技術で、各種電
子部品の搭載密度を高めることができ、機器の小型化を
図ることができる。更に、電気配線における誘導に伴う
ノイズ及びクロストークを低減することにより、機器の
高信頼化が達成出来る。
の伝送システムによれば、比較的容易な技術で、各種電
子部品の搭載密度を高めることができ、機器の小型化を
図ることができる。更に、電気配線における誘導に伴う
ノイズ及びクロストークを低減することにより、機器の
高信頼化が達成出来る。
【図1】第1実施例の光パワー伝送システムの模式図で
ある。
ある。
【図2】図1に示す光パワー伝送システムにおける電子
回路部品の外観を表す図である。
回路部品の外観を表す図である。
【図3】(a)は図1に示す光パワー伝送システムにお
ける光起電力素子の平面図であり、(b)はその光起電
力素子の断面図である。
ける光起電力素子の平面図であり、(b)はその光起電
力素子の断面図である。
【図4】(a)は図3に示す光起電力素子に光が照射さ
れていない状態でのエネルギー帯構造を示す図であり、
(b)は光が照射されている状態でのエネルギー帯構造
を示す図である。
れていない状態でのエネルギー帯構造を示す図であり、
(b)は光が照射されている状態でのエネルギー帯構造
を示す図である。
【図5】(a)は図1に示す光パワー伝送システムの電
子回路部品の等価回路図であり、(b)はその応用例に
おける電子回路部品の等価回路図である。
子回路部品の等価回路図であり、(b)はその応用例に
おける電子回路部品の等価回路図である。
【図6】従来の光起電力素子の断面図である。
【図7】第2実施例の光パワー及び信号伝送システムの
模式図である。
模式図である。
【図8】図7に示す光パワー及び信号伝送システムにお
ける狭波長域光起電力素子の断面図である。
ける狭波長域光起電力素子の断面図である。
【図9】(a)は図7に示す光パワー及び信号伝送シス
テムの電子回路部品の等価回路図であり、(b)はその
応用例における電子回路部品の等価回路図である。
テムの電子回路部品の等価回路図であり、(b)はその
応用例における電子回路部品の等価回路図である。
【図10】第4実施例の光パワー伝送システムの模式図
である。
である。
【図11】第6実施例の光パワー伝送システムの模式図
である。
である。
【図12】従来のMOS型集積回路素子の駆動回路の一
般的構成を示す図である。
般的構成を示す図である。
【図13】従来の光バスの断面図である。
【図14】従来のプレーナ型光集積の概念図である。
【図15】従来の光学式ピックアップの模式図である。
1 光ガイド基板 1a 反射膜 1b 開口 1c フレネルレンズ 2 光源 2a パワー電源 2b 信号電源 3 電子回路基板 3a 開口 4 電子回路部品 4a パッケージ 4b 集積回路素子 4c 光起電力素子 4d リードピン 4f コンデンサー 4g 狭波長域光起電力素子 5 反射ミラー 11 p電極 12、14、16、18 p型半導体層 13、15、17、19 n型半導体層 20 n電極 21、22、23 短絡用電極 24 光学多層膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−4199(JP,A) 特開 昭57−24832(JP,A) 特開 昭58−68196(JP,A) 特開 昭58−68197(JP,A) 特開 昭61−98130(JP,A) 特開 昭62−117150(JP,A) 特開 平4−241004(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 27/04 H01L 27/15 H01L 31/04 H02J 17/00 H04B 10/00 - 10/28
Claims (19)
- 【請求項1】 起電力発生用の光を発する光源と、 該光源からの起電力発生用の光を導く光ガイド部と、 該光ガイド部を介して該光源からの起電力発生用の光を
受けて起電する光起電力素子と、該光起電力素子に隣接して形成されると共に 該光起電力
素子に接続され、該光起電力素子から供給される起電力
を受けて駆動される集積回路素子とを備え、 該光源と、該光ガイド部と、該光起電力素子と、該集積
回路素子とが一体に形成された、 伝送システム。 - 【請求項2】 前記光起電力素子と前記集積回路素子と
が電子回路基板に搭載された請求項1に記載の伝送シス
テム。 - 【請求項3】 前記光起電力素子と前記集積回路素子と
が電子回路基板に搭載され、該光起電力素子に照射され
る光起電力発生用の光を通す開口が該電子回路基板に設
けられた請求項1に記載の伝送システム。 - 【請求項4】 前記光ガイド部が、 光ガイド基板からなり、該光ガイド基板を導かれる起電
力発生用の光を前記光起電力素子に照射する手段が該光
ガイド基板に備わった請求項1に記載の伝送システム。 - 【請求項5】 前記光ガイド基板を導かれる光のうち、
前記光起電力素子に照射される光を除いた光の該光ガイ
ド基板外への放射を防止する反射膜が該光ガイド基板に
付設された請求項4に記載の伝送システム。 - 【請求項6】 入力信号用の光を発する光源と、 該光源からの入力信号用の光を導く光ガイド部と、 該光ガイド部を介して該光源からの入力信号用の光を受
けて任意の電気信号に変換する狭波長域光起電力素子
と、該狭波長域光起電力素子に隣接して形成されると共に 該
狭波長域光起電力素子に接続され、該狭波長域光起電力
素子からの任意の電気信号が入力される集積回路素子と
を備え、 該光源と、該光ガイド部と、該狭波長域光起電力素子
と、該集積回路素子とが一体に形成された、 伝送システム。 - 【請求項7】 前記光源と前記狭波長域光起電力素子を
複数備え、該光源から各光源毎に波長を異ならせて光を
発し、各光をそれぞれ別の狭波長域光起電力素子で受光
する請求項6に記載の伝送システム。 - 【請求項8】 前記狭波長域光起電力素子と前記集積回
路素子とが電子回路基板に搭載された請求項6又は7に
記載の伝送システム。 - 【請求項9】 前記狭波長域光起電力素子と前記集積回
路素子とが電子回路基板に搭載され、該狭波長域光起電
力素子に照射される入力信号用の光を通す開口が該電子
回路基板に設けられた請求項6又は7に記載の伝送シス
テム。 - 【請求項10】 前記光ガイド部が、 光ガイド基板からなり、該光ガイド基板を導かれる入力
信号用の光を前記狭波長域光起電力素子に照射する手段
が該光ガイド基板に備わった請求項6又は7に記載の伝
送システム。 - 【請求項11】 前記光ガイド基板を導かれる光のう
ち、前記狭波長域光起電力素子に照射される光を除いた
光の該光ガイド基板外への放射を防止する反射膜が該光
ガイド基板に付設された請求項10に記載の伝送システ
ム。 - 【請求項12】 起電力発生用の光を発する第1の光源
と、 入力信号用の光を発する第2の光源と、 該第1の光源からの起電力発生用の光及び該第2の光源
からの入力信号用の光を導く光ガイド部と、 該光ガイド部を介して該第1の光源からの起電力発生用
の光を受けて起電する光起電力素子と、 該第2の光源からの入力信号用の光を受けて任意の電気
信号に変換する狭波長域光起電力素子と、該光起電力素子及び該狭波長域光起電力素子に隣接して
形成されると共に 該光起電力素子及び該狭波長域光起電
力素子に接続され、該光起電力素子から供給される起電
力を受けて駆動され、且つ該狭波長域光起電力素子から
の任意の電気信号が入力される集積回路素子とを備え、 該第1の光源と、該第2の光源と、該光ガイド部と、該
光起電力素子と、該狭波長域光起電力素子と、該集積回
路素子とが一体に形成された、 伝送システム。 - 【請求項13】前記第2の光源と前記狭波長域光起電力
素子を複数備え、該第2の光源から各第2の光源毎に波
長を異ならせて光を発し、各光をそれぞれ別の狭波長域
光起電力素子で受光する請求項12に記載の伝送システ
ム。 - 【請求項14】 前記光起電力素子と、前記狭波長域光
起電力素子と前記集積回路素子とが電子回路基板に搭載
された請求項12又は13に記載の伝送システム。 - 【請求項15】 前記光起電力素子と、前記狭波長域光
起電力素子と前記集積回路素子とが電子回路基板に搭載
され、該光起電力素子に照射される光起電力発生用の光
と該狭波長域光起電力素子に照射される入力信号用の光
とを通す開口が該電子回路基板に設けられた請求項12
又は13に記載の伝送システム。 - 【請求項16】 前記光ガイド部が、 光ガイド基板からなり、該光ガイド基板を導かれる起電
力発生用の光を前記光起電力素子に照射する手段及び入
力信号用の光を前記狭波長域光起電力素子に照射する手
段が該光ガイド基板に備わった請求項12又は13に記
載の伝送システム。 - 【請求項17】 前記光ガイド基板を導かれる光のう
ち、前記光起電力素子及び前記狭波長域光起電力素子に
照射される光を除いた光の該光ガイド基板外への放射を
防止する反射膜が該光ガイド基板に付設された請求項1
2又は13に記載の伝送システム。 - 【請求項18】 前記光起電力素子が、 離隔して配設されたp電極及びn電極と、 該p電極と該n電極との間に設けられ、p型半導体層と
n型半導体層とを1組とする複数組の半導体層が、各組
の半導体層の該p型半導体層を該p電極側となし、且つ
該p型半導体層と該n型半導体層との接合部の面積を該
p電極に近い組の方が該p電極に遠い組より大きくした
状態で積層された積層体と、 該積層体の外表面に形成され、各n型半導体層を、該当
するn型半導体層に隣合う別の組のp型半導体層に短絡
させる短絡用電極とを備えた請求項1、12又は13に
記載の伝送システム。 - 【請求項19】 前記狭波長域光起電力素子が、 離隔して配設されたp電極及びn電極と、 該p電極と該n電極との間に設けられ、p型半導体層と
n型半導体層とを1組とする複数組の半導体層が、各組
の半導体層の該p型半導体層を該p電極側となし、且つ
該p型半導体層と該n型半導体層との接合部の面積を該
p電極に近い組の方が該p電極に遠い組より大きくした
状態で積層された積層体と、 該積層体の外表面に形成され、各n型半導体層を、該当
するn型半導体層に隣合う別の組のp型半導体層に短絡
させる短絡用電極と該短絡用電極が形成された該積層体
を被って設けられ、入力信号用の光を透過させるフィル
タとして機能する光学多層膜とを備えた請求項6、7、
12又は13に記載の伝送システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4187111A JP2933779B2 (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | 伝送システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4187111A JP2933779B2 (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | 伝送システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0637298A JPH0637298A (ja) | 1994-02-10 |
| JP2933779B2 true JP2933779B2 (ja) | 1999-08-16 |
Family
ID=16200299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4187111A Expired - Fee Related JP2933779B2 (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | 伝送システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2933779B2 (ja) |
-
1992
- 1992-07-14 JP JP4187111A patent/JP2933779B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0637298A (ja) | 1994-02-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6005262A (en) | Flip-chip bonded VCSEL CMOS circuit with silicon monitor detector | |
| US6385374B2 (en) | Multichannel electro-optical assembly | |
| US8183656B2 (en) | Photodiode | |
| JP3318811B2 (ja) | 半導体発光素子のパッケージ及びその製造方法 | |
| JP2915345B2 (ja) | 光検出器一体型表面光レーザとこれを用いた光ピックアップ装置 | |
| US5357122A (en) | Three-dimensional optical-electronic integrated circuit device with raised sections | |
| JPH09198707A (ja) | 光出力装置及びこれを採用した光ピックアップ装置 | |
| CN101582463A (zh) | 反射聚光型受光器和空间光通信用受光装置 | |
| JPS63502315A (ja) | ウエハサイズで集積化されたアセンブリの相互接続 | |
| JP2933779B2 (ja) | 伝送システム | |
| JPH09502306A (ja) | 光増幅装置 | |
| JP3277736B2 (ja) | 半導体素子の封止構造 | |
| JPS6027197B2 (ja) | 集積化光源 | |
| JPH03191572A (ja) | 光半導体装置 | |
| JP2007165658A (ja) | Pinフォトダイオード及び光受信装置 | |
| WO2020095355A1 (ja) | 光半導体装置、光モジュール及び光半導体装置の製造方法 | |
| TW417342B (en) | Light transmitting/receiving module system using surface emitting lasers | |
| JPH04249382A (ja) | 半導体受光素子 | |
| JPH07273370A (ja) | 光半導体装置 | |
| GB2221053A (en) | Spatial light modulators | |
| JP3148283B2 (ja) | マルチビーム半導体レーザ装置 | |
| KR0160678B1 (ko) | 모니터용 광검출기를 채용한 표면광 레이저 | |
| JP2000269585A (ja) | 面発光レーザーを用いた光送受信モジュール | |
| JPS63271980A (ja) | 光パツド | |
| KR100200847B1 (ko) | 모니터용 광검출기를 채용한 광출력 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990513 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |