JP2967531B2

JP2967531B2 - 記録体

Info

Publication number: JP2967531B2
Application number: JP21916791A
Authority: JP
Inventors: 努中島; 律子籾山; 義一金子; 泰男片野
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1990-08-08
Filing date: 1991-08-05
Publication date: 1999-10-25
Anticipated expiration: 2014-10-25
Also published as: JPH0531875A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液体反撥性の強い記録
体表面へ、選択的に又は選択的かつ可逆的に、液体付着
性領域(潜像領域)を形成させるのに適し、必要に応じ
て、この領域へ記録剤(例えば液体インク)を供給して画
像を形成するか、又は、液体インクの供給後、それを普
通紙等へ転写し複写画像を得るようにするのに適した記
録体に関する。

【０００２】

【従来の技術】表面を液体付着性領域と非液体付着性領
域とに区分けして画像形成に供するようにした手段の代
表的なものとしては水(湿し水)なし平版印刷原版を用い
たオフセット印刷方式があげられる。非画像部をインキ
反発性物質で形成して、平版印刷方式から水(湿し水)の
供給を排除するという研究は早くから着手されている(U
SP3,632,375;USP3,677,178;特公昭44-23042号公報)。

【０００３】1960年代後半以降、インキ反発性付与成分
はシリコーン系とフッ素系に大別されるようになってき
ているが、シリコンゴムを用いたものがいち早く米国3M
社より製品化されている(岩本昌夫：別冊高分子加工，
6，(1984))。

【０００４】また、現在市販されている水なし平版印刷
原版としては東レ社製の水なし印刷原版が挙げられる。
この原版はベースとなるアルミニウム基板上に感光層と
シリコーン層とを設けた構造であり、製版印刷では感光
層の助けを借りて画像形成を行うものである。

【０００５】ポジタイプの場合、生版(原版)→露光像→
現像→刷版→印刷という複雑な工程がある。特に現像工
程では専用の現像機や薬品が必要となっている。このオ
フセット印刷方式はこの様な工程を必要とするため原版
から刷版(印刷版)を得るまでの製版工程及び印刷版から
の印刷工程を一つの装置内に組込むことが困難であり、
製版印刷の装置の小型化は勢い困難なものとなってい
る。例えば、比較的小型化されている事務用オフセット
製版印刷機においても、製版工程の複雑さから製版装置
と印刷装置とは別個になっているのが普通である。

【０００６】このようなオフセット印刷方式の欠陥を解
消することを意図して、画像情報に応じた液体付着性領
域及び非液体付着性領域が形成でき、しかも、繰返し使
用が可能な(可逆性を有する)記録体を利用した記録方法
ないし装置が提案されるようになってきている。その幾
つかをあげれば次のとおりである。

【０００７】(1) 水性現像方式疎水性の光導電体層に外部より電荷を与えた後、露光し
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させて
紙などに転写する(特公昭40-18992号、特公昭40-18993
号、特公昭44-9512号、特開昭63-264392号などの公
報)。

【０００８】(2) フォトクロミック材料の光化学反応を
利用した方式スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これらフォトクロミッ
ク化合物を親水化する〔例えば「高分子論文集」第37巻4
号、287頁(1980)〕。

【０００９】(3) 内部偏倚力の作用を利用した方式不定形状態と結晶性状態とを物理的変化により形成し、
液体インクの付着・非付着領域を構成する(特公昭54-419
02号公報)。

【００１０】前記(1)の方式によれば、水性インクを紙
などに転写した後、除電により親水性部は消去され、別
の画像情報の記録が可能となる。即ち、一つの原版(光
導電体)で繰り返し使用が可能となる。だが、この方式
は電子写真プロセスを基本としているため帯電→露光→
現像→転写→除電という長いプロセスを必要とし、装置
の小型化やコストの低減、メンテナンスフリー化が困難
であるといった欠点をもっている。

【００１１】前記(2)の方式によれば、紫外線と可視光
との照射を選択的にかえることによって親水性、疎水性
を自由かつ可逆的に制御できるものの、量子効率が悪い
ため反応時間が非常に長くて記録速度が遅く、また安定
性に欠けるといった欠点をもっており、いまだ実用レベ
ルには達していないのが実情である。

【００１２】更に、前記(3)の方式によれば、そこで使
用される情報記録部材は、記録後のものでは安定性があ
るが、記録前のものでは温度変化により物理的構造変化
が生じるおそれがあることから保存性に問題が残されて
いる。これに加えて、記録された情報パターンの消去に
は熱パルスを与え、次いで急冷する手段が採用されるこ
とから、繰り返しの画像形成は繁雑さをまぬがれ得ない
といった不都合がある。

【００１３】本発明者らは、先に、液体に対して反撥力
の強い部材（液体反撥性成形体）の表面に、容易な手段
で選択的に又は選択的かつ可逆的に、所望パターンとな
る液体付着性領域が形成できる方法及び装置を提案した
（特願平２−４３５９９号）。この方法及び装置を用い
ることにより、上記の液体付着性領域に例えば液体イン
キを供給すれば良好な画像が得られ、また、前記の液体
インクの供給後、これを普通紙等に転写することで階調
性のある鮮明な画像が得られる。さらに、記録の前後に
かかわらず保存性、安定性にすぐれた材料が使用される
ことによって、可逆的な液体付着性領域の形成が一層可
能である。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液体
に対して反撥力の強い部材（液体反撥性成形体）の表面
に、容易な手段で選択的に又は選択的かつ可逆的に、所
望パターンとなる液体付着性領域を形成し、さらに、こ
の液体付着性領域に例えば液体インク（記録液）を供給
すれば良好な画像が得られ、また前記の液体インクの供
給後、これを普通紙等に転写することで階調性のある鮮
明な画像を得る方法及び装置に好適に使用しうる記録体
を提供するものである。本発明の他の目的は、記録の前
後において、保存性並びに安定性にすぐれた記録体を提
供するものである。

【００１５】

【課題を達成するための手段】すなわち、本発明は下記
(1)又は(2)の記録体である。（１）記録体(A)の表面と、液体・蒸気及び記録体(A)の
示す後退接触角低下開始温度以下で液体となるか液体又
は蒸気を発する固体から選ばれる接触材料(B)とを接触
させた状態で選択的に加熱することにより、又は、記録
体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(B)と接
触させることにより、記録体(A)の表面に記録液との後
退接触角を減少せしめる領域を形成させる記録方法に用
いられる前記記録体(A)の少なくとも表面が、側鎖に弗
素原子を含む化合物を含有するものであることを特徴と
する記録体。（２）記録体(A)の表面と、接触材料(B)とを接触させた
状態で選択的に加熱することにより、又は、記録体(A)
の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(B)と接触さ
せることにより、記録体(A)の表面に記録液との後退接
触角を減少させた潜像領域を形成せしめた後、その領域
に記録液を供給して顕像化し、次いで、この可視像を被
転写体に転写し、接触材料(B)の不存在下に於いて記録
体(A)を加熱して前記領域を消失させる可逆性を有する
記録方法に用いられる前記記録体(A)の少なくとも表面
が、側鎖に弗素原子を含む化合物を含有するものである
ことを特徴とする記録体。

【００１６】かかる記録体の使用によれば、前記の課題
は十分達成することができる。

【００１７】ここで、前記の側鎖に弗素原子を含む化合
物としては、次の一般式(Ｉ)(II)(III)(IV)及び(Ｖ)で
表わされるもの、更には、これら化合物の少なくとも一
つをモノマー成分とした共重合体があげられる。

【００１８】〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ²は−
（ＣＨ₂）ｎＲ³（ｎは１〜１０の整数、Ｒ³は炭素数３
〜２１個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキ
ル基）、−ＣＨ₂ＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃、 (但し、−Ｐｈ−はパラフェニレン基を表わす。以下同
じ)、-ＣＨ(ＣＦ₃)₂、岐状のパーフルオロアルキル基）又は−ＣＨ〔ＣＨ₂Ｏ
ＣＦ（ＣＦ₃）₂〕₂を表わす。〕

【００１９】〔但し、Ｒ¹は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ⁶は−
（ＣＦ₂）ｎＦ（ｎは１、３〜１７の整数）、−（Ｃ
Ｈ₂）ｎＲ⁷（ｎは１〜１０の整数、Ｒ⁷は炭素数３〜２
１個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル
基）又は−Ｒ⁸Ｎ（Ｒ⁹）ＳＯ₂Ｒ¹⁰（Ｒ⁸は炭素数１〜１
２個のアルキレン基、Ｒ⁹は水素又は炭素数１〜６個の
直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、Ｒ¹⁰は炭素数４〜
１２個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル
基）を表わす。〕

【００２０】〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ¹¹は−Ｐ
ｈ−Ｆ、−ＳＣＨ₂ＣＨ₂Ｒ¹²（Ｒ¹²は炭素数５〜１３個
の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基）又
は−ＣＨ₂Ｆを表わす。〕

【００２１】〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ¹³は−Ｐ
ｈ−Ｆ、 (ｎ⁸は１〜１８の整数)を表わす。〕

【００２２】〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ¹⁴は−Ｃ
Ｈ₂ＣＦ₂Ｈ、−ＣＨ₂ＣＦ₂ＣＨ₃、−ＣＨＣＦ₃、−（Ｃ
Ｈ₂）₃ＣＦ₃又は−（ＣＨ₂ＣＦ₂Ｈ）₂を表わす。〕

【００２３】即ち、本発明は前記の記録体(A)を形成す
る材料(厳密には、記録体(A)の表面層を形成する材料)
として、液体反撥性の強い“側鎖にフッ素原子を有する
化合物"を使用することにより、記録体(A)の表面に前記
の接触材料(B)を接触させて加熱し、又は、記録体(A)の
表面を加熱した状態で接触材料(B)と接触させ記録体(A)
の表面に記録液との後退接触角を減少させた領域を容易
に形成せしめることができる。

【００２４】さらに、上記の方法により後退接触角を減
少させた領域を接触材料(B)の不存在下で加熱すること
により後退接触角を回復することができ、こうした過程
を繰り返すことにより容易に可逆的に後退接触角の変化
する領域を形成することが可能であり、言換えれば、可
逆的に液体との濡れ性を制御できる記録体〔記録体
(A)〕を提供することができる。

【００２５】ここで、記録体(A)の表面に接触材料(B)を
介在させた状態で熱を与える事により後退接触角の低下
した領域を形成せしめる本発明の記録体(A)について、
(1)基板、(2)記録層、(3)記録層形成方法手段を順に説
明する。

【００２６】(1)基板についてポリイミド、ポリエステル等の樹脂フィルム又はガラ
ス、金属等が採用できる。

【００２７】(2) 記録層について記録層を形成する重合体(共重合体を含む)を構成するモ
ノマー単位としては、従来より公知乃至周知の化合物な
ど特に限定されず種々のものを例示することが可能であ
るが、特に一般式(Ｉ)から(Ｖ)までのものが望ましい。

【００２８】例えば一般式（Ｉ）の具体的な例として
は、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂（ＣＦ₂）
₈Ｆ，ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）₇ＣＦ₃，
ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＨ₂（ＣＦ₂）₄ＣＦ₃，ＣＨ
₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₃（ＣＦ₂）₆ＣＦ（ＣＦ₃）₂、
ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₃（ＣＦ₂）₈ＣＦ（ＣＦ₃）
₂，ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₃（ＣＦ₂）₁₀ＣＦ（Ｃ
Ｆ₃）₂，ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂（Ｃ
Ｆ₂）₆ＣＦ₃，ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₂（ＣＦ₂）₅
ＣＦ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₄（Ｃ
Ｆ₂）₇ＣＦ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＨ
（ＯＨ）ＣＨ₂（ＣＦ₂）₆ＣＦ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ₂＝ＣＨ
ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂Ｎ（ＣＨ₃）ＳＯ₂（ＣＦ₂）₇ＣＦ₃，
ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₂Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）ＳＯ₂（ＣＦ
₂）₇ＣＦ₃，ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ）₃ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＣ
ＯＣＨ₃）ＣＨ₂（ＣＦ₂）₆ＣＦ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ₂＝Ｃ
ＨＣＯＯＯＣＦ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＦ
（ＣＦ₃）₂，ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＦ₂）₇ＣＦ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ
〔ＣＨ₂ＯＣＦ（ＣＦ₃）₂〕₂，ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯ
ＯＣＨ₂ＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃の如きパーフルオロアルキル
基を含むアクリレート又はメタクリレートが挙げられ
る。

【００２９】前記一般式(II)の具体的な例としては、CH
₂=CHOCOC₃F₇,CH₂=CHOCOCF₃,CH₂CHOCO(CH₂)₁₀C₈F₁₇,CH₂=
CHOCOCH₂N(C₂H₅)SO₂C₈F₁₇,CH₂=CHOCO(CH₂)₁₀N(CH₃)SO₂C
₈F₁₇,CH₂=CHOCOCH₂NHSO₂C₈F₁₇等の含フッ素ビニルエス
テル型モノマーが挙げられる。これらの中で例えばCH₂=
CHOCO(CH₂)₁₀N(C₂H₅)SO₂C₈F₁₇はU.S.P2,841,573記載の
方法で合成され、また重合される。

【００３０】前記一般式(III)の具体的な例としては、
ＣＨ₂＝ＣＨＣＯ−Ｐｈ−Ｆ，ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯ
ＳＣＨ²ＣＨ²（ＣＦ₂）₆ＣＦ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ₂＝ＣＨ
ＣＯＣＨ₂Ｆ等の含フッ素ビニルケトン誘導体が挙げら
れる。これらの中で例えばＣＨ²＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＳＣ
Ｈ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）₆ＣＦ（ＣＦ₃）₂はBP1,211,034に記
載された方法で合成され重合される。

【００３１】前記一般式(ＩＶ）の具体例としては、Ｃ
Ｈ₂＝ＣＨＯＣＦ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ²＝ＣＨＯ−Ｐｈ−
Ｆ，ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＦ₃，ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＨ₂ＣＦ₃，
ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ，ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＨ₂
ＣＦ₂ＣＦ₃，ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ，
ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＨ₂（ＣＦ₂）₂ＣＦ₃，ＣＨ₂＝ＣＨＯＣ
Ｈ₂（ＣＦ₂）₄ＣＦ₃，ＣＨ²＝ＣＨＯ（ＣＨ₂）₂（Ｃ
Ｆ₂）₉ＣＦ₃等の含フッ素ビニルエーテル誘導体が挙げ
られる。これらの中で例えばＣＨ²＝ＣＨＯＣＨ₂（ＣＦ
₂）₂ＣＦ₃はＵ．Ｓ．Ｐ２，７３２，３７０に記載の方
法で合成されまた重合される。

【００３２】前記一般式(Ｖ）の具体的な例としては、
ＣＨ²＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＮＨＣＨ₂ＣＦ₂Ｈ，ＣＨ₂＝Ｃ
（ＣＨ₃）ＣＯＮＨＣＨ₂ＣＦ₂ＣＨ₃，ＣＨ₂＝Ｃ（Ｃ
Ｈ₃）ＣＯＮＨＣＨ₂ＣＦ₃，ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＮ
Ｈ（ＣＨ₂）₃ＣＦ₃，ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＮ（ＣＨ₂
ＣＦ₂Ｈ）₂等の含フッ素アクリルアミド誘導体が挙げら
れる。これらの中で例えばＣＨ²＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＮＣ
Ｈ²ＣＦ³はＵ．Ｓ．Ｐ２，５２１，９０２記載の方法で
合成されまた重合される。

【００３３】また、本発明の記録層を形成する共重合体
は前記(Ｉ)〜(Ｖ)のフルオロアルキル基含有の重合し得
る化合物(活性水素基含有モノマーを含む)の他に、例え
ば、末端基にメタクリロイル基（ＣＨ²＝Ｃ（ＣＨ）³Ｃ
Ｏ−）を有するような高分子モノマー（マクロモノマ
ー）や、更にはエチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩
化ビニリデン、弗化ビニル、アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、スチレン、α-メチルスチレン、p-メチルス
チレン、アクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステ
ル、ベンジルアクリレート又はメタクリレート、ビニル
アルキルエーテル、ハロゲン化アルキルビニルエーテ
ル、ビニルアルキルケトン、シクロヘキシルアクリレー
ト又はメタクリレート、無水マレイン酸、ブタジエン、
イソプレン、クロロプレン、親水性基含有モノマー、含
フッ素モノマーの如き各種の重合し得る化合物の一種又
は二種以上を共重合体の構成単位として共重合させるこ
とも可能である。

【００３４】このことは、記録層材料に多弗素化基を含
有するモノマーと、高分子量のモノマーであるマクロモ
ノマーからなる共重合体も使用できることを示唆するも
のである。このような材料が用いられることで剛性、強
靱性、耐候性、光沢の向上等より高性能な記録体を提供
することができる。

【００３５】マクロマーの末端官能基としては、一般的
な付加重合型の二重結合、重縮合・重付加型の水酸基、
カルボン酸基、また、官能基としてエポキシ基、イソシ
アナート基、アミノ基等が挙げられ、さらには、反応性
マクロモノマー、架橋性マクロモノマー等２官能性のも
のも挙げられる。マクロモノマーのセグメントを構成す
るモノマーとしては、スチレン、メチルメタクリレー
ト、エチレンオキシド、ヘキサメチルシクロトリシロキ
サン、β−プロピオラクトン等が挙げられる。これらの
高分子量のモノマーであるマクロモノマーの中でも、特
に、末端基にメタクリロイル基を有し、スチレン、ある
いは、メチルメタクリレート、あるいは、スチレン／ア
クリロニトリルをセグメントの主成分とするマクロモノ
マーでは、相溶性の向上、剛性の向上、強靱性の向上、
さらに、ラジカル重合性もよく、溶液重合、懸濁重合、
乳化重合により窒素気流下、常圧の条件下で重合体が得
られる点でも優れている。

【００３６】本発明の記録体は少なくともその表面を、
これら適宜の重合し得る化合物を適宜選定して重合又は
共重合させたもので形成させておくことにより、液体と
の後退接触角の高い表面に接触材料(B)を介在して加熱
することにより液体との後退接触角の減少する領域を形
成せしめる特性、耐久性以外にも耐ドライソイル性、耐
摩耗性、選択溶解性、柔軟性、触感、汚れ脱離性など種
々の材質を適当に改善し得るものである。

【００３７】このように共重合の目的としてはいろいろ
考えられるが、含フッ素モノマーと汎用モノマーとの共
重合体を用いることにより一般にフロン規制対象の溶剤
で処理されることの多い含フッ素ポリマーを汎用溶剤で
処理することが可能となり、オゾン層破壊等の環境問題
にも対処できる。例えばパーフルオロアルキル基を含有
する含弗素メタクリレートのごとき弗素系のモノマーと
ポリメタクリル酸アルキルエステルのごとき汎用溶剤へ
溶解するポリマーの構成単位のモノマーとの共重合体を
用いた場合には、ヘキサンのごとき汎用溶剤へ溶解しし
かも記録体としての効果が発現される。(合成例3〜6の
コポリマーは、ヘキサンのごとき汎用溶剤で処理が可能
であった。さらに実施例3のごとき効果を発現した。)

【００３８】なお、本発明において使用される共重合体
は、その組成により、熱可逆温度を制御すると共に熱可
逆遷移温度、接触材料(B)を介在して熱を加える前後の
動的接触角のヒステリシスを変化させることが可能であ
る。

【００３９】本発明で用いられる前記の重合体や共重合
体を得るためには、種々の重合反応や条件が任意に選択
でき、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合、分散
重合、放射線重合、光重合など各種の重合方式のいずれ
をも採用できる。重合開始剤としては、有機過酸化物、
アゾ化合物、過硫酸塩の如き各種重合開始剤、更にはγ
-線の如き電離性放射線なども採用され得る。また、界
面活性剤などの存在下水に乳化させ撹拌下に重合、共重
合を行なう際の界面活性剤としては、陰イオン性、陽イ
オン性または非イオン性の各種乳化剤のほとんど全てを
使用できる。

【００４０】さらに、本発明の記録体を利用したプロセ
スでは、潜像形成時の加熱は記録層材料側からだけでな
く基板側から加熱することも可能である。(記録層側へ
液体をおき基板側から加熱:後記の加熱手段の項参照)こ
の場合、記録体の基板材料へ直接加熱する構成となるた
め、熱による記録体の劣化が想定されるが、これらの問
題を対処するためには、基板側に耐熱性のバック層を設
けることが有効である。バック層には熱硬化性、あるい
は高軟化性の耐熱性の樹脂が採用される。またこれらバ
ック層中に滑性の高い無機顔料を含有することも有効で
ある。ここで言う無機顔料とは、タルク、雲母粉、微細
シリカ粉末、二硫化モリブデンなどの微粉末をさし、樹
脂材料としてはシリコーン樹脂、フッ素樹脂、エポキシ
樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹
脂、ニトロセルロース等の樹脂が有効である。更には、
重合し得うる前記化合物を適当な有機溶媒に溶解し、重
合開始剤の作用により溶液重合させる事もできる。

【００４１】(3) 記録層形成手段について本発明の記録体の記録層を得るには、重合体又は共重合
体を溶解可能な溶媒に溶解させた溶液として或いはエマ
ルジョンとして、さらには加熱溶融したものを既知の技
術によって被覆加工(coatingまたはcovering)するか、
又はそれ自身を成形することによって得られる。被覆加
工(コーティング)方法としては例えば含浸、浸漬、噴
霧、刷毛塗り、スピンコーティング、バーコーティング
により基板上に直接または中間層を介在して積層するこ
とによって得られる。中間層としては基板、記録層の両
方と相溶性あるいは相互作用を示す材料、あるいは多孔
質膜等を用いることもできる。さらに、本発明の記録体
を利用したプロセスでは、潜像形成時の加熱は記録層材
料側からだけでなく基板側から加熱することも可能であ
る。(記録体側へ液体をおき基板側から加熱:後記の加熱
手段の項参照)この場合、記録体の基板材料へ直接加熱
する構成となるため、熱による記録体の劣化が想定され
るが、これらの問題に対処するためには、基板側に耐熱
性のバック層を設けることが有効である。バック層には
熱硬化性、あるいは高軟化点の耐熱性の樹脂が採用され
る。またこれらバック層中に滑性の高い無機顔料を含有
することも有効である。ここで言う無機顔料とは、タル
ク、雲母粉、微細シリカ粉末、二硫化モリブデンなどの
微粉末をさし、樹脂材料としてはシリコーン樹脂、フッ
素樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、ポリイミド樹脂、ニトロセルロース等の樹脂が有効
である。

【００４２】次に、接触材料(B)、加熱手段について説
明を加える。接触材料(B)としては、水の他に、電解質
を含む水溶液、エタノール、n-ブタノール等のアルコー
ル、グリセリン、エチレングリコール等の多価アルコー
ル、メチルエチルケトン等のケトン類のごとき有極性液
体や、n-ノナン、n-オクタン等の直鎖状炭化水素、シク
ロヘキサン等の環式炭化水素、m-キシレン、ベンゼン等
の芳香族炭化水素のごとき無極性液体が挙げられる。ま
た各種分散液や液体インクも使用できる。

【００４３】加熱手段としてはヒーター、サーマルヘッ
ドなどの接触加熱の他に、電磁波(レーザー光源、赤外
線ランプなどの発光源からの光線をレンズで集光する)
による非接触加熱がある。また電子線照射及び光(UV光)
照射によった場合にも加熱の方法を達成することができ
る。

【００４４】続いて、本発明の記録体の性状、本発明記
録体を用いての潜像形成、可視像形成について添付の図
面に従って説明する。

【００４５】図１(a)は基板1上に前記の膜(記録層)2が
形成され、この膜面に接触材料(例えば液体3)が存在し
ている状態を示している。この状態において、図２に示
したように、膜2を加熱すると、膜2表面は著しい濡れを
示し後退接触角が減少するのが認められる。更に、この
液体との後退接触角が減少した膜を空気中、真空中又は
不活性ガス雰囲気中で再び加熱する(図１(b))と膜2表面
は再び液体反撥性つまり後退接触角の増加が認められ
る。この膜2の水溶液接触下での加熱前後の水溶液の接
触角の変動、及び、このものを更に空気中で加熱した場
合の水溶液の接触角の変動の一例を図３に示した。図３
において○は前進接触角、△は後退接触角を表わしてい
る。一般に、後退接触角が90°以上の高い値の場合その
表面は液体反撥性を示し、90°以下の低い値の場合、そ
の表面は液体付着性を示す。

【００４６】接触材料(B)に接した状態での記録体(A)表
面の加熱温度としては、50℃〜250℃の範囲が望まし
く、さらに望ましくは80℃〜150℃である。加熱時間
は、0.1m秒〜1秒程度で望ましくは、0.5m秒〜2m秒であ
る。加熱のタイミングとしては、潜像形成であれば、
記録体(A)表面を加熱した後、冷めないうちに接触材料
(B)に接触させる。記録体(A)表面に接触材料(B)を接
触させた状態のもとに記録体(A)表面を加熱させる、の
いずれかでもよい。一方、潜像消去であれば、接触材料
(B)の不存在下で記録体(A)表面を50〜300℃、望ましく
は100〜180℃に加熱すればよい。加熱時間はいずれの場
合も1m秒〜10秒程度で好ましくは10m秒〜1秒である。

【００４７】続いて、記録体(A)表面に実際に画像情報
の記録を行なう手段についてより詳細に説明する。一つ
は液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応じて記録層(A)
表面を加熱し、記録層(A)の表面に液体付着領域を形成
(潜像形成)し、その後、この潜像部に記録剤を接触させ
る手段により潜像部に記録剤を付着させ(現像)、この
後、この記録をそのまま記録体(A)の表面上に定着させ
る方法である(直接記録方法)。もう一つは、液体又は蒸
気雰囲気下で画像信号に応じて記録体(A)の表面を加熱
し、記録体(A)の表面に液体付着領域を形成(潜像形成)
し、その後、この潜像部に記録液を接触させる手段によ
り潜像部に記録液を付着させ(現像)、この後、記録紙
(普通紙等)に記録体(A)表面の記録液からなる可視像を
転写する方法である(間接記録方法)。さらに、上記の方
法において、記録液を転写後、再び潜像部に記録液を接
触させる手段を行えば、記録体(A)を印刷版として用い
た印刷方法となる。また、上記の方法において、記録液
を転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像を形成した記
録体(A)の表面を加熱し潜像を消去することにより、記
録体(A)が再生可能な記録方法となる。

【００４８】以下に本発明で使用される重合体共重合体
の合成例及び記録体としての実施例を示す。

【００４９】合成例１ポリ(1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルメタクリ
レート)の重合三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付け1,1,1-トリクロ
ロエタン50g、1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシル
メタクリレート(大阪有機化学工業(株)製ビスコート17F
M)50g、アゾイソブチロニトリル(AIBN)0.15gを仕込み約
30分間撹拌しながら窒素置換を行なった後、窒素気流下
撹拌しながら70℃で5時間重合を行ない白色の粘稠体を
得た。上記白色粘稠体にメタノールを100ｍｌ加え撹拌
の後メタノールに溶解しない白色固形部分を分離後乳針
で粉砕し、さらにメタノール100ｍｌにて洗浄を行なっ
た。得られた白色粉体を減圧乾燥を行ない目的物47.5g
(収率95%)を得た。

【００５０】合成例２ポリ(1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルアクリレ
ート)の合成 1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート
の代わりに、1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルア
クリレートを用いた他は実施例1と同様に行って目的物
を得た。

【００５１】合成例３ 1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート
とステアリルメタクリレート(SMA)との共重合体の合成三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付け1,1,1-トリクロ
ロエタン82g、1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシル
メタクリレート(大阪有機化学工業(株)製ビスコート17F
M)50g、市販のSMA31.9g、AIBN(アゾイソブチロニトリ
ル)0.3gを仕込み約30分間撹拌しながら窒素置換を行な
った後、窒素気流下撹拌しながら70℃で5時間重合を行
ない1,1,1-トリクロロエタンに膨潤した粘稠体を得た。
この反応液をヘキサンに溶解しメタノールへ沈殿するこ
とにより精製を行なった。さらに沈殿物を100〜120℃で
減圧乾燥を行い目的物78g(収率63%)を得た。

【００５２】合成例４〜１７合成例１の方法に従って以下の仕込み比で共重合を行っ
た。有機溶剤への溶解性を示さないポリマーの精製は、
良溶媒を弗素系の溶剤フレオンＴＦ（三井・デュポンフ
ロロケミカル（株）社製）、貧溶媒をメタノールで行っ
た。合成条件開始剤／モノマー＝１／１００（モル）モリマー／溶剤＝１／１（重量）溶剤：１，１，１−トロクロロエタン開始剤：アゾビスイソブチロニトリル反応時間：５時間反応温度：７０℃

【表１】（注１）１７Ｆ：１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデ
カフルオロデシルアクリレート（大阪有機化学工業
（株）製、ビスコート１７Ｆ）ＭＭＡ：メチルメタクリレートＥＭＡ：エチルメタクリレートｎＢＭＡ：ｎブチルメタクリレートｎＨＭＡ：ｎヘキシルメタクリレート２ＥＨＭＡ：２エチルヘキシルメタクリレートＬＭＡ：ラウリルメタクリレートＳＭＡ：ステアリルメタクリレートｎＢＡ：ｎブチルアクリレートＳＡ：ステアリルアクリレート（注２）有機溶剤溶解性における「有機溶剤」はテトラ
ヒドロフラン、ｎ−ヘキサンである。

【００５３】合成例１８ N-エチル-N-パーフルオロオクタンスルホニル-3-アミノ
エタン酸ビニルエステルの重合アンプル管中にＣＨ²＝ＣＨＯＣＯＣＨ²Ｎ（Ｃ²Ｈ⁵）Ｓ
Ｏ²Ｃ⁸Ｆ¹⁷１．５ｇとアセチルパーオキサイド０．０１
５ｇとをジメチルフタレート０．０６０ｇに溶解する。
酸素を除去した後、加熱によりビニルエステルモノマー
を溶解する。その後、アンプル管を液体酸素で凍結後減
圧下封管した。水バス中６０℃で１５．５時間反応し
た。反応後、内容物をキシレンヘキサフルオライドに溶
解した。この溶液を過剰のメタノール中に注ぎポリマー
を沈殿させた。その後濾過し、室温にて減圧乾燥し０．
９５ｇ（収率６４％）のポリマーを得た。このポリマー
は７０℃の軟化点を示した。

【００５４】合成例１９ 2-(パーフルオロ-7-メチルオクチルエチルチオールメタ
クリレート)の重合アセトン1.6gに2-(パーフルオロ-7-メチルオクチルエチ
ルチオールメタクリレート)2.5gを溶解した溶液をフラ
スコ中に加え、さらに60%メチロールアミド0.1g、酸素
を除去した水7.5g、

【化１】 0.012g、2,2′-アゾジイソブチラミジンジハイドロクロ
ライド0.05gを加える。内部を窒素で満たした後、恒温
層に入れ、70℃で4時間反応させ、ラテックス状のポリ
マーを得た。

【００５５】合成例２０ビニル1,1-ジハイドロパーフルオロブチルエーテルの重
合アンプル管中にビニル1,1-ジハイドロパーフルオロブチ
ルエーテル0.45gとボロントリフルオライド/エチルエー
テル錯体0.005gを溶解し2%溶液としたジエチルエーテル
溶液を加え、ゴム栓をした後25℃24時間反応を行い、目
的のポリマーを得た。

【００５６】合成例２１三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付けトルエン４０
ｇ、１，１，１−トリクロロエタン４０ｇ、１Ｈ，１
Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
ート（大阪有機化学工業（株）ビスコート１７ＦＭ）１
９．５ｇ、マクロモノマー（東亜合成化学工業（株）製
ＡＳ−６）２０ｇ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩ
ＢＮ）０．０６７ｇを仕込み、約３０分間撹拌しながら
窒素置換を行った後、窒素気流下に撹拌しながら７０℃
で５時間重合を行い白濁状態の粘性の低い液体を得た。
この反応液を大過剰のメタノールへ沈澱することにより
精製を行った。さらに沈澱物を１００〜１２０℃で減圧
乾燥を行い粉末状の目的物２４．０ｇを得た。

【００５７】合成例２２三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付けトルエン４０
ｇ、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート（大阪有機化学工業（株）ビスコート
１７ＦＭ）１９．５ｇ、マクロモノマー（東亜合成化学
工業（株）製ＡＡ−６）２０ｇ、アゾビスイソブチロニ
トリル（ＡＩＢＮ）０．０６６ｇを仕込み、約３０分間
撹拌しながら窒素置換を行った後、窒素気流下に撹拌し
ながら７０℃で５時間重合を行い白濁状態の粘性の低い
液体を得た。この反応液を大過剰のメタノールへ沈澱す
ることにより精製を行った。さらに沈澱物を１００〜１
２０℃で減圧乾燥を行い粉末状の目的物２０．８ｇを得
た。

【００５８】合成例２３三ツ口ナスフラスコに温度計を取り付けトルエン４５
ｇ、ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）４５ｇ、１Ｈ，１
Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
ート（大阪有機化学工業（株）ビスコート１７ＦＭ）１
９．５ｇ、マクロモノマー（東亜合成化学工業（株）製
ＡＮ−６）２０ｇ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩ
ＢＮ）０．０６６ｇを仕込み、約３０分間撹拌しながら
窒素置換を行った後、窒素気流下にて撹拌しながら７０
℃で５時間重合を行い白濁状態の粘性の低い液体を得
た。この反応液を大過剰のメタノールへ沈澱することに
より精製を行った。さらに沈澱物を１００〜１２０℃で
減圧乾燥を行い粉末状の目的物２２．０ｇを得た。

【００５９】なお、上記の東亜合成化学工業（株）製モ
クロモノマーの性状は次のとおりである。（注）：ＡＳ−６，ＡＡ−６，ＡＮ−６いずれも末端基
の構造はメタクリロイル基である。

【００６０】図７は上記幾つかの合成例のうちの液中加
熱温度と接触角との変化の様子を示したグラフである。
Ｆとあるのはビスコート１７Ｆ、ＳとあるのはＳＭＡ
（ステアリルアクリレートである。この図から判るよう
に、ＳＭＡの仕込モル量の増加とともに後退接触角減少
温度の低下が確認された。

【００６１】

【実施例】次に実施例により本発明をさらに具体的に説
明する。

【００６２】実施例１合成例1の重合体を7重量%になる様にフレオンTF(三井フ
ロロケミカル(株)製)で溶解した後、ポリイミドフィル
ム(東レデュポン(株)製カプトン200V)上にコートした
後、90℃にて2時間乾燥して約1μｍ厚の膜を作製した。
この後図２のごとく、膜2表面に液体(純水)3を接触させ
た状態でポリイミドフィルム1側からセラミックヒータ
ー4で加熱を行った(加熱温度120℃、時間約1秒)。この
加熱前後における上記重合体の膜2表面での純水による
後退接触角の著しい低下が認められ表面が液体付着性化
されたことがわかった(図４)。さらにこのまま放置して
おいても液体付着性は維持された。

【００６３】実施例２合成例2の重合体膜の作成及び加熱処理は実施例1と同様
に行なった。その結果、実施例1と同様加熱前後におけ
る前記重合体の膜2表面の後退接触角の著しい低下が認
められ表面が液付着性化されたことがわかった。さら
に、このフィルムを丸めてφ100、長さ100mmのアルミ製
円筒にまきつけて記録体を作製し膜２表面に液体として
純水を接触させる代わりに液体インクを接触させた状態
で、図５に示したように、熱転写フリンター用サーマル
ヘッド43の加熱部をフィルム２面に接して設置した。液
体インク3aとしてはフタロシアニン系のシアンインク
（染料濃度1重量%、溶媒：濃度０．０５モルのＮａＯＨ
水溶液）を用いた。サーマルヘッド43に適当な記号を送
り加熱したところ加熱部のみインクが付着した。さらに
図５に示すごとく被記録紙(三菱製紙社製NMコート紙)61
を円筒状ポリイミドフィルム2に接して搬送したところ
付着インク3bが紙に転写された。このインク付着部(潜
像S)はそのまま放置してもインクの付着性を示し、印刷
機として機能した。

【００６４】実施例３合成例３〜７の重合体をポリイミド基板上へ膜化した。
ポリイミド基板上への膜の作製は実施例１と同条件とし
た。さらに、実施例１と同様に液体と接した状態で加熱
し、膜表面を液体付着性化させた。この液体付着性化し
た膜に対し、図６に示したように、空気中にて赤外線ラ
ンプ４１にて１３０℃で約１秒間記録体１面の加熱を行
った。この時の液体付着性化及び液体反発性回復の結果
は、図３に示したように、液中加熱により減少した後退
接触角は、空気中加熱により元の値にもどっているのが
認められた。すなわち液体反撥性が回復していることが
わかる。この一連の操作結果より画像情報の記憶及び消
去が確認できた。さらにコポリマーのＤＴＡによる吸熱
温度に対応して後退接触角の減少する温度が変化した。

【００６５】実施例４合成例１８の重合体をキシレンヘキサフルオライドに溶
解した他は実施例2と同様の操作を行なった後、セラミ
ックヒーターによる均一加熱によりインク付着部のパタ
ーンは消去された。このようにして、A4版の被記録紙に
さまざまなパターンの文字情報を印字することができ
た。

【００６６】実施例５アクリル樹脂板上に合成例１９の重合体のラテックス溶
液をキャスティングして約10μｍ厚の膜を製膜した。電
磁波の発生源として半導体レーザー(松下電器(株)製LN9
850、50mW)を用いた。液体インクとしてフタロシアニン
系のシアンインク(溶媒:濃度0.05モルのNaOH水溶液)を
用い、前記膜上全面にインクを塗布し、レンズで集光し
たレーザー光をアクリル板側から照射した。その後、イ
ンクを除去したところ、レーザー光を照射した部分のみ
インクの付着が認められた。

【００６７】実施例６合成例２０の重合体をジエチルエーテルに溶解し膜化
し、実施例1の操作を行なった後、付着インクを水洗に
より除去し、膜表面を乾燥してから空気中にて照射部分
に再び半導体レーザーを照射した。数秒後、膜上一面に
再びインクを塗布し、これを除去したところ、照射部分
のインク付着はおこらなかった。すなわち、記憶情報の
消去が確認できた。

【００６８】実施例７合成例２１の重合体を７重量％になる様に酢酸エチルで
溶解した後ポリイミドフィルム１（東レ・デュポン社製
カプトン２００ｖ）上にコート後、９０℃にて２時間乾
燥して約１μｍ厚の膜を作成した。さらに、このフィル
ムを丸めてφ１００、長さ１００ｍｍのアルミ製円筒に
まきつけて記録体を作製し膜２表面に液体として純水を
接触させる代わりに液体インクを接触させた状態で、図
５に示したように、熱転写プリンター用サーマルヘッド
の加熱部をフィルム２面に接して設置した。液体インク
としては、フタロシアニン系のシアンインク（染料温度
１重量％、溶媒：濃度０．０５モルのＮａＯＨ水溶液）
を用いた。サーマルヘッドに適当な記号を送り加熱した
ところ加熱部のみインクが付着した。更に図５に示すご
とく被記録紙（三菱製紙社製ＮＭコート紙）６１を円筒
状ポリイミドフィルム２に接して搬送したところ付着イ
ンク３ｂが紙に転写された。このインク付着部（潜像
Ｓ）はそのまま放置してもインクの付着性を示してい
た。

【００６９】実施例８合成例２２で合成した重合体を使用した実施例７と同様
に成膜、及び評価を行なった。結果は、実施例７同様、
サーマルヘッドに適当な記号を送り加熱したところ加熱
部のみインクが付着した。更に、図５に示すごとく被記
録紙（三菱製紙社製ＮＭコート紙）６１を円筒状ポリイ
ミドフィルム２に接して搬送したところ付着インク３ｂ
が紙に転写された。このインク付着部（潜像Ｓ）はその
まま放置してもインクの付着性を示していた。

【００７０】

【発明の効果】本発明の記録体を用いた方法及び装置に
よれば、液体反撥性成形体上に液体付着領域と非液体付
着領域とが簡単に形成でき、また、その二つに区分けさ
れた領域を元の状態に戻すことが容易であり、従って、
例えば製版印刷などへの応用に有利である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る記録体の構成、性質を説明するた
めの図である。

【図２】本発明に係る記録体の構成、性質を説明するた
めの他の図である。

【図３】本発明記録体の表面に液体を接触させた状態で
記録体表面を加熱した場合、その表面に見られる後退接
触角θrの変化を表わした図である。

【図４】本発明記録体の表面に液体を接触させた状態で
記録体表面を加熱した場合、その表面に見られる後退接
触角θrの変化を表わした図である。

【図５】本発明の記録体の実施の様子を表わした図であ
る。

【図６】本発明に係る記録層の液中加熱温度と接触角と
の関係を表わした図である。

【図７】記録層を構成するものの液中加熱温度と接触角
との関係を表わした図である。

【符号の説明】

１基体２膜３液体（３ａ…液体インク、２ｂ…付着インク）４ヒータ（４３…サーマルヘッド）４１赤外線ランプ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者片野泰男東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内 (56)参考文献特開昭49−36403（ＪＰ，Ａ) 特開昭50−89103（ＪＰ，Ａ) 特開昭52−138203（ＪＰ，Ａ) 特開昭57−41998（ＪＰ，Ａ) 特開平４−163085（ＪＰ，Ａ) 特開平３−178478（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) B41N 1/14 B41M 1/06 - 1/08 B41C 1/055

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】記録体(A)の表面と、液体・蒸気及び記録
体(A)の示す後退接触角低下開始温度以下で液体となる
か液体又は蒸気を発する固体から選ばれる接触材料(B)
とを接触させた状態で選択的に加熱することにより、又
は、記録体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接触材
料(B)と接触させることにより、記録体(A)の表面に記録
液との後退接触角を減少せしめる領域を形成させる記録
方法に用いられる前記記録体(A)の少なくとも表面が、
側鎖に弗素原子を含む化合物を含有するものであること
を特徴とする記録体。
【請求項２】記録体(A)の表面と、接触材料(B)とを接
触させた状態で選択的に加熱することにより、又は、記
録体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(B)と
接触させることにより、記録体(A)の表面に記録液との
後退接触角を減少させた潜像領域を形成せしめた後、そ
の領域に記録液を供給して顕像化し、次いで、この可視
像を被転写体に転写し、接触材料(B)の不存在下に於い
て記録体(A)を加熱して前記潜像領域を消失させる可逆
性を有する記録方法に用いられる前記記録体(A)の少な
くとも表面が、側鎖に弗素原子を含む化合物を含有する
ものであることを特徴とする記録体。
【請求項３】前記の側鎖に弗素原子を含む化合物が下
記一般式（Ｉ）で表わされる化合物の重合体である請求
項1又は2に記載の記録体。〔但し、Ｒ1は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ²は−
（ＣＨ₂）ｎＲ³（ｎは１〜１０の整数、Ｒ³は炭素数３
〜２１個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキ
ル基）、−ＣＨ₂ＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃、Ｈ₂ＯＣＲ⁴（Ｒ⁴は炭素数３〜２０個の直鎖状あるいは
分枝状のパーフルオロアルキル基）、（Ｒ⁵は炭素数１〜８個の直鎖状あるいは分岐状のパー
フルオロアルキル基）又は−ＣＨ〔ＣＨ₂ＯＣＦ（Ｃ
Ｆ₃）₂〕₂を表わす。〕
【請求項４】前記の側鎖に弗素原子を含む化合物が下
記一般式（II）で表わされる化合物の重合体である請求
項１又は２に記載の記録体。〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ⁶は−(Ｃ
Ｆ₂)ｎＦ（ｎは１、３〜１７の整数）、−(ＣＨ₂)ｎＲ⁷
（ｎは１〜１０の整数、Ｒ⁷は炭素数３〜２１個の直鎖
状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基）又は−Ｒ
⁸Ｎ（Ｒ⁹）ＳＯ₂Ｒ¹⁰（Ｒ⁸は炭素数１〜１２個のアルキ
レン基、Ｒ⁹は水素又は炭素数１〜６個の直鎖状あるい
は分岐状のアルキル基、Ｒ¹⁰は炭素数４〜１２個の直鎖
状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基）を表わ
す。〕
【請求項５】前記の側鎖に弗素原子を含む化合物が下
記一般式（III）で表わされる化合物の重合体である請
求項１又は２に記載の記録体。〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ¹¹は-Ｐ
ｈ−Ｆ（Ｐｈはパラフェニレン基を示す）、−ＳＣＨ₂
ＣＨ₂Ｒ¹²（Ｒ¹²は炭素数５〜１３個の直鎖状あるいは
分岐状のパーフルオロアルキル基）又は−ＣＨ₂Ｆを表
わす。〕
【請求項６】前記の側鎖に弗素原子を含む化合物が下
記一般式（IV）で表わされる化合物の重合体である請求
項1又は2に記載の記録体。〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ¹³は−Ｐ
ｈ−Ｆ（Ｐｈはパラフ ^ｎ ²はそれぞれ０〜１０の整数）、−ＣＦ〔ＣＦ（Ｃ
Ｆ₃）₂〕₂、す。〕
【請求項７】前記の側鎖に弗素原子を含む化合物が下
記一般式(Ｖ)で表わされる化合物の重合体である請求項
１又は２に記載の記録体。〔但し、Ｒ¹は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ¹⁴は−Ｃ
Ｈ₂ＣＦ₂Ｈ、−ＣＨ₂ＣＦ₂ＣＨ₃、−ＣＨＣＦ₃、−（Ｃ
Ｈ₂）₃ＣＦ₃又は−（ＣＨ₂ＣＦ₂Ｈ）₂を表わす。〕
【請求項８】前記の側鎖に弗素原子を含む化合物が下
記一般式（Ｉ）（ＩＩ）（ＩＩＩ）（ＩＶ）及び（Ｖ）
で表わされる化合物の少なくとも１つをモノマー成分と
して含む共重合体である請求項１又は２に記載の記録
体。〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ²は−
（ＣＨ₂）ｎＲ³（ｎは１〜１０の整数、Ｒ³は炭素数３
〜２１個の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキ
ル基）、−ＣＨ₂ＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃、（Ｐｈはパラフェニレン基を示す）、−ＣＨ（Ｃ
Ｆ₃）₂、−ＣＦ（ＣＦ₃）₂、フルオロアルキル基）又は−ＣＨ〔ＣＨ²ＯＣＦ（Ｃ
Ｆ₃）₂〕₂を表わす。〕〔但し、Ｒ¹は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ⁶は−
（ＣＦ₂)nＦ（ｎは１、３〜１７の整数）、−（ＣＨ₂)n
Ｒ⁷（ｎは１〜１０の整数、Ｒ⁷は炭素数３〜２１個の直
鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基）又は−
Ｒ⁸Ｎ（Ｒ⁹）ＳＯ₂Ｒ¹⁰（Ｒ⁸は炭素数１〜１２個のアル
キレン基、Ｒ⁹は水素又は炭素数１〜６個の直鎖状ある
いは分岐状のアルキル基、Ｒ¹⁰は炭素数４〜１２個の直
鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基)を表わ
す。〕〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ¹¹は−Ｐ
ｈ−Ｆ（Ｐｈはパラフェニレン基を示す）、−ＳＣＨ₂
ＣＨ₂Ｒ¹²（Ｒ¹²は炭素数５〜１３個の直鎖状あるいは
分岐状のパーフルオロアルキル基）又は−ＣＨ₂Ｆを表
わす。〕〔但し、Ｒ₁は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ¹³は−Ｐ
ｈ−Ｆ（Ｐｈはパラフそれぞれ０〜１０の整数)、−ＣＦ〔ＣＦ（Ｃ
Ｆ₃）₂〕₂、〔但し、Ｒ¹は水素又は−ＣＨ₃基を表わし、Ｒ¹⁴は−Ｃ
Ｈ₂ＣＦ₂Ｈ、−ＣＨ₂ＣＦ₂ＣＨ₃、−ＣＨＣＦ₃、−（Ｃ
Ｈ₂）₃ＣＦ₃又は−（ＣＨ₂ＣＦ₂Ｈ）₂を表わす。〕