JP2967531B2 - Recorded body - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液体反撥性の強い記録
体表面へ、選択的に又は選択的かつ可逆的に、液体付着
性領域(潜像領域)を形成させるのに適し、必要に応じ
て、この領域へ記録剤(例えば液体インク)を供給して画
像を形成するか、又は、液体インクの供給後、それを普
通紙等へ転写し複写画像を得るようにするのに適した記
録体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is suitable for forming a liquid-adhesive area (latent image area) selectively or selectively and reversibly on the surface of a recording medium having a strong liquid repellency. Accordingly, a recording agent (e.g., liquid ink) is supplied to this area to form an image, or after supplying the liquid ink, it is suitable for transferring it to plain paper or the like to obtain a copied image. Regarding the recording medium.
【0002】[0002]
【従来の技術】表面を液体付着性領域と非液体付着性領
域とに区分けして画像形成に供するようにした手段の代
表的なものとしては水(湿し水)なし平版印刷原版を用い
たオフセット印刷方式があげられる。非画像部をインキ
反発性物質で形成して、平版印刷方式から水(湿し水)の
供給を排除するという研究は早くから着手されている(U
SP3,632,375;USP3,677,178;特公昭44-23042号公報)。2. Description of the Related Art A lithographic printing plate precursor without water (fountain solution) is used as a typical means for dividing a surface into a liquid-adhesive area and a non-liquid-adhesive area for image formation. An offset printing method can be used. Research on forming non-image areas with an ink-repellent material and eliminating the supply of water (fountain solution) from lithographic printing has been undertaken from an early stage (U
SP3,632,375; USP3,677,178; JP-B-44-23042).
【0003】1960年代後半以降、インキ反発性付与成分
はシリコーン系とフッ素系に大別されるようになってき
ているが、シリコンゴムを用いたものがいち早く米国3M
社より製品化されている(岩本昌夫:別冊高分子加工,
6,(1984))。[0003] Since the late 1960's, ink repellency-imparting components have been broadly classified into silicone-based and fluorine-based components.
(Masao Iwamoto: Separate volume polymer processing,
6, (1984)).
【0004】また、現在市販されている水なし平版印刷
原版としては東レ社製の水なし印刷原版が挙げられる。
この原版はベースとなるアルミニウム基板上に感光層と
シリコーン層とを設けた構造であり、製版印刷では感光
層の助けを借りて画像形成を行うものである。Further, as a waterless planographic printing plate currently commercially available, there is a waterless printing plate manufactured by Toray Industries, Inc.
This master has a structure in which a photosensitive layer and a silicone layer are provided on an aluminum substrate serving as a base. In plate making printing, an image is formed with the help of the photosensitive layer.
【0005】ポジタイプの場合、生版(原版)→露光像→
現像→刷版→印刷という複雑な工程がある。特に現像工
程では専用の現像機や薬品が必要となっている。このオ
フセット印刷方式はこの様な工程を必要とするため原版
から刷版(印刷版)を得るまでの製版工程及び印刷版から
の印刷工程を一つの装置内に組込むことが困難であり、
製版印刷の装置の小型化は勢い困難なものとなってい
る。例えば、比較的小型化されている事務用オフセット
製版印刷機においても、製版工程の複雑さから製版装置
と印刷装置とは別個になっているのが普通である。In the case of a positive type, a raw plate (original plate) → exposed image →
There is a complicated process of development → printing plate → printing. Particularly, in the developing process, a special developing machine and chemicals are required. Since this offset printing method requires such a process, it is difficult to incorporate the plate making process and the printing process from the printing plate until obtaining a printing plate (printing plate) from the original plate into one apparatus,
It has been difficult to reduce the size of plate making and printing apparatuses. For example, even in a relatively small office offset plate making press, the plate making device and the printing device are usually separated from each other due to the complexity of the plate making process.
【0006】このようなオフセット印刷方式の欠陥を解
消することを意図して、画像情報に応じた液体付着性領
域及び非液体付着性領域が形成でき、しかも、繰返し使
用が可能な(可逆性を有する)記録体を利用した記録方法
ないし装置が提案されるようになってきている。その幾
つかをあげれば次のとおりである。[0006] In order to eliminate such a defect of the offset printing method, a liquid-adhesive area and a non-liquid-adhesive area corresponding to image information can be formed, and can be used repeatedly (reversible). A recording method or apparatus using a recording medium has been proposed. Some of them are as follows.
【0007】(1) 水性現像方式 疎水性の光導電体層に外部より電荷を与えた後、露光し
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させて
紙などに転写する(特公昭40-18992号、特公昭40-18993
号、特公昭44-9512号、特開昭63-264392号などの公
報)。(1) Aqueous development system After applying a charge to the hydrophobic photoconductor layer from the outside, it is exposed to light to form a pattern having a hydrophobic part and a hydrophilic part on the surface of the photoconductor layer, Aqueous developer is adhered only to the paper and transferred to paper, etc. (Japanese Patent Publication No. 40-18992, Japanese Patent Publication No. 40-18993)
JP-B-44-9512 and JP-A-63-264392).
【0008】(2) フォトクロミック材料の光化学反応を
利用した方式 スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これらフォトクロミッ
ク化合物を親水化する〔例えば「高分子論文集」第37巻4
号、287頁(1980)〕。(2) A method utilizing photochemical reaction of photochromic material A layer containing a material such as spiropyran or azo dye is irradiated with ultraviolet rays, and these photochromic compounds are hydrophilized by the photochemical reaction. Volume 37 4
Issue, p. 287 (1980)].
【0009】(3) 内部偏倚力の作用を利用した方式 不定形状態と結晶性状態とを物理的変化により形成し、
液体インクの付着・非付着領域を構成する(特公昭54-419
02号公報)。(3) A method utilizing the action of internal biasing force An amorphous state and a crystalline state are formed by physical change,
Constructing the area where liquid ink adheres and adheres (Japanese Patent Publication No. 54-419)
02 publication).
【0010】前記(1)の方式によれば、水性インクを紙
などに転写した後、除電により親水性部は消去され、別
の画像情報の記録が可能となる。即ち、一つの原版(光
導電体)で繰り返し使用が可能となる。だが、この方式
は電子写真プロセスを基本としているため帯電→露光→
現像→転写→除電という長いプロセスを必要とし、装置
の小型化やコストの低減、メンテナンスフリー化が困難
であるといった欠点をもっている。According to the method (1), after the aqueous ink is transferred to paper or the like, the hydrophilic portion is erased by static elimination, and another image information can be recorded. That is, it is possible to repeatedly use one master (photoconductor). However, since this method is based on the electrophotographic process, charging → exposure →
It requires a long process of development → transfer → discharge, and has drawbacks in that it is difficult to reduce the size and cost of the apparatus and to make maintenance free.
【0011】前記(2)の方式によれば、紫外線と可視光
との照射を選択的にかえることによって親水性、疎水性
を自由かつ可逆的に制御できるものの、量子効率が悪い
ため反応時間が非常に長くて記録速度が遅く、また安定
性に欠けるといった欠点をもっており、いまだ実用レベ
ルには達していないのが実情である。According to the method (2), hydrophilicity and hydrophobicity can be freely and reversibly controlled by selectively changing the irradiation of ultraviolet light and visible light, but the reaction time is low due to poor quantum efficiency. It has the drawbacks of being extremely long, slow in recording speed, and lacking stability, and has not yet reached a practical level.
【0012】更に、前記(3)の方式によれば、そこで使
用される情報記録部材は、記録後のものでは安定性があ
るが、記録前のものでは温度変化により物理的構造変化
が生じるおそれがあることから保存性に問題が残されて
いる。これに加えて、記録された情報パターンの消去に
は熱パルスを与え、次いで急冷する手段が採用されるこ
とから、繰り返しの画像形成は繁雑さをまぬがれ得ない
といった不都合がある。Further, according to the method (3), the information recording member used there is stable after recording, but may have a physical structural change due to a temperature change before recording. However, there is still a problem in storage stability. In addition, since a means for applying a heat pulse and then quenching for erasing the recorded information pattern is employed, there is an inconvenience that repetitive image formation cannot avoid the complexity.
【0013】本発明者らは、先に、液体に対して反撥力
の強い部材(液体反撥性成形体)の表面に、容易な手段
で選択的に又は選択的かつ可逆的に、所望パターンとな
る液体付着性領域が形成できる方法及び装置を提案した
(特願平2−43599号)。この方法及び装置を用い
ることにより、上記の液体付着性領域に例えば液体イン
キを供給すれば良好な画像が得られ、また、前記の液体
インクの供給後、これを普通紙等に転写することで階調
性のある鮮明な画像が得られる。さらに、記録の前後に
かかわらず保存性、安定性にすぐれた材料が使用される
ことによって、可逆的な液体付着性領域の形成が一層可
能である。The present inventors firstly selectively or selectively and reversibly apply a desired pattern to the surface of a member (liquid repellent molded article) having a strong repulsive force against a liquid. A method and an apparatus capable of forming such a liquid-adhering region have been proposed (Japanese Patent Application No. 43599/1990). By using this method and apparatus, a good image can be obtained if, for example, liquid ink is supplied to the above-mentioned liquid-adhesive area, and after supplying the liquid ink, this is transferred to plain paper or the like. A clear image with gradation is obtained. Further, by using a material having excellent storage stability and stability regardless of before and after recording, it is possible to further form a reversible liquid-adhesive region.
【0014】[0014]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液体
に対して反撥力の強い部材(液体反撥性成形体)の表面
に、容易な手段で選択的に又は選択的かつ可逆的に、所
望パターンとなる液体付着性領域を形成し、さらに、こ
の液体付着性領域に例えば液体インク(記録液)を供給
すれば良好な画像が得られ、また前記の液体インクの供
給後、これを普通紙等に転写することで階調性のある鮮
明な画像を得る方法及び装置に好適に使用しうる記録体
を提供するものである。本発明の他の目的は、記録の前
後において、保存性並びに安定性にすぐれた記録体を提
供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to selectively or selectively and reversibly apply a simple means to the surface of a member (liquid repellent molded article) having a strong repulsion force against a liquid. A good image can be obtained by forming a liquid-adhesive region having a desired pattern and further supplying, for example, a liquid ink (recording liquid) to the liquid-adhesive region. It is an object of the present invention to provide a recording medium which can be suitably used for a method and an apparatus for obtaining a clear image with gradation by transferring to a paper or the like. Another object of the present invention is to provide a recording medium having excellent storage stability and stability before and after recording.
【0015】[0015]
【課題を達成するための手段】すなわち、本発明は下記
(1)又は(2)の記録体である。 (1)記録体(A)の表面と、液体・蒸気及び記録体(A)の
示す後退接触角低下開始温度以下で液体となるか液体又
は蒸気を発する固体から選ばれる接触材料(B)とを接触
させた状態で選択的に加熱することにより、又は、記録
体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(B)と接
触させることにより、記録体(A)の表面に記録液との後
退接触角を減少せしめる領域を形成させる記録方法に用
いられる前記記録体(A)の少なくとも表面が、側鎖に弗
素原子を含む化合物を含有するものであることを特徴と
する記録体。 (2)記録体(A)の表面と、接触材料(B)とを接触させた
状態で選択的に加熱することにより、又は、記録体(A)
の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(B)と接触さ
せることにより、記録体(A)の表面に記録液との後退接
触角を減少させた潜像領域を形成せしめた後、その領域
に記録液を供給して顕像化し、次いで、この可視像を被
転写体に転写し、接触材料(B)の不存在下に於いて記録
体(A)を加熱して前記領域を消失させる可逆性を有する
記録方法に用いられる前記記録体(A)の少なくとも表面
が、側鎖に弗素原子を含む化合物を含有するものである
ことを特徴とする記録体。That is, the present invention provides the following:
It is the recording body of (1) or (2). (1) The surface of the recording body (A) and a contact material (B) selected from liquid or vapor and a solid that emits a liquid or a vapor at a temperature lower than the receding contact angle lowering start temperature indicated by the recording body (A). By selectively heating the surface of the recording medium (A), or by contacting the surface of the recording medium (A) with the contact material (B) while selectively heating the surface of the recording medium (A). Recording wherein at least the surface of the recording medium (A) used in the recording method for forming a region for reducing the receding contact angle with a recording liquid contains a compound containing a fluorine atom in a side chain. body. (2) By selectively heating the surface of the recording material (A) and the contact material (B) in contact with each other, or by using the recording material (A)
The surface of the recording medium (A) is contacted with the contact material (B) while the surface of the recording medium is selectively heated to form a latent image area having a reduced receding contact angle with the recording liquid on the surface of the recording medium (A). The recording liquid is supplied to the area to visualize the area, and then this visible image is transferred to a transfer object, and the recording medium (A) is heated in the absence of the contact material (B) to clear the area. A recording material characterized in that at least the surface of the recording material (A) used in a recording method having reversibility to be eliminated contains a compound containing a fluorine atom in a side chain.
【0016】かかる記録体の使用によれば、前記の課題
は十分達成することができる。According to the use of such a recording medium, the above-mentioned problem can be sufficiently achieved.
【0017】ここで、前記の側鎖に弗素原子を含む化合
物としては、次の一般式(I)(II)(III)(IV)及び(V)で
表わされるもの、更には、これら化合物の少なくとも一
つをモノマー成分とした共重合体があげられる。The compounds containing a fluorine atom in the side chain include those represented by the following general formulas (I), (II), (III), (IV) and (V). Copolymers containing at least one monomer component are exemplified.
【0018】 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R2は−
(CH2)nR3(nは1〜10の整数、R3は炭素数3
〜21個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキ
ル基)、−CH2CF2CHFCF3、 (但し、−Ph−はパラフェニレン基を表わす。以下同
じ)、-CH(CF3)2、 岐状のパーフルオロアルキル基)又は−CH〔CH2O
CF(CF3)2〕2を表わす。〕[0018] Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 2 represents —
(CH 2 ) nR 3 (n is an integer of 1 to 10, and R 3 has 3 carbon atoms)
To 21 straight-chain or branched perfluoro alkyl group), - CH 2 CF 2 CHFCF 3, (However, -Ph- represents a paraphenylene group; the same applies hereinafter), -CH (CF 3 ) 2 , 岐状perfluoroalkyl group), or -CH [CH 2 O
CF (CF 3 ) 2 ] 2 . ]
【0019】 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R6は−
(CF2)nF(nは1、3〜17の整数)、−(C
H2)nR7(nは1〜10の整数、R7は炭素数3〜2
1個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル
基)又は−R8N(R9)SO2R10(R8は炭素数1〜1
2個のアルキレン基、R9は水素又は炭素数1〜6個の
直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、R10は炭素数4〜
12個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル
基)を表わす。〕[0019] Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 6 represents —
(CF 2) nF (n is an integer of 1,3~17), - (C
H 2 ) nR 7 (n is an integer of 1 to 10; R 7 is 3 to 2 carbon atoms)
One linear or branched perfluoroalkyl group), or -R 8 N (R 9) SO 2 R 10 (R 8 is a carbon number 1 to 1
Two alkylene groups, R 9 is hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 10 is a carbon atom having 4 to 4 carbon atoms.
12 linear or branched perfluoroalkyl groups). ]
【0020】 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R11は−P
h−F、−SCH2CH2R12(R12は炭素数5〜13個
の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基)又
は−CH2Fを表わす。〕[0020] [However, R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 11 represents —P
h-F, -SCH 2 CH 2 R 12 (R 12 is a perfluoroalkyl group having 5-13 straight-chain or branched carbon atoms) or -CH 2 F. ]
【0021】 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R13は−P
h−F、 (n8は1〜18の整数)を表わす。〕[0021] [However, R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 13 represents —P
h-F, (n 8 is 1 to 18 integer) represent. ]
【0022】 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R14は−C
H2CF2H、−CH2CF2CH3、−CHCF3、−(C
H2)3CF3又は−(CH2CF2H)2を表わす。〕[0022] Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 14 represents —C
H 2 CF 2 H, -CH 2 CF 2 CH 3, -CHCF 3, - (C
H 2) 3 CF 3 or - represents a (CH 2 CF 2 H) 2 . ]
【0023】即ち、本発明は前記の記録体(A)を形成す
る材料(厳密には、記録体(A)の表面層を形成する材料)
として、液体反撥性の強い“側鎖にフッ素原子を有する
化合物"を使用することにより、記録体(A)の表面に前記
の接触材料(B)を接触させて加熱し、又は、記録体(A)の
表面を加熱した状態で接触材料(B)と接触させ記録体(A)
の表面に記録液との後退接触角を減少させた領域を容易
に形成せしめることができる。That is, the present invention relates to a material for forming the recording medium (A) (strictly speaking, a material for forming a surface layer of the recording medium (A)).
As a liquid repellent, by using a "compound having a fluorine atom in a side chain", the contact material (B) is brought into contact with the surface of the recording material (A) and heated, or the recording material ( The recording material (A) is brought into contact with the contact material (B) while the surface of (A) is heated.
A region in which the receding contact angle with the recording liquid has been reduced can be easily formed on the surface.
【0024】さらに、上記の方法により後退接触角を減
少させた領域を接触材料(B)の不存在下で加熱すること
により後退接触角を回復することができ、こうした過程
を繰り返すことにより容易に可逆的に後退接触角の変化
する領域を形成することが可能であり、言換えれば、可
逆的に液体との濡れ性を制御できる記録体〔記録体
(A)〕を提供することができる。Furthermore, the receding contact angle can be recovered by heating the region in which the receding contact angle has been reduced by the above method in the absence of the contact material (B). It is possible to form a region in which the receding contact angle changes reversibly, in other words, a recording medium [recording medium] capable of reversibly controlling wettability with a liquid.
(A)] can be provided.
【0025】ここで、記録体(A)の表面に接触材料(B)を
介在させた状態で熱を与える事により後退接触角の低下
した領域を形成せしめる本発明の記録体(A)について、
(1)基板、(2)記録層、(3)記録層形成方法手段を順に説
明する。Here, the recording material (A) of the present invention, in which a region having a reduced receding contact angle is formed by applying heat to the surface of the recording material (A) with the contact material (B) interposed therebetween,
The (1) substrate, (2) recording layer, and (3) recording layer forming method will be described in order.
【0026】(1)基板について ポリイミド、ポリエステル等の樹脂フィルム又はガラ
ス、金属等が採用できる。(1) Substrate A resin film such as polyimide or polyester, glass, metal or the like can be used.
【0027】(2) 記録層について 記録層を形成する重合体(共重合体を含む)を構成するモ
ノマー単位としては、従来より公知乃至周知の化合物な
ど特に限定されず種々のものを例示することが可能であ
るが、特に一般式(I)から(V)までのものが望ましい。(2) Recording Layer The monomer unit constituting the polymer (including the copolymer) forming the recording layer is not particularly limited and may be any of various known compounds such as conventionally known or well-known compounds. However, those of the general formulas (I) to (V) are particularly desirable.
【0028】例えば一般式(I)の具体的な例として
は、CH2=C(CH3)COO(CH2)2(CF2)
8F,CH2=CHCOOCH2CH2(CF2)7CF3,
CH2=C(CH3)COOCH2(CF2)4CF3,CH
2=CHCOO(CH2)3(CF2)6CF(CF3)2、
CH2=CHCOO(CH2)3(CF2)8CF(CF3)
2,CH2=CHCOO(CH2)3(CF2)10CF(C
F3)2,CH2=C(CH3)COO(CH2)2(C
F2)6CF3,CH2=CHCOO(CH2)2(CF2)5
CF(CF3)2,CH2=CHCOO(CH2)4(C
F2)7CF(CF3)2,CH2=CHCOOCH2CH
(OH)CH2(CF2)6CF(CF3)2,CH2=CH
COO(CH2)2N(CH3)SO2(CF2)7CF3,
CH2=CHCOO(CH2)2N(C2H5)SO2(CF
2)7CF3,CH2=C(CH)3COOCH2CH(OC
OCH3)CH2(CF2)6CF(CF3)2,CH2=C
HCO OOCF(CF3)2,CH2=C(CH3)COOCF
(CF3)2,CH2=C (CF2)7CF(CF3)2,CH2=CHCOOCH
〔CH2OCF(CF3)2〕2,CH2=C(CH3)CO
OCH2CF2CHFCF3の如きパーフルオロアルキル
基を含むアクリレート又はメタクリレートが挙げられ
る。For example, as a specific example of the general formula (I), CH 2 CC (CH 3 ) COO (CH 2 ) 2 (CF 2 )
8 F, CH 2 CHCHCOOCH 2 CH 2 (CF 2 ) 7 CF 3 ,
CH 2 CC (CH 3 ) COOCH 2 (CF 2 ) 4 CF 3 , CH
2 = CHCOO (CH 2 ) 3 (CF 2 ) 6 CF (CF 3 ) 2 ,
CH 2 = CHCOO (CH 2) 3 (CF 2) 8 CF (CF 3)
2 , CH 2 CHCHCOO (CH 2 ) 3 (CF 2 ) 10 CF (C
F 3 ) 2 , CH 2 CC (CH 3 ) COO (CH 2 ) 2 (C
F 2 ) 6 CF 3 , CH 2 CHCHCOO (CH 2 ) 2 (CF 2 ) 5
CF (CF 3 ) 2 , CH 2 CHCHCOO (CH 2 ) 4 (C
F 2 ) 7 CF (CF 3 ) 2 , CH 2 CHCHCOOCH 2 CH
(OH) CH 2 (CF 2 ) 6 CF (CF 3 ) 2 , CH 2 CHCH
COO (CH 2 ) 2 N (CH 3 ) SO 2 (CF 2 ) 7 CF 3 ,
CH 2 CHCHCOO (CH 2 ) 2 N (C 2 H 5 ) SO 2 (CF
2 ) 7 CF 3 , CH 2 CC (CH) 3 COOCH 2 CH (OC
OCH 3 ) CH 2 (CF 2 ) 6 CF (CF 3 ) 2 , CH 2 CC
HCO OOCF (CF 3 ) 2 , CH 2 CC (CH 3 ) COOCF
(CF 3 ) 2 , CH 2 = C (CF 2 ) 7 CF (CF 3 ) 2 , CH 2 CHCHCOOCH
[CH 2 OCF (CF 3 ) 2 ] 2 , CH 2 CC (CH 3 ) CO
An acrylate or methacrylate containing a perfluoroalkyl group such as OCH 2 CF 2 CHFCF 3 is mentioned.
【0029】前記一般式(II)の具体的な例としては、CH
2=CHOCOC3F7,CH2=CHOCOCF3,CH2CHOCO(CH2)10C8F17,CH2=
CHOCOCH2N(C2H5)SO2C8F17,CH2=CHOCO(CH2)10N(CH3)SO2C
8F17,CH2=CHOCOCH2NHSO2C8F17等の含フッ素ビニルエス
テル型モノマーが挙げられる。これらの中で例えばCH2=
CHOCO(CH2)10N(C2H5)SO2C8F17はU.S.P2,841,573記載の
方法で合成され、また重合される。As a specific example of the general formula (II), CH
2 = CHOCOC 3 F 7 , CH 2 = CHOCOCF 3 , CH 2 CHOCO (CH 2 ) 10 C 8 F 17 , CH 2 =
CHOCOCH 2 N (C 2 H 5 ) SO 2 C 8 F 17 , CH 2 = CHOCO (CH 2 ) 10 N (CH 3 ) SO 2 C
8 F 17, CH 2 = CHOCOCH 2 NHSO fluorine-containing vinyl ester type monomers such as 2 C 8 F 17 and the like. Of these, for example, CH 2 =
CHOCO (CH 2 ) 10 N (C 2 H 5 ) SO 2 C 8 F 17 is synthesized and polymerized by the method described in US Pat. No. 2,841,573.
【0030】前記一般式(III)の具体的な例としては、
CH2=CHCO−Ph−F,CH2=C(CH3)CO
SCH2CH2(CF2)6CF(CF3)2,CH2=CH
COCH2F等の含フッ素ビニルケトン誘導体が挙げら
れる。これらの中で例えばCH2=C(CH3)COSC
H2CH2(CF2)6CF(CF3)2はBP1,211,034に記
載された方法で合成され重合される。Specific examples of the general formula (III) include:
CH 2 = CHCO-Ph-F , CH 2 = C (CH 3) CO
SCH 2 CH 2 (CF 2 ) 6 CF (CF 3 ) 2 , CH 2 CHCH
Fluorine-containing vinyl ketone derivatives such as COCH 2 F are exemplified. Among them, for example, CH 2 CC (CH 3 ) COSC
H 2 CH 2 (CF 2 ) 6 CF (CF 3 ) 2 is synthesized and polymerized by the method described in BP1, 211,034.
【0031】前記一般式(IV)の具体例としては、C
H2=CHOCF(CF3)2,CH2=CHO−Ph−
F,CH2=CHOCF3,CH2=CHOCH2CF3,
CH2=CHOCH2CH2CH2F,CH2=CHOCH2
CF2CF3,CH2=CHOCH2CH2CH2CH2F,
CH2=CHOCH2(CF2)2CF3,CH2=CHOC
H2(CF2)4CF3,CH2=CHO(CH2)2(C
F2)9CF3等の含フッ素ビニルエーテル誘導体が挙げ
られる。これらの中で例えばCH2=CHOCH2(CF
2)2CF3はU.S.P2,732,370に記載の方
法で合成されまた重合される。Specific examples of the general formula (IV) include C
H 2 = CHOCF (CF 3) 2, CH 2 = CHO-Ph-
F, CH 2 CHCHOCF 3 , CH 2 CHCHOCH 2 CF 3 ,
CH 2 CHCHOCH 2 CH 2 CH 2 F, CH 2 CHCHOCH 2
CF 2 CF 3 , CH 2 CHCHOCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 F,
CH 2 CHCHOCH 2 (CF 2 ) 2 CF 3 , CH 2 CHCHOC
H 2 (CF 2 ) 4 CF 3 , CH 2 CHCHO (CH 2 ) 2 (C
Fluorine-containing vinyl ether derivatives such as F 2 ) 9 CF 3 . Among them, for example, CH 2 CHCHOCH 2 (CF
2 ) 2 CF 3 is U.S.A. S. Synthesized and polymerized by the method described in P2,732,370.
【0032】前記一般式(V)の具体的な例としては、
CH2=C(CH3)CONHCH2CF2H,CH2=C
(CH3)CONHCH2CF2CH3,CH2=C(C
H3)CONHCH2CF3,CH2=C(CH3)CON
H(CH2)3CF3,CH2=C(CH3)CON(CH2
CF2H)2等の含フッ素アクリルアミド誘導体が挙げら
れる。これらの中で例えばCH2=C(CH3)CONC
H2CF3はU.S.P2,521,902記載の方法で
合成されまた重合される。Specific examples of the general formula (V) include:
CH 2 CC (CH 3 ) CONHCH 2 CF 2 H, CH 2 CC
(CH 3 ) CONHCH 2 CF 2 CH 3 , CH 2 CC (C
H 3 ) CONHCH 2 CF 3 , CH 2 CC (CH 3 ) CON
H (CH 2 ) 3 CF 3 , CH 2 CC (CH 3 ) CON (CH 2
Fluorinated acrylamide derivatives such as CF 2 H) 2 . Among them, for example, CH 2 CC (CH 3 ) CONC
H 2 CF 3 is U. S. Synthesized and polymerized by the method described in P2,521,902.
【0033】また、本発明の記録層を形成する共重合体
は前記(I)〜(V)のフルオロアルキル基含有の重合し得
る化合物(活性水素基含有モノマーを含む)の他に、例え
ば、末端基にメタクリロイル基(CH2=C(CH)3C
O−)を有するような高分子モノマー(マクロモノマ
ー)や、更にはエチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩
化ビニリデン、弗化ビニル、アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、スチレン、α-メチルスチレン、p-メチルス
チレン、アクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステ
ル、ベンジルアクリレート又はメタクリレート、ビニル
アルキルエーテル、ハロゲン化アルキルビニルエーテ
ル、ビニルアルキルケトン、シクロヘキシルアクリレー
ト又はメタクリレート、無水マレイン酸、ブタジエン、
イソプレン、クロロプレン、親水性基含有モノマー、含
フッ素モノマーの如き各種の重合し得る化合物の一種又
は二種以上を共重合体の構成単位として共重合させるこ
とも可能である。In addition to the fluoroalkyl group-containing polymerizable compounds (including the active hydrogen group-containing monomer) of the above-mentioned (I) to (V), the copolymer forming the recording layer of the present invention may be, for example, A methacryloyl group (CH 2 CC (CH) 3 C
O-)-containing high molecular monomers (macromonomers), and further ethylene, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl fluoride, acrylamide, methacrylamide, styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, Alkyl esters of acrylic acid or methacrylic acid, benzyl acrylate or methacrylate, vinyl alkyl ether, halogenated alkyl vinyl ether, vinyl alkyl ketone, cyclohexyl acrylate or methacrylate, maleic anhydride, butadiene,
It is also possible to copolymerize one or more of various polymerizable compounds such as isoprene, chloroprene, a hydrophilic group-containing monomer and a fluorine-containing monomer as constituent units of the copolymer.
【0034】このことは、記録層材料に多弗素化基を含
有するモノマーと、高分子量のモノマーであるマクロモ
ノマーからなる共重合体も使用できることを示唆するも
のである。このような材料が用いられることで剛性、強
靱性、耐候性、光沢の向上等より高性能な記録体を提供
することができる。This suggests that a copolymer consisting of a monomer having a polyfluorinated group in the recording layer material and a macromonomer which is a high molecular weight monomer can be used. By using such a material, it is possible to provide a recording medium with higher performance such as improved rigidity, toughness, weather resistance, and gloss.
【0035】マクロマーの末端官能基としては、一般的
な付加重合型の二重結合、重縮合・重付加型の水酸基、
カルボン酸基、また、官能基としてエポキシ基、イソシ
アナート基、アミノ基等が挙げられ、さらには、反応性
マクロモノマー、架橋性マクロモノマー等2官能性のも
のも挙げられる。マクロモノマーのセグメントを構成す
るモノマーとしては、スチレン、メチルメタクリレー
ト、エチレンオキシド、ヘキサメチルシクロトリシロキ
サン、β−プロピオラクトン等が挙げられる。これらの
高分子量のモノマーであるマクロモノマーの中でも、特
に、末端基にメタクリロイル基を有し、スチレン、ある
いは、メチルメタクリレート、あるいは、スチレン/ア
クリロニトリルをセグメントの主成分とするマクロモノ
マーでは、相溶性の向上、剛性の向上、強靱性の向上、
さらに、ラジカル重合性もよく、溶液重合、懸濁重合、
乳化重合により窒素気流下、常圧の条件下で重合体が得
られる点でも優れている。Examples of the terminal functional group of the macromer include a general addition polymerization type double bond, a polycondensation / polyaddition type hydroxyl group,
Examples of the carboxylic acid group and the functional group include an epoxy group, an isocyanate group, and an amino group. Further, a bifunctional one such as a reactive macromonomer and a crosslinkable macromonomer is also included. Examples of the monomer constituting the macromonomer segment include styrene, methyl methacrylate, ethylene oxide, hexamethylcyclotrisiloxane, β-propiolactone, and the like. Among these high molecular weight macromonomers, especially those having a methacryloyl group in the terminal group and having styrene or methyl methacrylate or styrene / acrylonitrile as the main component of the segment, are not compatible. Improvement, improvement of rigidity, improvement of toughness,
Furthermore, it has good radical polymerizability, solution polymerization, suspension polymerization,
It is also excellent in that a polymer can be obtained under normal pressure and under a nitrogen stream by emulsion polymerization.
【0036】本発明の記録体は少なくともその表面を、
これら適宜の重合し得る化合物を適宜選定して重合又は
共重合させたもので形成させておくことにより、液体と
の後退接触角の高い表面に接触材料(B)を介在して加熱
することにより液体との後退接触角の減少する領域を形
成せしめる特性、耐久性以外にも耐ドライソイル性、耐
摩耗性、選択溶解性、柔軟性、触感、汚れ脱離性など種
々の材質を適当に改善し得るものである。The recording medium of the present invention has at least its surface
By appropriately selecting these appropriate polymerizable compounds and forming them by polymerization or copolymerization, by heating the surface having a high receding contact angle with the liquid with the contact material (B) interposed therebetween, Appropriately improve various materials such as dry soil resistance, abrasion resistance, selective dissolution, flexibility, tactile sensation, and soil release properties, in addition to the properties that form the area where the receding contact angle with liquid decreases. Can be done.
【0037】このように共重合の目的としてはいろいろ
考えられるが、含フッ素モノマーと汎用モノマーとの共
重合体を用いることにより一般にフロン規制対象の溶剤
で処理されることの多い含フッ素ポリマーを汎用溶剤で
処理することが可能となり、オゾン層破壊等の環境問題
にも対処できる。例えばパーフルオロアルキル基を含有
する含弗素メタクリレートのごとき弗素系のモノマーと
ポリメタクリル酸アルキルエステルのごとき汎用溶剤へ
溶解するポリマーの構成単位のモノマーとの共重合体を
用いた場合には、ヘキサンのごとき汎用溶剤へ溶解しし
かも記録体としての効果が発現される。(合成例3〜6の
コポリマーは、ヘキサンのごとき汎用溶剤で処理が可能
であった。さらに実施例3のごとき効果を発現した。)As described above, there are various possible purposes for the copolymerization. However, by using a copolymer of a fluorine-containing monomer and a general-purpose monomer, a fluorine-containing polymer which is generally treated with a solvent subject to the regulation of fluorocarbons can be used. It is possible to treat with a solvent, and it is possible to deal with environmental problems such as ozone layer destruction. For example, when a copolymer of a fluorine-based monomer such as a fluorine-containing methacrylate containing a perfluoroalkyl group and a monomer of a constituent unit of a polymer dissolved in a general-purpose solvent such as a polyalkyl methacrylate is used, hexane It dissolves in a general-purpose solvent as described above, and exhibits the effect as a recording medium. (The copolymers of Synthesis Examples 3 to 6 could be treated with a general-purpose solvent such as hexane. Further, the effects as in Example 3 were exhibited.)
【0038】なお、本発明において使用される共重合体
は、その組成により、熱可逆温度を制御すると共に熱可
逆遷移温度、接触材料(B)を介在して熱を加える前後の
動的接触角のヒステリシスを変化させることが可能であ
る。The copolymer used in the present invention controls the thermoreversible temperature, the thermoreversible transition temperature, and the dynamic contact angle before and after heat is applied via the contact material (B) depending on the composition. Can be changed.
【0039】本発明で用いられる前記の重合体や共重合
体を得るためには、種々の重合反応や条件が任意に選択
でき、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合、分散
重合、放射線重合、光重合など各種の重合方式のいずれ
をも採用できる。重合開始剤としては、有機過酸化物、
アゾ化合物、過硫酸塩の如き各種重合開始剤、更にはγ
-線の如き電離性放射線なども採用され得る。また、界
面活性剤などの存在下水に乳化させ撹拌下に重合、共重
合を行なう際の界面活性剤としては、陰イオン性、陽イ
オン性または非イオン性の各種乳化剤のほとんど全てを
使用できる。In order to obtain the above-mentioned polymer or copolymer used in the present invention, various polymerization reactions and conditions can be arbitrarily selected, and bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization, dispersion polymerization, Any of various polymerization systems such as radiation polymerization and photopolymerization can be employed. As the polymerization initiator, an organic peroxide,
Azo compounds, various polymerization initiators such as persulfates, and further γ
-Ionizing radiation such as radiation may also be employed. In addition, as a surfactant for emulsifying in water in the presence of a surfactant or the like and performing polymerization and copolymerization with stirring, almost all of various anionic, cationic or nonionic emulsifiers can be used.
【0040】さらに、本発明の記録体を利用したプロセ
スでは、潜像形成時の加熱は記録層材料側からだけでな
く基板側から加熱することも可能である。(記録層側へ
液体をおき基板側から加熱:後記の加熱手段の項参照)こ
の場合、記録体の基板材料へ直接加熱する構成となるた
め、熱による記録体の劣化が想定されるが、これらの問
題を対処するためには、基板側に耐熱性のバック層を設
けることが有効である。バック層には熱硬化性、あるい
は高軟化性の耐熱性の樹脂が採用される。またこれらバ
ック層中に滑性の高い無機顔料を含有することも有効で
ある。ここで言う無機顔料とは、タルク、雲母粉、微細
シリカ粉末、二硫化モリブデンなどの微粉末をさし、樹
脂材料としてはシリコーン樹脂、フッ素樹脂、エポキシ
樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹
脂、ニトロセルロース等の樹脂が有効である。更には、
重合し得うる前記化合物を適当な有機溶媒に溶解し、重
合開始剤の作用により溶液重合させる事もできる。Further, in the process using the recording medium of the present invention, the heating at the time of forming the latent image can be performed not only from the recording layer material side but also from the substrate side. (Place the liquid on the recording layer side and heat from the substrate side: see the section of the heating means described below) In this case, since the recording material is directly heated to the substrate material, deterioration of the recording material due to heat is assumed, In order to address these problems, it is effective to provide a heat-resistant back layer on the substrate side. For the back layer, a thermosetting resin or a high softening heat resistant resin is employed. It is also effective to include a highly lubricious inorganic pigment in these back layers. The inorganic pigment referred to here refers to a fine powder such as talc, mica powder, fine silica powder, molybdenum disulfide, and as a resin material, a silicone resin, a fluorine resin, an epoxy resin, a melamine resin, a phenol resin, a polyimide resin, Resins such as nitrocellulose are effective. Furthermore,
It is also possible to dissolve the polymerizable compound in a suitable organic solvent and perform solution polymerization by the action of a polymerization initiator.
【0041】(3) 記録層形成手段について 本発明の記録体の記録層を得るには、重合体又は共重合
体を溶解可能な溶媒に溶解させた溶液として或いはエマ
ルジョンとして、さらには加熱溶融したものを既知の技
術によって被覆加工(coatingまたはcovering)するか、
又はそれ自身を成形することによって得られる。被覆加
工(コーティング)方法としては例えば含浸、浸漬、噴
霧、刷毛塗り、スピンコーティング、バーコーティング
により基板上に直接または中間層を介在して積層するこ
とによって得られる。中間層としては基板、記録層の両
方と相溶性あるいは相互作用を示す材料、あるいは多孔
質膜等を用いることもできる。さらに、本発明の記録体
を利用したプロセスでは、潜像形成時の加熱は記録層材
料側からだけでなく基板側から加熱することも可能であ
る。(記録体側へ液体をおき基板側から加熱:後記の加熱
手段の項参照)この場合、記録体の基板材料へ直接加熱
する構成となるため、熱による記録体の劣化が想定され
るが、これらの問題に対処するためには、基板側に耐熱
性のバック層を設けることが有効である。バック層には
熱硬化性、あるいは高軟化点の耐熱性の樹脂が採用され
る。またこれらバック層中に滑性の高い無機顔料を含有
することも有効である。ここで言う無機顔料とは、タル
ク、雲母粉、微細シリカ粉末、二硫化モリブデンなどの
微粉末をさし、樹脂材料としてはシリコーン樹脂、フッ
素樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、ポリイミド樹脂、ニトロセルロース等の樹脂が有効
である。(3) Recording layer forming means In order to obtain the recording layer of the recording medium of the present invention, a polymer or copolymer is dissolved in a solvent capable of dissolving, or as an emulsion, and further heated and melted. Coating or covering with known techniques,
Alternatively, it can be obtained by molding itself. The coating (coating) method can be obtained by, for example, impregnation, dipping, spraying, brushing, spin coating, or bar coating, and directly or via an intermediate layer on the substrate. As the intermediate layer, a material having compatibility or interaction with both the substrate and the recording layer, a porous film, or the like can be used. Further, in the process using the recording medium of the present invention, the heating at the time of forming the latent image can be performed not only from the recording layer material side but also from the substrate side. (Put the liquid on the recording body side and heat from the substrate side: see the heating means below) In this case, since the recording material is directly heated to the substrate material, deterioration of the recording body due to heat is assumed. In order to cope with the above problem, it is effective to provide a heat-resistant back layer on the substrate side. A thermosetting resin or a heat-resistant resin having a high softening point is employed for the back layer. It is also effective to include a highly lubricious inorganic pigment in these back layers. The inorganic pigment referred to here refers to a fine powder such as talc, mica powder, fine silica powder, molybdenum disulfide, and as a resin material, a silicone resin, a fluorine resin, an epoxy resin, a melamine resin, a phenol resin, a polyimide resin, Resins such as nitrocellulose are effective.
【0042】次に、接触材料(B)、加熱手段について説
明を加える。接触材料(B)としては、水の他に、電解質
を含む水溶液、エタノール、n-ブタノール等のアルコー
ル、グリセリン、エチレングリコール等の多価アルコー
ル、メチルエチルケトン等のケトン類のごとき有極性液
体や、n-ノナン、n-オクタン等の直鎖状炭化水素、シク
ロヘキサン等の環式炭化水素、m-キシレン、ベンゼン等
の芳香族炭化水素のごとき無極性液体が挙げられる。ま
た各種分散液や液体インクも使用できる。Next, the contact material (B) and the heating means will be described. Examples of the contact material (B) include, in addition to water, an aqueous solution containing an electrolyte, an alcohol such as ethanol and n-butanol, a polyhydric alcohol such as glycerin and ethylene glycol, and a polar liquid such as a ketone such as methyl ethyl ketone; Non-polar liquids such as linear hydrocarbons such as -nonane and n-octane, cyclic hydrocarbons such as cyclohexane, and aromatic hydrocarbons such as m-xylene and benzene. Various dispersions and liquid inks can also be used.
【0043】加熱手段としてはヒーター、サーマルヘッ
ドなどの接触加熱の他に、電磁波(レーザー光源、赤外
線ランプなどの発光源からの光線をレンズで集光する)
による非接触加熱がある。また電子線照射及び光(UV光)
照射によった場合にも加熱の方法を達成することができ
る。As a heating means, in addition to contact heating of a heater, a thermal head, and the like, an electromagnetic wave (a light beam from a light source such as a laser light source or an infrared lamp is focused by a lens).
There is non-contact heating. In addition, electron beam irradiation and light (UV light)
The method of heating can be achieved also by irradiation.
【0044】続いて、本発明の記録体の性状、本発明記
録体を用いての潜像形成、可視像形成について添付の図
面に従って説明する。Next, the properties of the recording medium of the present invention, the formation of a latent image and the formation of a visible image using the recording medium of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
【0045】図1(a)は基板1上に前記の膜(記録層)2が
形成され、この膜面に接触材料(例えば液体3)が存在し
ている状態を示している。この状態において、図2に示
したように、膜2を加熱すると、膜2表面は著しい濡れを
示し後退接触角が減少するのが認められる。更に、この
液体との後退接触角が減少した膜を空気中、真空中又は
不活性ガス雰囲気中で再び加熱する(図1(b))と膜2表面
は再び液体反撥性つまり後退接触角の増加が認められ
る。この膜2の水溶液接触下での加熱前後の水溶液の接
触角の変動、及び、このものを更に空気中で加熱した場
合の水溶液の接触角の変動の一例を図3に示した。図3
において○は前進接触角、△は後退接触角を表わしてい
る。一般に、後退接触角が90°以上の高い値の場合その
表面は液体反撥性を示し、90°以下の低い値の場合、そ
の表面は液体付着性を示す。FIG. 1A shows a state in which the above-mentioned film (recording layer) 2 is formed on a substrate 1 and a contact material (for example, liquid 3) is present on the film surface. In this state, as shown in FIG. 2, when the film 2 is heated, it is recognized that the surface of the film 2 shows significant wetting and the receding contact angle decreases. Furthermore, when the film having a reduced receding contact angle with the liquid is heated again in air, in a vacuum, or in an inert gas atmosphere (FIG. 1 (b)), the surface of the film 2 is again liquid repellent, that is, has a receding contact angle. An increase is observed. FIG. 3 shows an example of the change in the contact angle of the aqueous solution before and after the heating of the film 2 under the contact with the aqueous solution, and the change of the contact angle of the aqueous solution when the film 2 is further heated in the air. FIG.
In the graph, ○ indicates a forward contact angle, and △ indicates a receding contact angle. Generally, when the receding contact angle is a high value of 90 ° or more, the surface shows liquid repellency, and when the receding contact angle is a low value of 90 ° or less, the surface shows liquid adhesion.
【0046】接触材料(B)に接した状態での記録体(A)表
面の加熱温度としては、50℃〜250℃の範囲が望まし
く、さらに望ましくは80℃〜150℃である。加熱時間
は、0.1m秒〜1秒程度で望ましくは、0.5m秒〜2m秒であ
る。加熱のタイミングとしては、潜像形成であれば、
記録体(A)表面を加熱した後、冷めないうちに接触材料
(B)に接触させる。記録体(A)表面に接触材料(B)を接
触させた状態のもとに記録体(A)表面を加熱させる、の
いずれかでもよい。一方、潜像消去であれば、接触材料
(B)の不存在下で記録体(A)表面を50〜300℃、望ましく
は100〜180℃に加熱すればよい。加熱時間はいずれの場
合も1m秒〜10秒程度で好ましくは10m秒〜1秒である。The heating temperature of the surface of the recording medium (A) in contact with the contact material (B) is preferably in the range of 50 ° C. to 250 ° C., more preferably 80 ° C. to 150 ° C. The heating time is about 0.1 ms to 1 second, desirably 0.5 ms to 2 ms. As for the timing of heating, if a latent image is formed,
After heating the surface of the recording medium (A), before contacting the material
(B). Either heating the surface of the recording medium (A) in a state where the contact material (B) is in contact with the surface of the recording medium (A). On the other hand, if the latent image is to be erased,
The surface of the recording medium (A) may be heated to 50 to 300C, preferably 100 to 180C in the absence of (B). The heating time in each case is about 1 ms to 10 seconds, preferably 10 ms to 1 second.
【0047】続いて、記録体(A)表面に実際に画像情報
の記録を行なう手段についてより詳細に説明する。一つ
は液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応じて記録層(A)
表面を加熱し、記録層(A)の表面に液体付着領域を形成
(潜像形成)し、その後、この潜像部に記録剤を接触させ
る手段により潜像部に記録剤を付着させ(現像)、この
後、この記録をそのまま記録体(A)の表面上に定着させ
る方法である(直接記録方法)。もう一つは、液体又は蒸
気雰囲気下で画像信号に応じて記録体(A)の表面を加熱
し、記録体(A)の表面に液体付着領域を形成(潜像形成)
し、その後、この潜像部に記録液を接触させる手段によ
り潜像部に記録液を付着させ(現像)、この後、記録紙
(普通紙等)に記録体(A)表面の記録液からなる可視像を
転写する方法である(間接記録方法)。さらに、上記の方
法において、記録液を転写後、再び潜像部に記録液を接
触させる手段を行えば、記録体(A)を印刷版として用い
た印刷方法となる。また、上記の方法において、記録液
を転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像を形成した記
録体(A)の表面を加熱し潜像を消去することにより、記
録体(A)が再生可能な記録方法となる。Next, the means for actually recording image information on the surface of the recording medium (A) will be described in more detail. One is a recording layer (A) according to an image signal in a liquid or vapor atmosphere
Heats the surface to form a liquid-attached area on the surface of the recording layer (A)
(Latent image formation), and thereafter, a recording agent is adhered to the latent image portion by means of contacting the latent image portion with the recording agent (development), and thereafter, this recording is directly applied to the surface of the recording medium (A). This is a fixing method (direct recording method). The other is to heat the surface of the recording medium (A) in response to an image signal in a liquid or vapor atmosphere to form a liquid adhesion area on the surface of the recording medium (A) (latent image formation)
Thereafter, the recording liquid is applied to the latent image portion by means of bringing the recording liquid into contact with the latent image portion (development).
This is a method of transferring a visible image composed of the recording liquid on the surface of the recording medium (A) to (plain paper or the like) (indirect recording method). Further, in the above method, if a means for bringing the recording liquid into contact with the latent image portion again after transferring the recording liquid is performed, a printing method using the recording body (A) as a printing plate is obtained. Further, in the above method, after transferring the recording liquid, by heating the surface of the recording medium (A) having formed a latent image in the absence of liquid or vapor to erase the latent image, the recording medium (A) It becomes a reproducible recording method.
【0048】以下に本発明で使用される重合体共重合体
の合成例及び記録体としての実施例を示す。Hereinafter, a synthesis example of the polymer copolymer used in the present invention and an example as a recording medium will be described.
【0049】合成例1 ポリ(1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルメタクリ
レート)の重合 三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付け1,1,1-トリクロ
ロエタン50g、1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシル
メタクリレート(大阪有機化学工業(株)製ビスコート17F
M)50g、アゾイソブチロニトリル(AIBN)0.15gを仕込み約
30分間撹拌しながら窒素置換を行なった後、窒素気流下
撹拌しながら70℃で5時間重合を行ない白色の粘稠体を
得た。上記白色粘稠体にメタノールを100ml加え撹拌
の後メタノールに溶解しない白色固形部分を分離後乳針
で粉砕し、さらにメタノール100mlにて洗浄を行なっ
た。得られた白色粉体を減圧乾燥を行ない目的物47.5g
(収率95%)を得た。Synthesis Example 1 Polymerization of poly (1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate) A thermometer was attached to a three-necked eggplant flask, 50 g of 1,1,1-trichloroethane, 1H, 1H, 2H, 2H-hepta. Decafluorodecyl methacrylate (Viscoat 17F manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
M) 50 g, azoisobutyronitrile (AIBN) 0.15 g
After performing nitrogen replacement while stirring for 30 minutes, polymerization was performed at 70 ° C. for 5 hours while stirring under a nitrogen stream to obtain a white viscous body. 100 ml of methanol was added to the white viscous substance, and after stirring, a white solid portion not dissolved in methanol was separated, pulverized with a pestle, and further washed with 100 ml of methanol. The obtained white powder is dried under reduced pressure to obtain 47.5 g of the intended product.
(95% yield).
【0050】合成例2 ポリ(1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルアクリレ
ート)の合成 1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート
の代わりに、1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルア
クリレートを用いた他は実施例1と同様に行って目的物
を得た。Synthesis Example 2 Synthesis of poly (1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl acrylate) Instead of 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-hepta Except that decafluorodecyl acrylate was used, the procedure was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain the desired product.
【0051】合成例3 1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート
とステアリルメタクリレート(SMA)との共重合体の合成 三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付け1,1,1-トリクロ
ロエタン82g、1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシル
メタクリレート(大阪有機化学工業(株)製ビスコート17F
M)50g、市販のSMA31.9g、AIBN(アゾイソブチロニトリ
ル)0.3gを仕込み約30分間撹拌しながら窒素置換を行な
った後、窒素気流下撹拌しながら70℃で5時間重合を行
ない1,1,1-トリクロロエタンに膨潤した粘稠体を得た。
この反応液をヘキサンに溶解しメタノールへ沈殿するこ
とにより精製を行なった。さらに沈殿物を100〜120℃で
減圧乾燥を行い目的物78g(収率63%)を得た。Synthesis Example 3 Synthesis of a copolymer of 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate and stearyl methacrylate (SMA) A thermometer was attached to a three-necked eggplant flask, 82 g of 1,1,1-trichloroethane, 1H , 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
M) 50 g, commercially available SMA 31.9 g, AIBN (azoisobutyronitrile) 0.3 g, nitrogen replacement was performed while stirring for about 30 minutes, and then polymerization was performed at 70 ° C. for 5 hours while stirring under a nitrogen stream. A viscous body swollen in 1,1,1-trichloroethane was obtained.
This reaction solution was purified by dissolving in hexane and precipitating in methanol. Further, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 to 120 ° C. to obtain 78 g (yield 63%) of the desired product.
【0052】合成例4〜17 合成例1の方法に従って以下の仕込み比で共重合を行っ
た。有機溶剤への溶解性を示さないポリマーの精製は、
良溶媒を弗素系の溶剤フレオンTF(三井・デュポンフ
ロロケミカル(株)社製)、貧溶媒をメタノールで行っ
た。 合成条件 開始剤/モノマー=1/100(モル) モリマー/溶剤=1/1(重量) 溶剤:1,1,1−トロクロロエタン 開始剤:アゾビスイソブチロニトリル 反応時間:5時間 反応温度:70℃Synthesis Examples 4 to 17 Copolymerization was carried out according to the method of Synthesis Example 1 at the following charging ratio. Purification of polymers that do not show solubility in organic solvents
The good solvent was a fluorine-based solvent Freon TF (manufactured by Du Pont-Mitsui Fluorochemicals Co., Ltd.), and the poor solvent was methanol. Synthesis conditions Initiator / monomer = 1/100 (mol) Molimer / solvent = 1/1 (weight) Solvent: 1,1,1-trochloroethane Initiator: azobisisobutyronitrile Reaction time: 5 hours Reaction temperature: 70 ° C
【表1】 (注1)17F:1H,1H,2H,2H−ヘプタデ
カフルオロデシルアクリレート(大阪有機化学工業
(株)製、ビスコート17F) MMA:メチルメタクリレート EMA:エチルメタクリレート nBMA:nブチルメタクリレート nHMA:nヘキシルメタクリレート 2EHMA:2エチルヘキシルメタクリレート LMA:ラウリルメタクリレート SMA:ステアリルメタクリレート nBA:nブチルアクリレート SA:ステアリルアクリレート (注2)有機溶剤溶解性における「有機溶剤」はテトラ
ヒドロフラン、n−ヘキサンである。[Table 1] (Note 1) 17F: 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Biscoat 17F) MMA: methyl methacrylate EMA: ethyl methacrylate nBMA: n butyl methacrylate nHMA: n hexyl methacrylate 2EHMA: 2-ethylhexyl methacrylate LMA: lauryl methacrylate SMA: stearyl methacrylate nBA: n-butyl acrylate SA: stearyl acrylate (Note 2) The “organic solvent” in the organic solvent solubility is tetrahydrofuran and n-hexane.
【0053】合成例18 N-エチル-N-パーフルオロオクタンスルホニル-3-アミノ
エタン酸ビニルエステルの重合 アンプル管中にCH2=CHOCOCH2N(C2H5)S
O2C8F171.5gとアセチルパーオキサイド0.01
5gとをジメチルフタレート0.060gに溶解する。
酸素を除去した後、加熱によりビニルエステルモノマー
を溶解する。その後、アンプル管を液体酸素で凍結後減
圧下封管した。水バス中60℃で15.5時間反応し
た。反応後、内容物をキシレンヘキサフルオライドに溶
解した。この溶液を過剰のメタノール中に注ぎポリマー
を沈殿させた。その後濾過し、室温にて減圧乾燥し0.
95g(収率64%)のポリマーを得た。このポリマー
は70℃の軟化点を示した。Synthesis Example 18 Polymerization of N-ethyl-N-perfluorooctanesulfonyl-3-aminoethane acid vinyl ester CH 2 CHCHOCOCH 2 N (C 2 H 5 ) S in an ampoule tube
1.5 g of O 2 C 8 F 17 and 0.01 of acetyl peroxide
And 5 g are dissolved in 0.060 g of dimethyl phthalate.
After removing oxygen, the vinyl ester monomer is dissolved by heating. Thereafter, the ampule tube was frozen with liquid oxygen and sealed under reduced pressure. The reaction was performed at 60 ° C. for 15.5 hours in a water bath. After the reaction, the content was dissolved in xylene hexafluoride. This solution was poured into excess methanol to precipitate the polymer. Thereafter, the mixture was filtered and dried under reduced pressure at room temperature.
95 g (yield 64%) of the polymer was obtained. This polymer exhibited a softening point of 70 ° C.
【0054】合成例19 2-(パーフルオロ-7-メチルオクチルエチルチオールメタ
クリレート)の重合 アセトン1.6gに2-(パーフルオロ-7-メチルオクチルエチ
ルチオールメタクリレート)2.5gを溶解した溶液をフラ
スコ中に加え、さらに60%メチロールアミド0.1g、酸素
を除去した水7.5g、Synthesis Example 19 Polymerization of 2- (perfluoro-7-methyloctylethylthiol methacrylate) A solution prepared by dissolving 2.5 g of 2- (perfluoro-7-methyloctylethylthiol methacrylate) in 1.6 g of acetone was placed in a flask. In addition, an additional 60% methylolamide 0.1 g, oxygen-free water 7.5 g,
【化1】 0.012g、2,2′-アゾジイソブチラミジンジハイドロクロ
ライド0.05gを加える。内部を窒素で満たした後、恒温
層に入れ、70℃で4時間反応させ、ラテックス状のポリ
マーを得た。Embedded image 0.012 g and 0.05 g of 2,2'-azodiisobutyramidine dihydrochloride are added. After filling the inside with nitrogen, it was put into a thermostat and reacted at 70 ° C. for 4 hours to obtain a latex polymer.
【0055】合成例20 ビニル1,1-ジハイドロパーフルオロブチルエーテルの重
合 アンプル管中にビニル1,1-ジハイドロパーフルオロブチ
ルエーテル0.45gとボロントリフルオライド/エチルエー
テル錯体0.005gを溶解し2%溶液としたジエチルエーテル
溶液を加え、ゴム栓をした後25℃24時間反応を行い、目
的のポリマーを得た。Synthesis Example 20 Polymerization of vinyl 1,1-dihydroperfluorobutyl ether In a ampoule tube, 0.45 g of vinyl 1,1-dihydroperfluorobutyl ether and 0.005 g of a boron trifluoride / ethyl ether complex were dissolved to give a 2% solution. The reaction was carried out at 25 ° C. for 24 hours, and the desired polymer was obtained.
【0056】合成例21 三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付けトルエン40
g、1,1,1−トリクロロエタン40g、1H,1
H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
ート(大阪有機化学工業(株)ビスコート17FM)1
9.5g、マクロモノマー(東亜合成化学工業(株)製
AS−6)20g、アゾビスイソブチロニトリル(AI
BN)0.067gを仕込み、約30分間撹拌しながら
窒素置換を行った後、窒素気流下に撹拌しながら70℃
で5時間重合を行い白濁状態の粘性の低い液体を得た。
この反応液を大過剰のメタノールへ沈澱することにより
精製を行った。さらに沈澱物を100〜120℃で減圧
乾燥を行い粉末状の目的物24.0gを得た。Synthesis Example 21 A thermometer was attached to a three-necked eggplant flask, and toluene 40 was used.
g, 1,1,1-trichloroethane 40 g, 1H, 1
H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate (Biscoat 17FM, Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 1
9.5 g, 20 g of macromonomer (AS-6 manufactured by Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd.), azobisisobutyronitrile (AI
BN) was charged, and the atmosphere was replaced with nitrogen while stirring for about 30 minutes.
For 5 hours to obtain a cloudy, low-viscosity liquid.
Purification was performed by precipitating this reaction solution into a large excess of methanol. Further, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 to 120 ° C. to obtain 24.0 g of a powdery target substance.
【0057】合成例22 三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付けトルエン40
g、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート(大阪有機化学工業(株)ビスコート
17FM)19.5g、マクロモノマー(東亜合成化学
工業(株)製AA−6)20g、アゾビスイソブチロニ
トリル(AIBN)0.066gを仕込み、約30分間
撹拌しながら窒素置換を行った後、窒素気流下に撹拌し
ながら70℃で5時間重合を行い白濁状態の粘性の低い
液体を得た。この反応液を大過剰のメタノールへ沈澱す
ることにより精製を行った。さらに沈澱物を100〜1
20℃で減圧乾燥を行い粉末状の目的物20.8gを得
た。Synthesis Example 22 A thermometer was attached to a three-necked eggplant flask, and toluene 40 was used.
g, 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Biscoat 17FM) 19.5 g, macromonomer (Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd., AA-6) 20 g, azobisiso After charging 0.066 g of butyronitrile (AIBN) and performing nitrogen substitution while stirring for about 30 minutes, polymerization was performed at 70 ° C. for 5 hours while stirring under a nitrogen stream to obtain a cloudy, low-viscosity liquid. . Purification was performed by precipitating this reaction solution into a large excess of methanol. In addition, the precipitate is
Drying under reduced pressure at 20 ° C. gave 20.8 g of a powdery target product.
【0058】合成例23 三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付けトルエン45
g、DMF(ジメチルホルムアミド)45g、1H,1
H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
ート(大阪有機化学工業(株)ビスコート17FM)1
9.5g、マクロモノマー(東亜合成化学工業(株)製
AN−6)20g、アゾビスイソブチロニトリル(AI
BN)0.066gを仕込み、約30分間撹拌しながら
窒素置換を行った後、窒素気流下にて撹拌しながら70
℃で5時間重合を行い白濁状態の粘性の低い液体を得
た。この反応液を大過剰のメタノールへ沈澱することに
より精製を行った。さらに沈澱物を100〜120℃で
減圧乾燥を行い粉末状の目的物22.0gを得た。Synthesis Example 23 A three-necked eggplant flask was equipped with a thermometer and toluene 45
g, DMF (dimethylformamide) 45 g, 1H, 1
H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate (Biscoat 17FM, Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 1
9.5 g, macromonomer (AN-6 manufactured by Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd.) 20 g, azobisisobutyronitrile (AI
BN), and nitrogen replacement was performed while stirring for about 30 minutes.
Polymerization was performed at 5 ° C. for 5 hours to obtain a cloudy, low-viscosity liquid. Purification was performed by precipitating this reaction solution into a large excess of methanol. Further, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 to 120 ° C. to obtain 22.0 g of a powdery target substance.
【0059】なお、上記の東亜合成化学工業(株)製モ
クロモノマーの性状は次のとおりである。 (注):AS−6,AA−6,AN−6いずれも末端基
の構造はメタクリロイル基である。The properties of the above-mentioned mocromonomer manufactured by Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd. are as follows. (Note): The terminal group structure of each of AS-6, AA-6, and AN-6 is a methacryloyl group.
【0060】図7は上記幾つかの合成例のうちの液中加
熱温度と接触角との変化の様子を示したグラフである。
Fとあるのはビスコート17F、SとあるのはSMA
(ステアリルアクリレートである。この図から判るよう
に、SMAの仕込モル量の増加とともに後退接触角減少
温度の低下が確認された。FIG. 7 is a graph showing the change in the heating temperature in liquid and the contact angle in the above several synthesis examples.
F is for Viscote 17F, S is for SMA
(It is stearyl acrylate. As can be seen from this figure, a decrease in the receding contact angle reduction temperature was confirmed with an increase in the charged SMA amount.
【0061】[0061]
【実施例】次に実施例により本発明をさらに具体的に説
明する。Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
【0062】実施例1 合成例1の重合体を7重量%になる様にフレオンTF(三井フ
ロロケミカル(株)製)で溶解した後、ポリイミドフィル
ム(東レデュポン(株)製カプトン200V)上にコートした
後、90℃にて2時間乾燥して約1μm厚の膜を作製した。
この後図2のごとく、膜2表面に液体(純水)3を接触させ
た状態でポリイミドフィルム1側からセラミックヒータ
ー4で加熱を行った(加熱温度120℃、時間約1秒)。この
加熱前後における上記重合体の膜2表面での純水による
後退接触角の著しい低下が認められ表面が液体付着性化
されたことがわかった(図4)。さらにこのまま放置して
おいても液体付着性は維持された。Example 1 The polymer of Synthesis Example 1 was dissolved in Freon TF (manufactured by Mitsui Fluorochemicals Co., Ltd.) to a concentration of 7% by weight, and then dissolved on a polyimide film (Kapton 200V, manufactured by Toray Dupont Co., Ltd.). After coating, it was dried at 90 ° C. for 2 hours to produce a film having a thickness of about 1 μm.
Thereafter, as shown in FIG. 2, heating was performed from the side of the polyimide film 1 with the ceramic heater 4 in a state where the liquid (pure water) 3 was in contact with the surface of the film 2 (heating temperature: 120 ° C., time: about 1 second). A significant decrease in the receding contact angle due to pure water on the surface of the polymer film 2 before and after the heating was observed, and it was found that the surface was made liquid-adhesive (FIG. 4). Further, the liquid adhesion was maintained even if left as it was.
【0063】実施例2 合成例2の重合体膜の作成及び加熱処理は実施例1と同様
に行なった。その結果、実施例1と同様加熱前後におけ
る前記重合体の膜2表面の後退接触角の著しい低下が認
められ表面が液付着性化されたことがわかった。さら
に、このフィルムを丸めてφ100、長さ100mmのアルミ製
円筒にまきつけて記録体を作製し膜2表面に液体として
純水を接触させる代わりに液体インクを接触させた状態
で、図5に示したように、熱転写フリンター用サーマル
ヘッド43の加熱部をフィルム2面に接して設置した。液
体インク3aとしてはフタロシアニン系のシアンインク
(染料濃度1重量%、溶媒:濃度0.05モルのNaOH
水溶液)を用いた。サーマルヘッド43に適当な記号を送
り加熱したところ加熱部のみインクが付着した。さらに
図5に示すごとく被記録紙(三菱製紙社製NMコート紙)61
を円筒状ポリイミドフィルム2に接して搬送したところ
付着インク3bが紙に転写された。このインク付着部(潜
像S)はそのまま放置してもインクの付着性を示し、印刷
機として機能した。Example 2 Preparation of the polymer film of Synthesis Example 2 and heat treatment were performed in the same manner as in Example 1. As a result, as in Example 1, a remarkable decrease in the receding contact angle of the surface of the polymer film 2 before and after heating was observed, and it was found that the surface was made liquid-adhesive. Further, this film was rolled and wrapped around an aluminum cylinder having a diameter of 100 mm and a length of 100 mm to produce a recording medium, and the surface of the film 2 was brought into contact with liquid ink instead of pure water as a liquid, as shown in FIG. As described above, the heating section of the thermal head 43 for thermal transfer printing was installed in contact with the film 2 surface. As the liquid ink 3a, a phthalocyanine-based cyan ink (dye concentration 1% by weight, solvent: NaOH having a concentration of 0.05 mol)
Aqueous solution). When an appropriate symbol was sent to the thermal head 43 and heated, the ink adhered only to the heated portion. Further, as shown in FIG. 5, recording paper (NM coated paper manufactured by Mitsubishi Paper Mills) 61
Was transported in contact with the cylindrical polyimide film 2, and the attached ink 3b was transferred to paper. This ink-attached portion (latent image S) exhibited ink-adhesiveness even when left as it was, and functioned as a printing machine.
【0064】実施例3 合成例3〜7の重合体をポリイミド基板上へ膜化した。
ポリイミド基板上への膜の作製は実施例1と同条件とし
た。さらに、実施例1と同様に液体と接した状態で加熱
し、膜表面を液体付着性化させた。この液体付着性化し
た膜に対し、図6に示したように、空気中にて赤外線ラ
ンプ41にて130℃で約1秒間記録体1面の加熱を行
った。この時の液体付着性化及び液体反発性回復の結果
は、図3に示したように、液中加熱により減少した後退
接触角は、空気中加熱により元の値にもどっているのが
認められた。すなわち液体反撥性が回復していることが
わかる。この一連の操作結果より画像情報の記憶及び消
去が確認できた。さらにコポリマーのDTAによる吸熱
温度に対応して後退接触角の減少する温度が変化した。Example 3 The polymers of Synthesis Examples 3 to 7 were formed into a film on a polyimide substrate.
The production of the film on the polyimide substrate was performed under the same conditions as in Example 1. Further, in the same manner as in Example 1, the film was heated in contact with the liquid to make the film surface liquid-adhesive. As shown in FIG. 6, the surface of the recording medium was heated at 130 ° C. for about 1 second by the infrared lamp 41 in the air, as shown in FIG. At this time, as a result of the liquid adhesion and the recovery of the liquid repulsion , as shown in FIG. 3, the receding contact angle reduced by the heating in the liquid is found to have returned to the original value by the heating in the air. Was. That is, it can be seen that the liquid repellency has been restored. From the result of this series of operations, storage and deletion of image information could be confirmed. Further, the temperature at which the receding contact angle decreases changes in accordance with the endothermic temperature of the copolymer due to DTA.
【0065】実施例4 合成例18の重合体をキシレンヘキサフルオライドに溶
解した他は実施例2と同様の操作を行なった後、セラミ
ックヒーターによる均一加熱によりインク付着部のパタ
ーンは消去された。このようにして、A4版の被記録紙に
さまざまなパターンの文字情報を印字することができ
た。Example 4 The same operation as in Example 2 was performed except that the polymer of Synthesis Example 18 was dissolved in xylene hexafluoride, and the pattern of the ink-attached portion was erased by uniform heating with a ceramic heater. In this way, various patterns of character information could be printed on the A4 size recording paper.
【0066】実施例5 アクリル樹脂板上に合成例19の重合体のラテックス溶
液をキャスティングして約10μm厚の膜を製膜した。電
磁波の発生源として半導体レーザー(松下電器(株)製LN9
850、50mW)を用いた。液体インクとしてフタロシアニン
系のシアンインク(溶媒:濃度0.05モルのNaOH水溶液)を
用い、前記膜上全面にインクを塗布し、レンズで集光し
たレーザー光をアクリル板側から照射した。その後、イ
ンクを除去したところ、レーザー光を照射した部分のみ
インクの付着が認められた。Example 5 A latex solution of the polymer of Synthesis Example 19 was cast on an acrylic resin plate to form a film having a thickness of about 10 μm. Semiconductor laser (LN9 manufactured by Matsushita Electric Co., Ltd.)
850, 50 mW). A phthalocyanine-based cyan ink (solvent: NaOH aqueous solution having a concentration of 0.05 mol) was used as a liquid ink, the ink was applied to the entire surface of the film, and laser light focused by a lens was irradiated from the acrylic plate side. Thereafter, when the ink was removed, adhesion of the ink was observed only in the portion irradiated with the laser beam.
【0067】実施例6 合成例20の重合体をジエチルエーテルに溶解し膜化
し、実施例1の操作を行なった後、付着インクを水洗に
より除去し、膜表面を乾燥してから空気中にて照射部分
に再び半導体レーザーを照射した。数秒後、膜上一面に
再びインクを塗布し、これを除去したところ、照射部分
のインク付着はおこらなかった。すなわち、記憶情報の
消去が確認できた。Example 6 The polymer of Synthesis Example 20 was dissolved in diethyl ether to form a film. After the operation of Example 1 was carried out, the adhered ink was removed by washing with water, and the film surface was dried and then dried in air. The irradiated part was irradiated with the semiconductor laser again. After a few seconds, the ink was applied again on the entire surface of the film, and the ink was removed. As a result, no ink adhered to the irradiated portion. That is, erasure of the stored information was confirmed.
【0068】実施例7 合成例21の重合体を7重量%になる様に酢酸エチルで
溶解した後ポリイミドフィルム1(東レ・デュポン社製
カプトン200v)上にコート後、90℃にて2時間乾
燥して約1μm厚の膜を作成した。さらに、このフィル
ムを丸めてφ100、長さ100mmのアルミ製円筒に
まきつけて記録体を作製し膜2表面に液体として純水を
接触させる代わりに液体インクを接触させた状態で、図
5に示したように、熱転写プリンター用サーマルヘッド
の加熱部をフィルム2面に接して設置した。液体インク
としては、フタロシアニン系のシアンインク(染料温度
1重量%、溶媒:濃度0.05モルのNaOH水溶液)
を用いた。サーマルヘッドに適当な記号を送り加熱した
ところ加熱部のみインクが付着した。更に図5に示すご
とく被記録紙(三菱製紙社製NMコート紙)61を円筒
状ポリイミドフィルム2に接して搬送したところ付着イ
ンク3bが紙に転写された。このインク付着部(潜像
S)はそのまま放置してもインクの付着性を示してい
た。Example 7 The polymer of Synthesis Example 21 was dissolved in ethyl acetate to a concentration of 7% by weight, coated on a polyimide film 1 (Kapton 200v manufactured by Du Pont-Toray Co.), and dried at 90 ° C. for 2 hours. As a result, a film having a thickness of about 1 μm was formed. Further, this film was rolled and wrapped around an aluminum cylinder having a diameter of 100 mm and a length of 100 mm to prepare a recording medium, and the surface of the film 2 was brought into contact with liquid ink instead of pure water as a liquid, as shown in FIG. As described above, the heating part of the thermal head for a thermal transfer printer was placed in contact with the film 2 surface. As the liquid ink, a phthalocyanine-based cyan ink (dye temperature: 1% by weight, solvent: NaOH aqueous solution having a concentration of 0.05 mol)
Was used. When an appropriate symbol was sent to the thermal head and heated, the ink adhered only to the heated portion. Further, as shown in FIG. 5, when the recording paper (NM coated paper manufactured by Mitsubishi Paper Mills) 61 was conveyed in contact with the cylindrical polyimide film 2, the adhered ink 3b was transferred to the paper. The ink-attached portion (latent image S) showed ink-adhesiveness even when left as it was.
【0069】実施例8 合成例22で合成した重合体を使用した実施例7と同様
に成膜、及び評価を行なった。結果は、実施例7同様、
サーマルヘッドに適当な記号を送り加熱したところ加熱
部のみインクが付着した。更に、図5に示すごとく被記
録紙(三菱製紙社製NMコート紙)61を円筒状ポリイ
ミドフィルム2に接して搬送したところ付着インク3b
が紙に転写された。このインク付着部(潜像S)はその
まま放置してもインクの付着性を示していた。Example 8 A film was formed and evaluated in the same manner as in Example 7 using the polymer synthesized in Synthesis Example 22. The results were the same as in Example 7.
When an appropriate symbol was sent to the thermal head and heated, the ink adhered only to the heated portion. Further, as shown in FIG. 5, the recording paper (NM coated paper manufactured by Mitsubishi Paper Mills) 61 was conveyed in contact with the cylindrical polyimide film 2, and the adhered ink 3b
Was transferred to paper. The ink-attached portion (latent image S) showed ink-adhesiveness even when left as it was.
【0070】[0070]
【発明の効果】本発明の記録体を用いた方法及び装置に
よれば、液体反撥性成形体上に液体付着領域と非液体付
着領域とが簡単に形成でき、また、その二つに区分けさ
れた領域を元の状態に戻すことが容易であり、従って、
例えば製版印刷などへの応用に有利である。According to the method and apparatus using the recording medium of the present invention, a liquid-attached area and a non-liquid-adhered area can be easily formed on a liquid-repellent molded article. It is easy to return the area that was
For example, it is advantageous for application to plate making and the like.
【図1】本発明に係る記録体の構成、性質を説明するた
めの図である。FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration and properties of a recording medium according to the present invention.
【図2】本発明に係る記録体の構成、性質を説明するた
めの他の図である。FIG. 2 is another diagram for explaining the configuration and properties of a recording medium according to the present invention.
【図3】本発明記録体の表面に液体を接触させた状態で
記録体表面を加熱した場合、その表面に見られる後退接
触角θrの変化を表わした図である。FIG. 3 is a diagram showing a change in receding contact angle θr observed on the surface of a recording medium of the present invention when the recording medium surface is heated in a state where the liquid is in contact with the surface.
【図4】本発明記録体の表面に液体を接触させた状態で
記録体表面を加熱した場合、その表面に見られる後退接
触角θrの変化を表わした図である。FIG. 4 is a diagram showing a change in receding contact angle θr observed on the surface of a recording medium when the recording medium surface is heated in a state in which a liquid is in contact with the surface of the recording medium of the present invention.
【図5】本発明の記録体の実施の様子を表わした図であ
る。FIG. 5 is a diagram showing an embodiment of a recording medium of the present invention.
【図6】本発明に係る記録層の液中加熱温度と接触角と
の関係を表わした図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a relationship between a heating temperature of a recording layer in a liquid and a contact angle according to the present invention.
【図7】記録層を構成するものの液中加熱温度と接触角
との関係を表わした図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a relationship between a heating temperature in liquid and a contact angle of a recording layer.
1 基体 2 膜 3 液体(3a…液体インク、2b…付着インク) 4 ヒータ(43…サーマルヘッド) 41 赤外線ランプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Film 3 Liquid (3a ... liquid ink, 2b ... adhered ink) 4 Heater (43 ... thermal head) 41 Infrared lamp
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 片野 泰男 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 昭49−36403(JP,A) 特開 昭50−89103(JP,A) 特開 昭52−138203(JP,A) 特開 昭57−41998(JP,A) 特開 平4−163085(JP,A) 特開 平3−178478(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B41N 1/14 B41M 1/06 - 1/08 B41C 1/055 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (72) Inventor Yasuo Katano 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Inside Ricoh Company, Ltd. (56) References JP-A-49-36403 (JP, A) JP-A Sho JP-A-52-138203 (JP, A) JP-A-57-41998 (JP, A) JP-A-4-1633085 (JP, A) JP-A-3-178478 (JP, A) A) (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) B41N 1/14 B41M 1/06-1/08 B41C 1/055
Claims (8)
体(A)の示す後退接触角低下開始温度以下で液体となる
か液体又は蒸気を発する固体から選ばれる接触材料(B)
とを接触させた状態で選択的に加熱することにより、又
は、記録体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接触材
料(B)と接触させることにより、記録体(A)の表面に記録
液との後退接触角を減少せしめる領域を形成させる記録
方法に用いられる前記記録体(A)の少なくとも表面が、
側鎖に弗素原子を含む化合物を含有するものであること
を特徴とする記録体。1. A surface of a recording medium (A) and a contact material (B) selected from a liquid or a vapor and a solid that emits a liquid or a vapor at a temperature equal to or lower than the receding contact angle decrease start temperature indicated by the recording medium (A). )
By selectively heating the surface of the recording medium (A), or by contacting the surface of the recording medium (A) with the contact material (B) while selectively heating the surface of the recording medium (A). At least the surface of the recording medium (A) used in the recording method for forming an area for reducing the receding contact angle with the recording liquid,
A recording medium comprising a compound containing a fluorine atom in a side chain.
触させた状態で選択的に加熱することにより、又は、記
録体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(B)と
接触させることにより、記録体(A)の表面に記録液との
後退接触角を減少させた潜像領域を形成せしめた後、そ
の領域に記録液を供給して顕像化し、次いで、この可視
像を被転写体に転写し、接触材料(B)の不存在下に於い
て記録体(A)を加熱して前記潜像領域を消失させる可逆
性を有する記録方法に用いられる前記記録体(A)の少な
くとも表面が、側鎖に弗素原子を含む化合物を含有する
ものであることを特徴とする記録体。2. A method in which the surface of the recording medium (A) is selectively heated while the surface of the recording medium (A) is in contact with the contact material (B), or the state in which the surface of the recording medium (A) is selectively heated. Forming a latent image area with a reduced receding contact angle with the recording liquid on the surface of the recording medium (A) by contact with the contact material (B) with Imaging, and then transferring this visible image to a transfer-receiving body, and heating the recording medium (A) in the absence of the contact material (B) to erase the latent image area. A recording material characterized in that at least the surface of the recording material (A) used in the method contains a compound containing a fluorine atom in a side chain.
記一般式(I)で表わされる化合物の重合体である請求
項1又は2に記載の記録体。 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R2は−
(CH2)nR3(nは1〜10の整数、R3は炭素数3
〜21個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキ
ル基)、−CH2CF2CHFCF3、 H2OCR4(R4は炭素数3〜20個の直鎖状あるいは
分枝状のパーフルオロアルキル基)、 (R5は炭素数1〜8個の直鎖状あるいは分岐状のパー
フルオロアルキル基)又は−CH〔CH2OCF(C
F3)2〕2を表わす。〕3. The recording medium according to claim 1, wherein the compound containing a fluorine atom in the side chain is a polymer of a compound represented by the following general formula (I). Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 2 represents —
(CH 2 ) nR 3 (n is an integer of 1 to 10, and R 3 has 3 carbon atoms)
To 21 straight-chain or branched perfluoro alkyl group), - CH 2 CF 2 CHFCF 3, H 2 OCR 4 (R 4 is a linear or branched perfluoroalkyl group having 3 to 20 carbon atoms), (R 5 is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms) or —CH [CH 2 OCF (C
F 3 ) 2 ] 2 . ]
記一般式(II)で表わされる化合物の重合体である請求
項1又は2に記載の記録体。 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R6は−(C
F2)nF(nは1、3〜17の整数)、−(CH2)nR7
(nは1〜10の整数、R7は炭素数3〜21個の直鎖
状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基)又は−R
8N(R9)SO2R10(R8は炭素数1〜12個のアルキ
レン基、R9は水素又は炭素数1〜6個の直鎖状あるい
は分岐状のアルキル基、R10は炭素数4〜12個の直鎖
状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基)を表わ
す。〕4. The recording medium according to claim 1, wherein the compound containing a fluorine atom in the side chain is a polymer of a compound represented by the following general formula (II). Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 6 represents — (C
F 2) nF (n is an integer of 1,3~17), - (CH 2) nR 7
(N is an integer of 1 to 10, R 7 is a linear or branched perfluoroalkyl group having 3 to 21 carbon atoms) or -R
8 N (R 9 ) SO 2 R 10 (R 8 is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, R 9 is hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 10 is a carbon atom. 4 to 12 linear or branched perfluoroalkyl groups). ]
記一般式(III)で表わされる化合物の重合体である請
求項1又は2に記載の記録体。 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R11は-P
h−F(Phはパラフェニレン基を示す)、−SCH2
CH2R12(R12は炭素数5〜13個の直鎖状あるいは
分岐状のパーフルオロアルキル基)又は−CH2Fを表
わす。〕5. The recording medium according to claim 1, wherein the compound containing a fluorine atom in the side chain is a polymer of a compound represented by the following general formula (III). Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 11 represents —P
h-F (Ph represents a paraphenylene group), -SCH 2
CH 2 R 12 (R 12 is a perfluoroalkyl group having 5-13 straight-chain or branched carbon atoms) or -CH 2 F. ]
記一般式(IV)で表わされる化合物の重合体である請求
項1又は2に記載の記録体。 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R13は−P
h−F(Phはパラフ n 2はそれぞれ0〜10の整数)、−CF〔CF(C
F3)2〕2、 す。〕6. The recording medium according to claim 1, wherein the compound containing a fluorine atom in the side chain is a polymer of a compound represented by the following general formula (IV). [However, R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 13 represents —P
h-F (Ph is paraph n 2 each are an integer of 0), - CF [CF (C
F 3 ) 2 ] 2 , You. ]
記一般式(V)で表わされる化合物の重合体である請求項
1又は2に記載の記録体。 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R14は−C
H2CF2H、−CH2CF2CH3、−CHCF3、−(C
H2)3CF3又は−(CH2CF2H)2を表わす。〕7. The recording medium according to claim 1, wherein the compound containing a fluorine atom in the side chain is a polymer of a compound represented by the following general formula (V). Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 14 represents —C
H 2 CF 2 H, -CH 2 CF 2 CH 3, -CHCF 3, - (C
H 2) 3 CF 3 or - represents a (CH 2 CF 2 H) 2 . ]
記一般式(I)(II)(III)(IV)及び(V)
で表わされる化合物の少なくとも1つをモノマー成分と
して含む共重合体である請求項1又は2に記載の記録
体。 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R2は−
(CH2)nR3(nは1〜10の整数、R3は炭素数3
〜21個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキ
ル基)、−CH2CF2CHFCF3、 (Phはパラフェニレン基を示す)、−CH(C
F3)2、−CF(CF3)2、 フルオロアルキル基)又は−CH〔CH2OCF(C
F3)2〕2を表わす。〕 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R6は−
(CF2)nF(nは1、3〜17の整数)、−(CH2)n
R7(nは1〜10の整数、R7は炭素数3〜21個の直
鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基)又は−
R8N(R9)SO2R10(R8は炭素数1〜12個のアル
キレン基、R9は水素又は炭素数1〜6個の直鎖状ある
いは分岐状のアルキル基、R10は炭素数4〜12個の直
鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基)を表わ
す。〕 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R11は−P
h−F(Phはパラフェニレン基を示す)、−SCH2
CH2R12(R12は炭素数5〜13個の直鎖状あるいは
分岐状のパーフルオロアルキル基)又は−CH2Fを表
わす。〕 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R13は−P
h−F(Phはパラフ それぞれ0〜10の整数)、−CF〔CF(C
F3)2〕2、 〔但し、R1は水素又は−CH3基を表わし、R14は−C
H2CF2H、−CH2CF2CH3、−CHCF3、−(C
H2)3CF3又は−(CH2CF2H)2を表わす。〕8. The compound containing a fluorine atom in the side chain is represented by the following general formulas (I), (II), (III), (IV) and (V):
The recording material according to claim 1, wherein the recording material is a copolymer containing at least one of the compounds represented by the following as a monomer component. Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 2 represents —
(CH 2 ) nR 3 (n is an integer of 1 to 10, and R 3 has 3 carbon atoms)
To 21 straight-chain or branched perfluoro alkyl group), - CH 2 CF 2 CHFCF 3, (Ph represents a paraphenylene group), -CH (C
F 3 ) 2 , —CF (CF 3 ) 2 , Fluoroalkyl group), or -CH [CH 2 OCF (C
F 3 ) 2 ] 2 . ] Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 6 represents —
(CF 2) nF (n is an integer of 1,3~17), - (CH 2) n
R 7 (n is an integer of from 1 to 10, R 7 is a linear or branched perfluoroalkyl group having 3 to 21 carbon atoms), or -
R 8 N (R 9 ) SO 2 R 10 (R 8 is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, R 9 is hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 10 is Linear or branched perfluoroalkyl group having 4 to 12 carbon atoms). ] [However, R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 11 represents —P
h-F (Ph represents a paraphenylene group), -SCH 2
CH 2 R 12 (R 12 is a perfluoroalkyl group having 5-13 straight-chain or branched carbon atoms) or -CH 2 F. ] [However, R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 13 represents —P
h-F (Ph is paraph An integer of 0 to 10), -CF [CF (C
F 3 ) 2 ] 2 , Wherein R 1 represents hydrogen or a —CH 3 group, and R 14 represents —C
H 2 CF 2 H, -CH 2 CF 2 CH 3, -CHCF 3, - (C
H 2) 3 CF 3 or - represents a (CH 2 CF 2 H) 2 . ]
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