JP3047966B2 - Liquid crystal optical element and manufacturing method thereof - Google Patents
Liquid crystal optical element and manufacturing method thereofInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電圧無印加時に吸
収状態となり、電圧印加時に選択反射状態となる液晶光
学素子に関するものであり、本発明の液晶光学素子は、
文字、図形等を表示する表示装置等に利用される。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal optical element which is in an absorbing state when no voltage is applied and is in a selective reflection state when a voltage is applied.
It is used for a display device that displays characters, figures, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶ディスプレイを使用した携帯端末の
動作時間の向上の解決方法の一つは、液晶デバイスとし
てバックライトが不要なデバイス、すなわち反射型の液
晶デバイスを使用することである。この反射型に関して
は、GH(ゲスト−ホスト)モード、電界制御複屈折
(ECB)モードが報告されている。また、国際出願9
2/19695号公報に開示されたカイラルネマチック
液晶中に微量の高分子化合物を分散する方法では、電界
無印加下に液晶相はプレナーテクスチャーを形成し可視
光の選択反射状態となり、電圧印加下にフォーカルコニ
ックテクスチャーを形成し半透明となる液晶光学素子が
得られている。一般に高分子安定化コレステリックテク
スチャー(PSCT)素子と呼ばれるこの液晶光学素子
は、カイラルネマチック液晶の相変化による選択反射/
半透過の特性を利用しており、光吸収層と組み合わせる
ことにより選択反射状態と光吸収状態をとる反射型液晶
光学素子が作製できる。また、この反射型液晶光学素子
は双安定性を有するため、単純マトリックスで駆動され
る。なお、この液晶光学素子では、液晶滴の間隔の設定
により選択反射波長が異なる液晶光学素子が作製できる
ため、RGB各波長を選択反射する画素を並置あるいは
積層することによりマルチカラー化がカラーフィルター
無しで実現できる。しかし、この液晶光学素子は、左右
円偏光の一方の円偏光を反射するため、反射効率が低い
という課題がある。2. Description of the Related Art One of the solutions for improving the operation time of a portable terminal using a liquid crystal display is to use a device that does not require a backlight as a liquid crystal device, that is, a reflective liquid crystal device. As for the reflection type, a GH (guest-host) mode and an electric field controlled birefringence (ECB) mode have been reported. In addition, international application 9
In the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2/19695, in which a trace amount of a polymer compound is dispersed in a chiral nematic liquid crystal, the liquid crystal phase forms a planar texture in the absence of an electric field, becomes a state of selectively reflecting visible light, and is exposed to a voltage. A liquid crystal optical element which forms a focal conic texture and is translucent has been obtained. This liquid crystal optical element, which is generally called a polymer-stabilized cholesteric texture (PSCT) element, selectively reflects / reflects a phase change of a chiral nematic liquid crystal.
Utilizing the property of semi-transmission, a reflective liquid crystal optical element capable of taking a selective reflection state and a light absorption state can be manufactured by combining with a light absorption layer. Further, since this reflection type liquid crystal optical element has bistability, it is driven by a simple matrix. In this liquid crystal optical element, a liquid crystal optical element having different selective reflection wavelengths can be manufactured by setting the distance between liquid crystal droplets. Can be realized. However, since this liquid crystal optical element reflects one of the left and right circularly polarized lights, there is a problem that the reflection efficiency is low.
【0003】一方、特公平3−52843号公報では液
晶をマイクロカプセル化し高分子材料中に分散した透過
/散乱型の液晶光学素子が開示されている。この開示技
術は偏光板を要しないため光の利用効率が高いというこ
と、さらにTFT(薄膜トランジスタ)、MIM等のア
クティブ素子での駆動が可能であるという利点を有して
いる。また、この開示技術の類似技術として、液晶中に
二色性色素を溶解した透過/吸収型の液晶光学素子、い
わゆるゲスト−ホストモードが特開昭62−50278
0号公報で報告されている。さらに、特開平9−804
01号公報では、この液晶中に二色性色素を溶解した液
晶マイクロカプセル層を反射板上に電極層を介して積層
する技術が開示されている。さらに、特開平5−134
266公報において液晶と高分子から構成された反射型
の液晶素子が開示されている。この開示技術の液晶光学
素子では規則的に並んだ液晶滴と高分子材料の屈折率差
に起因する光の干渉を利用して光の反射/透過を制御し
ており、ホログラフィック高分子分散液晶素子と呼ばれ
ている。電圧無印加状態では、液晶滴中の液晶分子はラ
ンダムに配向しており、高分子材料と屈折率差が生じて
いる。この屈折率差と液晶滴の周期により光が選択的に
反射される。また、この液晶光学素子に電圧を印加して
いくと、高分子材料と液晶滴との屈折率差が小さくな
り、選択反射光強度が低下していく。On the other hand, Japanese Patent Publication No. 3-52843 discloses a transmission / scattering type liquid crystal optical element in which liquid crystal is microencapsulated and dispersed in a polymer material. This disclosed technology has advantages in that light utilization efficiency is high because a polarizing plate is not required, and that it can be driven by an active element such as a TFT (thin film transistor) or MIM. As a technique similar to the disclosed technique, a transmission / absorption type liquid crystal optical element in which a dichroic dye is dissolved in a liquid crystal, that is, a so-called guest-host mode is disclosed in JP-A-62-50278.
No. 0 report. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-804
No. 01 discloses a technique of laminating a liquid crystal microcapsule layer in which a dichroic dye is dissolved in a liquid crystal on a reflector via an electrode layer. Further, JP-A-5-134
266 discloses a reflective liquid crystal element composed of liquid crystal and a polymer. In the liquid crystal optical element of the disclosed technology, the reflection / transmission of light is controlled by using light interference caused by a difference in refractive index between a regularly arranged liquid crystal droplet and a polymer material. It is called an element. When no voltage is applied, the liquid crystal molecules in the liquid crystal droplets are randomly oriented, and a difference in refractive index from the polymer material occurs. Light is selectively reflected by the refractive index difference and the period of the liquid crystal droplet. When a voltage is applied to the liquid crystal optical element, the difference in the refractive index between the polymer material and the liquid crystal droplet becomes smaller, and the intensity of the selectively reflected light decreases.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ホログラフィック高分
子分散液晶素子(HPDLC)の多色化方法としては赤
色、緑色、青色の空間分割(平面配置)または、赤色、
緑色、青色をそれぞれ反射する3枚の単色パネルを貼り
合わせることが報告されている(特開平6−29495
2号公報)。空間分割型では、画素を3分割するため光
利用効率が単色パネルの1/3に低下するという課題が
あり、3枚のパネルのはり合わせでは光利用効率は空間
分割の3倍であるが、基板の厚みに起因する視差が発生
するという課題があった。The holographic polymer-dispersed liquid crystal device (HPDLC) has a multicolor method for spatial division of red, green and blue (planar arrangement) or red, green and blue.
It has been reported that three monochromatic panels respectively reflecting green and blue are bonded together (JP-A-6-29495).
No. 2). The space division type has a problem that the light use efficiency is reduced to 1/3 of that of the single color panel because the pixel is divided into three. When three panels are combined, the light use efficiency is three times as large as the space division. There has been a problem that parallax due to the thickness of the substrate occurs.
【0005】また、液晶マイクロカプセル層間に基板を
使用せず3層を積層した、ゲスト−ホストモードの液晶
光学素子が特開平9−80401号公報で開示されてい
るが、この開示技術では、3層の積層構造を製造するプ
ロセスとして、各画素電極に電圧を印加するための導体
柱を作製する工程、各画素電極と導体柱を電気的に接続
するために各液晶マイクロカプセル層ごとにレジスト処
理工程が必要であり、製造プロセスが複雑であるという
課題を有していた。Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-80401 discloses a guest-host mode liquid crystal optical element in which three layers are stacked without using a substrate between liquid crystal microcapsule layers. As a process of manufacturing a layered structure of layers, a process of manufacturing conductive columns for applying a voltage to each pixel electrode, a resist process for each liquid crystal microcapsule layer to electrically connect each pixel electrode and the conductive column There is a problem that a process is required and the manufacturing process is complicated.
【0006】本発明の目的は視差が無く、高解像度で、
製造プロセスが比較的簡単なホログラフィック型高分子
分散液晶光学素子を提供することである。An object of the present invention is to provide a high-resolution image without parallax.
An object of the present invention is to provide a holographic polymer-dispersed liquid crystal optical element whose manufacturing process is relatively simple.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本願発明は次のようであ
る。 1.一枚の光吸収基板上に高分子樹脂と液晶材料から成
る調光層が電極層と交互に積層され、それぞれの調光層
は電極層で挟まれていて、調光層中の液晶材料が高分子
樹脂中に滴状で規則的に配列しており、かつ、可視光領
域の光を選択的に反射することを特徴とする液晶光学素
子において各表示画素ごとに少なくとも一つ、開口部を
有することを特徴とする液晶光学素子。 2.積層された調光層が、各表示画素ごとに分離してい
ることを特徴とする上記1記載の液晶光学素子。 3.各表示画素の側面に各電極層からの取り出し電極を
有することを特徴とする上記1または2記載の液晶光学
素子。 4.光吸収基板の平面と取り出し電極を形成する開口部
の側面の成す角度が90度未満であることを特徴とする
上記1または2記載の液晶光学素子。 5.光吸収基板上に3層の調光層が積層されており、か
つ、各調光層の反射光がそれぞれ赤色、緑色、青色であ
ることを特徴とする上記1または2記載の液晶光学素
子。 6.液晶材料の常光屈折率が高分子樹脂の屈折率と一致
しており、電圧無印加時に調光層は光反射状態であり、
印加電圧が増加するに従い反射光強度が低下することを
特徴とする上記1ないし5記載の液晶光学素子。 7.緑色を反射する調光層の膜厚が青色および赤色を反
射する調光層の膜厚よりも薄いことを特徴とする上記5
記載の液晶光学素子。 8.少なくとも一つの電極層が導電性高分子材料から構
成されることを特徴とする上記1記載の液晶光学素子。 9.調光層と電極層の間に調光層の膜厚未満の保護膜を
有することを特徴とする上記1ないし8記載の液晶光学
素子。 10.一つの電極層が対向電極に、残りの電極層が薄膜
トランジスタのソース電極と電気的に接続されているこ
とを特徴とする上記1ないし9記載の液晶光学素子。 11.光吸収基板と調光層間の電極層および各調光層間
の電極層がそれぞれ光吸収基板上に設置された薄膜トラ
ンジスタのソース電極と電気的に接続され、最表面にあ
る電極層が対向電極に電気的に接続されていることを特
徴とする上記10記載の液晶光学素子。 12.光吸収基板と調光層間の電極層および各調光層間
の電極層がそれぞれ光吸収基板上に設置された薄膜トラ
ンジスタのソース電極と電気的に接続され、最表面にあ
る電極層が光吸収基板上に形成された対向電極に電気的
に接続されていることを特徴とする上記11記載の液晶
光学素子。 13.光吸収基板上に電極層を形成する工程と、その電
極層付き光吸収基板上に調光層と電極層を交互に積層す
る工程と、各表示画素ごとに最表面電極層から光吸収基
板まで到達する開口部を形成する工程と、各表示画素の
側面に取り出し電極を形成する工程を有することを特徴
とする液晶光学素子の製造方法。Means for Solving the Problems The present invention is as follows. 1. Dimming layers composed of a polymer resin and a liquid crystal material are alternately stacked on the light absorbing substrate and the electrode layers, and each dimming layer is sandwiched between the electrode layers. Droplets are regularly arranged in the polymer resin, and at least one opening is provided for each display pixel in the liquid crystal optical element, which is characterized by selectively reflecting light in the visible light region. A liquid crystal optical element comprising: 2. 2. The liquid crystal optical element according to the above item 1, wherein the laminated light control layer is separated for each display pixel. 3. 3. The liquid crystal optical element according to the above 1 or 2, further comprising an extraction electrode from each electrode layer on a side surface of each display pixel. 4. 3. The liquid crystal optical element according to the above item 1 or 2, wherein the angle formed between the plane of the light absorbing substrate and the side surface of the opening forming the extraction electrode is less than 90 degrees. 5. 3. The liquid crystal optical element according to the above 1 or 2, wherein three light control layers are laminated on the light absorbing substrate, and reflected light of each light control layer is red, green, and blue, respectively. 6. The ordinary light refractive index of the liquid crystal material matches the refractive index of the polymer resin, and the dimming layer is in a light reflecting state when no voltage is applied,
6. The liquid crystal optical element according to any one of the above items 1 to 5, wherein the intensity of the reflected light decreases as the applied voltage increases. 7. 5. The light control layer according to the above item 5, wherein the thickness of the light control layer that reflects green is smaller than the film thickness of the light control layer that reflects blue and red.
The liquid crystal optical element according to the above. 8. 2. The liquid crystal optical element according to the above item 1, wherein at least one electrode layer is made of a conductive polymer material. 9. 9. The liquid crystal optical element according to any one of the above 1 to 8, wherein a protective film having a thickness less than the thickness of the light control layer is provided between the light control layer and the electrode layer. 10. 10. The liquid crystal optical element according to any one of the above items 1 to 9, wherein one electrode layer is electrically connected to the counter electrode, and the other electrode layer is electrically connected to the source electrode of the thin film transistor. 11. The electrode layer between the light absorbing substrate and the light modulating layer and the electrode layer between each light modulating layer are electrically connected to the source electrode of the thin film transistor installed on the light absorbing substrate, and the electrode layer on the outermost surface is electrically connected to the counter electrode. 11. The liquid crystal optical element according to the above item 10, wherein the liquid crystal optical element is connected to the optical element. 12. The electrode layer between the light absorbing substrate and the light modulating layer and the electrode layer between each light modulating layer are electrically connected to the source electrode of the thin film transistor installed on the light absorbing substrate, and the electrode layer on the outermost surface is on the light absorbing substrate. 12. The liquid crystal optical element according to the above item 11, wherein the liquid crystal optical element is electrically connected to a counter electrode formed in the element. 13. A step of forming an electrode layer on the light absorbing substrate, a step of alternately laminating the dimming layer and the electrode layer on the light absorbing substrate with the electrode layer, and a step from the outermost surface electrode layer to the light absorbing substrate for each display pixel. A method for manufacturing a liquid crystal optical element, comprising: a step of forming an opening to reach; and a step of forming an extraction electrode on a side surface of each display pixel.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】本発明に用いられる光吸収基板は
可視光を吸収する材料で構成されていれば無機材料でも
有機材料でも構わない。光の吸収強度または吸収波長は
目的とする素子特性により任意に変更できる。光吸収材
料はガラス、プラスチック等の透明基板上に光吸収材料
をコーティングしても良いし、透明基板上に光吸収基板
をはり合わせて作製することもできる。このとき、光吸
収材料は、調光層側であることが好ましいが、この限り
ではない。調光層の反対側にはり合わせる場合は、調光
層形成後に透明基板上に光吸収基板を張り合わせても構
わない。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The light absorbing substrate used in the present invention may be an inorganic material or an organic material as long as it is made of a material that absorbs visible light. The light absorption intensity or light absorption wavelength can be arbitrarily changed according to the target device characteristics. The light-absorbing material may be formed by coating a light-absorbing material on a transparent substrate such as glass or plastic, or by laminating a light-absorbing substrate on a transparent substrate. At this time, the light absorbing material is preferably on the light control layer side, but is not limited thereto. When bonding to the opposite side of the light control layer, a light absorbing substrate may be bonded on the transparent substrate after the light control layer is formed.
【0009】本発明の高分子樹脂と液晶材料から成る調
光層は、すくなくとも高分子樹脂の前駆体化合物、液晶
材料および重合開始剤を含む溶液に光を照射して、高分
子樹脂の前駆体化合物を高分子樹脂に硬化すなわち重合
させて製造することができる。また、高分子樹脂中の液
晶材料が滴状で規則的に配列している構造は、高分子樹
脂の前駆体化合物を窒素雰囲気下でレーザー光による二
光束干渉法により硬化させることにより製造することが
できる。選択反射波長およびその強度は、液晶滴間の間
隔および高分子樹脂と液晶材料の屈折率差により調整で
きる。フルカラーの表示のためには光吸収性基板上に赤
色を選択反射する調光層、緑色を選択反射する調光層、
青色を選択反射する調光層の3種の調光層を積層する。
積層の順番が何れでも構わない。各調光層の厚みは5〜
15μm程度が望ましい。また、各調光層の厚みは同一
である必要は無い。好ましくは、赤色を選択反射する調
光層、青色を選択反射する調光層の厚みは緑色を選択反
射する調光層の厚みより厚いことが好ましい。The light modulating layer comprising the polymer resin and the liquid crystal material of the present invention is obtained by irradiating a solution containing at least a precursor compound of the polymer resin, a liquid crystal material and a polymerization initiator with light to form a precursor of the polymer resin. The compound can be produced by curing, ie, polymerizing, a polymer resin. In addition, the structure in which the liquid crystal material in the polymer resin is regularly arranged in the form of drops should be manufactured by curing the precursor compound of the polymer resin by a two-beam interference method using laser light in a nitrogen atmosphere. Can be. The selective reflection wavelength and its intensity can be adjusted by the distance between the liquid crystal droplets and the difference in the refractive index between the polymer resin and the liquid crystal material. For full-color display, a dimming layer that selectively reflects red on a light-absorbing substrate, a dimming layer that selectively reflects green,
Three types of light control layers, which selectively reflect blue light, are laminated.
The order of lamination may be any. The thickness of each light control layer is 5
About 15 μm is desirable. Further, the thickness of each light control layer does not need to be the same. Preferably, the thickness of the light control layer that selectively reflects red and the light control layer that selectively reflects blue is greater than the thickness of the light control layer that selectively reflects green.
【0010】本発明の高分子樹脂すなわち高分子樹脂の
前駆体化合物が光硬化した後の屈折率は液晶材料の常光
屈折率(nO)またはその近くに設定する。調光層の液
晶滴中の液晶材料は電圧無印加時にはランダムな状態に
あるため、調光層は電圧無印加時には高分子樹脂の屈折
率と液晶材料の屈折率差および液晶滴の間隔に起因する
ブラッグ反射が得られ、光の選択反射状態となる。一
方、調光層への印加電圧を増加させるに従い高分子樹脂
と液晶材料の屈折率差が小さくなり、選択反射強度が低
下していく。The refractive index of the polymer resin of the present invention, that is, the precursor compound of the polymer resin, is set at or near the ordinary light refractive index (n O ) of the liquid crystal material after photocuring. The liquid crystal material in the liquid crystal droplets of the light control layer is in a random state when no voltage is applied, so the light control layer is caused by the difference between the refractive index of the polymer resin and the liquid crystal material when no voltage is applied and the distance between the liquid crystal droplets. And a selective reflection state of light is obtained. On the other hand, as the voltage applied to the light control layer increases, the difference in the refractive index between the polymer resin and the liquid crystal material decreases, and the selective reflection intensity decreases.
【0011】高分子樹脂の前駆体化合物としては、光照
射により硬化すなわち重合するモノマーまたはオリゴマ
ーあるいはモノマーとオリゴマーの混合物等を用いるこ
とができる。すなわち、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、ビニル基等の通常の光重合性基を有する高分子前
駆体であればいずれも使用できる。光重合性基は、高分
子前駆体化合物一分子中に複数あっても構わない。モノ
マーとしては例えば、2−エチルヘキシルアクリレー
ト、ブチルエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリ
レート、2−シアノエチルアクリレート、ベンジルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレ
ート、N,N−ジエチルアミノエチルアクリレート、
N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、ジシクロ
ペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレ
ート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデシル
アクリレート、ラウリルアクリレート、モルホリンアク
リレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシ
ジエチレングリコールアクリレート等の単官能アクリレ
ート化合物、2−エチルヘキシルメタクリレート、ブチ
ルエチルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレー
ト、2−シアノエチルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、2−エトキシエチルアク
リレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジ
シクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンテニル
メタクリレート、グリシジルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレート、イソボニルメタクリレ
ート、イソデシルメタクリレート、ラウリルメタクリレ
ート、モルホリンメタクリレート、フェノキシエチルメ
タクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタク
リレート等の単官能メタクリレート化合物、ジエチレン
グリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジ
アクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレ
ート、ジシクロペンタニルジアクリレート、グリセロー
ルジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テト
ラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ウレ
タンアクリレートオリゴマー等の多官能アクリレート化
合物、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,4
−ブタンジオールジメタクリレート、1,3−ブチレン
グリコールジメタクリレート、ジシクロペンタニルジメ
タクリレート、グリセロールジメタクリレート、1,6
−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、テトラエチレングリコール
ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジトリ
メチロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタメタクリレート、ウレタン
メタクリレートオリゴマー等の多官能メタクリレート化
合物があるがこれに限定されるものではない。As the precursor compound of the polymer resin, a monomer or oligomer which is cured or polymerized by light irradiation, or a mixture of a monomer and an oligomer can be used. That is, any polymer precursor having an ordinary photopolymerizable group such as an acryloyl group, a methacryloyl group, and a vinyl group can be used. A plurality of photopolymerizable groups may be present in one molecule of the polymer precursor compound. Examples of the monomer include 2-ethylhexyl acrylate, butylethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, 2-cyanoethyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, N, N-diethylaminoethyl acrylate,
N, N-dimethylaminoethyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, glycidyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobonyl acrylate, isodecyl acrylate, lauryl acrylate, morpholine acrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, etc. Monofunctional acrylate compound, 2-ethylhexyl methacrylate, butylethyl methacrylate, butoxyethyl methacrylate, 2-cyanoethyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N-Jim Monofunctional methacrylates such as laminoethyl methacrylate, dicyclopentanyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, isobonyl methacrylate, isodecyl methacrylate, lauryl methacrylate, morpholine methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, and phenoxydiethylene glycol methacrylate Compound, diethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, dicyclopentanyl diacrylate, glycerol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, Tetraethylene glycol diaclaire Polyfunctional acrylate compounds such as trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, urethane acrylate oligomer, diethylene glycol dimethacrylate , 1,4
-Butanediol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, dicyclopentanyl dimethacrylate, glycerol dimethacrylate, 1,6
-Hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, ditrimethylolpropane tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol mono Examples include, but are not limited to, polyfunctional methacrylate compounds such as hydroxypentamethacrylate and urethane methacrylate oligomers.
【0012】高分子樹脂の前駆体化合物には、光照射に
より重合を開始させるための光重合開始剤、光重合開始
剤にプロトンを供給する光開始助剤、光を吸収して励起
エネルギーを光重合開始剤に移動させる色素増感剤等を
添加することができる。ただし、光重合開始剤自身が光
重合に用いられる光線を吸収する場合は、色素増感剤は
添加しなくても構わない。[0012] The precursor compound of the polymer resin includes a photopolymerization initiator for initiating polymerization by light irradiation, a photoinitiator which supplies protons to the photopolymerization initiator, and a photoinitiator which absorbs light and converts excitation energy to light. A dye sensitizer or the like that is transferred to the polymerization initiator can be added. However, when the photopolymerization initiator itself absorbs light used for photopolymerization, the dye sensitizer may not be added.
【0013】光重合開始剤としては、アセトフェノン
系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサンソン
系等の通常の光重合開始剤が使用できる。例えば、ジエ
トキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−
1フェニルプロパン−1−オン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、4−フェニルベンゾ
フェノン、2−クロロチオキサンソン、2−メチルチオ
キサンソン等がある。光重合開始剤は固体でも液体でも
構わないが素子の均一性の点から液晶中に溶解または相
溶するものが望ましい。光重合開始剤濃度は高分子樹脂
前駆体の30重量%以下が好ましい。また必要の応じて
メチルジエタノールアミン、4-ジメチルアミノ安息香酸
等の光重合開始助剤を添加することもできる。本発明に
おける色素増感剤としてはクマリン系色素、ローダミン
系色素、オキサジン系色素、カルボシアニン系色素、ジ
カルボシアニン系色素、トリカルボシアニン系色素、テ
トラカルボシアニン系色素、ペンタカルボシアニン系色
素、オキソノール系色素、スチリル系色素、キサンテン
系色素、メロシアニン系色素、ローダシアニン系色素、
ポルフィリン系色素、アクリジン系色素が等があげられ
るが、これに限定されるものではない。色素材料はレー
ザー光により励起され、エネルギーを光重合開始に移動
させるものであり、かつビニル基等の光重合性を有する
ものであればいずれのもの構わない。As the photopolymerization initiator, ordinary photopolymerization initiators such as acetophenone type, benzoin type, benzophenone type and thioxanthone type can be used. For example, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-
Examples include 1-phenylpropan-1-one, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, 4-phenylbenzophenone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone. The photopolymerization initiator may be a solid or a liquid, but is desirably one that is dissolved or compatible with the liquid crystal in view of the uniformity of the device. The photopolymerization initiator concentration is preferably 30% by weight or less of the polymer resin precursor. If necessary, a photopolymerization initiation aid such as methyldiethanolamine and 4-dimethylaminobenzoic acid can be added. As the dye sensitizer in the present invention, coumarin dyes, rhodamine dyes, oxazine dyes, carbocyanine dyes, dicarbocyanine dyes, tricarbocyanine dyes, tetracarbocyanine dyes, pentacarbocyanine dyes, Oxonol dyes, styryl dyes, xanthene dyes, merocyanine dyes, rhodocyanine dyes,
Examples include porphyrin dyes and acridine dyes, but are not limited thereto. Any dye material can be used as long as it is excited by laser light to transfer energy to the start of photopolymerization and has photopolymerizability such as a vinyl group.
【0014】高分子樹脂の前駆体の光重合に用いられる
光線としては可視光のレーザー光線を用いることができ
る。レーザー光による光硬化は、二光束干渉法により行
う。すなわち、2つのレーザー光を基板に入射しレーザ
ー光が干渉した状態で硬化を行う。赤色、緑色、青色の
マルチカラーの選択反射を得るためには、レーザーの入
射角度を調整したり、異なる波長のレーザー光源を使用
する。このとき、フォトマスク等の光遮蔽膜を使用して
も構わない。As a light beam used for photopolymerization of the precursor of the polymer resin, a visible laser beam can be used. Photocuring by laser light is performed by a two-beam interference method. That is, curing is performed in a state where two laser beams are incident on the substrate and the laser beams interfere with each other. In order to obtain multi-color selective reflection of red, green, and blue, the incident angle of the laser is adjusted, and laser light sources having different wavelengths are used. At this time, a light shielding film such as a photomask may be used.
【0015】本発明の液晶光学素子に使用される液晶と
しては、特にネマチック液晶が好ましい。ネマチック液
晶としては、シアノ系、フッ素系、塩素系等のいずれの
液晶でも使用することができるが、薄膜トランジスタ
(TFT)等の能動素子でアクティブ駆動を行うために
は高電荷保持率のフッ素系液晶が望ましい。液晶の誘電
率異方性としては、正の誘電率異方性が好ましが、周波
数を変化させることにより、誘電率異方性が正負両方の
値をとることができる2周波駆動液晶、または負の誘電
率異方性の液晶でも構わない。さらに調光層中に規則的
に存在する液晶滴のサイズ、間隔は、目的とする反射光
波長により任意に設定することができる。調光層中の液
晶の比率は、20重量%以上80重量%以下であること
が望ましい。この範囲以外では、液晶滴の規則的な配列
が形成されず可視光の反射率が低下する。また、液晶材
料が少なすぎると液晶光学素子の駆動電圧が高くなる。The liquid crystal used in the liquid crystal optical element of the present invention is particularly preferably a nematic liquid crystal. As the nematic liquid crystal, any liquid crystal such as cyano-based, fluorine-based, and chlorine-based can be used. However, a fluorine-based liquid crystal having a high charge retention rate is required for active driving with an active element such as a thin film transistor (TFT). Is desirable. As the dielectric anisotropy of the liquid crystal, a positive dielectric anisotropy is preferable, but by changing the frequency, a two-frequency driving liquid crystal in which the dielectric anisotropy can take both positive and negative values, or Liquid crystals having a negative dielectric anisotropy may be used. Further, the size and interval of the liquid crystal droplets regularly present in the light control layer can be arbitrarily set according to the target reflected light wavelength. The ratio of the liquid crystal in the light control layer is desirably 20% by weight or more and 80% by weight or less. Outside this range, the regular arrangement of the liquid crystal droplets is not formed, and the reflectance of visible light decreases. If the amount of the liquid crystal material is too small, the driving voltage of the liquid crystal optical element becomes high.
【0016】本発明に用いられる電極層の材料として
は、インジウム−ティン−オキサイド(ITO)や導電
性高分子材料が使用できる。光吸収基板上に形成されて
いる電極層は必ずしも透明性である必要はないが、他の
電極層、すなわち調光層間の電極層および最表面の電極
層は透明性であることが望ましい。また、各電極層に電
圧を印加するための取り出し電極は、透明性である必要
は無く、金属、導電性高分子材料等、何れの導電性材料
を使用しても構わない。薄膜トランジスタにより各調光
層を駆動する際は、一つの電極層が対向電極に、残りの
電極層が各薄膜トランジスタのソース電極と電気的に接
続されていればよいが、薄膜トランジスタは、光吸収基
板上に形成され、光吸収基板と調光層間の電極層および
各調光層間の電極層がそれぞれが光吸収基板上に設置さ
れた薄膜トランジスタのソース電極と電気的に接続さ
れ、最表面にある電極層が光吸収基板上の設置された対
向電極であることが望ましい。また、最表面にある電極
層を対向電極として使用する場合は、必ずしも各表示画
素ごとに最表面電極層を分離する必要は無い。最表面電
極層を光吸収基板上に形成された対向電極に電気的に接
続する場合、接続部の数は、各表示画素の数と一致する
必要は無く、一カ所以上であればよい。導電性高分子材
料としては、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニ
リン等が使用でき、ドーパントの添加により導電率を調
整しても構わない。As a material for the electrode layer used in the present invention, indium-tin-oxide (ITO) or a conductive polymer material can be used. The electrode layer formed on the light-absorbing substrate is not necessarily required to be transparent, but it is desirable that the other electrode layers, that is, the electrode layer between the light control layers and the outermost electrode layer are transparent. Further, the extraction electrode for applying a voltage to each electrode layer does not need to be transparent, and any conductive material such as a metal and a conductive polymer material may be used. When each dimming layer is driven by the thin film transistor, one electrode layer may be electrically connected to the counter electrode and the other electrode layer may be electrically connected to the source electrode of each thin film transistor. The electrode layer between the light absorbing substrate and the light modulating layer and the electrode layer between each light modulating layer are electrically connected to the source electrode of the thin film transistor provided on the light absorbing substrate, and the electrode layer on the outermost surface is formed. Is desirably a counter electrode provided on the light absorbing substrate. When the outermost electrode layer is used as a counter electrode, it is not always necessary to separate the outermost electrode layer for each display pixel. When the outermost electrode layer is electrically connected to the counter electrode formed on the light-absorbing substrate, the number of connection portions does not need to match the number of each display pixel, and may be one or more. As the conductive polymer material, polypyrrole, polythiophene, polyaniline, or the like can be used, and the conductivity may be adjusted by adding a dopant.
【0017】本発明の積層された調光層において、各表
示画素ごとに少なくとも一つ、最表面電極層から光吸収
基板までの開口部を有する。この開口部は各表示画素、
すなわち積層した調光層の側面に各電極層からの取り出
し電極を形成するためのものであり、開口部の形、大き
さは調光層の厚み、積層数等により任意に選択できる。
また、取り出し電極を形成する開口部の側面は光吸収基
板の法線に平行であってもよいが、取り出し電極を上方
からスパッタ等により形成することができるよう、光吸
収基板平面と取り出し電極を形成する開口部の側面の成
す角度が90度未満であることが望ましい。また、この
開口部により積層された調光層が、各表示画素ごとに分
離していても構わない。この際、取り出し電極を形成す
る側面は光吸収基板の法線に平行であってもよいが、取
り出し電極を上方からスパッタ等により形成することが
できるよう、光吸収基板平面と取り出し電極を形成する
開口部の側面の成す角度が90度未満であることが望ま
しい。In the laminated dimming layer of the present invention, at least one opening is provided for each display pixel from the outermost electrode layer to the light absorbing substrate. This opening is provided for each display pixel,
That is, it is for forming an extraction electrode from each electrode layer on the side surface of the laminated light control layer, and the shape and size of the opening can be arbitrarily selected depending on the thickness of the light control layer, the number of layers, and the like.
The side surface of the opening for forming the extraction electrode may be parallel to the normal line of the light-absorbing substrate, but the light-absorbing substrate plane and the extraction electrode are formed so that the extraction electrode can be formed from above by sputtering or the like. It is desirable that the angle formed by the side surface of the opening to be formed is less than 90 degrees. Further, the light control layers stacked by the openings may be separated for each display pixel. At this time, the side surface on which the extraction electrode is formed may be parallel to the normal line of the light absorbing substrate, but the light absorption substrate plane and the extraction electrode are formed so that the extraction electrode can be formed by sputtering or the like from above. It is desirable that the angle formed by the side surface of the opening is less than 90 degrees.
【0018】なお、本発明で調光層としては、電極層を
積層する前に、調光層と電極層の間に調光層の膜厚未満
の保護膜を有していることができる。この保護膜は、主
に電極層の形成の際に調光層が破損することを防止する
ものであり、材質、厚みは、使用する電極層の材料、製
膜条件に依存するが、透明であり、耐プラズマ、耐有機
溶剤、耐紫外線等の特性を有することが好ましい。材質
としては、無機物でも有機物でも構わないが、調光層の
電荷保持率を著しく低下させないものが好ましい。In the present invention, as the light control layer, a protective film having a thickness less than the thickness of the light control layer can be provided between the light control layer and the electrode layer before the electrode layer is laminated. This protective film is mainly for preventing the light control layer from being damaged during the formation of the electrode layer, and the material and thickness depend on the material of the electrode layer to be used and the film forming conditions. It is preferable to have properties such as resistance to plasma, resistance to organic solvents, resistance to ultraviolet rays, and the like. The material may be an inorganic or organic material, but is preferably a material that does not significantly reduce the charge retention of the light control layer.
【0019】さらに、本発明では素子の保護のため積層
された調光層の上部にも透明な表面保護層を形成しても
構わない。この表面保護層は、各表示画素ごとに形成さ
れた開口部あるいは各表示画素が独立した場合は、開口
部あるいは各画素間に充填しても構わない。この表面保
護層の膜厚としては任意に選べるが、強度と透明性から
10μm〜1mmが望ましい。Further, in the present invention, a transparent surface protective layer may be formed on the light control layer laminated for protecting the device. This surface protective layer may be filled in the openings formed between the display pixels or when the display pixels are independent from each other, between the openings or between the pixels. The thickness of the surface protective layer can be arbitrarily selected, but is preferably 10 μm to 1 mm from the viewpoint of strength and transparency.
【0020】この表面保護層としては、透明な基板を張
り合わせて使用することもできる。このとき、透明性基
板として、電極層が付いた透明性基板を使用することが
でき、調光層上への電極形成工程を1つ減らすことがで
きる。当然、透明性基板上の電極は、調光層と接してい
る。As this surface protective layer, a transparent substrate can be used by laminating it. At this time, a transparent substrate provided with an electrode layer can be used as the transparent substrate, and the number of steps of forming an electrode on the light control layer can be reduced by one. Naturally, the electrode on the transparent substrate is in contact with the light control layer.
【0021】以上説明した本発明の液晶光学素子の構成
をさらに図面によって説明する。図1は、調光層が2層
構造である本発明の液晶光学素子の概略図である。光吸
収基板1上に電極層2、調光層5、層間電極層3、調光
層5、最表面電極層4が順次積層され、各電極層の取り
出し電極6は、取り出し電極を形成する側面7の面上に
取り出されて、光吸収基板1の表面に集められている。
この取り出し電極を形成する側面7は図2に示すように
光吸収基板の平面8と90°よりも小さい角度9を以て
傾斜している。The configuration of the liquid crystal optical element of the present invention described above will be further described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view of a liquid crystal optical element of the present invention in which a light control layer has a two-layer structure. The electrode layer 2, the light control layer 5, the interlayer electrode layer 3, the light control layer 5, and the outermost surface electrode layer 4 are sequentially laminated on the light absorbing substrate 1, and the extraction electrode 6 of each electrode layer is a side surface on which the extraction electrode is formed. 7 are collected on the surface of the light absorbing substrate 1.
As shown in FIG. 2, the side surface 7 on which the extraction electrode is formed is inclined at an angle 9 smaller than 90 ° with the plane 8 of the light absorbing substrate.
【0022】図3は、図1が2層構造であるのに対し、
3層構造を示したもので各符号も図1と同じである。図
4は光吸収基板上に2ヶの画素が形成されている本発明
の液晶光学素子の模式的断面図であり、第1層の調光層
は緑色選択反射層12を、第2層の調光層は赤色選択反
射層11を、第3層の調光層には青色選択反射層13を
積層し、透明な素子保護層(表面保護層)22が開口部
10(あるいは画素間の間隙部)に充填されている状態
を示している。ここで、図示のように緑色選択反射層1
2の厚さは、青色選択反射層13および赤色選択反射層
11の厚さより薄いのが好ましい。FIG. 3 shows that FIG. 1 has a two-layer structure,
The figure shows a three-layer structure, and each symbol is the same as in FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal optical element of the present invention in which two pixels are formed on a light absorbing substrate. The first light control layer is a green selective reflection layer 12, and the second layer is a light control layer. The light control layer is formed by laminating the red selective reflection layer 11 and the third light control layer by the blue selection reflection layer 13. The transparent element protection layer (surface protection layer) 22 is formed by the opening 10 (or the gap between pixels). 3) shows a state where it is filled. Here, as shown in FIG.
The thickness of 2 is preferably smaller than the thicknesses of the blue selective reflection layer 13 and the red selective reflection layer 11.
【0023】図5は、図4の構成において、調光層(1
1、12、13)と電極層(3、4)との間に、調光層
の膜厚より薄い透明の保護膜14を設けた構成を示して
いる。さらに図6は、図4の構成において、最表面電極
層の上に透明性基板23のある構成であって、この透明
性基板は表面保護層の役割を果たすとともに、電極層を
設けた透明基板の使用により、調光層上の電極形成工程
の一つを減らすことができることは前述のとおりであ
る。FIG. 5 shows a light control layer (1) in the configuration of FIG.
1, 12, 13) and the electrode layer (3, 4), a transparent protective film 14 thinner than the light control layer is provided. Further, FIG. 6 shows a configuration in which a transparent substrate 23 is provided on the outermost surface electrode layer in the configuration of FIG. 4, and this transparent substrate serves as a surface protection layer and has a transparent substrate provided with an electrode layer. As described above, it is possible to reduce one of the electrode forming steps on the dimming layer by using.
【0024】図7は、図3の画素が2ヶある場合の開口
部10の配置を示している。図8は図7のような表示画
素4ヶが基板上に配設された状態を示す平面図である。FIG. 7 shows the arrangement of the openings 10 when there are two pixels shown in FIG. FIG. 8 is a plan view showing a state in which four display pixels as shown in FIG. 7 are arranged on a substrate.
【0025】図9は、光吸収基板1上に形成された電極
層2の表面に高分子化合物の前駆体と液晶材料の混合溶
液16を塗布しレーザー光15で硬化させて調光層を形
成する状況を示す図であり、図10は図9の調光層上に
さらに電極層(層間電極層)3を積層して形成させた本
発明の液晶光学素子をとり出し、使用時の入射光19、
反射光20を示した図である。図中17は液晶滴を、1
8は高分子化合物を模式的に示している。FIG. 9 shows a photochromic layer formed by applying a mixed solution 16 of a precursor of a polymer compound and a liquid crystal material to the surface of the electrode layer 2 formed on the light-absorbing substrate 1 and curing with a laser beam 15. FIG. 10 is a diagram showing a situation in which the liquid crystal optical element of the present invention in which an electrode layer (interlayer electrode layer) 3 is further laminated on the light control layer of FIG. 9 is taken out, and incident light during use is taken out. 19,
FIG. 3 is a diagram illustrating reflected light 20. In the figure, reference numeral 17 denotes a liquid crystal drop;
8 schematically shows a polymer compound.
【0026】本発明の製造方法は、光吸収基板上の電極
層を形成する工程と、その電極層付き光吸収基板上に調
光層と電極層を交互に積層する工程と、各表示画素ごと
に最表面電極層から光吸収基板まで到達する開口部を形
成する工程と、各表示画素の側面に取り出し電極を形成
する工程を有するが、調光層上の電極層を積層する前に
調光層上に保護膜を積層する工程を設けても構わない
し、最表面電極上に素子を保護するための表面保護膜を
形成する工程を設けても構わない。光吸収基板上の電極
層を形成する工程は通常のスッパッタ、蒸着等が利用で
きる。また、このとき、薄膜トランジスタ等の能動素子
を形成しても構わない。電極層付き光吸収基板上に調光
層を形成する工程としては、少なくとも液晶材料、高分
子樹脂の前駆体化合物、光重合開始剤の混合溶液をスピ
ンコーターあるいはバーコーター等により光吸収基板上
にキャストし、レーザーの二光束干渉法で硬化させるこ
とが好ましい。調光層を保護するための保護膜を形成す
る工程としては、蒸着、スピンコート等が利用できる
が、これに限定されるものでは無い。また、保護膜を形
成する際に、表面部にある液晶材料を除去する工程があ
って構わない。保護膜を有した調光層または調光層その
ものに電極層を形成する工程としては、導電体の蒸着、
スパッタまたは溶剤可溶性導電性高分子のコート等があ
る。開口部を形成する工程としては、通常のレジスト工
程が利用できる。側面に取り出し電極を形成する工程と
しては、調光層の電極層を形成する工程と同様に導電体
の蒸着、スパッタまたは溶剤可溶性導電性高分子のコー
ト等が利用できる。The manufacturing method of the present invention comprises the steps of forming an electrode layer on a light-absorbing substrate, alternately laminating a dimming layer and an electrode layer on the light-absorbing substrate with the electrode layer, Forming an opening reaching the light-absorbing substrate from the outermost surface electrode layer, and forming an extraction electrode on the side surface of each display pixel. A step of laminating a protective film on the layer may be provided, or a step of forming a surface protective film for protecting the element on the outermost surface electrode may be provided. In the step of forming the electrode layer on the light absorbing substrate, ordinary sputtering, vapor deposition, and the like can be used. At this time, an active element such as a thin film transistor may be formed. As a step of forming a dimming layer on the light absorbing substrate with an electrode layer, at least a mixed solution of a liquid crystal material, a precursor compound of a polymer resin, and a photopolymerization initiator is coated on the light absorbing substrate using a spin coater or a bar coater. It is preferable to cast and cure by laser two-beam interference method. As a process of forming a protective film for protecting the light control layer, vapor deposition, spin coating, or the like can be used, but is not limited thereto. In forming the protective film, there may be a step of removing the liquid crystal material on the surface. As a process of forming an electrode layer on the light control layer having a protective film or the light control layer itself, deposition of a conductor,
There is a sputter or a coat of a solvent-soluble conductive polymer. As a process of forming the opening, a normal resist process can be used. As the step of forming the extraction electrode on the side surface, as in the step of forming the electrode layer of the light control layer, vapor deposition of a conductor, sputtering, or coating of a solvent-soluble conductive polymer can be used.
【0027】[0027]
【実施例】以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明す
るが、本発明はその主旨を越えない限り以下の実施例に
限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist of the invention.
【0028】実施例1 ジトリメチロールトリシクロデカンジアクリレートとウ
レタンアクリレートオリゴマーの混合物である高分子樹
脂の前駆体化合物、ネマチック液晶材料TL215(メ
ルク社製)および可視光硬化用重合開始剤を含む溶液を
電極層付き光吸収基板上にキャストし、波長488nm
のアルゴンレーザーを使用して窒素雰囲気下で二光束干
渉法により光硬化を行い厚さ5μmの1層目の調光層
(青色選択反射)を作製した。この調光層の上にITO
電極層を形成した後、レーザーの角度を変更する以外は
1層目の調光層と同様の材料および工程で厚さ5μmの
2層目の調光層(赤色選択反射)を作製した。さらに、
この調光層の上にITO電極層を形成した後、レーザー
の角度を変更する以外は1層目、2層目の調光層と同様
の材料および工程で厚さ5μmの3層目の調光層(緑色
選択反射)を作製した。そして、3層目の調光層の上に
ITO電極層を形成した。この積層された調光層にレジ
ストプロセスを使用して各表示画素に開口部を作製し
た。そして、各画素の側面に取り出し電極をITOで作
製し、さらに、素子保護層をコートした。得られた液晶
光学素子は、電圧無印加時に白色を表示した。また、各
調光層に交流電圧を独立して印加するとフルカラーの表
示が得られた。Example 1 A solution containing a precursor compound of a polymer resin which is a mixture of ditrimethylol tricyclodecane diacrylate and a urethane acrylate oligomer, a nematic liquid crystal material TL215 (manufactured by Merck) and a polymerization initiator for curing visible light was prepared. Cast on a light absorbing substrate with electrode layer, wavelength 488nm
The first photochromic layer (blue selective reflection) having a thickness of 5 μm was prepared by using a two-beam interference method in a nitrogen atmosphere using an argon laser. ITO on this light control layer
After forming the electrode layer, a second light modulating layer (red selective reflection) having a thickness of 5 μm was formed using the same material and process as the first light modulating layer except that the angle of the laser was changed. further,
After forming the ITO electrode layer on the light control layer, the third light control layer having a thickness of 5 μm is made of the same material and process as the first light control layer and the second light control layer except that the laser angle is changed. An optical layer (green selective reflection) was prepared. Then, an ITO electrode layer was formed on the third light control layer. An opening was formed in each display pixel by using a resist process on the laminated light control layer. Then, an extraction electrode was formed on the side surface of each pixel using ITO, and further coated with an element protection layer. The obtained liquid crystal optical element displayed white when no voltage was applied. When an AC voltage was independently applied to each light control layer, a full-color display was obtained.
【0029】実施例2 2−エチルヘキシルアクリレートとウレタンアクリレー
トオリゴマーの混合物である高分子樹脂の前駆体化合
物、ネマチック液晶材料TL204(メルク社製)およ
び可視光硬化用重合開始剤を含む溶液を電極層および薄
膜トランジスタが付いた光吸収基板上にキャストし、波
長488nmのアルゴンレーザーを使用して窒素雰囲気
下で二光束干渉法により光硬化を行い厚さ5μmの1層
目の調光層(青色選択反射)を作製した。この調光層の
上に保護膜およびITO電極層を形成した後、レーザー
の角度を変更する以外は1層目の調光層と同様の材料お
よび工程で厚さ7μmの2層目の調光層(緑色選択反
射)を作製した。さらに、この調光層の上に保護膜およ
びITO電極層を形成した後、レーザーの角度を変更す
る以外は1層目、2層目の調光層と同様の材料および工
程で厚さ5μmの3層目の調光層(赤色選択反射)を作
製した。そして、3層目の調光層の上に保護膜およびI
TO電極層を形成した。この積層された調光層にレジス
トプロセスを使用して各表示画素に開口部を作製した。
そして、各表示画素の側面に各電極層からの取り出し電
極をITOで作製した。最表面電極層(第3の調光層上
の電極層)は対向電極に接続し、他の電極は各薄膜トラ
ンジスタのソース電極と接続した。その後、素子保護層
をコートした。得られた液晶光学素子は、電圧無印加時
に白色を表示した。また、各調光層を独立して薄膜トラ
ンジスタによるアクティブマトリックス駆動するとフル
カラーの表示が得られた。Example 2 A solution containing a precursor compound of a polymer resin, which is a mixture of 2-ethylhexyl acrylate and a urethane acrylate oligomer, a nematic liquid crystal material TL204 (manufactured by Merck), and a polymerization initiator for visible light curing was used as an electrode layer and Cast on a light-absorbing substrate with a thin-film transistor, photo-curing by a two-beam interference method in a nitrogen atmosphere using an argon laser with a wavelength of 488 nm, and perform a first light control layer with a thickness of 5 μm (blue selective reflection) Was prepared. After forming a protective film and an ITO electrode layer on this light control layer, the same light control layer as the first light control layer is used except that the laser angle is changed. A layer (green selective reflection) was made. Further, after forming the protective film and the ITO electrode layer on the light control layer, the same material and process as those of the first and second light control layers except that the angle of the laser is changed, and having a thickness of 5 μm. A third light control layer (red selective reflection) was produced. Then, a protective film and an I
A TO electrode layer was formed. An opening was formed in each display pixel by using a resist process on the laminated light control layer.
Then, an extraction electrode from each electrode layer was formed on the side surface of each display pixel using ITO. The outermost surface electrode layer (the electrode layer on the third light control layer) was connected to the counter electrode, and the other electrodes were connected to the source electrodes of each thin film transistor. Thereafter, an element protection layer was coated. The obtained liquid crystal optical element displayed white when no voltage was applied. When each dimming layer was independently driven in an active matrix by a thin film transistor, a full-color display was obtained.
【0030】実施例3 2−エチルヘキシルアクリレートとジトリメチロールト
リシクロデカンジアクリレートの混合物である高分子樹
脂の前駆体化合物、ネマチック液晶材料TL213(メ
ルク社製)、光重合開始剤および色素増感剤を含む溶液
を電極層および薄膜トランジスタが付いた光吸収基板上
にキャストし、波長488nmのアルゴンレーザーを使
用して窒素雰囲気下で二光束干渉法により光硬化を行い
厚さ7μmの1層目の調光層(青色選択反射)を作製し
た。この調光層の上にITO電極層を形成した後、レー
ザーの角度を変更する以外は1層目の調光層と同様の材
料および工程で厚さ5μmの2層目の調光層(緑色選択
反射)を作製した。さらに、この調光層の上にITO電
極層を形成した後、レーザーの角度を変更する以外は1
層目、2層目の調光層と同様の材料および工程で厚さ7
μmの3層目の調光層(赤色選択反射)を作製した。そ
して、この積層された調光層にレジストプロセスを使用
して各表示画素ごとに分離した。そして、各表示画素の
一つの側面に各電極層からの取り出し電極をITOで作
製した。各引き出し電極は各薄膜トランジスタのソース
電極と接続した。この上に透明な電極層が付いた透明性
基板を、電極層が調光層と密着するように張り合わせ
た。なお、透明性基板に付いた電極層は対向電極とし
た。得られた液晶光学素子は、電圧無印加時に白色を表
示した。また、各調光層を独立して薄膜トランジスタに
よるアクティブマトリックス駆動するとフルカラーの表
示が得られた。Example 3 A precursor compound of a polymer resin which is a mixture of 2-ethylhexyl acrylate and ditrimethylol tricyclodecane diacrylate, a nematic liquid crystal material TL213 (manufactured by Merck), a photopolymerization initiator and a dye sensitizer were used. The solution was cast on a light-absorbing substrate with an electrode layer and a thin film transistor, and photocured by a two-beam interference method in a nitrogen atmosphere using an argon laser with a wavelength of 488 nm to control the first layer having a thickness of 7 μm. A layer (blue selective reflection) was produced. After forming an ITO electrode layer on this light control layer, a second light control layer (green) having a thickness of 5 μm is formed using the same material and process as the first light control layer except that the laser angle is changed. Selective reflection). Further, after forming the ITO electrode layer on the light control layer, except for changing the angle of the laser,
The same material and process as those of the first and second light control layers and a thickness of 7
A third light control layer (red selective reflection) of μm was prepared. Then, the laminated dimming layer was separated for each display pixel by using a resist process. Then, an extraction electrode from each electrode layer was formed on one side surface of each display pixel using ITO. Each lead electrode was connected to the source electrode of each thin film transistor. A transparent substrate on which a transparent electrode layer was attached was stuck so that the electrode layer was in close contact with the light control layer. The electrode layer attached to the transparent substrate was a counter electrode. The obtained liquid crystal optical element displayed white when no voltage was applied. When each dimming layer was independently driven in an active matrix by a thin film transistor, a full-color display was obtained.
【0031】実施例4 調光層間の電極層を導電性高分子(ポリアニリン)を使
用する以外はすべて実施例3と同等の条件で液晶光学素
子を作製した。得られた液晶光学素子は、電圧無印加時
に白色を表示した。また、各調光層を独立して薄膜トラ
ンジスタによるアクティブマトリックス駆動するとフル
カラーの表示が得られた。Example 4 A liquid crystal optical element was manufactured under the same conditions as in Example 3 except that a conductive polymer (polyaniline) was used for the electrode layer between the light control layers. The obtained liquid crystal optical element displayed white when no voltage was applied. When each dimming layer was independently driven in an active matrix by a thin film transistor, a full-color display was obtained.
【0032】[0032]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の液
晶光学素子は、電極層だけを介してホログラフィック型
高分子分散液晶を積層するため、視差の問題が解決され
る。また一画素で多色マルチカラー化が可能になるた
め、高解像度のホログラフィック型高分子分散液晶光学
素子を得ることができる。さらに本発明の製造方法によ
れば、レジスト工程が少なく、導電柱の製造を必要とせ
ず、積層構造が容易に製造できる。As described above in detail, in the liquid crystal optical element of the present invention, the problem of parallax is solved because the holographic polymer-dispersed liquid crystal is laminated only through the electrode layer. Further, since multi-color and multi-color can be realized with one pixel, a holographic polymer-dispersed liquid crystal optical element with high resolution can be obtained. Furthermore, according to the manufacturing method of the present invention, the number of resist steps is small, the manufacturing of conductive columns is not required, and the laminated structure can be easily manufactured.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】本発明の液晶光学素子の2層構造の概略を示す
斜視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing a two-layer structure of a liquid crystal optical element of the present invention.
【図2】本発明の液晶光学素子の取り出し電極を形成す
る側面を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a side surface on which an extraction electrode of the liquid crystal optical element of the present invention is formed.
【図3】本発明の液晶光学素子の3層構造の概略を示す
斜視図である。FIG. 3 is a perspective view schematically showing a three-layer structure of the liquid crystal optical element of the present invention.
【図4】本発明の液晶光学素子の3層構造の概略を示す
断面図である。FIG. 4 is a sectional view schematically showing a three-layer structure of the liquid crystal optical element of the present invention.
【図5】本発明の液晶光学素子の3層構造の他の例の概
略を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view schematically showing another example of the three-layer structure of the liquid crystal optical element of the present invention.
【図6】本発明の液晶光学素子の3層構造の他の例の概
略を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view schematically showing another example of the three-layer structure of the liquid crystal optical element of the present invention.
【図7】本発明の液晶光学素子の開口部を示す模式図で
ある。FIG. 7 is a schematic view showing an opening of the liquid crystal optical element of the present invention.
【図8】本発明の液晶光学素子の表示画素を示す平面図
である。FIG. 8 is a plan view showing a display pixel of the liquid crystal optical element of the present invention.
【図9】本発明の液晶光学素子の光硬化方法を示す模式
図である。FIG. 9 is a schematic view illustrating a photo-curing method for a liquid crystal optical element of the present invention.
【図10】本発明の液晶光学素子の調光層を1層形成
し、さらに電極層を形成させた状態を示す模式的断面図
である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a state in which one light control layer of the liquid crystal optical element of the present invention is formed and further an electrode layer is formed.
1 光吸収基板 2 光吸収基板上の電極層 3 層間電極層 4 最表面電極層 5 調光層 6 取り出し電極 7 取り出し電極を形成する側面 8 光吸収基板平面 9 光吸収基板平面と取り出し電極を形成する側面の
成す角 10 開口部 11 赤色選択反射層 12 緑色選択反射層 13 青色選択反射層 14 保護膜 15 レーザー光 16 高分子化合物の前駆体と液晶材料の混合溶液 17 液晶滴 18 高分子化合物 19 入射光 20 反射光 21 表示画素 22 素子保護層 23 透明性基板REFERENCE SIGNS LIST 1 light absorbing substrate 2 electrode layer on light absorbing substrate 3 interlayer electrode layer 4 outermost surface electrode layer 5 light modulating layer 6 extraction electrode 7 side surface on which extraction electrode is formed 8 light absorption substrate plane 9 light absorption substrate plane and extraction electrode Angle formed by side surface to be formed 10 Opening 11 Red selective reflection layer 12 Green selective reflection layer 13 Blue selective reflection layer 14 Protective film 15 Laser light 16 Mixed solution of precursor of polymer compound and liquid crystal material 17 Liquid crystal droplet 18 Polymer compound 19 Incident light 20 Reflected light 21 Display pixel 22 Element protection layer 23 Transparent substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 正春 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気 株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−178624(JP,A) 特開 平3−2825(JP,A) 特開 平4−309922(JP,A) 特開 平8−43848(JP,A) 特開 平4−11224(JP,A) 特開 平6−337643(JP,A) 特開 平9−80401(JP,A) 特開 平8−146456(JP,A) 特開 平1−252936(JP,A) 特開 平6−95133(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1333 G02F 1/1347 G02F 1/1368 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Masaharu Sato 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC Corporation (56) References JP-A-4-178624 (JP, A) JP-A-3 -2825 (JP, A) JP-A-4-309922 (JP, A) JP-A-8-43848 (JP, A) JP-A-4-11224 (JP, A) JP-A-6-337643 (JP, A) JP-A-9-80401 (JP, A) JP-A-8-146456 (JP, A) JP-A-1-252936 (JP, A) JP-A-6-95133 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1333 G02F 1/1347 G02F 1/1368
Claims (13)
材料から成る調光層が電極層と交互に積層され、それぞ
れの調光層は電極層で挟まれていて、調光層中の液晶材
料が高分子樹脂中に滴状で規則的に配列しており、か
つ、可視光領域の光を選択的に反射することを特徴とす
る液晶光学素子において、各表示画素ごとに少なくとも
一つ、開口部を有することを特徴とする液晶光学素子。1. A light modulating layer composed of a polymer resin and a liquid crystal material is alternately laminated with an electrode layer on one light absorbing substrate, and each light modulating layer is sandwiched between the electrode layers. In the liquid crystal optical element, wherein the liquid crystal material in the liquid crystal material is regularly arranged in the form of drops in the polymer resin, and selectively reflects light in the visible light region, at least for each display pixel A liquid crystal optical element having an opening.
分離していることを特徴とする請求項2記載の液晶光学
素子。2. The liquid crystal optical element according to claim 2, wherein the laminated light control layers are separated for each display pixel.
出し電極を有することを特徴とする請求項2記載の液晶
光学素子。3. The liquid crystal optical element according to claim 2, wherein a side surface of each display pixel has an extraction electrode from each electrode layer.
する開口部の側面の成す角度が90度未満であることを
特徴とする請求項1または2記載の液晶光学素子。4. The liquid crystal optical element according to claim 1, wherein an angle formed between a plane of the light absorbing substrate and a side surface of the opening forming the extraction electrode is less than 90 degrees.
ており、かつ、各調光層の反射光がそれぞれ赤色、緑
色、青色であることを特徴とする請求項1または2記載
の液晶光学素子。5. The light control device according to claim 1, wherein three light control layers are laminated on the light absorbing substrate, and reflected light of each light control layer is red, green, and blue, respectively. The liquid crystal optical element according to the above.
折率と一致しており、電圧無印加時に調光層は光反射状
態であり、印加電圧が増加するに従い反射光強度が低下
することを特徴とする請求項1ないし5記載の液晶光学
素子。6. The ordinary light refractive index of the liquid crystal material matches the refractive index of the polymer resin, the light control layer is in a light reflecting state when no voltage is applied, and the reflected light intensity decreases as the applied voltage increases. 6. The liquid crystal optical element according to claim 1, wherein:
び赤色を反射する調光層の膜厚よりも薄いことを特徴と
する請求項5記載の液晶光学素子。7. The liquid crystal optical element according to claim 5, wherein the thickness of the light control layer that reflects green is smaller than the film thickness of the light control layer that reflects blue and red.
材料から構成されることを特徴とする請求項1記載の液
晶光学素子。8. The liquid crystal optical element according to claim 1, wherein at least one electrode layer is made of a conductive polymer material.
の保護膜を有することを特徴とする請求項1ないし8記
載の液晶光学素子。9. The liquid crystal optical element according to claim 1, further comprising a protective film having a thickness less than the thickness of the light control layer between the light control layer and the electrode layer.
極層が薄膜トランジスタのソース電極と電気的に接続さ
れていることを特徴とする請求項1ないし9記載の液晶
光学素子。10. The liquid crystal optical element according to claim 1, wherein one electrode layer is electrically connected to the counter electrode, and the other electrode layer is electrically connected to the source electrode of the thin film transistor.
各調光層間の電極層がそれぞれ光吸収基板上に設置され
た薄膜トランジスタのソース電極と電気的に接続され、
最表面にある電極層が対向電極に電気的に接続されてい
ることを特徴とする請求項10記載の液晶光学素子。11. An electrode layer between the light absorbing substrate and the light control layer and an electrode layer between each light control layer are electrically connected to a source electrode of a thin film transistor provided on the light absorption substrate, respectively.
The liquid crystal optical element according to claim 10, wherein the electrode layer on the outermost surface is electrically connected to the counter electrode.
各調光層間の電極層がそれぞれ光吸収基板上に設置され
た薄膜トランジスタのソース電極と電気的に接続され、
最表面にある電極層が光吸収基板上に形成された対向電
極に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1
1記載の液晶光学素子。12. An electrode layer between the light absorbing substrate and the light modulating layer and an electrode layer between each light modulating layer are electrically connected to a source electrode of a thin film transistor provided on the light absorbing substrate, respectively.
The electrode layer on the outermost surface is electrically connected to a counter electrode formed on the light absorbing substrate.
2. The liquid crystal optical element according to 1.
と、その電極層付き光吸収基板上に調光層と電極層を交
互に積層する工程と、各表示画素ごとに最表面電極層か
ら光吸収基板まで到達する開口部を形成する工程と、各
表示画素の側面に取り出し電極を形成する工程を有する
ことを特徴とする液晶光学素子の製造方法。13. A step of forming an electrode layer on a light-absorbing substrate, a step of alternately laminating a dimming layer and an electrode layer on the light-absorbing substrate with the electrode layer, and a step of forming a top electrode layer for each display pixel. A step of forming an opening reaching from the substrate to a light absorbing substrate, and a step of forming an extraction electrode on a side surface of each display pixel.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19120897A JP3047966B2 (en) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | Liquid crystal optical element and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1138392A JPH1138392A (en) | 1999-02-12 |
| JP3047966B2 true JP3047966B2 (en) | 2000-06-05 |
Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19120897A Expired - Fee Related JP3047966B2 (en) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | Liquid crystal optical element and manufacturing method thereof |
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| JP (1) | JP3047966B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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