JP3044571B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP3044571B2 JP3044571B2 JP2322356A JP32235690A JP3044571B2 JP 3044571 B2 JP3044571 B2 JP 3044571B2 JP 2322356 A JP2322356 A JP 2322356A JP 32235690 A JP32235690 A JP 32235690A JP 3044571 B2 JP3044571 B2 JP 3044571B2
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- recording medium
- magnetic
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- recording layer
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はコンピュ−タの外部記憶装置（磁気ディスク
装置）などにおいて、磁気記憶体として用いることので
きる高密度記録用の磁気記録媒体に関するものである。
装置）などにおいて、磁気記憶体として用いることので
きる高密度記録用の磁気記録媒体に関するものである。
（従来の技術） コンピュ−タなどの記憶媒体として磁気記録媒体が用
いられてきている。従来、この磁気記録媒体として、磁
性粉末を塗布した磁気テ−プなどが広く用いられていた
が、この磁気テ−プは記憶密度が小さく、アクセス時間
が長いなどの欠点があるため、近年磁気テ−プにかわり
ランダムアクセスが可能な円板状の磁気ディスクが上記
磁気記録媒体として開発されてきており、なかでもアル
ミニウムなどの堅い基板上に、厚さ１μｍ程度の磁気記
録層を形成して構成された磁気記録媒体が使用され始め
ている。ところで、このような磁気記録媒体の磁気記録
層は、はじめは酸化鉄などの磁性粉末をバインダと混合
し、これを基板上にスピンコ−トなどの手法で塗布する
ことにより得られていたが、この方法により得られた磁
気記録層を含む磁気記録媒体には飽和磁化の大きさに限
界があった。そこで最近では、より大きい飽和磁化を有
する金属薄膜を磁気記録層として用いた磁気記録媒体が
提案されており、このような磁気記録層はコバルトある
いはコバルト系合金からなる薄膜を真空蒸着、スパッタ
リングなどの真空成膜技術により形成したり、コバルト
−リン、コバルト−ニッケル−リンなどの合金薄膜を無
電解メッキなどの湿式法により形成することにより得ら
れている。しかしながら、このような磁気記録媒体にお
いては次の問題点が指摘されている。すなわち、高記録
密度領域において高出力、高分解能の電磁変換特性を得
るためには、磁気記録媒体の保持力（Hc）、残留磁化
（Mr）を大きくすると共に、角形比（Ｓ）、補磁力角形
比（Ｓ＊）をも大きくしなければならないが、その反
面、角形比（Ｓ）や保持力角形比（Ｓ＊）を向上させる
と、出力が増加する一方で媒体ノイズが急激に増加し、
その結果SN比が悪くなり、高出力で高いSN比をバランス
良く得るのが困難であるという問題がある。
いられてきている。従来、この磁気記録媒体として、磁
性粉末を塗布した磁気テ−プなどが広く用いられていた
が、この磁気テ−プは記憶密度が小さく、アクセス時間
が長いなどの欠点があるため、近年磁気テ−プにかわり
ランダムアクセスが可能な円板状の磁気ディスクが上記
磁気記録媒体として開発されてきており、なかでもアル
ミニウムなどの堅い基板上に、厚さ１μｍ程度の磁気記
録層を形成して構成された磁気記録媒体が使用され始め
ている。ところで、このような磁気記録媒体の磁気記録
層は、はじめは酸化鉄などの磁性粉末をバインダと混合
し、これを基板上にスピンコ−トなどの手法で塗布する
ことにより得られていたが、この方法により得られた磁
気記録層を含む磁気記録媒体には飽和磁化の大きさに限
界があった。そこで最近では、より大きい飽和磁化を有
する金属薄膜を磁気記録層として用いた磁気記録媒体が
提案されており、このような磁気記録層はコバルトある
いはコバルト系合金からなる薄膜を真空蒸着、スパッタ
リングなどの真空成膜技術により形成したり、コバルト
−リン、コバルト−ニッケル−リンなどの合金薄膜を無
電解メッキなどの湿式法により形成することにより得ら
れている。しかしながら、このような磁気記録媒体にお
いては次の問題点が指摘されている。すなわち、高記録
密度領域において高出力、高分解能の電磁変換特性を得
るためには、磁気記録媒体の保持力（Hc）、残留磁化
（Mr）を大きくすると共に、角形比（Ｓ）、補磁力角形
比（Ｓ＊）をも大きくしなければならないが、その反
面、角形比（Ｓ）や保持力角形比（Ｓ＊）を向上させる
と、出力が増加する一方で媒体ノイズが急激に増加し、
その結果SN比が悪くなり、高出力で高いSN比をバランス
良く得るのが困難であるという問題がある。
（発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は、高記録密度に適し、優れた出力及び
SN比を有する磁気記録媒体を提供することにある。
SN比を有する磁気記録媒体を提供することにある。
（問題を解決するための手段） 本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行
った結果、磁気記録層を特定の組成を有するCoCrTa系の
合金から構成し、更に基板に特定の粗さの同心円状の傷
（以下、テクスチュアリングという）を設けることによ
り、高出力を得ながらにして、媒体ノイズを低くおさえ
ることができ、これにより高記録密度に適した、優れた
SN比を有する磁気記録媒体が得られることを見出だし本
発明を完成するに至った。すなわち本発明は、非磁性下
地層を被覆した基板、該非磁性下地層上部に設けた磁気
記録層及び該磁気記録層を保護するための保護層を含ん
でなる磁気記録媒体において、上記磁気記録層が下記組
成式、 Co1-x-yCrxTay 0.05≦ｘ≦0.2 0.005≦ｙ≦0.1 で示される合金薄膜からなり、上記基板上にその円周方
向にテクスチュアリングを施し、該基板の平均表面粗さ
（Ra）が８〜12nmであることを特徴とする磁気記録媒体
である。
った結果、磁気記録層を特定の組成を有するCoCrTa系の
合金から構成し、更に基板に特定の粗さの同心円状の傷
（以下、テクスチュアリングという）を設けることによ
り、高出力を得ながらにして、媒体ノイズを低くおさえ
ることができ、これにより高記録密度に適した、優れた
SN比を有する磁気記録媒体が得られることを見出だし本
発明を完成するに至った。すなわち本発明は、非磁性下
地層を被覆した基板、該非磁性下地層上部に設けた磁気
記録層及び該磁気記録層を保護するための保護層を含ん
でなる磁気記録媒体において、上記磁気記録層が下記組
成式、 Co1-x-yCrxTay 0.05≦ｘ≦0.2 0.005≦ｙ≦0.1 で示される合金薄膜からなり、上記基板上にその円周方
向にテクスチュアリングを施し、該基板の平均表面粗さ
（Ra）が８〜12nmであることを特徴とする磁気記録媒体
である。
以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。第１
図は本発明の磁気記録媒体の一例の部分断面図を示す。
本発明の磁気記録媒体は第１図に示すように比磁性下地
層２を被覆した基板１上部に磁気記録層３及び該磁気記
録層を保護するための保護層４を含んで構成される。基
板１は例えばニッケル−リンメッキ膜、陽極酸化アルマ
イト膜などを被覆したアルミニウム合金や窒化珪素焼結
体、酸化アルミ焼結体などのセラミックスあるいはステ
ンレス、チタン合金などの金属、ガラスなどから構成す
ることができる。また、この基板上にはその円周方向に
該基板の平均表面粗さ（Ra）が８〜12nmとなるようにテ
クスチュアリングが施される。ここで、基板の平均表面
粗さ（Ra）が8nm未満である場合、得られる磁気記録媒
体からの信号を高出力で得ることができなくなり、12nm
を越える場合、得られる磁気記録媒体の媒体ノイズが大
きくなり、SN比が低下してしまう。この基板１は非磁性
下地層２により被覆されるが、この非磁性下地層２はク
ロムなどの非磁性金属薄膜などから構成することができ
る。この非磁性下地層２の厚みは適宜決定されるが、通
常500〜5000Å程度とすることが好ましい。次に非磁性
下地層２の上には組成式、 Co1-x-yCrxTay 0.05≦ｘ≦0.2 0.005≦ｙ≦0.1 で示されるCoCrTa系合金薄膜から構成される磁気記録層
３が300〜1000Å程度の厚みで形成される。ここで、磁
気記録層の組成が上記組成式に示されるものとすること
により、本発明の磁気記録媒体の保磁力、SN比は高いも
のとなる。また本発明の磁気記録媒体は磁気記録層３を
保護するための保護層４を含むが、この保護層は例えば
炭素などから構成することができ、その厚みは100〜400
Åとすることが好ましい。更に本発明の磁気記録媒体の
使用にあたっては、必要に応じて液体潤滑剤、固体潤滑
剤あるいはこれらの複合潤滑剤を塗布し、潤滑層５を形
成して使用してもよい。
図は本発明の磁気記録媒体の一例の部分断面図を示す。
本発明の磁気記録媒体は第１図に示すように比磁性下地
層２を被覆した基板１上部に磁気記録層３及び該磁気記
録層を保護するための保護層４を含んで構成される。基
板１は例えばニッケル−リンメッキ膜、陽極酸化アルマ
イト膜などを被覆したアルミニウム合金や窒化珪素焼結
体、酸化アルミ焼結体などのセラミックスあるいはステ
ンレス、チタン合金などの金属、ガラスなどから構成す
ることができる。また、この基板上にはその円周方向に
該基板の平均表面粗さ（Ra）が８〜12nmとなるようにテ
クスチュアリングが施される。ここで、基板の平均表面
粗さ（Ra）が8nm未満である場合、得られる磁気記録媒
体からの信号を高出力で得ることができなくなり、12nm
を越える場合、得られる磁気記録媒体の媒体ノイズが大
きくなり、SN比が低下してしまう。この基板１は非磁性
下地層２により被覆されるが、この非磁性下地層２はク
ロムなどの非磁性金属薄膜などから構成することができ
る。この非磁性下地層２の厚みは適宜決定されるが、通
常500〜5000Å程度とすることが好ましい。次に非磁性
下地層２の上には組成式、 Co1-x-yCrxTay 0.05≦ｘ≦0.2 0.005≦ｙ≦0.1 で示されるCoCrTa系合金薄膜から構成される磁気記録層
３が300〜1000Å程度の厚みで形成される。ここで、磁
気記録層の組成が上記組成式に示されるものとすること
により、本発明の磁気記録媒体の保磁力、SN比は高いも
のとなる。また本発明の磁気記録媒体は磁気記録層３を
保護するための保護層４を含むが、この保護層は例えば
炭素などから構成することができ、その厚みは100〜400
Åとすることが好ましい。更に本発明の磁気記録媒体の
使用にあたっては、必要に応じて液体潤滑剤、固体潤滑
剤あるいはこれらの複合潤滑剤を塗布し、潤滑層５を形
成して使用してもよい。
以上、非磁性下地層２から保護層４までの金属あるい
は無機物質の薄膜の形成にあたっては、DCあるいはRFス
パッタリング法または真空蒸着法などの真空成膜技術が
有効に用いられる。
は無機物質の薄膜の形成にあたっては、DCあるいはRFス
パッタリング法または真空蒸着法などの真空成膜技術が
有効に用いられる。
本発明の磁気記録媒体は上述の構成を有することによ
り、高出力を得ながらにして、媒体ノイズを低くおさえ
ることができ、これにより高記録密度に適した、優れた
SN比を有する磁気記録媒体となるが、その理由は磁気記
録層の基板に対する円周方向と半径方向との磁気特性に
バランスのとれた異方性が生じることに起因するものと
考えられる。すなわち、本発明の磁気記録媒体におい
て、磁気記録媒体の円周方向に外部磁界を引加して測定
したときの保磁力角形比（Ｓ＊ｃ）と、半径方向に外部
磁界を印加して測定したときの保磁力角形比（Ｓ＊ｒ）
との比（Ｓ＊c/S＊ｒ）はほぼ1.05〜1.25とバランスの
とれた異方性を示す。
り、高出力を得ながらにして、媒体ノイズを低くおさえ
ることができ、これにより高記録密度に適した、優れた
SN比を有する磁気記録媒体となるが、その理由は磁気記
録層の基板に対する円周方向と半径方向との磁気特性に
バランスのとれた異方性が生じることに起因するものと
考えられる。すなわち、本発明の磁気記録媒体におい
て、磁気記録媒体の円周方向に外部磁界を引加して測定
したときの保磁力角形比（Ｓ＊ｃ）と、半径方向に外部
磁界を印加して測定したときの保磁力角形比（Ｓ＊ｒ）
との比（Ｓ＊c/S＊ｒ）はほぼ1.05〜1.25とバランスの
とれた異方性を示す。
（実施例） 以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は
これら実施例に限定されるものではない。
これら実施例に限定されるものではない。
実施例１ 第１図に示す断面構造を有する磁気記録媒体を作製し
た。基板１としてニッケル−リンメッキ膜を被覆した円
板状のアルミニウム合金の表面を鏡面研磨した後、平均
表面粗さ（Ra）が10nmとなるように、円周方向にテクス
チャリングを施したものを用いた。はじめにこの基板１
上にDCスパッタリング法により、3000Åのクロム膜から
なる非磁性下地層２を形成し、その上に磁気記録層３と
してクロムを12原子％、タンタルを２原子％含むコバル
ト−クロム−タンタル合金膜をDCスパッタリング法によ
り600Åの厚みで形成した。更にこの上に、保護層４と
して炭素膜をDCスパッタリング法により300Å形成し、
その上に潤滑層５として液体潤滑剤をディッピング法に
より形成して磁気記録媒体を作製した。
た。基板１としてニッケル−リンメッキ膜を被覆した円
板状のアルミニウム合金の表面を鏡面研磨した後、平均
表面粗さ（Ra）が10nmとなるように、円周方向にテクス
チャリングを施したものを用いた。はじめにこの基板１
上にDCスパッタリング法により、3000Åのクロム膜から
なる非磁性下地層２を形成し、その上に磁気記録層３と
してクロムを12原子％、タンタルを２原子％含むコバル
ト−クロム−タンタル合金膜をDCスパッタリング法によ
り600Åの厚みで形成した。更にこの上に、保護層４と
して炭素膜をDCスパッタリング法により300Å形成し、
その上に潤滑層５として液体潤滑剤をディッピング法に
より形成して磁気記録媒体を作製した。
その後、以上のように得られた磁気ディスクの磁気特
性と電磁変換特性を測定した。磁気特性は振動試料型磁
力計（VSM）、電磁変換特性はサ−ティファイヤ−を用
いて表１の条件で測定した。測定結果を表２に示す。
性と電磁変換特性を測定した。磁気特性は振動試料型磁
力計（VSM）、電磁変換特性はサ−ティファイヤ−を用
いて表１の条件で測定した。測定結果を表２に示す。
表１ 測定半径 30.5mm 回転数 2400rpm 1F周波数 1.25MHz 2F周波数 5.00MHz ヘッド トラック幅 20μｍ ギャップ長 0.6μｍ 浮上量 0.20μｍ 比較例１ 磁気記録層３として、ニッケルを20原子％、クロムを
10原子％含むコバルト−ニッケル−クロム合金膜を用い
た以外は、実施例と同様の方法で磁気記録媒体を作製
し、その磁気特性及び電磁変換特性を測定した。その測
定結果を表２に示す。得られた磁気記録媒体は媒体ノイ
ズが大きく、SN比の低いものであった。
10原子％含むコバルト−ニッケル−クロム合金膜を用い
た以外は、実施例と同様の方法で磁気記録媒体を作製
し、その磁気特性及び電磁変換特性を測定した。その測
定結果を表２に示す。得られた磁気記録媒体は媒体ノイ
ズが大きく、SN比の低いものであった。
比較例２ 基板１として、テクスチャリングを施していない鏡面
基板を用いた以外は、実施例と同様の方法で磁気記録媒
体を作製し、その磁気特性及び電磁変換特性を測定し
た。その測定結果を表２に示す。得られた磁気記録媒体
は出力、SN比とも低いものであった。
基板を用いた以外は、実施例と同様の方法で磁気記録媒
体を作製し、その磁気特性及び電磁変換特性を測定し
た。その測定結果を表２に示す。得られた磁気記録媒体
は出力、SN比とも低いものであった。
比較例３ 基板１として、平均表面粗さ（Ra）が20nmとなるよう
にテクスチャリングを施した基板を用いた以外は実施例
と同様の方法で磁気記録媒体を作製し、その磁気特性及
び電磁変換特性を測定した。その測定結果を表２に示
す。得られた磁気記録媒体は媒体ノイズが大きく、SN比
の低いものであった。
にテクスチャリングを施した基板を用いた以外は実施例
と同様の方法で磁気記録媒体を作製し、その磁気特性及
び電磁変換特性を測定した。その測定結果を表２に示
す。得られた磁気記録媒体は媒体ノイズが大きく、SN比
の低いものであった。
Hc:保磁力 Mr＊t:残留磁化と磁気記録層の厚みの積 Ｓ ：角形比 Ｓ＊ ：保磁力角形比 Ｓ＊c:磁気記録媒体の円周方向に外部磁界を引加して
測定したときの保持力角形比 Ｓ＊r:磁気記録媒体の半径方向に外部磁界を引加して
測定したときの保持力角形比 Res:2F出力/1F出力 本発明の磁気記録媒体は高記録密度領域において、高
出力を得ながらにしてノイズの増加を抑えることがで
き、その結果優れたSN比を得ることができるものである
ことがわかる。
測定したときの保持力角形比 Ｓ＊r:磁気記録媒体の半径方向に外部磁界を引加して
測定したときの保持力角形比 Res:2F出力/1F出力 本発明の磁気記録媒体は高記録密度領域において、高
出力を得ながらにしてノイズの増加を抑えることがで
き、その結果優れたSN比を得ることができるものである
ことがわかる。
（発明の効果） 以上述べたとおり、本発明の磁気記録媒体は高記録密
度に適し、優れた出力及びSN比を有するものとなる。
度に適し、優れた出力及びSN比を有するものとなる。
第１図は本発明の磁気記録媒体の一例の部分断面を示す
図である。 図中、 １……基板、２……非磁性下地層 ３……磁気記録層、４……保護層 ５……潤滑層 を各々示す。
図である。 図中、 １……基板、２……非磁性下地層 ３……磁気記録層、４……保護層 ５……潤滑層 を各々示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−303601（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−133217（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−154323（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−60119（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−273315（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−125325（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−202324（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/64
Claims (1)
- 【請求項１】基板と、該基板上に設けたクロム膜からな
る非磁性下地層、該非磁性下地層上部に設けた磁気記録
層及び該磁気記録層を保護するためのカーボン膜からな
る保護層を含んでなる磁気記録媒体において、上記磁気
記録層が下記組成式、 Co1-x-yCrxTay 0.05≦ｘ≦0.2 0.005≦ｙ≦0.1 で示される合金薄膜からなり、上記基板上にその円周方
向に同心円状の傷を施し、該基板の平均表面粗さ（Ra）
が８〜12nmであることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2322356A JP3044571B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2322356A JP3044571B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04195818A JPH04195818A (ja) | 1992-07-15 |
| JP3044571B2 true JP3044571B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=18142730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2322356A Expired - Lifetime JP3044571B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3044571B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR0148842B1 (ko) * | 1993-07-22 | 1998-10-15 | 가나이 쯔또무 | 자기기록매체 및 그의 제조방법과 자기기록 시스템 |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP2322356A patent/JP3044571B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04195818A (ja) | 1992-07-15 |
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