Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3020174B2 - Low shrinkage polyimide film - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3020174B2 - Low shrinkage polyimide film - Google Patents

Low shrinkage polyimide film

Info

Publication number
JP3020174B2
JP3020174B2 JP1190534A JP19053489A JP3020174B2 JP 3020174 B2 JP3020174 B2 JP 3020174B2 JP 1190534 A JP1190534 A JP 1190534A JP 19053489 A JP19053489 A JP 19053489A JP 3020174 B2 JP3020174 B2 JP 3020174B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
acid
polyimide film
bis
heat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1190534A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0355230A (en
Inventor
達也 加藤
淑彦 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Du Pont Toray Co Ltd
Original Assignee
Du Pont Toray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Du Pont Toray Co Ltd filed Critical Du Pont Toray Co Ltd
Priority to JP1190534A priority Critical patent/JP3020174B2/en
Publication of JPH0355230A publication Critical patent/JPH0355230A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3020174B2 publication Critical patent/JP3020174B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N

Landscapes

  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は熱に対する収縮性が改善された低収縮性ポリ
イミドフィルムに関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a low-shrinkage polyimide film having improved heat shrinkability.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンを
重縮合して得られるポリイミドは極めて耐熱性に優れた
ポリマーとして知られている。
A polyimide obtained by polycondensing an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine is known as a polymer having extremely excellent heat resistance.

このポリイミドは溶媒に不溶であるが、その前駆体で
あるポリアミド酸は特定の有機溶媒に可溶であるため、
このポリアミド酸有機溶媒溶液を流延し、イミド化と同
時に乾燥することにより耐熱性のフィルムが得られる。
Although this polyimide is insoluble in a solvent, its precursor polyamic acid is soluble in a specific organic solvent,
The heat-resistant film is obtained by casting and drying the polyamic acid organic solvent solution simultaneously with imidization.

このポリイミドフィルムは耐熱性、絶縁性及び機械特
性に優れているため、フレキシブルプリント基板のベー
スフィルムとして従来から利用されている。
Since this polyimide film has excellent heat resistance, insulation properties and mechanical properties, it has been conventionally used as a base film for flexible printed circuit boards.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

ポリイミドフィルムをベースフィルムとしてフレキシ
ブルプリント基板を作るためには銅等の金属箔を積層す
るかあるいは真空蒸着,スパッタリング等により金属を
付着させる必要があるが、この工程でかなりの熱がかか
るため、熱に対する寸法安定性が要求される。
In order to make a flexible printed circuit board using a polyimide film as a base film, it is necessary to laminate a metal foil such as copper or attach a metal by vacuum evaporation, sputtering, or the like. Dimensional stability is required.

特に、最近ではフレキシブルプリント基板のファイン
パターン化により、熱による収縮が小さいポリイミドフ
ィルムが望まれている。
In particular, recently, a polyimide film which has a small shrinkage due to heat due to fine patterning of a flexible printed board has been desired.

このような要求に応える手段として、特開昭62−4102
4号公報にはポリイミドフィルムを実質的に無張力下、
加熱オーブン中で加熱処理した後、冷却する方法が提案
されている。
As means for responding to such demands, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-4102
No. 4 discloses a polyimide film under substantially no tension,
A method of cooling after heating in a heating oven has been proposed.

無張力下で熱処理する方法は潜在収縮応力を緩和し、
その後の加熱に対して収縮が小さくなるため、有効な方
法であるが、次のような欠点がある。
The method of heat treatment under no tension relaxes latent shrinkage stress,
This is an effective method because shrinkage is reduced by subsequent heating, but has the following disadvantages.

即ち、無張力下で熱処理するためにはフィルムを巻い
たロールを加熱オーブン中に放置する方法(特開昭62−
41024号公報実施例)あるいは巻出し、巻取り機を備え
た連続型加熱炉中でフィルムを連続的に処理する方法が
あるが、いずれにしても無張力下で長時間処理すること
になるのでフィルムが波を打つ状態になり、熱収縮率が
ばらつくという問題を生ずる。特に連続処理の場合には
フィルムが蛇行して完全な製品ロールが得られないとい
う不都合が生じる。
That is, in order to perform heat treatment without tension, a method in which a roll wound with a film is left in a heating oven (Japanese Patent Laid-Open No. Sho 62-62).
There is a method in which a film is continuously processed in a continuous heating furnace equipped with an unwinding and winding machine. However, in any case, the film is processed under no tension for a long time. The film becomes wavy, causing a problem that the heat shrinkage ratio varies. In particular, in the case of continuous processing, there is a disadvantage that the film meanders and a complete product roll cannot be obtained.

また、乾燥機の中に放置するバッチ式であってもフィ
ルム表面にしわが発生することは防ぐことができず、精
密なプリント基板のベースフィルムとしては適用できな
くなる欠点がある。
Further, even in the case of a batch type in which the film is left in a dryer, it is impossible to prevent wrinkles from being generated on the film surface, and there is a disadvantage that the film cannot be used as a base film for a precision printed circuit board.

しかもこれらの方法では、低収縮効果にバラツキを生
じ、たとえばしわが発生した部分では、MD方向、TD方向
の熱収縮率が大きく変動してしまうという問題もあっ
た。
In addition, these methods have a problem in that the low shrinkage effect varies, for example, in a portion where wrinkles occur, the heat shrinkage in the MD direction and the TD direction greatly fluctuates.

本発明は上記従来技術の欠点を解消し、低収縮性で、
かつ製品の製造効率の良いポリイミドフィルムの提供を
課題とするものである。
The present invention solves the above-mentioned disadvantages of the prior art, and has low shrinkage,
It is another object of the present invention to provide a polyimide film having good product production efficiency.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記課題を解決するため、本発明は次の手段をとる。 In order to solve the above problems, the present invention takes the following measures.

即ち、本発明の低収縮性ポリイミドフィルムは、ピロ
メリット酸二無水物と4,4′−ジアミノジフェニルエー
テルを、有機溶媒中で重合して得たポリアミド酸溶液を
流延またはフィルム状に押出し、乾燥、熱処理して得た
ポリイミドフィルムを、フィルムの長さ方向の張力を1k
g/m以上、10kg/m以下に保ちながら加熱処理した後、冷
却処理を施し、200℃で1時間熱処理後の収縮率を0.05
%以下にすることを特徴とするものである。
That is, the low-shrinkage polyimide film of the present invention is obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether in an organic solvent, casting or extruding a polyamic acid solution into a film, and drying. The heat-treated polyimide film is tensioned by 1k in the longitudinal direction of the film.
g / m, 10 kg / m or less, and then heat-treated, followed by cooling, and the shrinkage after heat treatment at 200 ° C for 1 hour is 0.05
% Or less.

本発明におけるポリイミドは次の(I)式の構造を主
として有するものである。
The polyimide in the present invention mainly has a structure of the following formula (I).

この(I)式の構造は下記(II)式の前駆体が閉環し
たものである。
In the structure of the formula (I), a precursor of the following formula (II) is closed.

(ここでRはピロメリット酸二無水物残基、R′は4,4
−ジアミノジフェニルエーテル残基、nは自然数であ
る。) (I)式を有するポリイミドは、ピロメリット酸二無
水物と4,4′−ジアミノジフェニルエーテルを、有機溶
媒中で、縮重合することにより得られる。
(Where R is a pyromellitic dianhydride residue and R 'is 4,4
-Diaminodiphenyl ether residue, n is a natural number. The polyimide having the formula (I) can be obtained by polycondensing pyromellitic dianhydride with 4,4'-diaminodiphenyl ether in an organic solvent.

本発明において、酸成分としてピロメリット酸二水物
を単独で用いるのが好ましいが、40モル%以下であれば
他の芳香族テトラカルボン酸二水物を併用することがで
きる。併用可能な酸成分としては、2,3,6,7−ナフタレ
ンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフエニ
ルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテ
トラカルボン酸二無水物、2,2′,3,3′−ジフエニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフエニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフエニル)スルホン二無水物、3,4,9,10−ペリレン
テトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フエニル)エーテル二無水物、ナフタレン−1,2,4,5−
テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,4,5,8−テ
トラカルボン酸二無水物、デカヒドロ−ナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1,
2,3,5,6,7−ヘキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラ
カルボン酸二無水物、2,6−ジクロロナフタレン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロナフタ
レン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−
テトラクロロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸
二無水物、フエナントレン−1,8,9,10−テトラカルボン
酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)
プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフエ
ニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシ
フエニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシ
フエニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フエニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フエニル)スルホン二無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テ
トラカルボン酸二無水物、3,4,3′,4′−ベンゾフエノ
ンテトラカルボン酸二無水物など、またはこれらの2種
以上の混合物が挙げられる。
In the present invention, it is preferable to use pyromellitic dihydrate alone as the acid component, but other aromatic tetracarboxylic dihydrates can be used in combination if it is 40 mol% or less. Acid components that can be used in combination include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6 -Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis ( 3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, naphthalene-1, 2,4,5-
Tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, decahydro-naphthalene-1,
4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,
2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,
5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-
Tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl )
Propane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3 -Dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, benzene-1,2,3 , 4-tetracarboxylic dianhydride, 3,4,3 ', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and the like, or a mixture of two or more thereof.

また、ジアミン成分としては4,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテルを単独で用いるのが好ましいが、40モル%
以下であれば他の芳香族ジアミンを併用することができ
る。併用可能なジアミン成分としてはたとえばメタフエ
ニレンジアミン、パラ−フエニレンジアミン、4,4′−
ジアミノ−ジフエニルプロパン、4,4′−ジアミノ−ジ
フエニルメタン、ベンチジン、4,4′−ジアミノ−ジフ
エニルサルファイド、4,4′−ジアミノ−ジフエニルス
ルホン、3,3′−ジアミノ−ジフエニルスルホン、2,6−
ジアミノ−ピリジン、ビス−(4−アミノ−フエニル)
ジエチルシラン、ビス−(4−アミノ−フエニル)ジフ
エニルシラン、3,3′−ジクロロ−ベンチジン、ビス−
(4−アミノ−フエニル)エチルホスフインオキサイ
ド、ビス−(4−アミノ−フエニル)フエニルホスフイ
ンオキサイド、ビス−(4−アミノ−フエニル)−N−
フエニルアミン、ビス−(4−アミノ−フエニル)−N
−メチル−アミン、1,5−ジアミノ−ナフタレン、3,3′
−ジメチル−4,4′−ジアミノ−ビフエニル、3,4′−ジ
メチル−3′,4−ジアミノ−ビフエニル、3,3′−ジメ
トキシベンチジン、2,4−ビス(ベーターアミノ−t−
ブチル)トルエン、ビス(パラ−ベータ−アミノ−t−
ブチル−フエニル)エーテル、パラ−ビス−(2−メチ
ル−4−アミノ−ペンチル)ベンゼン、パラ−ビス−
(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチル)ベンゼン、
m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,
3−ジアミノアダマンタン、3,3′−ジアミノ−1,1′−
ジアダマンタン、3,3′−ジアミノメチル−1,1′−ジア
ダマンタン、ビス(パラ−アミノ−シクロヘキシル)メ
タン、ヘキサメチレンジアミン、ペプタメチレンジアミ
ン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、
デカメチレンジアミン、3−メチルヘプタメチレンジア
ミン、4,4−ジメチルヘプタメチレンジアミン、2,11−
ジアミノ−ドデカン、1,2−ビス−(3−アミノ−プロ
ポキシ)エタン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、
3−メトキシ−ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチ
ルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘプタメチ
レンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、1,4
−ジアミノ−シクロヘキサン、1,12−ジアミノ−オクタ
デカン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オキサジアゾール、2,
2−ビス(4−アミノフエニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、N−(3−アミノフエニル)−4−アミノベンズア
ミド、4−アミノフエニル−3−アミノベンゾエートま
たはこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
As the diamine component, it is preferable to use 4,4'-diaminodiphenyl ether alone.
If it is below, other aromatic diamines can be used in combination. Examples of the diamine component that can be used in combination include metaphenylenediamine, para-phenylenediamine, and 4,4'-
Diamino-diphenylpropane, 4,4'-diamino-diphenylmethane, benzidine, 4,4'-diamino-diphenylsulfide, 4,4'-diamino-diphenylsulfone, 3,3'-diamino-diphenylsulfone, 2,6-
Diamino-pyridine, bis- (4-amino-phenyl)
Diethylsilane, bis- (4-amino-phenyl) diphenylsilane, 3,3'-dichloro-benzidine, bis-
(4-amino-phenyl) ethylphosphoxide, bis- (4-amino-phenyl) phenylphosphoxide, bis- (4-amino-phenyl) -N-
Phenylamine, bis- (4-amino-phenyl) -N
-Methyl-amine, 1,5-diamino-naphthalene, 3,3 '
-Dimethyl-4,4'-diamino-biphenyl, 3,4'-dimethyl-3 ', 4-diamino-biphenyl, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,4-bis (beta-amino-t-
Butyl) toluene, bis (para-beta-amino-t-)
Butyl-phenyl) ether, para-bis- (2-methyl-4-amino-pentyl) benzene, para-bis-
(1,1-dimethyl-5-amino-pentyl) benzene,
m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,
3-diaminoadamantane, 3,3'-diamino-1,1'-
Diadamantane, 3,3'-diaminomethyl-1,1'-diadamantane, bis (para-amino-cyclohexyl) methane, hexamethylenediamine, peptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine,
Decamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-
Diamino-dodecane, 1,2-bis- (3-amino-propoxy) ethane, 2,2-dimethylpropylenediamine,
3-methoxy-hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 1,4
-Diamino-cyclohexane, 1,12-diamino-octadecane, 2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole, 2,
Examples include 2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, N- (3-aminophenyl) -4-aminobenzamide, 4-aminophenyl-3-aminobenzoate, or a mixture of two or more thereof.

次に、本発明でポリイミドの縮重合に用いられる有機
溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−
ジエチルアセトアミド、N−ジメチルメトキシアセトア
ミド、N−メチル−カプロラクタム、ジメチルスルホキ
シド、N−メチル−2−ピロリドン、テトラメチル尿
素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホ
ルアミド、テトラメチレンスルホン、ホルムアミド、N
−メチルホルムアミド及びブチロラクトンである。これ
らの有機溶媒は単独または溶媒の組合せで、或いはベン
ゼン、ベンゾニトリル、ジオキサン、ブチロラクトン、
キシレン、トルエン及びシクロヘキサンの如き溶媒性の
劣る溶媒との組合せにおいて用いることが出来る。
Next, as the organic solvent used for the condensation polymerization of the polyimide in the present invention, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylformamide, N, N-
Diethylacetamide, N-dimethylmethoxyacetamide, N-methyl-caprolactam, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylenesulfone, formamide, N
-Methylformamide and butyrolactone. These organic solvents may be used alone or in combination, or may be benzene, benzonitrile, dioxane, butyrolactone,
It can be used in combination with less solvent solvents such as xylene, toluene and cyclohexane.

触媒としては、第三級アミン類の使用が望ましく、こ
れらアミン類の具体例としては、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、トリエチレンジアミン、ピリジン、イ
ソキノリン、2−エチルピリジン、2−メチルピリジ
ン、トリエチルアミン、N−エチルモルフオリン、N−
メチルモルフオリン、ジエチルシクロヘキシルアミン、
N−ジメチルシクロヘキシルアミン、4−ベンゾイルピ
リジン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジン、2,4,6−コリ
ジン、3,4−ルチジン、3,5−ルチジン、4−メチルピリ
ジン、3−メチルピリジン、4−イソプロピルピリジ
ン、N−ジメチルベンジルアミン、4−ベンジルピリジ
ン、及びN−ジメチルドデシルアミンなどが挙げられ
る。
As the catalyst, tertiary amines are preferably used, and specific examples of these amines include trimethylamine, triethylamine, triethylenediamine, pyridine, isoquinoline, 2-ethylpyridine, 2-methylpyridine, triethylamine, N-ethylmorph. Olin, N-
Methyl morpholin, diethylcyclohexylamine,
N-dimethylcyclohexylamine, 4-benzoylpyridine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, 2,4,6-collidine, 3,4-lutidine, 3,5-lutidine, 4-methylpyridine, 3-methylpyridine Examples include methylpyridine, 4-isopropylpyridine, N-dimethylbenzylamine, 4-benzylpyridine, and N-dimethyldodecylamine.

さらに、脱水剤としては有機カルボン酸無水物、N,
N′−ジアルキルカルボジイミド類、低級脂肪酸ハロゲ
ン化物、ハロゲン化低級脂肪酸ハロゲン化物、ハロゲン
化低級脂肪酸無水物、アリールホスホン酸ジハロゲン化
物及びチオニルハロゲン化物が挙げられる。
Further, as a dehydrating agent, organic carboxylic anhydride, N,
N'-dialkylcarbodiimides, lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid anhydrides, arylphosphonic dihalides and thionyl halides.

ここで、有機カルボン酸無水物としては無水酢酸、プ
ロピオン酸無水物、酪酸無水物、吉草酸無水物、これら
が互いに混合された無水物及び芳香族モノカルボン酸例
えば安息香酸、ナフトエ酸等の無水物との混合物、及び
炭酸及びギ酸並びに脂肪族ケテン類(ケテン及びジメチ
ルケテン)の無水物との混合物などが挙げられるが、な
かでも無水酢酸およびケテン類の使用が好ましい。
Here, as the organic carboxylic anhydride, acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, valeric anhydride, anhydrides thereof mixed with each other and aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, naphthoic acid, etc. And a mixture with carbonic acid and formic acid and anhydrides of aliphatic ketene (ketene and dimethylketene). Of these, acetic anhydride and ketene are preferred.

安息香酸無水物のほか、他の使用し得る芳香族酸無水
物には、o−、m−及びp−トルイル酸、m−及びp−
エチル安息香酸、p−プロピル安息香酸、p−イソプロ
ピル安息香酸、アニス酸、o−、m−及びp−ニトロ安
息香酸、o−、m−及びp−ハロ安息香酸、種々のジプ
ロモ及びジクロロ安息香酸、トリブロモ及びトリクロロ
安息香酸、ジメチル安息香酸の異性体例えばヘメリチル
酸、3,4−キシリル酸、イソキシリル酸及びメシチレン
酸、ベラトルム酸、トリメトキシ安息香酸、アルファー
及びベータ−ナフトエ酸、及びビフェニルカルボン酸な
どの酸の無水物、及び上記無水物相互の混合無水物及び
脂肪酸モノカルボン酸例えば酢酸、プロピオン酸等の無
水物との混合物無水物、及び炭酸及びギ酸各無水物との
混合無水物が挙げられる。
In addition to benzoic anhydride, other aromatic anhydrides which may be used include o-, m- and p-toluic acid, m- and p-
Ethylbenzoic acid, p-propylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid, anisic acid, o-, m- and p-nitrobenzoic acid, o-, m- and p-halobenzoic acid, various dibromo and dichlorobenzoic acids , Tribromo and trichloro benzoic acid, isomers of dimethyl benzoic acid, such as hemelicylic acid, 3,4-xylylic acid, isoxylylic acid and mesitylene acid, veratric acid, trimethoxybenzoic acid, alpha and beta-naphthoic acid, and biphenylcarboxylic acid. Acid anhydrides and mixed anhydrides of the above anhydrides and mixed anhydrides of fatty acid monocarboxylic acids with anhydrides such as acetic acid and propionic acid, and mixed anhydrides with carbonic acid and formic acid anhydrides.

N,N′−ジアルキルカルボジイミド類は 式:R−N=C=N−R (式中Rは異なったアルキル基であり得るが、一般に同
一である) により表わされ、好ましくは、R基は1乃至8個の炭素
原子の低級アルキル基である。
N, N'-dialkylcarbodiimides are represented by the formula: RN = C = NR, wherein R can be different alkyl groups, but are generally the same, and preferably the R group is It is a lower alkyl group of 1 to 8 carbon atoms.

ハロゲンを含む脱水剤には、塩化アセチル、臭化アセ
チル、沃化アセチル及び弗化アセチル、塩化プロピオニ
ル、臭化プロピオニル、沃化プロピオニル及び弗化プロ
ピオニル、塩化イソブチリル、臭化イソブチリル、塩化
n−ブチリル、臭化n−ブチリル、塩化バレリル、塩化
モノ−、塩化ジ−及び塩化トリ−クロロアセチル、臭化
ブロモアセチル、クロロ酢酸無水物、フエニルホスホン
酸ジクロライド、塩化チオニル、臭化チオニル、弗化チ
オニル及びチオニルクロロフルオライド、およびトリフ
ルオロ酢酸無水物が挙げられる。
Dehydrating agents containing halogen include acetyl chloride, acetyl bromide, acetyl iodide and acetyl fluoride, propionyl chloride, propionyl bromide, propionyl iodide and propionyl fluoride, isobutyryl chloride, isobutyryl bromide, n-butyryl chloride, N-butyryl bromide, valeryl chloride, mono-, di- and tri-chloroacetyl chloride, bromoacetyl bromide, chloroacetic anhydride, phenylphosphonic dichloride, thionyl chloride, thionyl bromide, thionyl fluoride and thionylchloro Fluoride and trifluoroacetic anhydride.

得られるポリアミド酸溶液は流延またはフィルム状に
押出され、上記触媒および脱水剤の存在下で乾燥、熱処
理を行なうことにより、イミド化が進み前記(I)式構
造を有するポリイミドフィルムがこの乾燥・熱処理は、
流延またはフィルム状に押出されたポリアミド酸溶液を
200〜550℃、好ましくは250〜500℃の高温雰囲気に維持
した乾燥熱処理ゾーンを通過させることにより達成する
ことができる。
The resulting polyamic acid solution is cast or extruded in the form of a film, and is dried and heat-treated in the presence of the catalyst and the dehydrating agent, whereby imidization proceeds and the polyimide film having the structure of the formula (I) is dried and dried. Heat treatment is
Polyamide acid solution cast or extruded into film
This can be achieved by passing through a dry heat treatment zone maintained at a high temperature atmosphere of 200 to 550 ° C, preferably 250 to 500 ° C.

本発明においてフィルム厚みが5〜150μm、好まし
くは7〜125μmになるように調整することが必要であ
る。
In the present invention, it is necessary to adjust the film thickness so as to be 5 to 150 μm, preferably 7 to 125 μm.

得られたポリイミドフィルムを本発明においてはフィ
ルムの長さ方向の張力を1kg/m以上、10kg/m以下に保ち
ながら、比較的低い温度で、しかも比較的短時間で加熱
処理する。
In the present invention, the obtained polyimide film is subjected to heat treatment at a relatively low temperature and in a relatively short time while maintaining the tension in the longitudinal direction of the film at 1 kg / m or more and 10 kg / m or less.

張力は小さい程、低収縮性のフィルムが得られるが、
完全無張力下では特に連続巻取りを行なうとき、フィル
ムが蛇行し、熱収縮率のばらつきが大きくなる傾向にあ
るので、1kg/m以上が好ましい、また、10kg/mを越える
と本発明の目的である加熱低収縮性のフィルムが得られ
なくなる。
The lower the tension, the lower the shrinkage of the film.
Especially under complete tension, especially when performing continuous winding, the film is meandering, and the variation in heat shrinkage tends to be large.Therefore, it is preferably 1 kg / m or more. Cannot be obtained.

加熱の手段としては遠赤外線を照射する方法または熱
風を吹き付ける方法が好ましい。ポリイミドフィルムは
遠赤外線領域に吸収ピークがあり、この吸収波長を含む
遠赤外線を照射することにより、極めて短時間で加熱が
行なわれる。
As a heating means, a method of irradiating far infrared rays or a method of blowing hot air is preferable. The polyimide film has an absorption peak in the far-infrared region, and is heated in a very short time by irradiating far-infrared rays including this absorption wavelength.

また、遠赤外線照射や熱風吹付けに加えて、ラジエー
ションヒーターを併用することもでき、さらにはラジエ
ーションヒーターのみを用いて加熱処理を行なうことも
できる。
Further, in addition to far-infrared irradiation and hot air blowing, a radiation heater can be used in combination, and a heat treatment can be performed using only the radiation heater.

加熱処理における加熱時間は短くてよく、好ましくは
1〜60秒、とくに2〜30秒で十分である。
The heating time in the heat treatment may be short, preferably 1 to 60 seconds, particularly 2 to 30 seconds is sufficient.

加熱処理温度はとくに限定されないが、70〜300℃、
とくに100〜230℃が好ましい。
The heat treatment temperature is not particularly limited, but is 70-300 ° C.
Particularly, 100 to 230 ° C is preferable.

なお、かくして得られる本発明のポリイミドフィルム
は、これを200℃で1時間熱処理した後のフィルム長さ
方向(MD)および幅方向(TD)の収縮率が何れも0.05%
以下という、実用性の高い特性を有している。
The polyimide film of the present invention thus obtained has a shrinkage rate of 0.05% in both the film length direction (MD) and the width direction (TD) after heat treatment at 200 ° C. for 1 hour.
It has the following highly practical characteristics.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例を挙げて本発明の効果を具体的に説明す
る。
Hereinafter, the effects of the present invention will be specifically described with reference to examples.

実施例1 ピロメリット酸二無水物は4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテルを等モルずつN,N−ジメチルアセトアミド中
に入れ攪拌しながら反応を進めることにより、ポリアミ
ド酸溶液を得た。
Example 1 Pyromellitic dianhydride was prepared by equilibrating 4,4'-diaminodiphenyl ether in N, N-dimethylacetamide and agitating the reaction to obtain a polyamic acid solution.

このポリアミド酸溶液に無水酢酸、イソキノリンを加
え攪拌した後、加熱支持体上に溶液を押出し、ポリイミ
ドに転化させて自己支持性のフィルムとした後、支持体
から剥離し、さらにイミドへの転化反応を完結すると共
に250〜450℃の乾燥熱処理ゾーンを通過せることにより
乾燥・熱処理し、厚み25μmのポリイミドフィルムとし
てロール状に巻取った。
Acetic anhydride and isoquinoline were added to this polyamic acid solution, and the mixture was stirred. The solution was extruded on a heated support, converted to a polyimide to form a self-supporting film, peeled from the support, and further converted to an imide. Was completed and dried and heat-treated by passing through a drying heat treatment zone at 250 to 450 ° C., and wound into a roll as a polyimide film having a thickness of 25 μm.

このポリイミドフィルムを、表1に示した温度のトン
ネル型赤外線照射炉に連続的に送り込み、表1に示した
条件で熱処理した後、炉外で巻取りながら室温まで冷却
した。熱処理中のフィルム張力は送りローラと巻取ロー
ラの回転速度差で調節し、熱処理時間は各ローラの相対
回転速度で調節した。
This polyimide film was continuously fed into a tunnel-type infrared irradiation furnace at the temperature shown in Table 1, heat-treated under the conditions shown in Table 1, and then cooled to room temperature while being wound up outside the furnace. The film tension during the heat treatment was adjusted by the difference in rotation speed between the feed roller and the take-up roller, and the heat treatment time was adjusted by the relative rotation speed of each roller.

結果を表1に示す。 Table 1 shows the results.

実施例2 実施例1と同様にして、厚み125μmのポリイミドフ
ィルムを得た。これを230℃のトンネル型赤外線照射炉
に送り込み、表2に示した処理張力で30秒間熱処理した
後、室温まで冷却した。
Example 2 A polyimide film having a thickness of 125 μm was obtained in the same manner as in Example 1. This was fed into a tunnel-type infrared irradiation furnace at 230 ° C., heat-treated for 30 seconds at the treatment tension shown in Table 2, and then cooled to room temperature.

得られたフィルムの熱収縮率評価結果を表2に示す。 Table 2 shows the evaluation results of the heat shrinkage of the obtained film.

〔発明の効果〕 本発明のポリイミドフィルムは、長さ方向の張力を10
kg/m以下に保ちながら、比較的低温で短時間熱処理する
ことにより得られるため、加熱処理効率がすぐれ、フィ
ルムに波打ちやしわが発生することがなく、しかも連続
化が可能である。
(Effect of the Invention) The polyimide film of the present invention has a tension in the length direction of 10
Since the film is obtained by performing a heat treatment at a relatively low temperature for a short time while keeping it at or below kg / m, the heat treatment efficiency is excellent, and the film does not generate waving or wrinkles, and can be made continuous.

また、本発明のポリイミドフィルムは、200℃で1時
間熱処理後の収縮率が、MDおよびTD方向共に0.05%以下
とすぐれた特性を有しており、フレキシブルプリント基
板などの用途に有用である。
In addition, the polyimide film of the present invention has excellent shrinkage after heat treatment at 200 ° C. for 1 hour in both the MD and TD directions of 0.05% or less, and is useful for applications such as flexible printed circuit boards.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−264027(JP,A) 特開 昭61−264028(JP,A) 特開 昭57−109613(JP,A) 特開 昭62−41024(JP,A) 特開 平1−198638(JP,A) 特開 昭57−178831(JP,A) 特開 昭60−190314(JP,A) 特開 昭63−230320(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 71/02 B29C 41/12 C08J 7/00 301 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-61-264027 (JP, A) JP-A-61-264028 (JP, A) JP-A-57-109613 (JP, A) 41024 (JP, A) JP-A-1-198638 (JP, A) JP-A-57-178831 (JP, A) JP-A-60-190314 (JP, A) JP-A-63-230320 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B29C 71/02 B29C 41/12 C08J 7/00 301

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ピロメリット酸二無水物と4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテルを、有機溶媒中で重合して得たポ
リアミド酸溶液を流延またはフィルム状に押出し、乾
燥、熱処理して得たポリイミドフィルムを、フィルムの
長さ方向の張力を1kg/m以上、10kg/m以下に保ちながら
加熱処理した後、冷却処理を施し、200℃で1時間熱処
理後の収縮率を0.05%以下にする低収縮性ポリイミドフ
ィルム。
1. A polyimide obtained by casting or extruding a polyamic acid solution obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether in an organic solvent, drying and heat-treating the polyamic acid solution. The film is heat-treated while maintaining the tension in the length direction of the film at not less than 1 kg / m and not more than 10 kg / m, and then subjected to a cooling treatment to reduce the shrinkage after heat treatment at 200 ° C. for 1 hour to 0.05% or less. Shrinkable polyimide film.
JP1190534A 1989-07-25 1989-07-25 Low shrinkage polyimide film Expired - Lifetime JP3020174B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1190534A JP3020174B2 (en) 1989-07-25 1989-07-25 Low shrinkage polyimide film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1190534A JP3020174B2 (en) 1989-07-25 1989-07-25 Low shrinkage polyimide film

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11258696A Division JP3136487B2 (en) 1999-09-13 1999-09-13 Method for producing low shrinkage polyimide film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0355230A JPH0355230A (en) 1991-03-11
JP3020174B2 true JP3020174B2 (en) 2000-03-15

Family

ID=16259688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1190534A Expired - Lifetime JP3020174B2 (en) 1989-07-25 1989-07-25 Low shrinkage polyimide film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3020174B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001164006A (en) * 1999-12-09 2001-06-19 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide film
WO2005082595A1 (en) * 2004-02-27 2005-09-09 Kaneka Corporation Process for producing synthetic resin film having molecular orientation controlled in md direction
JP2009184365A (en) * 2009-05-27 2009-08-20 Micro-Tec Co Ltd Squeegee
JP2019011853A (en) * 2017-07-03 2019-01-24 内山工業株式会社 Seal washer

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61264027A (en) * 1985-05-17 1986-11-21 Ube Ind Ltd Production of polyimide film having high dimensional stability
JPS6241024A (en) * 1985-08-19 1987-02-23 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide film having improved heat shrinking characteristics
JPH01198638A (en) * 1987-08-21 1989-08-10 Ube Ind Ltd Aromatic polyimide film and production thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0355230A (en) 1991-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4725484A (en) Dimensionally stable polyimide film and process for preparation thereof
US20090088551A1 (en) Polyimide film
US5218034A (en) Polyimide film with tin or tin salt incorporation resulting in improved adhesion
JPH046213B2 (en)
JP3136487B2 (en) Method for producing low shrinkage polyimide film
JP3136488B2 (en) Method for producing low shrinkage polyimide film
JP3020175B2 (en) Low shrinkage polyimide film
JP3020174B2 (en) Low shrinkage polyimide film
JP3136489B2 (en) Method for producing low shrinkage polyimide film
JP3020176B2 (en) Low shrinkage polyimide film
US4986946A (en) Polyimide articles of intermediate electrical conductivity and a process for making them
EP0358783A1 (en) Polyimide molecular weight enhancement by solvent extraction
JP3087117B2 (en) Polyimide film laminate
US4906731A (en) Polyimide molecular weight enhancement by solvent extraction
JP5550010B2 (en) Method for producing polyimide film
JP2008201940A (en) Low heat shrinkable polyimide film and method for producing the same
JP2932284B2 (en) Polyimide film laminate
JP2006299151A (en) Low heat shrinkable polyimide film and method for producing the same
JP2831867B2 (en) Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer comprising the same, polyimide film, and methods for producing them
JP2850386B2 (en) Manufacturing method of polyimide resin
JP2007197696A (en) Low heat shrink and high adhesion polyimide film
EP0349310A2 (en) Polyimide articles of intermediate electrical conductivity and a process for making them
JP2007197697A (en) Low heat shrink and high adhesion polyimide film
CA1302630C (en) Polyimide molecular weight enhancement by solvent extraction
JP4253791B2 (en) Method for producing polyimide film

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090114

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090114

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100114

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100114

Year of fee payment: 10