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JP2953102B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
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JP2953102B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP2953102B2
JP2953102B2 JP3128085A JP12808591A JP2953102B2 JP 2953102 B2 JP2953102 B2 JP 2953102B2 JP 3128085 A JP3128085 A JP 3128085A JP 12808591 A JP12808591 A JP 12808591A JP 2953102 B2 JP2953102 B2 JP 2953102B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体メモリ装置に関
し、特にメモリセルアレイを構成するビット線と共通デ
ータバスとを接続するためのI/O線(インプット/ア
ウトプット線)の電位を調整する回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and, more particularly, to adjusting the potential of an I / O line (input / output line) for connecting a bit line constituting a memory cell array to a common data bus. Circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリ装置は、アレイ状に設けら
れた複数のメモリセルとそれらにそれぞれ接続した複数
のビット線およびワード線からなるメモリセルアレイを
有し、所定のメモリセルを選択するためのロウデコーダ
およびカラムデコーダがこのメモリセルアレイに隣接し
て配置されている。更に、これらのロウデコーダおよび
カラムデコーダにより選択されたメモリセルに対してデ
ータの読出しおよび書込みを行なうための経路としてI
/O線が配置されている。このI/O線は、その一端が
選択スイッチを介してセンスアンプによりその電位差が
増幅されるビット線対に接続され、他端がバッファ回路
およびI/O線選択回路を介して半導体チップの周辺部
に設けられた入出力パッドに接続された共通データバス
に接続されている。
2. Description of the Related Art A semiconductor memory device has a memory cell array composed of a plurality of memory cells provided in an array and a plurality of bit lines and word lines respectively connected thereto, and is used to select a predetermined memory cell. A row decoder and a column decoder are arranged adjacent to the memory cell array. In addition, a path for reading and writing data to and from a memory cell selected by these row decoder and column decoder is provided.
/ O line is arranged. One end of this I / O line is connected to a bit line pair whose potential difference is amplified by a sense amplifier via a selection switch, and the other end is connected to the periphery of a semiconductor chip via a buffer circuit and an I / O line selection circuit. It is connected to a common data bus connected to input / output pads provided in the section.

【0003】一般に半導体メモリ装置では、読出し動作
の高速化のため、I/O線をレベルが相補的関係となる
2本の配線対から構成し、読出し時にはこの配線対の電
位差の変位を電源電位レベル付近の小振幅とする方式を
用いている。配線対の差電位変位を小振幅とするため、
読出し時に2本の配線に電源電圧を供給するプリチャー
ジ回路が設けられている。このプリチャージ回路は例え
ば電源端子と配線間に設けられ、読出し時に導通状態と
なるトランスファーゲートを含んで構成されている。
In general, in a semiconductor memory device, in order to speed up a read operation, an I / O line is composed of two pairs of lines having a level-complementary relationship. A method of using a small amplitude near the level is used. In order to make the potential difference displacement of the wiring pair small amplitude,
A precharge circuit for supplying a power supply voltage to two wirings at the time of reading is provided. The precharge circuit is provided between, for example, a power supply terminal and a wiring, and includes a transfer gate which is turned on at the time of reading.

【0004】このようなプリチャージ回路を設けること
により、読出し時には常に2本の配線に電源電圧が供給
される。一方、選択スイッチにより1組のビット線対が
この2本の配線にそれぞれ電気的に接続され、このビッ
ト線対に接続されたセンスアンプは、2本の配線のうち
1本の配線はハイレベルに、もう1本の配線をロウレベ
ルに増幅しようとする。しかし、プリチャージ回路の電
源電圧供給能力に比べて1つのセンスアンプの増幅能力
は小さいため、ロウレベルに対応する配線の電圧レベル
は接地電位とはならず、電源電位レベルから約5%程度
低くなるだけである。
By providing such a precharge circuit, a power supply voltage is always supplied to two wirings at the time of reading. On the other hand, one bit line pair is electrically connected to the two wirings by the selection switch, and one of the two wirings is connected to the high level in the sense amplifier connected to the bit line pair. Then, another line is to be amplified to a low level. However, since the amplification capability of one sense amplifier is smaller than the power supply voltage supply capability of the precharge circuit, the voltage level of the wiring corresponding to the low level does not become the ground potential, and is about 5% lower than the power supply potential level. Only.

【0005】このように読出し時に、I/O線を構成す
る配線対の電位差を小さくすることにより、1つのデー
タを読出した後に次のデータを読出す際、配線対の電位
差の変位が小さいため、その動作を高速に行なうことが
可能となる。
By reducing the potential difference between the wiring pairs forming the I / O line at the time of reading, the displacement of the potential difference between the wiring pairs is small when one data is read and then the next data is read. The operation can be performed at high speed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年の半導
体メモリ装置では、入力されたアドレスに応じて選択さ
れた1本のワード線下の複数のメモリセルに対して、複
数回のデータの読出しのランダムアクセス動作を連続的
に行なういわゆる高速・ページ・モードを備えたものが
登場している。
By the way, in a recent semiconductor memory device, a plurality of times of reading data from a plurality of memory cells below one word line selected according to an input address are performed. A device having a so-called high-speed page mode for continuously performing a random access operation has appeared.

【0007】このファースト・ページ・モード動作で
は、1つのメモリセルに格納されたデータを読出した後
に、他のワード線を選択することなく、カラムアドレス
だけを更新して同一ワード線下の他のメモリセルに格納
されたデータを読出す動作を行なう。即ち、1つのデー
タを読出した後、カラムアドレスに応じて動作する選択
スイッチにより他のビット線対を選択し、このビット線
対とI/O線を電気的に接続して次のデータとして読出
す動作を複数回連続して行なう。
In this first page mode operation, after reading data stored in one memory cell, only the column address is updated without selecting another word line, and the other word line under the same word line is updated. An operation of reading data stored in a memory cell is performed. That is, after one data is read, another bit line pair is selected by a selection switch that operates according to the column address, and this bit line pair is electrically connected to the I / O line to read as the next data. The output operation is continuously performed a plurality of times.

【0008】しかし、1つのデータを読出してから次の
データを読出すまでの期間、即ち選択スイッチによって
1つのビット線対から他のビット線対にI/O線との接
続が切り替る遷移期間において、選択スイッチを制御す
る制御信号を発生させるカラムデコーダが入力されたカ
ラムアドレスの入力タイミングのずれ等により、同時に
複数のビット線対を選択するような制御信号を発生する
状態、いいかえれば、選択スイッチがマルチセレクト状
態となる場合がある。
However, a period from the time when one data is read until the time when the next data is read, that is, a transition period in which the connection of the I / O line is switched from one bit line pair to another bit line pair by the selection switch. In a state where a column decoder for generating a control signal for controlling the selection switch generates a control signal for simultaneously selecting a plurality of bit line pairs due to a shift in the input timing of the input column address, in other words, the selection state The switch may be in a multi-select state.

【0009】このような状態となると、同時に複数のセ
ンスアンプがI/O線を構成する配線対の電位をハイレ
ベルおよびロウレベルに増幅することになる。同時に選
択されたビット線対の数が多い(例えば8乃至10対)
と、その選択されたビット線対のハイおよびロウレベル
の組合せによっては、一方の配線のレベルが電源電位近
くとなり、他方の配線のレベルが電源電位(例えば5
V)の半分以下の電位(例えば2V)となる可能性があ
る。
In such a state, a plurality of sense amplifiers simultaneously amplify the potential of the wiring pair forming the I / O line to a high level and a low level. The number of bit line pairs selected simultaneously is large (for example, 8 to 10 pairs)
Depending on the combination of the high level and the low level of the selected bit line pair, the level of one wiring is close to the power supply potential and the level of the other wiring is the power supply potential (for example, 5 V).
V) may be less than half the potential (for example, 2 V).

【0010】このように、遷移期間においてI/O線を
構成する配線対のうち一方の電位が大きく低下すると、
次のデータ読出しに時間がかかるばかりでなく、メモリ
セルに格納されているデータが破壊される恐れがあっ
た。
As described above, when the potential of one of the wiring pairs forming the I / O line is significantly reduced during the transition period,
Not only does it take time to read the next data, but also the data stored in the memory cell may be destroyed.

【0011】したがって、本発明の目的は、1つのデー
タを読出してから次のデータを読出すまでの遷移期間中
に、選択スイッチがマルチセレクト状態となった場合で
も、I/O線の電位が大きく低下することを防止するこ
とが可能な半導体メモリ装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a circuit in which the potential of the I / O line is changed even when the selection switch is in the multi-select state during the transition period from the time when one data is read to the time when the next data is read. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device capable of preventing a large drop.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ装
置は、アレイ状に設けられた複数のメモリセルとそれら
にそれぞれ接続した複数のビット線およびワード線から
なるメモリセルアレイと、選択回路を介して複数のビッ
ト線の所定の数のビット線と接続される第1の配線と第
2の配線からなるI/O線と、読出し時にI/O線に電
源電位を供給するプリチャージ回路と、読出し時に活性
化する回路であって第1の配線が第2の配線よりも所定
電圧値以上となった時に第1の配線と第2の配線を接続
する第1の手段と、第2の配線が第1の配線よりも所定
電圧値以上となった時に第1の配線と第2の配線を接続
する第2の手段とを含むクランプ回路とを有する。
A semiconductor memory device according to the present invention includes a memory cell array including a plurality of memory cells provided in an array and a plurality of bit lines and word lines respectively connected thereto, and a selection circuit. An I / O line composed of a first wiring and a second wiring connected to a predetermined number of bit lines of a plurality of bit lines, a precharge circuit for supplying a power supply potential to the I / O line at the time of reading, First means for connecting the first wiring and the second wiring when the first wiring has a predetermined voltage value or more higher than the second wiring, the circuit being activated at the time of reading; Has a clamp circuit including second means for connecting the first wiring and the second wiring when the voltage becomes equal to or higher than a predetermined voltage value than the first wiring.

【0013】好ましくは、この第1の手段はゲートに第
1の節点が接続されソース・ドレイン路が第1の節点と
第2の節点間に接続された第1のトランジスタからな
り、第2の手段はゲートに第2の節点が接続されソース
・ドレイン路が第1の節点と第2の節点間に接続された
第2のトランジスタからなり、第1の節点が第1の配線
に接続され、第2の節点が第2の配線に接続される。
Preferably, the first means comprises a first transistor having a first node connected to the gate and a source / drain path connected between the first node and the second node; The means comprises a second transistor having a second node connected to the gate and a source / drain path connected between the first node and the second node, wherein the first node is connected to the first wiring, The second node is connected to the second wiring.

【0014】[0014]

【実施例】図1を参照して本発明の第1の実施例を説明
する。図1に示すように、メモリセルアレイ1は1つの
Nチャネルトランジスタおよび1つの容量素子からセル
が構成された、いわゆる1トランジスタ−1キャパシタ
型セルMSをアレイ状に配置して形成されている。ビッ
ト線はBLaとBLbを1対として各1つのセンスアン
プSAに接続されている。ロウデコーダ2は複数のワー
ド線WLのうち1本を入力されたロウアドレスに応じて
選択する。カラムデコーダ3は入力されたカラムアドレ
スに応じて選択信号Y1、Y2、Y3、…Ynのうち1
つをアクティブレベル(ハイレベル)として選択スイッ
チ4に供給する。選択スイッチ4はゲートにカラムデコ
ーダ3からの選択信号Y1、Y2、Y3、…Ynを受
け、ソース・ドレイン路がセンスアンプSAの入出力端
とI/O線を構成する配線La、Lb間に設けられたト
ランジスタ群により構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the memory cell array 1 is formed by arranging a so-called one-transistor-one-capacitor type cell MS in which a cell is constituted by one N-channel transistor and one capacitance element. The bit line is connected to each one sense amplifier SA with BLa and BLb as a pair. The row decoder 2 selects one of the plurality of word lines WL according to the input row address. The column decoder 3 outputs one of the selection signals Y1, Y2, Y3,... Yn according to the input column address.
One is supplied to the selection switch 4 as an active level (high level). The selection switch 4 receives the selection signals Y1, Y2, Y3,... Yn from the column decoder 3 at its gate, and has a source / drain path between the input / output terminal of the sense amplifier SA and the wirings La and Lb forming the I / O line. It is composed of a group of transistors provided.

【0015】選択スイッチ4により選択された1対のビ
ット線対BLaとBLbはそれぞれ配線LaとLbに接
続される。この配線La、Lbは読出しデータおよび書
込みデータを相補的に供給し、一端がデータアンプおよ
びライトアンプ(図示せず)に接続されている。又、こ
の配線La、Lbには読出し動作時に配線の電位を電源
電位近くまで上昇させるためのプリチャージ回路5にも
接続されている。このプリチャージ回路5はゲートに読
出し動作時にアクティブレベル(ロウレベル)となる制
御信号φpを受け、ソース・ドレイン路が電源端Vcc
と配線LaおよびLbとの間にそれぞれ接続されたPチ
ャネル型トランジスタ10および11から構成されてい
る。
A pair of bit lines BLa and BLb selected by the selection switch 4 are connected to wirings La and Lb, respectively. The wirings La and Lb complementarily supply read data and write data, and one end is connected to a data amplifier and a write amplifier (not shown). The wires La and Lb are also connected to a precharge circuit 5 for raising the potential of the wires to near the power supply potential during a read operation. The precharge circuit 5 receives a control signal .phi.p which becomes an active level (low level) at the time of a read operation at a gate, and a source / drain path has a power supply terminal Vcc.
And the wirings La and Lb.

【0016】更に、配線La、Lbは本発明の特徴であ
るクランプ回路6に接続され、この2本の配線間の電位
差が読出し動作時に所定電位差以上にならないようにし
ている。このクランプ回路6は、ゲートに読出し動作時
にアクティブレベル(ロウレベル)となる制御信号φW
Rを受け、ソース・ドレイン路が配線Laと節点N1間
に接続されたPチャネル型トランジスタ12と、ゲート
に制御信号φWRを受け、ソース・ドレイン路が配線L
bと節点N2間に接続されたPチャネル型トランジスタ
13と、ゲートに節点N1が接続され、ソース・ドレイ
ン路が節点N1と節点N2間に接続されたNチャネル型
トランジスタ14と、ゲートに節点N2が接続され、ソ
ース・ドレイン路が節点N1と節点N2間に接続された
Nチャネル型トランジスタ15から構成されている。
Further, the wirings La and Lb are connected to a clamp circuit 6 which is a feature of the present invention, so that the potential difference between the two wirings does not exceed a predetermined potential difference during a read operation. The clamp circuit 6 supplies a control signal φW to the gate which becomes active level (low level) during a read operation.
R, the source / drain path is connected between the wiring La and the node N1, and the gate receives the control signal φWR.
b, a P-channel transistor 13 connected between the node N2, a gate connected to the node N1, a source / drain path connected between the node N1 and the node N2, and a gate connected to the node N2. , And an N-channel transistor 15 whose source / drain path is connected between the nodes N1 and N2.

【0017】次に、本実施例の動作について図面を参照
して説明する。読出し動作時においては、制御信号φW
Rおよびφpは共にアクティブレベル(ロウレベル)で
ある(図2(a)、(b)参照)。ロウアドレスRAお
よびカラムアドレスCAがロウデコーダ2およびカラム
デコーダ3にそれぞれ入力されて1つのビット線対が選
択されるまではPチャネルトランジスタ10、11を介
して電源電圧がI/O線を構成する配線LaおよびLb
に供給されるのみである。従って、配線La、Lbのレ
ベルは共にVCCレベル(例えば5V)となる(図2
(d)参照)。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to the drawings. During a read operation, control signal φW
R and φp are both at an active level (low level) (see FIGS. 2A and 2B). The power supply voltage forms an I / O line via P-channel transistors 10 and 11 until row address RA and column address CA are input to row decoder 2 and column decoder 3, respectively, and one bit line pair is selected. Wirings La and Lb
It is only supplied to Therefore, the levels of the wirings La and Lb are both at the VCC level (for example, 5 V) (FIG. 2).
(D)).

【0018】次に、ロウアドレスRAに応じてロウデコ
ーダ2により1本のワード線WLが選択された後、カラ
ムアドレスCAが入力される(図2(c)参照)。カラ
ムアドレスCAに応じてカラムデコーダ3が選択信号Y
1をアクティブレベル(ハイレベル)とする(図2
(e)参照)ため、それに応じた一組のビット線対が選
択スイッチ4により選択される。選択されたビット線対
BLa、BLbのレベルはアドレスに応じて選択された
メモリセルMSに格納されたデータに対応して、BLa
がハイレベル、BLbがロウレベルとなっているため、
センスアンプSAもBLaをハイレベルにし、BLbを
ロウレベルにするように動作する。
Next, after one word line WL is selected by the row decoder 2 according to the row address RA, the column address CA is input (see FIG. 2C). The column decoder 3 selects the selection signal Y according to the column address CA.
1 as an active level (high level) (FIG. 2
(See (e).) Therefore, a set of bit line pairs corresponding thereto is selected by the selection switch 4. The level of the selected bit line pair BLa, BLb corresponds to the data stored in the memory cell MS selected according to the address, and is set to BLa.
Is at a high level and BLb is at a low level.
The sense amplifier SA operates to set BLa to high level and BLb to low level.

【0019】選択スイッチ4により選択されたビット線
BLaが配線Laに電気的に接続され、ビット線BLb
が配線Lbに接続されるため、配線LaはVccレベル
を維持するが、配線Lbの電位は選択されたビット線対
のセンスアンプSAによりロウレベルに低下される。し
かし、プリチャージ回路5の電源電圧供給能力に比べて
1つのセンスアンプSAの増幅能力は小さいため、配線
Lbの電圧レベルは接地電位とはならず、Vccから2
00から300mA程度低い電位レベルとなる(図2
(d)参照)。
The bit line BLa selected by the selection switch 4 is electrically connected to the wiring La, and the bit line BLb
Is connected to the wiring Lb, the wiring La maintains the Vcc level, but the potential of the wiring Lb is lowered to the low level by the sense amplifier SA of the selected bit line pair. However, since the amplification capability of one sense amplifier SA is smaller than the power supply capability of the precharge circuit 5, the voltage level of the wiring Lb does not become the ground potential, and is not higher than Vcc.
The potential level is about 300 mA lower than 00 (see FIG. 2).
(D)).

【0020】この配線LaとLbの電位差をデータアン
プ(図示せず)が更に増幅し、これを読出しデータとし
て共通データバスを介して入出力端子(図示せず)に出
力することにより、1つのデータの読出し動作が終了す
る。
A data amplifier (not shown) further amplifies the potential difference between the lines La and Lb and outputs this as read data to an input / output terminal (not shown) via a common data bus. The data read operation ends.

【0021】この読出し動作が高速ベージ・モードであ
る場合、次のデータを読出すのに再度ロウアドレスRA
を入力するのではなく、カラムアドレスCAだけを更新
することにより(図2(c)参照)、連続して同一ワー
ド線下のメモリセルMSに格納されたデータを読出す動
作を行なう。次のカラムアドレスCAが入力されると、
カラムデコーダ3は選択信号Y1を非アクティブレベル
(ロウレベル)とするとともにこのカラムアドレスCA
に応じた次の選択信号(この場合Y2)をアクティブレ
ベルとする(図2(d)参照)。
When the read operation is in the high-speed page mode, the row address RA is read again to read the next data.
, The operation of continuously reading data stored in the memory cells MS under the same word line is performed by updating only the column address CA (see FIG. 2C). When the next column address CA is input,
The column decoder 3 sets the selection signal Y1 to an inactive level (low level) and sets the column address CA
Is set to the active level (see FIG. 2D).

【0022】この選択信号が切り替る遷移期間TAにお
いて、入力されたカラムアドレスCAの入力タイミング
のずれ等により、カラムデコーダ3がビット線対を選択
するような制御信号を発生する状態(図2では選択信号
Y3がハイレベルとなる状態)となる場合がある。場合
によってはハイレベルとなる選択信号が複数発生するこ
とがあり、この場合には複数のビット線対がI/O線に
接続された状態、即ち、選択スイッチがマルチセレクト
状態となる。
In the transition period TA during which the selection signal switches, a state is generated in which the column decoder 3 generates a control signal for selecting the bit line pair due to a shift in the input timing of the input column address CA (FIG. 2). (A state where the selection signal Y3 is at a high level). In some cases, a plurality of high-level selection signals may be generated. In this case, a plurality of bit line pairs are connected to the I / O line, that is, the selection switch is in a multi-select state.

【0023】図2の遷移期間TAでは、多くのビット線
対(8つ程度)が一度に選択されたマルチセレクト状態
を示している。このように同時に多くのビット線対が選
択されてしまうと、従来ではその選択されたビット線対
のハイおよびロウレベルの組合せによっては、一方の配
線(例えば配線La)のレベルが、選択されたビット線
対のセンスアンプSAによって電源電位の半分以下の電
位(例えば2V以下)となり、メモリセルのデータが破
壊される可能性がある。しかし本実施例によれば、この
ような場合でも、後に詳述するクランプ回路6のクラン
プ動作により配線LaとLbの電位差を一定電位以下と
し、配線Laの最低電位を約3.5V程度に抑えること
が可能となるため(図2(d)参照)、従来に比してデ
ータの破壊の確率が減少し、読出し速度も高速化され
る。
In the transition period TA shown in FIG. 2, a multi-select state in which many bit line pairs (about eight) are selected at one time is shown. If many bit line pairs are selected at the same time as described above, conventionally, depending on the combination of the high and low levels of the selected bit line pair, the level of one of the wirings (for example, the wiring La) is changed to the level of the selected bit line. The potential of the power supply potential is reduced to half or less (for example, 2 V or less) by the sense amplifier SA of the line pair, and data in the memory cell may be destroyed. However, according to the present embodiment, even in such a case, the potential difference between the wires La and Lb is reduced to a certain potential or less by the clamping operation of the clamp circuit 6 described later in detail, and the minimum potential of the wire La is suppressed to about 3.5 V. (See FIG. 2D), the probability of data destruction is reduced and the read speed is increased as compared with the conventional case.

【0024】遷移期間TAの経過後、カラムアドレスC
Aに応じたビット線対が選択され、前述した動作と同様
に1つのデータが読出される。更に、所定回数のカラム
アドレスCAが連続して入力されることにより、1本の
ワード線WL下のメモリセルに格納されたデータを高速
に読出す高速ベージ・モードによる読出し動作が行なわ
れる。
After the elapse of the transition period TA, the column address C
A bit line pair corresponding to A is selected, and one data is read out in the same manner as the operation described above. Further, when a predetermined number of column addresses CA are continuously input, a read operation in a high-speed page mode for reading data stored in a memory cell under one word line WL at a high speed is performed.

【0025】一方、書込動作時においては、書込のため
のロウアドレスRAとカラムアドレスCAが入力される
と(図2(c)参照)、制御信号φWRおよびφpは共
に非アクティブレベル(ハイレベル)となり、同時にラ
イトアンプ(図示せず)により配線LaとLbが書込み
データに応じてハイレベルおよびロウレベル(GNDレ
ベル近く)にされる(図2(d)参照)。その後、カラ
ムアドレスに応じてカラムデコーダが1つの選択信号
(この場合Y1)をアクティブレベルとすることによ
り、1つのメモリセルMSに書込みデータを格納する。
On the other hand, in the write operation, when a row address RA and a column address CA for writing are input (see FIG. 2C), both control signals φWR and φp are at an inactive level (high level). Level), and at the same time, the wirings La and Lb are set to the high level and the low level (near the GND level) according to the write data by the write amplifier (not shown) (see FIG. 2D). Thereafter, the column decoder sets one selection signal (in this case, Y1) to an active level in accordance with the column address, thereby storing write data in one memory cell MS.

【0026】次に、図3を参照して遷移期間TAにおけ
るクランプ回路6の動作について更に詳述する。1つの
データが読出された後、次のデータを読出すためのカラ
ムアドレスCAが入力されると、このカラムアドレスに
対応した選択信号(この場合Y2)がハイレベルに立上
り始める。一方、それまでハイレベルだった選択信号Y
1がロウレベルに立下り始める。この時、入力されたカ
ラムアドレスCAの入力タイミングのずれ等により、他
の選択信号(この場合Y3)もある電位まで立上る場合
がある。場合によってはこのY3のような選択信号が多
数発生することがある。このように同時に多くのビット
線対が選択されてしまうと、選択されたビット線対のハ
イおよびロウレベルの組合せによっては、一方の配線
(この場合配線La)のレベルが、選択されたビット線
対のセンスアンプSAによって急速にロウレベルに立下
っていく。この時、制御信号φWRはアクティブレベル
であるのでトランジスタ12および13は導通状態であ
り、節点N1の電位は配線Laと同時にロウレベルに立
下っていく。この時、配線Lbの電位は逆にセンスアン
プによりVcc方向に若干立上っている。
Next, the operation of the clamp circuit 6 during the transition period TA will be described in more detail with reference to FIG. After one data is read, when a column address CA for reading the next data is input, a selection signal (Y2 in this case) corresponding to this column address starts to rise to a high level. On the other hand, the selection signal Y which was high level until then
1 begins to fall to low level. At this time, another selection signal (Y3 in this case) may rise to a certain potential due to a shift in input timing of the input column address CA. In some cases, a large number of selection signals such as Y3 may be generated. When many bit line pairs are selected at the same time as described above, depending on the combination of the high and low levels of the selected bit line pair, the level of one of the lines (in this case, the line La) is changed to the selected bit line pair. Quickly falls to the low level by the sense amplifier SA. At this time, since control signal φWR is at the active level, transistors 12 and 13 are on, and the potential of node N1 falls to low level simultaneously with wiring La. At this time, the potential of the wiring Lb rises slightly in the Vcc direction by the sense amplifier.

【0027】配線Laの電位が低下していき、配線La
とLbの電位差、即ち節点N1とN2の電位差がNチャ
ネルトランジスタ15のしきい値電圧Vth(例えば7
00mV)を越えると(図3のt1参照)、Nチャネル
トランジスタ15は導通状態となり、電流が節点N2か
らN1に流れ、配線LaとLbの電位差をクランプす
る。配線Laはその電位がVcc近くである配線Lbと
電気的に接続されるため、電位低下の速度が減少し、最
終的に配線Laの最低電位を従来に比して半分程度に抑
えることが可能となる。従って、従来ではマルチセレク
ト状態によって一方の配線が電源電位の半分以下の電位
(例えば2V以下)となっていたような場合でも、本実
施例によれば、クランプ回路6のクランプ動作により配
線Laの最低電位を約3.5V程度に抑えることが可能
となる。
The potential of the wiring La decreases and the wiring La
And Lb, that is, the potential difference between nodes N1 and N2 is equal to the threshold voltage Vth (eg, 7
When the voltage exceeds (00 mV) (see t1 in FIG. 3), the N-channel transistor 15 becomes conductive, a current flows from the node N2 to N1, and the potential difference between the wirings La and Lb is clamped. Since the wiring La is electrically connected to the wiring Lb whose potential is close to Vcc, the speed of the potential drop is reduced, and the lowest potential of the wiring La can be finally suppressed to about half of the conventional level. Becomes Therefore, according to the present embodiment, even if one of the wirings has a potential lower than half of the power supply potential (eg, 2 V or lower) due to the multi-select state in the related art, the clamping operation of the clamp circuit 6 causes the wiring La to be disconnected. The minimum potential can be suppressed to about 3.5V.

【0028】このクランプ動作は配線Laの電位が低下
している間行なわれる。その後、Y3等のレベルが立下
り、配線Laのレベルがプリチャージ回路5によって立
上り始めると、節点N1とN2の電位差はしきい値電圧
Vth以下となるため、Nチャネルトランジスタ15は
非導通状態となり、配線La、Lbともに急速に立上
る。
This clamping operation is performed while the potential of the wiring La is decreasing. Thereafter, when the level of Y3 or the like falls and the level of the wiring La starts to rise by the precharge circuit 5, the potential difference between the nodes N1 and N2 becomes equal to or lower than the threshold voltage Vth, so that the N-channel transistor 15 is turned off. , The wirings La and Lb rise rapidly.

【0029】以上の動作により、遷移期間中に従来では
メモリセルのデータを破壊してしまうような電位低下が
I/O線に発生しても、本実施例によれば、クランプ回
路6がI/O線を構成する2本の配線間でクランプ動作
を行なうため、一方の配線が大幅に低下することがな
い。従って、メモリセルのデータ破壊を防止しできると
ともに、配線の電位低下が小さいため、次の読出し動作
を高速化することが可能となる。
According to the above-described operation, according to the present embodiment, even if a potential drop occurs in the I / O line during the transition period, which conventionally destroys the data of the memory cell, the clamp circuit 6 operates according to the present embodiment. Since the clamping operation is performed between the two wirings constituting the / O line, one of the wirings does not significantly decrease. Accordingly, data destruction of the memory cell can be prevented, and a decrease in the potential of the wiring is small, so that the next read operation can be sped up.

【0030】尚、以上の説明では配線Laがマルチセレ
クト状態の時にロウレベルに急速に立下った例を示した
が、逆に配線Lbがロウレベルに急速に立下った場合は
節点N1と配線Lbの電位差がNチャネルトランジスタ
14のしきい値電圧Vthを越えるため、今度は節点N
1からN2に電流が流れるクランプ動作が行なわれ、上
述した同様な効果が得られる。
In the above description, an example in which the wiring La rapidly falls to the low level when the wiring La is in the multi-select state is shown. Since the potential difference exceeds the threshold voltage Vth of N-channel transistor 14, node N
A clamp operation in which a current flows from 1 to N2 is performed, and the same effect as described above is obtained.

【0031】次に図4を参照して本発明の第2の実施例
について説明する。本実施例と図1に示した第1の実施
例との違いはクランプ回路の構成だけであり、他の構成
はすべて同じである。本実施例ではクランプ回路106
を、ゲートに節点N11が接続されソース・ドレイン路
がI/O線を構成する配線LaとLb間に設けられたN
チャネルトランジスタ41と、ゲートに節点N12が接
続されソース・ドレイン路がI/O線を構成する配線L
aとLb間に設けられたNチャネルトランジスタ42
と、ゲートに読出し時にアクティブレベル(ロウレベ
ル)となる制御信号φWRを受け、ソース・ドレイン路
が配線Laと節点N11間に設けられたPチャネルトラ
ンジスタ43と、ゲートに制御信号φWRを受け、ソー
ス・ドレイン路が配線Laと節点N12間に設けられた
Pチャネルトランジスタ44と、ゲートに制御信号φW
Rを受け、ソース・ドレイン路が接地電位と節点N11
間に設けられたNチャネルトランジスタ45と、ゲート
に制御信号φWRを受け、ソース・ドレイン路が接地電
位と節点N12間に設けられたNチャネルトランジスタ
46から構成されている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is different from the first embodiment shown in FIG. 1 only in the configuration of the clamp circuit, and all other configurations are the same. In this embodiment, the clamp circuit 106
A node N11 connected to the gate and a source / drain path provided between the lines La and Lb forming the I / O line.
A node L12 is connected to the gate of the channel transistor 41, and the source / drain path forms an I / O line.
N-channel transistor 42 provided between a and Lb
And a gate receives a control signal φWR that becomes an active level (low level) at the time of reading, a P-channel transistor 43 whose source / drain path is provided between the wiring La and the node N11, and a control signal φWR at its gate, A P-channel transistor 44 having a drain path provided between the wiring La and the node N12, and a control signal φW
R, the source / drain path is connected to the ground potential and the node N11.
An N-channel transistor 45 provided therebetween, and an N-channel transistor 46 having a gate receiving the control signal φWR and having a source / drain path provided between the ground potential and the node N12.

【0032】次に図5を参照して本実施例の動作につい
て説明する。本実施例と第1の実施例の動作上の違いは
遷移期間TAにおけるクランプ回路106の動作だけ
で、他は第1の実施例と同じであるので、遷移期間TA
の動作だけを以下に説明する。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIG. The only difference between the present embodiment and the first embodiment in the operation is the operation of the clamp circuit 106 during the transition period TA, and the other operations are the same as those of the first embodiment.
Only the operation of will be described below.

【0033】1つのデータが読出された後、次のデータ
を読出すためのカラムアドレスCAが入力されると、こ
のカラムアドレスに対応した選択信号(この場合Y2)
がハイレベルに立上り始める。一方、それまでハイレベ
ルだった選択信号Y1がロウレベルに立下り始める。こ
の時、入力されたカラムアドレスCAの入力タイミング
のずれ等により、第1の実施例と同様、Y3のような選
択信号が多数発生し同時に多くのビット線対が選択され
てしまうと、選択されたビット線対のハイおよびロウレ
ベルの組合せによっては、一方の配線(この場合配線L
a)のレベルが、選択されたビット線対のセンスアンプ
SAによって急速にロウレベルに立下っていく。
After one data is read, when a column address CA for reading the next data is input, a selection signal (Y2 in this case) corresponding to this column address is input.
Begins to rise to a high level. On the other hand, the selection signal Y1 which has been high level starts falling to low level. At this time, if a large number of selection signals such as Y3 are generated and many bit line pairs are selected at the same time as in the first embodiment due to a shift in the input timing of the input column address CA or the like, the selection is made. Depending on the combination of the high and low levels of the bit line pair, one wiring (in this case, the wiring L
The level of a) rapidly falls to the low level by the sense amplifier SA of the selected bit line pair.

【0034】この時、制御信号φWRはアクティブレベ
ル(ロウレベル)であるのでPチャネルトランジスタ4
3および44は導通状態、Nチャネルトランジスタ45
および46は非導通状態となる。本実施例の場合、節点
N11、N12の電位はPチャネルトランジスタ43、
44を介しているため、その分だけ電位変化が遅延して
(図5の点線参照)ロウレベルに立下っていく。この
時、配線Lbの電位は逆にセンスアンプによりVcc方
向に若干立上っている。
At this time, since the control signal φWR is at the active level (low level), the P-channel transistor 4
3 and 44 are conductive, N-channel transistor 45
And 46 become non-conductive. In the case of this embodiment, the potentials of the nodes N11 and N12 are
Since the voltage passes through 44, the potential change is delayed by that amount (see the dotted line in FIG. 5) and falls to the low level. At this time, the potential of the wiring Lb rises slightly in the Vcc direction by the sense amplifier.

【0035】配線Laの電位が低下していき、配線La
と節点N12の電位差がNチャネルトランジスタ42の
しきい値電圧Vth(例えば700mV)を越えると
(図5のt11参照)、Nチャネルトランジスタ42は
導通状態となり、電流が配線Lbから配線Laに流れ、
配線LaとLbの電位差をクランプする。このクランプ
動作により、ロウレベルに立下る速度が低下し、第1の
実施例と同様に配線Laの最低電位を従来に比して抑え
ることが可能となる。
The potential of the wiring La decreases and the wiring La
When the potential difference between the node N12 and the node N12 exceeds the threshold voltage Vth (for example, 700 mV) of the N-channel transistor 42 (see t11 in FIG. 5), the N-channel transistor 42 becomes conductive, and current flows from the wiring Lb to the wiring La,
The potential difference between the wirings La and Lb is clamped. By this clamping operation, the speed of falling to the low level is reduced, and the lowest potential of the wiring La can be suppressed as compared with the conventional example, as in the first embodiment.

【0036】このクランプ動作は配線Laの電位が低下
している間行なわれるが、本実施例では、Y3等のレベ
ルが立下り、配線La、Lbのレベルがプリチャージ回
路5によって立上り始めても、節点N12の電位変化は
点線に示すようにPチャネルトランジスタ44の存在に
より遅延して変化するため、この時点(図5のt12)
では配線Laと節点N12の間の電位差はしきい値電圧
である。従って、配線Laが立上った直後はまだNチャ
ネルトランジスタ42は導通状態を維持しており、自身
よりも高い電位レベルの配線Lbと電気的に接続されて
いる配線Laの立上りは第1の実施例に比してより早く
なる。その後、配線Laの電位が立上り節点12との電
位差がしきい値電圧Vth以下となるとNチャネルトラ
ンジスタ42は非導通状態となる。
This clamping operation is performed while the potential of the wiring La is falling. In this embodiment, even if the level of the wiring Y3 or the like falls and the levels of the wiring La and Lb start rising by the precharge circuit 5, Since the potential change at the node N12 changes with a delay due to the presence of the P-channel transistor 44 as shown by the dotted line, at this time (t12 in FIG. 5).
Then, the potential difference between the wiring La and the node N12 is a threshold voltage. Therefore, immediately after the wiring La rises, the N-channel transistor 42 is still in a conductive state, and the wiring La electrically connected to the wiring Lb having a higher potential level than the wiring La rises to the first level. It is faster than in the embodiment. Thereafter, when the potential difference between the wiring La and the rising node 12 becomes equal to or lower than the threshold voltage Vth, the N-channel transistor 42 is turned off.

【0037】配線LbはY3等のレベルが立下った時点
(図5のt12)でもNチャネルトランジスタ42が導
通しているため、それ以降も配線Laの電位と節点N1
2との電位差がしきい値電圧に達するまで電位レベルは
低下する。従って、配線Laの立上りが配線Lbに比し
て急速に高レベルに達し、今までとは逆に配線Laの電
位がLbの電位よりも高くなり、配線の電位差がしきい
値電圧Vth以上となる(図5のt13)が、節点N1
1の電位変化は点線に示すようにPチャネルトランジス
タ43の存在により遅延して変化するため、この時点
(図5のt13)では配線Lbと節点N11との電位差
はNチャネルトランジスタ41のしきい値電圧Vth以
下である。従って、Nチャネルトランジスタ41は導通
状態とはならず、配線Laはそのまま急速にハイレベル
に立上がることが可能となる。
Since the N-channel transistor 42 is still conducting even when the level of the wiring Lb falls, such as Y3 (t12 in FIG. 5), the potential of the wiring La and the potential of the node N1 continue thereafter.
The potential level decreases until the potential difference from 2 reaches the threshold voltage. Therefore, the rise of the wiring La rapidly reaches a high level as compared with the wiring Lb, and conversely, the potential of the wiring La becomes higher than the potential of Lb, and the potential difference of the wiring becomes equal to or higher than the threshold voltage Vth. (T13 in FIG. 5), the node N1
Since the potential change of 1 changes with a delay due to the presence of the P-channel transistor 43 as shown by the dotted line, at this time (t13 in FIG. 5), the potential difference between the wiring Lb and the node N11 is the threshold of the N-channel transistor 41. It is equal to or lower than the voltage Vth. Therefore, the N-channel transistor 41 does not become conductive, and the wiring La can quickly rise to the high level as it is.

【0038】尚、第1の実施例と同様にマルチセレクト
状態となって配線Lbがロウレベルに急速に立下った場
合は節点N11と配線Lbの電位差がNチャネルトラン
ジスタ41のしきい値電圧Vthを越えるため、今度は
配線Laから配線Lbに電流が流れ、クランプ動作が行
なわれ、上述した同様な効果が得られる。
When the multi-select state is set and the line Lb rapidly falls to the low level as in the first embodiment, the potential difference between the node N11 and the line Lb causes the threshold voltage Vth of the N-channel transistor 41 to decrease. Therefore, a current flows from the wiring La to the wiring Lb, and a clamping operation is performed. Thus, the same effect as described above can be obtained.

【0039】以上説明したように本実施例では、第1の
実施例に比して配線の電位の立上りが早くなる効果を有
する。更に第1の実施例では、配線LaとLb間の電位
差による電流を流すためのトランジスタがPチャネルト
ランシスタ12、13およびNチャネルトランジスタ1
4、15の計4つであるのに対して、本実施例ではNチ
ャネルトランジスタ41、42の2つですむ。これら電
流を流すトランジスタはその大きさを大きく設計しなけ
ればならないため、第2の実施例ではクランプ回路を構
成するトランジスタの全体の数では第1の実施例より多
いが、小さなトランジスタで構成することができるた
め、結果として第1の実施例よりも小さな形成領域でク
ランプ回路を構成することが可能となる。
As described above, the present embodiment has the effect that the potential of the wiring rises faster than in the first embodiment. Further, in the first embodiment, the transistors for flowing the current due to the potential difference between the wirings La and Lb are the P-channel transistors 12 and 13 and the N-channel transistor 1.
In contrast to the total number of four transistors 4 and 15, four N-channel transistors 41 and 42 are required in this embodiment. Since the size of the transistors through which these currents flow must be designed to be large, the number of transistors constituting the clamp circuit in the second embodiment is larger than that of the first embodiment, but the number of transistors constituting the clamp circuit must be small. As a result, it is possible to configure the clamp circuit with a smaller formation area than in the first embodiment.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置は、メモリセルのデータを破壊してしまうような
電位低下がI/O線に発生しても、クランプ回路がI/
O線を構成する2本の配線間でクランプ動作を行なうた
め、一方の配線が大幅に低下することがない。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, even if a potential drop occurs on the I / O line which would destroy the data in the memory cell, the clamp circuit can operate the I / O line.
Since the clamping operation is performed between the two lines constituting the O line, one of the lines does not significantly decrease.

【0041】従って、メモリセルのデータ破壊を防止し
できるとともに、配線の電位低下が小さいため、次の読
出し動作を高速化することが可能となる。
Accordingly, data destruction of the memory cell can be prevented, and the potential of the wiring is small, so that the next read operation can be sped up.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例における半導体メモリ装
置の構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す半導体メモリ装置の動作を説明する
ための波形図である。
FIG. 2 is a waveform diagram for explaining an operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 1;

【図3】図2に示す波形の一部を更に詳細に示した回路
図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a part of the waveform shown in FIG. 2 in further detail.

【図4】本発明の第2の実施例による半導体メモリ装置
の構成を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】図4に示す半導体メモリ装置の動作を説明する
ための波形図である。
FIG. 5 is a waveform diagram for explaining an operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 4;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 ロウデコーダ 3 カラムデコーダ 4 選択スイッチ 5 プリチャージ回路 6 クランプ回路 Reference Signs List 1 memory cell array 2 row decoder 3 column decoder 4 selection switch 5 precharge circuit 6 clamp circuit

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 アレイ状に設けられた複数のメモリセル
とそれらにそれぞれ接続した複数のビット線およびワー
ド線からなるメモリセルアレイと、選択回路を介して前
記複数のビット線の所定の数のビット線と接続される第
1の配線と第2の配線からなるI/O線と、制御端子に
読出し時にアクティブレベルとなる制御信号を受け前記
第1の配線と第1の節点間に設けられた第1のトランス
ファーゲートと、制御端子に前記制御信号を受け前記第
2の配線と第2の節点間に設けられた第2のトランスフ
ァーゲートと、制御端子に前記制御信号を受け接地電位
と前記第1の節点間に設けられた第3のトランスファー
ゲートと、制御端子に前記制御信号を受け前記接地電位
と前記第2の節点間に設けられた第4のトランスファー
ゲートと、前記第1の節点の電位が前記第2の配線の電
位よりも所定電圧以上大きくなった時に前記第1の配線
と前記第2の配線を接続する第1の手段と、前記第2の
節点の電位が前記第1の配線の電位よりも前記所定電圧
以上大きくなった時に前記第1の配線と前記第2の配線
を接続する第2の手段とを有することを特徴とする半導
体メモリ装置。
1. A memory cell array comprising a plurality of memory cells provided in an array, a plurality of bit lines and word lines respectively connected thereto, and a predetermined number of bits of the plurality of bit lines via a selection circuit. An I / O line comprising a first wiring and a second wiring connected to the wiring, and a control terminal receiving a control signal which becomes an active level at the time of reading and provided between the first wiring and a first node. A first transfer gate, a second transfer gate provided between the second wiring and a second node receiving the control signal at a control terminal, and a ground potential receiving the control signal at a control terminal. a third transfer gate provided between the first node, and a fourth transfer gate provided between the ground potential receiving said control signal to the control terminal and the second node, the first Of the second wiring is
The first wiring when the voltage becomes higher than the predetermined voltage by a predetermined voltage.
First means for connecting the second wiring and the second wiring;
The potential of the node is higher than the potential of the first wiring by the predetermined voltage.
The first wiring and the second wiring when larger
And a second means for connecting the semiconductor memory device.
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