JP3020176B2 - Low shrinkage polyimide film - Google Patents
Low shrinkage polyimide filmInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は熱に対する収縮性が改善された低収縮性ポリ
イミドフィルムに関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a low-shrinkage polyimide film having improved heat shrinkability.
芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンを
重縮合して得られるポリイミドは極めて耐熱性に優れた
ポリマーとして知られている。A polyimide obtained by polycondensing an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine is known as a polymer having extremely excellent heat resistance.
このポリイミドは溶媒に不溶であるが、その前駆体で
あるポリアミド酸は特定の有機溶媒に可溶であるため、
このポリアミド酸有機溶媒溶液を流延し、イミド化と同
時に乾燥することにより耐熱性のフィルムが得られる。Although this polyimide is insoluble in a solvent, its precursor polyamic acid is soluble in a specific organic solvent,
The heat-resistant film is obtained by casting and drying the polyamic acid organic solvent solution simultaneously with imidization.
このポリイミドフィルムは耐熱性、絶縁性及び機械特
性に優れているため、フレキシブルプリント基板のベー
スフィルムとして従来から利用されている。Since this polyimide film has excellent heat resistance, insulation properties and mechanical properties, it has been conventionally used as a base film for flexible printed circuit boards.
ポリイミドフィルムをベースフィルムとしてフレキシ
ブルプリント基板を作るためには銅等の金属箔を積層す
るかあるいは真空蒸着,スパッタリング等により金属を
付着させる必要があるが、この工程でかなりの熱がかか
るため、熱に対する寸法安定性が要求される。In order to make a flexible printed circuit board using a polyimide film as a base film, it is necessary to laminate a metal foil such as copper or attach a metal by vacuum evaporation, sputtering, or the like. Dimensional stability is required.
特に、最近ではフレキシブルプリント基板のファイン
パターン化により、熱による収縮が小さいポリイミドフ
ィルムが望まれている。In particular, recently, a polyimide film which has a small shrinkage due to heat due to fine patterning of a flexible printed board has been desired.
このような要求に応える手段として、特開昭62−4102
4号公報にはポリイミドフィルムを実質的に無張力下、
加熱オーブン中で加熱処理した後、冷却する方法が提案
されている。As means for responding to such demands, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-4102
No. 4 discloses a polyimide film under substantially no tension,
A method of cooling after heating in a heating oven has been proposed.
無張力下で熱処理する方法は潜在収縮応力を緩和し、
その後の加熱に対して収縮が小さくなるため、有効な方
法であるが、次のような欠点がある。The method of heat treatment under no tension relaxes latent shrinkage stress,
This is an effective method because shrinkage is reduced by subsequent heating, but has the following disadvantages.
即ち、無張力下で熱処理するためにはフィルムを巻い
たロールを加熱オーブン中に放置する方法(特開昭62−
41024号公報実施例)あるいは巻出し、巻取り機を備え
た連続型加熱炉中でフィルムを連続的に処理する方法が
あるが、いずれにしても無張力下で長時間処理すること
になるのでフィルムが波を打つ状態になり、熱収縮率が
ばらつく問題が生じる。特に連続処理の場合にはフィル
ムが蛇行して完全な製品のロールが得られないという不
都合が生じる。That is, in order to perform heat treatment without tension, a method in which a roll wound with a film is left in a heating oven (Japanese Patent Laid-Open No. Sho 62-62).
There is a method in which a film is continuously processed in a continuous heating furnace equipped with an unwinding and winding machine. However, in any case, the film is processed under no tension for a long time. The film becomes wavy, causing a problem that the heat shrinkage ratio varies. In particular, in the case of continuous processing, there is an inconvenience that the film meanders and a complete product roll cannot be obtained.
また、乾燥機の中に放置するバッチ式であってもフィ
ルム表面にしわが発生することは防ぐことができず、精
密なプリント基板のベースフィルムとしては適用できな
くなる欠点がある。Further, even in the case of a batch type in which the film is left in a dryer, it is impossible to prevent wrinkles from being generated on the film surface, and there is a disadvantage that the film cannot be used as a base film for a precision printed circuit board.
本発明は上記従来技術の欠点を解消し、低収縮性で、
かつ製品の製造効率の良いポリイミドフィルムの提供を
課題とするものである。The present invention solves the above-mentioned disadvantages of the prior art, and has low shrinkage,
It is another object of the present invention to provide a polyimide film having good product production efficiency.
上記課題を解決するため、本発明は次の手段をとる。 In order to solve the above problems, the present invention takes the following measures.
即ち、本発明の低収縮性ポリイミドフィルムは、ピロ
メリット酸二無水物と4,4′−ジアミノジフェニルエー
テルを、有機溶媒中で重合して得たポリアミド酸溶液を
流延またはフィルム状に押出し、乾燥、熱処理して得た
ポリイミドフィルムを、フィルムの長さ方向の張力を1k
g/m以上、10kg/m以下に保ち、遠赤外線を照射して短時
間で加熱処理した後、冷却処理を施してなることを特徴
とするものである。That is, the low-shrinkage polyimide film of the present invention is obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether in an organic solvent, casting or extruding a polyamic acid solution into a film, and drying. The heat-treated polyimide film is tensioned by 1k in the longitudinal direction of the film.
g / m or more and 10 kg / m or less, heat treatment in a short time by irradiating far-infrared rays, and then cooling treatment.
本発明におけるポリイミドは次の(I)式の構造を主
として有するものである。The polyimide in the present invention mainly has a structure of the following formula (I).
この(I)式の構造は下記(II)式の前駆体が閉環し
たものである。 In the structure of the formula (I), a precursor of the following formula (II) is closed.
(ここでRはピロメリット酸二無水物残基、R′は4,4
−ジアミノジフェニルエーテル残基、nは自然数であ
る。) (I)式を有するポリイミドは、ピロメリット酸二無
水物と4,4′−ジアミノジフェニルエーテルを、有機溶
媒中で、縮重合することにより得られる。 (Where R is a pyromellitic dianhydride residue and R 'is 4,4
-Diaminodiphenyl ether residue, n is a natural number. The polyimide having the formula (I) can be obtained by polycondensing pyromellitic dianhydride with 4,4'-diaminodiphenyl ether in an organic solvent.
本発明において、酸成分としてピロメリット酸二水物
を単独で用いるのが好ましいが、40モル%以下であれば
他の芳香族テトラカルボン酸二水物を併用することがで
きる。併用可能な酸成分としてはとしては、たとえばピ
ロメリット酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカ
ルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフエニルテトラカ
ルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,2′,3,3′−ジフエニルテトラカルボ
ン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフエニ
ル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフエ
ニル)スルホン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカ
ルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフエニ
ル)エーテル二無水物、ナフタレン−1,2,4,5−テトラ
カルボン酸二無水物、ナフタレン−1,4,5,8−テトラカ
ルボン酸二無水物、デカヒドロ−ナフタレン−1,4,5,8
−テトラカルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1,2,3,
5,6,7−ヘキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカル
ボン酸二無水物、2,6−ジクロロナフタレン−1,4,5,8−
テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロナフタレン
−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−テト
ラクロロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無
水物、フエナントレン−1,8,9,10−テトラカルボン酸二
無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)プロ
パン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフエニ
ル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフ
エニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフ
エニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
エニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
エニル)スルホン二無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テト
ラカルボン酸二無水物、3,4,3′,4′−ベンゾフエノン
テトラカルボン酸二無水物など、またはこれらの2種以
上の混合物が挙げられる。In the present invention, it is preferable to use pyromellitic dihydrate alone as the acid component, but other aromatic tetracarboxylic dihydrates can be used in combination if it is 40 mol% or less. Examples of the acid component that can be used in combination include pyromellitic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, and 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic dianhydride. Anhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxy Phenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Ether dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, decahydro-naphthalene-1,4,5, 8
-Tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,
5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-
Tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetra Carboxylic dianhydride, phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (2 , 3-Dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 4,3 ', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and the like, or a mixture of two or more thereof.
また、ジアミン成分としては4,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテルを単独で用いるのが好ましいが、40モル%
以下であれば他の芳香族ジアミンを併用することができ
る。併用可能なジアミン成分としてはたとえばメタフエ
ニレンジアミン、パラ−フエニレンジアミン、4,4′−
ジアミノ−ジフエニルプロパン、4,4′−ジアミノ−ジ
フエニルメタン、ベンチジン、4,4′−ジアミノ−ジフ
エニルサルファイド、4,4′−ジアミノ−ジフエニルス
ルホン、3,3′−ジアミノ−ジフエニルスルホン、2,6−
ジアミノ−ピリジン、ビス−(4−アミノ−フエニル)
ジエチルシラン、ビス−(4−アミノ−フエニル)ジフ
エニルシラン、3,3′−ジクロロ−ベンチジン、ビス−
(4−アミノ−フエニル)エチルホスフインオキサイ
ド、ビス−(4−アミノ−フエニル)フエニルホスフイ
ンオキサイド、ビス−(4−アミノ−フエニル)−N−
フエニルアミン、ビス−(4−アミノ−フエニル)−N
−メチル−アミン、1,5−ジアミノ−ナフタレン、3,3′
−ジメチル−4,4′−ジアミノ−ビフエニル、3,4′−ジ
メチル−3′,4−ジアミノ−ビフエニル、3,3′−ジメ
トキシベンチジン、2,4−ビス(ベータ−アミノ−t−
ブチル)トルエン、ビス(パラ−ベータ−アミノ−t−
ブチル−フエニル)エーテル、パラ−ビス−(2−メチ
ル−4−アミノ−ペンチル)ベンゼン、パラ−ビス−
(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチル)ベンゼン、
m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,
3−ジアミノアダマンタン、3,3′−ジアミノ−1,1′−
ジアダマンタン、3,3′−ジアミノメチル−1,1′−ジア
ダマンタン、ビス(パラ−アミノ−シクロヘキシル)メ
タン、ヘキサメチレンジアミン、ペプタメチレンジアミ
ン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、
デカメチレンジアミン、3−メチルヘプタメチレンジア
ミン、4,4−ジメチルヘプタメチレンジアミン、2,11−
ジアミノ−ドデカン、1,2−ビス−(3−アミノ−プロ
ポキシ)エタン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、
3−メトキシ−ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチ
ルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘプタメチ
レンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、1,4
−ジアミノ−シクロヘキサン、1,12−ジアミノ−オクタ
デカン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オキサジアゾール、2,
2−ビス(4−アミノフエニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、N−(3−アミノフエニル)−4−アミノベンズア
ミド、4−アミノフエニル−3−アミノベンゾエートま
たはこれらの2種以上の混合物が挙げられる。As the diamine component, it is preferable to use 4,4'-diaminodiphenyl ether alone.
If it is below, other aromatic diamines can be used in combination. Examples of the diamine component that can be used in combination include metaphenylenediamine, para-phenylenediamine, and 4,4'-
Diamino-diphenylpropane, 4,4'-diamino-diphenylmethane, benzidine, 4,4'-diamino-diphenylsulfide, 4,4'-diamino-diphenylsulfone, 3,3'-diamino-diphenylsulfone, 2,6-
Diamino-pyridine, bis- (4-amino-phenyl)
Diethylsilane, bis- (4-amino-phenyl) diphenylsilane, 3,3'-dichloro-benzidine, bis-
(4-amino-phenyl) ethylphosphoxide, bis- (4-amino-phenyl) phenylphosphoxide, bis- (4-amino-phenyl) -N-
Phenylamine, bis- (4-amino-phenyl) -N
-Methyl-amine, 1,5-diamino-naphthalene, 3,3 '
-Dimethyl-4,4'-diamino-biphenyl, 3,4'-dimethyl-3 ', 4-diamino-biphenyl, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,4-bis (beta-amino-t-
Butyl) toluene, bis (para-beta-amino-t-)
Butyl-phenyl) ether, para-bis- (2-methyl-4-amino-pentyl) benzene, para-bis-
(1,1-dimethyl-5-amino-pentyl) benzene,
m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,
3-diaminoadamantane, 3,3'-diamino-1,1'-
Diadamantane, 3,3'-diaminomethyl-1,1'-diadamantane, bis (para-amino-cyclohexyl) methane, hexamethylenediamine, peptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine,
Decamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-
Diamino-dodecane, 1,2-bis- (3-amino-propoxy) ethane, 2,2-dimethylpropylenediamine,
3-methoxy-hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 1,4
-Diamino-cyclohexane, 1,12-diamino-octadecane, 2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole, 2,
Examples include 2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, N- (3-aminophenyl) -4-aminobenzamide, 4-aminophenyl-3-aminobenzoate, or a mixture of two or more thereof.
次に、本発明でポリイミドの縮重合に用いられる有機
溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−
ジエチルアセトアミド、N−ジメチルメトキシアセトア
ミド、N−メチル−カプロラクタム、ジメチルスルホキ
シド、N−メチル−2−ピロリドン、テトラメチル尿
素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホ
ルアミド、テトラメチレンスルホン、ホルムアミド、N
−メチルホルムアミド及びブチロラクトンである。これ
らの有機溶媒は単独または溶媒の組合せで、或いはベン
ゼン、ベンゾニトリル、ジオキサン、ブチロラクトン、
キシレン、トルエン及びシクロヘキサンの如き溶媒性の
劣る溶媒との組合せにおいて用いることが出来る。Next, as the organic solvent used for the condensation polymerization of the polyimide in the present invention, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylformamide, N, N-
Diethylacetamide, N-dimethylmethoxyacetamide, N-methyl-caprolactam, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylenesulfone, formamide, N
-Methylformamide and butyrolactone. These organic solvents may be used alone or in combination, or may be benzene, benzonitrile, dioxane, butyrolactone,
It can be used in combination with less solvent solvents such as xylene, toluene and cyclohexane.
触媒としては、第三級アミン類の使用が望ましく、こ
れらアミン類の具体例としては、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、トリエチレンジアミン、ピリジン、イ
ソキノリン、2−エチルピリジン、2−メチルピリジ
ン、トリエチルアミン、N−エチルモルフオリン、N−
メチルモルフオリン、ジエチルシクロヘキシルアミン、
N−ジメチルシクロヘキシルアミン、4−ベンゾイルピ
リジン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジン、2,4,6−コリ
ジン、3,4−ルチジン、3,5−ルチジン、4−メチルピリ
ジン、3−メチルピリジン、4−イソプロピルピリジ
ン、N−ジメチルベンジルアミン、4−ベンジルピリジ
ン、及びN−ジメチルドデシルアミンなどが挙げられ
る。As the catalyst, tertiary amines are preferably used, and specific examples of these amines include trimethylamine, triethylamine, triethylenediamine, pyridine, isoquinoline, 2-ethylpyridine, 2-methylpyridine, triethylamine, N-ethylmorph. Olin, N-
Methyl morpholin, diethylcyclohexylamine,
N-dimethylcyclohexylamine, 4-benzoylpyridine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, 2,4,6-collidine, 3,4-lutidine, 3,5-lutidine, 4-methylpyridine, 3-methylpyridine Examples include methylpyridine, 4-isopropylpyridine, N-dimethylbenzylamine, 4-benzylpyridine, and N-dimethyldodecylamine.
さらに、脱水剤としては有機カルボン酸無水物、N,
N′−ジアルキルカルボジイミド類、低級脂肪酸ハロゲ
ン化物、ハロゲン化低級脂肪酸ハロゲン化物、ハロゲン
化低級脂肪酸無水物、アリールホスホン酸ジハロゲン化
物及びチオニルハロゲン化物が挙げられる。Further, as a dehydrating agent, organic carboxylic anhydride, N,
N'-dialkylcarbodiimides, lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid anhydrides, arylphosphonic dihalides and thionyl halides.
ここで、有機カルボン酸無水物としては無水酢酸、プ
ロピオン酸無水物、酪酸無水物、吉草酸無水物、これら
が互いに混合された無水物及び芳香族モノカルボン酸例
えば安息香酸、ナフトエ酸等の無水物との混合物、及び
炭酸及びギ酸並びに脂肪酸ケテン類(ケテン及びジメチ
ルケテン)の無水物との混合物などが挙げられるが、な
かでも無水酢酸およびケテン類の使用が好ましい。Here, as the organic carboxylic acid anhydride, acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, valeric anhydride, anhydrides thereof mixed with each other and aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, naphthoic acid, etc. And a mixture of carbonic acid and formic acid and an anhydride of a fatty acid ketene (ketene and dimethylketene). Among them, the use of acetic anhydride and ketene is preferable.
安息香酸無水物のほか、他の使用し得る芳香族無水物
には、o−、m−及びp−トルイル酸、m−及びp−エ
チル安息香酸、p−プロピル安息香酸、p−イソプロピ
ル安息香酸、アニス酸、o−、m−及びp−ニトロ安息
香酸、o−、m−及びp−ハロ安息香酸、種々のジブロ
モ及びジクロロ安息香酸、トリブロモ及びトリクロロ安
息香酸、ジメチル安息香酸の異性体例えばヘメリチル
酸、3,4−キシリル酸、イソキシリル酸及びメシチレン
酸、ベラトルム酸、トリメトキシ安息香酸、アルファー
及びベータ−ナフトエ酸、及びビフェニルカルボン酸な
どの酸の無水物、及び上記無水物相互の混合無水物及び
脂肪酸モノカルボン酸例えば酢酸、プロピオン酸等の無
水物との混合物無水物、及び炭酸及びギ酸各無水物との
混合無水物が挙げられる。In addition to benzoic anhydride, other aromatic anhydrides that may be used include o-, m- and p-toluic acid, m- and p-ethylbenzoic acid, p-propylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid. , Anisic acid, o-, m- and p-nitrobenzoic acid, o-, m- and p-halobenzoic acid, various dibromo and dichlorobenzoic acids, tribromo and trichlorobenzoic acid, isomers of dimethylbenzoic acid such as hemelytyl Acids, anhydrides of acids such as 3,4-xylylic acid, isoxylylic acid and mesitylene acid, veratric acid, trimethoxybenzoic acid, alpha- and beta-naphthoic acid, and biphenylcarboxylic acid, and mixed anhydrides of the above anhydrides and Fatty acid monocarboxylic acids such as acetic acid, mixed anhydrides with anhydrides such as propionic acid, and mixed anhydrides with carbonic acid and formic anhydride
N,N′−ジアルキルカルボジイミド類は 式:R−N=C=N−R (式中Rは異なったアルキル基であり得るが、一般に同
一である) により表わされ、好ましくは、R基は1乃至8個の炭素
原子の低級アルキル基である。N, N'-dialkylcarbodiimides are represented by the formula: RN = C = NR, wherein R can be different alkyl groups, but are generally the same, and preferably the R group is It is a lower alkyl group of 1 to 8 carbon atoms.
ハロゲンを含む脱水剤には、塩化アセチル、臭化アセ
チル、沃化アセチル及び弗化アセチル、塩化プロピオニ
ル、臭化プロピオニル、沃化プロピオニル及び弗化プロ
ピオニル、塩化イソブチリル、臭化イソブチリル、塩化
n−ブチリル、臭化n−ブチリル、塩化バレリル、塩化
モノ−、塩化ジ−及び塩化トリ−クロロアセチル、臭化
ブロモアセチル、クロロ酢酸無水物、フエニルホスホン
酸ジクロライド、塩化チオニル、臭化チオニル、弗化チ
オニル及びチオニルクロロフルオライド、およびトリフ
ルオロ酢酸無水物が挙げられる。Dehydrating agents containing halogen include acetyl chloride, acetyl bromide, acetyl iodide and acetyl fluoride, propionyl chloride, propionyl bromide, propionyl iodide and propionyl fluoride, isobutyryl chloride, isobutyryl bromide, n-butyryl chloride, N-butyryl bromide, valeryl chloride, mono-, di- and tri-chloroacetyl chloride, bromoacetyl bromide, chloroacetic anhydride, phenylphosphonic dichloride, thionyl chloride, thionyl bromide, thionyl fluoride and thionylchloro Fluoride and trifluoroacetic anhydride.
得られるポリアミド酸溶液は流延またはフィルム状に
押出され、上記触媒および脱水剤の存在下で乾燥、熱処
理を行なうことにより、イミド化が進み前記(I)式構
造を有するポリイミドフィルムが得られる。この乾燥・
熱処理は、流延またはフィルム状に押出されたポリアミ
ド酸溶液を200〜550℃、好ましくは250〜500℃の高温雰
囲気に維持した乾燥熱処理ゾーンを通過させることによ
り達成することができる。The resulting polyamic acid solution is cast or extruded into a film, and is dried and heat-treated in the presence of the catalyst and the dehydrating agent, whereby imidization proceeds and a polyimide film having the above-mentioned formula (I) is obtained. This drying
The heat treatment can be achieved by passing the cast or extruded polyamic acid solution through a dry heat treatment zone maintained at a high temperature of 200 to 550 ° C, preferably 250 to 500 ° C.
本発明においてはフィルム厚みが5〜150μm、好ま
しくは7〜125μmになるように調整することが必要で
ある。In the present invention, it is necessary to adjust the film thickness so as to be 5 to 150 μm, preferably 7 to 125 μm.
得られたポリイミドフィルムを本発明においてはフィ
ルムの長さ方向の張力を1kg/m以上、10kg/m以下に保
ち、遠赤外線を照射して短時間で加熱処理する。In the present invention, the obtained polyimide film is heat-treated in a short time by irradiating far-infrared rays while keeping the tension in the longitudinal direction of the film at 1 kg / m or more and 10 kg / m or less.
張力は小さい程、低収縮性のフィルムが得られるが、
無張力下では特に連続巻取りを行なうとき、フィルムが
蛇行する傾向にあるので、1kg/m以上が好ましい、ま
た、10kg/mを越えると本発明の目的である加熱低収縮性
のフィルムが得られなくなる。The lower the tension, the lower the shrinkage of the film.
The film tends to meander under continuous tension, particularly under continuous tension, so that it is preferably at least 1 kg / m.If it exceeds 10 kg / m, a film having low heat shrinkage which is the object of the present invention is obtained. Can not be.
加熱の手段は遠赤外線を照射する。ポリイミドフィル
ムは遠赤外線領域に吸収ピークがあり、この吸収波長を
含む遠赤外線を照射することにより、極めて短時間で加
熱が行なわれる。The heating means emits far-infrared rays. The polyimide film has an absorption peak in the far-infrared region, and is heated in a very short time by irradiating far-infrared rays including this absorption wavelength.
遠赤外線のヒーターとしては特に限定されないが、セ
ラミックヒーターが好ましい。また、遠赤外線照射に加
えて、熱風を併用することもできる。The far-infrared heater is not particularly limited, but a ceramic heater is preferred. Further, in addition to far-infrared irradiation, hot air can be used in combination.
本発明においては遠赤外線を用いることにより、加熱
時間は極めて短かくてよく、好ましくは1〜60秒、更に
好ましくは2〜30秒である。In the present invention, by using far infrared rays, the heating time may be very short, preferably 1 to 60 seconds, more preferably 2 to 30 seconds.
加熱処理温度は特に限定されないが、180〜470℃、好
ましくは200〜450℃が好ましい。The heat treatment temperature is not particularly limited, but is preferably from 180 to 470 ° C, more preferably from 200 to 450 ° C.
以下、実施例を挙げて本発明の効果を具体的に説明す
る。Hereinafter, the effects of the present invention will be specifically described with reference to examples.
なお、実施例中の熱収縮率とはフィルム試料を350℃
で30分処理した後のフィルム長さ方向(MD)および幅方
向(TD)の収縮率(%)を示したものであり、この値が
0.1%以下になると極めて実用性が高くなる。測定方法
はJPCA−BM01−1988に準じた。The heat shrinkage ratio in the examples means that the film sample was 350 ° C.
Shows the shrinkage (%) in the film length direction (MD) and width direction (TD) after processing for 30 minutes in
When the content is less than 0.1%, the practicability becomes extremely high. The measuring method conformed to JPCA-BM01-1988.
実施例1 ピロメリット酸二無水物と4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテルを等モルずつN,N−ジメチルアセトアミド中
に入れ攪拌しながら反応を進めることにより、ポリアミ
ド酸溶液を得た。Example 1 A polyamic acid solution was obtained by equimolarly adding pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether to N, N-dimethylacetamide, and agitating the reaction while stirring.
このポリアミド酸溶液に無水酢酸、イソキノリンを加
え攪拌した後、加熱支持体上に溶液を押出し、ポリイミ
ドに転化させて自己支持性のフィルムとした後、支持体
から剥離し、さらにイミドへの転化反応を完結すると共
に250〜450℃の乾燥熱処理ゾーンを通過させることによ
り乾燥・熱処理し、厚み25μmのポリイミドフィルムと
してロール状に巻取った。After adding acetic anhydride and isoquinoline to this polyamic acid solution and stirring, the solution is extruded on a heated support, converted into polyimide to form a self-supporting film, peeled from the support, and further converted to imide. Was completed and dried and heat-treated by passing through a drying heat treatment zone at 250 to 450 ° C., and wound into a roll as a 25 μm-thick polyimide film.
このポリイミドフィルムを、表1に示した温度のトン
ネル型赤外線照射炉に連続的に送り込み、夫々表1に示
した条件で熱処理した後、炉外で巻取りながら室温まで
冷却した。熱処理中のフィルム張力は送りローラと巻取
ローラの回転速度差で調節し、熱処理時間は各ローラの
相対回転速度で調節した。The polyimide film was continuously fed into a tunnel-type infrared irradiation furnace at the temperature shown in Table 1, heat-treated under the conditions shown in Table 1, and cooled to room temperature while being wound up outside the furnace. The film tension during the heat treatment was adjusted by the difference in rotation speed between the feed roller and the take-up roller, and the heat treatment time was adjusted by the relative rotation speed of each roller.
得られたフィルムの熱水収縮率評価結果を表1に示
す。Table 1 shows the evaluation results of the hot water shrinkage of the obtained film.
なお、比較として張力を0.5kg/m,温度を260℃として
同様の実験を行なったが、フィルムが波を打って、連続
的に巻取ることが困難であった。 As a comparison, a similar experiment was conducted with a tension of 0.5 kg / m and a temperature of 260 ° C. However, it was difficult to continuously wind the film because the film was wavy.
実施例2 実施例1と同様にして、厚み125μmのポリイミドフ
ィルムを得た。これを250℃のトンネル型赤外線照射炉
に送り込み、表2に示した処理張力で30秒間熱処理した
後、室温まで冷却した。Example 2 A polyimide film having a thickness of 125 μm was obtained in the same manner as in Example 1. This was sent to a tunnel-type infrared irradiation furnace at 250 ° C., heat-treated for 30 seconds at the treatment tension shown in Table 2, and then cooled to room temperature.
得られたフィルムの熱収縮率評価結果を表2に示す。 Table 2 shows the evaluation results of the heat shrinkage of the obtained film.
〔発明の効果〕 本発明はポリイミドフィルムの長さ方向の張力を10kg
/m以下に保ち、赤外線を照射して熱処理するものである
ので、極めて加熱効率が良く、短時間で低収縮率のポリ
イミドフィルムが得られる。また得られたポリイミドフ
ィルムは、350℃,30分処理後の収縮率が0.1%以下を示
し、フレキシブルプリント基板等に有用な材料を得るこ
とができる。 [Effect of the Invention] The present invention increases the tension in the length direction of the polyimide film by 10 kg.
/ m or less and heat-treated by irradiating infrared rays, so that a polyimide film having a very high heating efficiency and a low shrinkage rate can be obtained in a short time. Further, the obtained polyimide film has a shrinkage of 0.1% or less after treatment at 350 ° C. for 30 minutes, so that a material useful for a flexible printed board or the like can be obtained.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−264027(JP,A) 特開 昭61−264028(JP,A) 特開 昭57−109613(JP,A) 特開 昭62−41024(JP,A) 特開 平1−198638(JP,A) 特開 昭57−178831(JP,A) 特開 昭60−190314(JP,A) 特開 昭63−230320(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 71/02,41/12 C08J 7/00 301 Continuation of the front page (56) References JP-A-61-264027 (JP, A) JP-A-61-264028 (JP, A) JP-A-57-109613 (JP, A) JP-A-62-41024 (JP) JP-A-1-198638 (JP, A) JP-A-57-178831 (JP, A) JP-A-60-190314 (JP, A) JP-A-63-230320 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B29C 71 / 02,41 / 12 C08J 7/00 301
Claims (1)
ノジフェニルエーテルを、有機溶媒中で重合して得たポ
リアミド酸溶液を流延またはフィルム状に押出し、乾
燥、熱処理して得たポリイミドフィルムを、フィルムの
長さ方向の張力を1kg/m以上、10kg/m以下に保ち、遠赤
外線を照射して短時間で加熱処理した後、冷却処理を施
してなる低収縮性ポリイミドフィルム。1. A polyimide obtained by casting or extruding a polyamic acid solution obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether in an organic solvent, drying and heat-treating the polyamic acid solution. A low-shrinkage polyimide film obtained by subjecting a film to heat treatment in a short time by irradiating far-infrared rays while maintaining a tension in a length direction of the film at 1 kg / m or more and 10 kg / m or less, and then performing a cooling treatment.
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