JP3164875B2

JP3164875B2 - 洗浄方法

Info

Publication number: JP3164875B2
Application number: JP07690492A
Authority: JP
Inventors: 勝熊谷; 理代鈴木; 公明冠木; 康隆今城; 顕一福岡; 信宏斉藤; 茂夫山藤
Original assignee: ジーイー東芝シリコーン株式会社
Priority date: 1992-03-31
Filing date: 1992-03-31
Publication date: 2001-05-14
Anticipated expiration: 2016-05-14
Also published as: JPH06173049A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、環境破壊が少ないと共
に安全性に優れ、かつ洗浄・乾燥品質の安定性を高めた
洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】金属部品、メッキ部品、塗装部品、電子
部品、半導体部品等の各種の部品には、その製造工程や
組立て工程等において、機械油をはじめとして様々な汚
れが付着する。このような汚れを有する各種部品は、フ
ロン系溶剤や塩素系溶剤等によって洗浄することが一般
的に行われてきた。

【０００３】ところで、最近、地球的規模で環境問題が
取り上げられている。その中の一つとしてオゾン層破壊
の問題がある。すなわち、上述したようなフロン系溶剤
や塩素系溶剤を用いた洗浄剤は塩素を含んであり、この
洗浄剤に含まれる塩素が分解されないままに成層圏に達
し、オゾン層を破壊するといわれている。その結果、皮
膚ガンの増加や生体系への悪影響が懸念されている。そ
こで、先進国を中心にしてオゾン層を破壊する物質の使
用削除計画が進められており、洗浄剤として用いられる
フロン113 のほか十数種のフロンを西暦2000年までに、
また塩素系溶剤である1,1,1-トリクロロエタンを2005年
までに全廃することが決定されている。そこで、フロン
系溶剤や塩素系溶剤に代わる新しい洗浄剤の開発が各所
で進められている。

【０００４】ここで、一般的な洗浄工程を大別すると、
被洗浄物の汚れを洗い落とす工程（洗浄工程）と、この
洗浄後の被洗浄物をすすぐ工程と、すすいだ後の被洗浄
物を乾燥させる工程の 3つの工程に分けられる。フロン
系溶剤や塩素系溶剤の場合、単独で全ての機能を有して
いたが、代替洗浄剤の場合には、全ての機能を発揮させ
ることはほぼ不可能と考えられている。そこで、一般的
には洗浄工程およびすすぎ洗浄工程は、水系洗浄剤ある
いは非水系溶剤を用いた洗浄剤で行い、乾燥は熱風を利
用したり、また有機溶剤の即乾性を利用することで対応
せざるを得ない状況にある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現状の
代替洗浄剤の多くは、洗浄それ自体は可能であっても、
洗浄後に水によるすすぎ洗浄が必要であるという難点を
有している。すなわち、水によるすすぎ洗浄や、水系洗
浄剤による洗浄を実施した後には、被洗浄物の表面に付
着する水分を均一かつ迅速に乾燥させることが洗浄品質
の点から必要である。しかし、現状の温風乾燥のよう
に、強制的に水分を蒸発させる方法では、ウォーターマ
ーク等を防止することは非常に困難とされている。

【０００６】また、有機溶剤等を蒸気洗浄剤として用い
て乾燥を実施する場合、洗い落とした水系あるいは非水
系の洗浄剤、油、フラックス等の成分は、当然ながら蒸
気洗浄剤中に蓄積され、次第に濃度を高めることで乾燥
性を悪化させることになり、ついには洗浄、乾燥効果が
得られなくなる。これを解決するためには、蒸気洗浄剤
から洗浄剤成分や汚れ成分を分離し、浄化した後に再利
用する必要がある。ここで、蒸気洗浄剤から洗浄剤成分
や汚れ成分を分離する際に、一般的な蒸留法を適用した
場合、多くの有機溶剤では洗浄剤成分や汚れ成分を充分
に分離することが困難であったり、また分離自体は可能
であっても、多大な時間やコストを要する等といった問
題がある。さらに、有機溶剤等の蒸気洗浄剤で細部にわ
たって、十分な乾燥効果を得るためには、蒸気化した蒸
気洗浄剤中に洗浄剤成分が溶け込むような組み合せとす
ることが望ましいが、このことは上記した分離能に反す
ることとなる。

【０００７】このようなことから、環境破壊や人体に対
して悪影響を及ぼすことがなく、かつ通常状態において
十分な蒸気洗浄効果を確保した上で、洗浄剤と蒸気洗浄
剤とを有効に分離することを可能にし、洗浄剤等の混入
による洗浄・乾燥効果の低下を防止した洗浄方法の開発
が強く望まれている。

【０００８】本発明は、上述したような課題に対処する
ためになされたもので、環境破壊や人体に対する悪影響
がなく、かつ洗浄剤と蒸気洗浄剤とを有効に分離するこ
とを可能にすると共に、十分な洗浄・乾燥効果が得られ
る洗浄方法を提供することを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の洗浄方法は、被
洗浄物を洗浄剤が収容された洗浄槽により洗浄する工程
と、蒸気発生槽によって蒸気化した蒸気洗浄剤を蒸気洗
浄槽に供給し、この蒸気洗浄槽内で前記洗浄後の被洗浄
物を乾燥させる工程とを有する洗浄方法において、前記
洗浄剤として、前記蒸気洗浄剤の沸点温度近傍にて該蒸
気洗浄剤に対して相溶性を示すと共に冷却に伴って分離
し、かつそれらの比重差が0.05g/cm³以上の液状洗浄剤
を用い、かつ、前記液状洗浄剤を含む前記蒸気洗浄剤の
凝縮液を回収し、該凝縮液を強制的に冷却した後、該液
状洗浄剤と蒸気洗浄剤との比重差により分離した蒸気洗
浄剤を蒸気発生槽に再供給しつつ、前記乾燥を行うこと
を特徴としている。

【００１０】また、上記洗浄方法において、前記冷却を
前記蒸気洗浄剤に対する前記液状洗浄剤の溶解量が30重
量％以下となるような温度で行うこと特徴としている。

【００１１】

【作用】本発明の洗浄方法において、乾燥工程の前工程
となる洗浄工程で使用する洗浄剤として、蒸気洗浄剤の
沸点温度近傍では該蒸気洗浄剤に対して相溶性を示すと
共に、そのような温度から強制的に冷却すると分離し、
かつそれらの比重差が0.05g/cm³以上の液状洗浄剤を用
いている。このような液状洗浄剤で洗浄した被洗浄物の
表面には、洗浄剤成分等が付着している。これを蒸気洗
浄工程に持ち込み、蒸気洗浄剤の蒸気を被洗浄物の表面
で凝縮、液化させると、被洗浄物の表面に付着している
洗浄剤成分等は蒸気洗浄剤中に溶け込むため、細部にわ
たって十分に洗浄・乾燥することができる。ここで、洗
浄剤成分は蒸気洗浄剤中に混入することになるが、洗浄
剤と蒸気洗浄剤とは冷却により溶解度が低下し、かつ適
度の比重差を有するのため、強制的に冷却した後に静置
状態を確保することで、これらは分離する。これによっ
て、蒸気洗浄剤を有効に回収、再利用することができる
と共に、蒸気洗浄剤中への洗浄剤成分の混入による洗浄
・乾燥効果の低下を防止することができる。

【００１２】

【実施例】以下、本発明を実施例によって詳細に説明す
る。

【００１３】図１は、本発明の洗浄方法を適用した一実
施例の洗浄装置の構成を示す図である。同図に示す洗浄
装置は、被洗浄物１の搬送手段として、例えばバスケッ
ト搬送機構１０を有し、このバスケット搬送機構１０の
搬送順路に従って、洗浄工程２０、すすぎ洗浄工程３０
および蒸気乾燥工程４０の各洗浄工程が順に配設されて
構成されている。

【００１４】上記洗浄工程２０は、洗浄剤２１が収容さ
れた浸漬洗浄槽２２と液切り槽２３とを有しており、上
記浸漬洗浄槽２２によって被洗浄物１に付着している油
系や水系等の汚れが除去される。この浸漬洗浄槽２２で
は、必要に応じて、超音波、揺動、機械的撹拌等を併用
することが可能である。なお、この洗浄手段２０はシャ
ワー洗浄との併用、あるいはシャワー洗浄単独とするこ
とも可能である。

【００１５】また、すすぎ洗浄工程３０は、すすぎ洗浄
剤３１が収容された浸漬すすぎ槽３２と、被洗浄物１に
対してすすぎ洗浄剤３１を吹き付けるシャワーすすぎ槽
３３とを有している。洗浄工程２０を経た被洗浄物１に
付着している洗浄剤成分やイオン性の汚れは、このすす
ぎ洗浄工程３０によってすすぎ落とされる。

【００１６】蒸気乾燥工程４０は、蒸気洗浄剤４１を蒸
気化する蒸気発生槽４２と、この蒸気発生槽４２から蒸
気化された蒸気洗浄剤４１が供給され、すすぎ洗浄後の
被洗浄物１の蒸気洗浄を行う蒸気洗浄槽４３とを有して
いる。蒸気発生槽４２には、蒸気洗浄剤４１が収容され
ており、この蒸気洗浄剤４１中に投入されたヒータ４４
によって、蒸気洗浄剤４１の蒸気を生成するように構成
されている。また、蒸気洗浄槽４３の上部には、この蒸
気洗浄槽４３内からペルフルオロ化合物の蒸気が揮散す
ることを防止するように、冷却パイプ４５が設置されて
いる。

【００１７】上記した蒸気洗浄剤４１としては、容易に
蒸気化し得ると共に、毒性を有さず環境等に対して悪影
響を及ぼさない、不活性な液体を用いることが好まし
い。このような蒸気洗浄剤４１としては、ペルフルオロ
化合物が好適である。このペルフルオロ化合物として
は、分子構造中の炭素原子に結合し得る全ての置換基が
フッ素原子である炭素化合物（ペルフルオロカーボン）
が例示される。ただし、工業的に得られるペルフルオロ
カーボンは、置換基の全てがフッ素原子であるとは限ら
ず、一部不純物として水素、塩素あるいは臭素等が結合
しているものも含まれる。これは、製造上避けることが
できない不純物であって、ペルフルオロカーボンに0.5%
〜5.0%程度含まれるものであり、このような不純物を含
むペルフルオロカーボンで実用上の支障はない。また、
上記ペルフルオロカーボンとしては、主鎖が炭素である
ものに限られるものでなく、一部エーテル結合のような
酸素を含むものや、窒素、珪素等を含むものを用いるこ
とも可能である。

【００１８】このようなペルフルオロ化合物は、通常、
常温では液状体であって、不燃性、無毒、無臭で、非常
に安全性の高いものであり、また実質的に塩素を含まな
いことから環境破壊を招くことがない。また、フロン系
溶剤と同等の揮発性を有し、さらに金属、プラスチッ
ク、ガラス等の各種材料を侵さないことから、各種材質
からなる被洗浄物１に対して有効かつ十分な洗浄および
乾燥性能を発揮する。ペルフルオロカーボンの具体例と
しては、 C₃F ₆、 C₄F ₈、 C₅F ₁₀、 C₆F₁₂、 C
₆F ₁₂O 、 C₆F ₁₄、 C₇F ₁₄、 C₇F ₁₄O 、 C₇F
₁₆、 C₈F ₁₆ O、 C₈F ₁₈、 C₉F ₁₈O 、 C₁₀F ₂₀O
等の分子式で表されるものや、CF₃-[(O-CF(CF₃)-C
F₂) _n-(O-CF₂) _m]-O-CF₃等の構造を有するもの等
が挙げられる。具体的には、例えばテクノケアFRV-1(商
品名、株式会社東芝製）等が使用される。

【００１９】ここで、この実施例においては、蒸気乾燥
工程４０具体的には蒸気洗浄槽４３に持ち込まれる洗浄
剤はすすぎ洗浄剤３１である。従って、少なくともすす
ぎ洗浄剤３１として、ペルフルオロ化合物からなる蒸気
洗浄剤４１の沸点温度近傍にて蒸気洗浄剤４１に対して
相溶性を示すと共に冷却に伴って分離し、かつそれらの
比重差が0.05g/cm³以上である液状洗浄剤を用いる。上
記冷却時の分離性としては、一般的な冷却温度例えば10
℃以上の温度で、蒸気洗浄剤４１に対する液状洗浄剤の
溶解量が30重量％以下となることが好ましい。なお、液
状洗浄剤中に添加物が含まれているような場合には、そ
の成分が蒸気洗浄剤中で均一分散状態（例えばエマルジ
ョン）を形成することもあるが、特に問題となるもので
はない。冷却時に上記した溶解量が30重量％を超えると
いうことは、たえずそれ以上の液状洗浄剤が蒸気洗浄剤
４１中に溶解していることになり、蒸気洗浄剤４１の性
能低下を招くこととなる。冷却時における上記溶解量の
より好ましい値は20重量％以下であり、さらに好ましく
は10重量％以下である。また、再使用するにあたって、
冷却温度はあまり低くしないほうがよいため、冷却温度
は10℃以上とすることが好ましい。さらに、蒸気洗浄剤
４１と液状洗浄剤との比重差が0.05g/cm³未満では、後
述する分離時に長時間要したり、流水中では分離が困難
となる。上記比重差のより好ましい値は 0.1g/cm³以上
であり、さらに好ましくは 0.3g/cm³以上である。

【００２０】なお、洗浄剤２１も蒸気洗浄槽４３内に持
ち込まれる可能性が皆無とはいえないため、上記条件を
満足する液状洗浄剤を主成分とするような洗浄剤２１を
用いることがより好ましい。

【００２１】ペルフルオロカーボンに対して上記条件を
満足する液状洗浄剤としては、例えば低分子量シリコー
ン系洗浄剤、イソパラフィン系洗浄剤等が例示される。
低分子量シリコーン系洗浄剤の主成分となるシリコーン
化合物としては、例えば

【化１】（式中、 Rは同一または異なる置換または非置換の 1価
の炭化水素基、 mは 0〜5の整数を示す）で表される直
鎖状ポリジオルガノシロキサンや、

【化２】（式中、 Rは同一または異なる置換または非置換の 1価
の炭化水素基、 nは 3〜7の整数を示す）で表される環
状ポリジオルガノシロキサン等が例示される。上記した
(1)式および (2)式中の Rは、置換または非置換の 1価
の炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等のアルキル基、フェニル基等の 1価
の非置換炭化水素基、トリフロロメチル基等の 1価の置
換炭化水素基等が例示されるが、系の安定性、揮発性の
維持等からメチル基が好ましい。

【００２２】上記低分子量シリコーン系洗浄剤をすすぎ
洗浄剤３１として用いる場合の具体例としては、上記低
分子量ポリオルガノシロキサン単独のテクノケアFRW-1
(商品名、株式会社東芝製）等が挙げられる。

【００２３】例えば、蒸気洗浄剤４１としてのテクノケ
アFRV-1 の比重は約 1.7g/cm³、またすすぎ洗浄剤３１
としてのテクノケアFRW-1 の比重は約 1g/cm³であり、
これらの比重差は約 0.7g/cm³となり、冷却および静置
により 2層に分離することができる。また、図２に FRV
-1に対する FRW-1の溶解量と温度との関係を示す。図２
から明らかなように、 FRV-1と FRW-1とは、 FRV-1の沸
点近傍の温度すなわち蒸気洗浄温度では任意に溶解する
と共に、80℃程度まで冷却することにより、20重量％以
下の溶解量とすることができる。これらにより、蒸気洗
浄時には十分な溶解性が得られ、かつ冷却時には効率よ
く分離し得ることが分かる。

【００２４】また、上述したような低分子量シリコーン
化合物を洗浄剤２１として用いる場合には、洗浄性能を
付与、向上させ得る界面活性剤や親水性溶剤等を添加し
たもの等が使用される。上記したような低分子量ポリオ
ルガノシロキサンは、これら単独でも洗浄性能を示すも
のであるが、界面活性剤や親水性溶剤等を添加すること
によって、より良好な洗浄性能が得られる。

【００２５】上記洗浄性能向上剤としての界面活性剤
は、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性系およ
びこれらの複合系等、各種のものを使用することが可能
である。また親水性溶剤としては、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ
ールモノブチルエーテル等の多価アルコールとその誘導
体等が例示される。

【００２６】このような洗浄剤２１の具体例としては、
低分子量シリコーン化合物に洗浄性能向上剤を添加した
テクノケアFRW-13（商品名、株式会社東芝製）、シリコ
ーン系化合物に洗浄性能向上剤を添加した、例えばテク
ノケアFRW-14（商品名、株式会社東芝製）、同FRW-15、
同FRW-17等が挙げられる。

【００２７】洗浄工程２０で油系や水系等の汚れが除去
され、かつすすぎ洗浄工程３０で洗浄剤成分やイオン性
の汚れがすすぎ落とされた被洗浄物１は、蒸気洗浄剤４
１例えばペルフルオロ化合物の蒸気が充満する蒸気洗浄
槽４３内に搬送される。被処理物１の表面には、その温
度がペルフルオロ化合物の沸点に至るまで、ペルフルオ
ロ化合物の蒸気が結露し、その中にすすぎ洗浄剤３１は
溶け込む。そして、被処理物１の温度がペルフルオロ化
合物の沸点に至ると、すすぎ洗浄剤３１を含むペルフル
オロ化合物の蒸発が起こり、被処理物１の表面にはもは
や何ものも付着しない状態（清浄・乾燥状態）となる。

【００２８】また、被処理物１の表面で凝縮、液化され
た蒸気洗浄剤４１ａ（以下、凝縮蒸気洗浄液と記す）
は、蒸気洗浄槽４３内に落下する。この凝縮蒸気洗浄液
４１ａには、すすぎ洗浄剤３１や一部汚れ成分等が含ま
れている。よって、この凝縮蒸気洗浄液４１ａを単に再
使用したのでは、当然ながらすすぎ洗浄剤３１や汚れ成
分等が蒸気洗浄剤４１中に蓄積され、次第に濃度を高め
ることで乾燥性を悪化させることになり、ついには洗
浄、乾燥効果が得られなくなる。そこで、この実施例の
洗浄装置においては、蒸気発生槽４２および蒸気洗浄槽
４３を蒸気洗浄剤回収配管５１ａ、５１ｂによって、蒸
気洗浄剤分離槽５０と接続している。

【００２９】そして、この蒸気洗浄剤分離槽５０によっ
て、凝縮蒸気洗浄液４１ａを強制的に冷却することによ
り、前述したように蒸気洗浄剤４１に対するすすぎ洗浄
剤３１の溶解度が低下する。また、引き続いて静置する
ことにより、すすぎ洗浄剤３１や汚れ成分と蒸気洗浄剤
４１とは、それらの比重差により分離される。 2層に分
離された下層側には、例えばペルフルオロ化合物が存在
することになる。

【００３０】上述した蒸気洗浄剤分離槽５０は、図３に
示すように、上下方向に垂設された遮蔽板５２、５３に
よって、冷却用コイル５４が設置された冷却部５５と、
分離部５６とに分けられている。上記遮蔽板５２、５３
は、洗浄剤成分や汚れ成分等が含まれている凝縮蒸気洗
浄液４１ａの冷却部５５における滞留時間を長くし、冷
却効率を高めると共に、分離部５６で安定した静置状態
を得るためのものである。なお、上記冷却コイルに代え
て、冷却フィンを有する冷却パイプ等を用いることも可
能である。

【００３１】上記冷却部５５には、蒸気発生槽４２に接
続された蒸気洗浄剤回収配管５１ａと、蒸気洗浄槽４３
に接続された蒸気洗浄剤回収配管５１ｂとが、その上方
に接続されており、冷却用コイル５４は下方に設置され
ている。これらによって、洗浄剤成分や汚れ成分等が含
まれている凝縮蒸気洗浄液４１ａは十分に冷却され、容
易に蒸気洗浄剤４１と洗浄剤成分等とに分離し得る状態
となる。なお、蒸気発生槽４２からの蒸気洗浄剤４１の
回収は、蒸気発生槽４２内にすすぎ洗浄剤３１が残留し
て、蒸気洗浄剤４１中のすすぎ洗浄剤３１の濃度が高く
なることを防止するためであり、必要に応じて実施すれ
ばよい。

【００３２】また、冷却部５５によって十分に冷却され
た凝縮蒸気洗浄液４１ａは、オーバーフロー部５７を介
して分離部５６へと流れ込む。この分離部５６におい
て、冷却された凝縮蒸気洗浄液４１ａは静置状態とされ
ることにより、上層側のすすぎ洗浄剤３１例えば低分子
量シリコーン系洗浄剤（Ａ層）と下層側のペルフルオロ
化合物（Ｂ層）とに分離される。

【００３３】この分離部５６によって分離、浄化された
蒸気洗浄剤４１（Ｂ層）は、図４に示すように、分離部
５６の下部側に設けられた蒸気洗浄剤戻り配管５８を通
じて、蒸気発生槽４２へと再供給される。このように、
蒸気洗浄剤戻り配管５８を分離部５６の下部に設けるこ
とによって、オーバーフロー部５７から分離部５６へと
流れ込む際に発生する乱流の影響を受けることなく、十
分に分離、浄化された蒸気洗浄剤４１のみを蒸気発生槽
４２へと再供給することができる。また、分離部５６と
蒸気発生槽４２とを、同レベルで蒸気洗浄剤戻り配管５
８により接続することによって、蒸気発生槽４２内の蒸
気洗浄剤４１が蒸気洗浄槽４３に供給された際、蒸気洗
浄剤分離槽５０から分離・浄化された蒸気洗浄剤４１を
随時蒸気発生槽４２へ再供給することができる。なお、
上層側のすすぎ洗浄剤３１等によるＡ層は、適時配管５
９によって排出すればよい。

【００３４】ところで、図４においては、蒸気洗浄剤分
離槽５０と蒸気発生槽４２とを直管状の蒸気洗浄剤戻り
配管５８により接続した例について説明したが、これだ
と蒸気発生に伴って蒸気発生槽４２の内圧が上昇するこ
とにより、蒸気洗浄剤４１が蒸気洗浄剤分離槽５０に逆
流する可能性がある。蒸気洗浄剤４１の逆流が生じる
と、分離部５６での分離効率が低下したり、また蒸気発
生槽４２内の液量が減少して、ヒータ４４の空たきが起
こる可能性がある等、危険性や冷却効率の点で問題が生
じるおそれがある。

【００３５】このような点に対しては、図５または図６
に示すように、例えば蒸気洗浄剤戻り配管５８を屈曲さ
せることにより、ヒータ４４の設置位置より高くなる部
分５８ａを設けることが効果的である。図５に示す蒸気
洗浄剤戻り配管５８は、屈曲させた部分を直接的に蒸気
洗浄剤分離槽５０内に挿入すると共に、その開口端部５
８ｂが下層側の蒸気洗浄剤層（Ｂ層）に到達するよう配
管長さを設定している。また、図６に示す蒸気洗浄剤戻
り配管５８では、蒸気洗浄剤分離槽５０および蒸気発生
槽４２に対する接続部５８ｃは図４と同様に、それぞれ
の下部側に設け、その間を屈曲させることによって、ヒ
ータ４４の設置位置より高くなる部分５８ａを設けてい
る。

【００３６】このように、蒸気洗浄剤戻り配管５８の一
部がヒータ４４の設置位置より高くなるよう設定するこ
とにより、蒸気発生槽４２内の蒸気洗浄剤４１が蒸気洗
浄剤分離槽５０に逆流することが防止でき、蒸気洗浄剤
分離槽５０から蒸気発生槽４２に安定して蒸気洗浄剤４
１を補給することが可能となる。蒸気洗浄剤分離槽５０
内の蒸気洗浄剤４１による液面が蒸気洗浄剤戻り配管５
８の上部５８ａ位置より低い場合には液の補給は止まる
が、蒸気洗浄により凝縮した液４１ａが蒸気洗浄剤分離
槽５０に供給されるため、液面が高くなって自然に蒸気
発生槽４２に流れることとなる。蒸気洗浄剤戻り配管５
８の一部をヒータ４４の設置位置より高くし、蒸気洗浄
剤分離槽５０内に十分な量の液を溜めておくことにより
逆流が防止でき、よってヒータ４４が液面からでて空た
きが起こることもなくなり、温度が異常に高くなること
もない。このように、安全性の向上に寄与する。なお、
上記した例では、ヒータ４４を蒸気発生槽４２の下側か
ら20cmの位置に設置し、かつ蒸気洗浄剤戻り配管５８の
上部５８ａ位置を40cmに設定した。

【００３７】上述したように、この実施例においては、
低分子量シリコーン化合物等を含む洗浄剤を用いること
によって、環境破壊や人体に対する悪影響を及ぼすこと
なく、被洗浄物１に対して十分な洗浄力を発揮すること
ができる。また、ペルフルオロ化合物を用いて蒸気洗浄
（乾燥）を行っているため、同様に環境破壊や人体に対
する悪影響を及ぼすことなく、優れた乾燥性能が得られ
る。

【００３８】そして、低分子量シリコーン化合物とペル
フルオロ化合物とは、ペルフルオロ化合物の沸点温度近
傍では相溶性を示し、かつ温度低下により急激に溶解度
が低くなると共に、適度な比重差を有することから、強
制冷却と比重差を利用して容易に分離することができ
る。よって、蒸気洗浄剤４１中に持ち込まれた洗浄剤成
分や汚れ成分によって、洗浄・乾燥力が低下することを
有効に防止することができると共に、蒸気洗浄剤４１の
再使用が可能となる。また、洗浄剤と蒸気洗浄剤との分
離を比重差によって行っているため、蒸気洗浄剤４１の
回収が低コストで実現できる。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の洗浄方法
によれば、環境破壊や人体に対して悪影響を及ぼすこと
なく、通常状態において十分な洗浄および乾燥性能が得
られる。また、洗浄剤と蒸気洗浄剤とを、低コストでか
つ確実に分離することが可能となるため、洗浄剤等の混
入による洗浄・乾燥効果の低下を防止することができ、
よって上記洗浄および乾燥性能を安定して得ることが可
能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄方法を適用した一実施例の洗浄装
置の構成を模式的に示す図である。

【図２】蒸気洗浄剤としてのペルフルオロ化合物中への
液状洗浄剤としてのシリコーン化合物の溶解量を温度の
関数として示す図である。

【図３】図１に示す洗浄装置に用いた蒸気洗浄剤分離槽
の構成を示す断面図である。

【図４】図１に示す洗浄装置に用いた蒸気洗浄剤分離槽
と蒸気発生槽との接続状態を示す断面図である。

【図５】蒸気洗浄剤分離槽と蒸気発生槽との接続状態の
他の例を示す断面図である。

【図６】蒸気洗浄剤分離槽と蒸気発生槽との接続状態の
さらに他の例を示す断面図である。

【符号の説明】

１………被洗浄物１０……バスケット搬送機構２０……洗浄工程２１……シリコーン系化合物を含む洗浄剤２２……浸漬洗浄槽２３……液切り槽３０……すすぎ洗浄工程３１……すすぎ洗浄剤３２……浸漬すすぎ槽３３……シャワーすすぎ槽４０……蒸気乾燥工程４１……蒸気洗浄剤４１ａ…凝縮蒸気洗浄液４２……蒸気発生槽４３……蒸気洗浄槽５０……蒸気洗浄剤分離槽５１ａ、５１ｂ……蒸気洗浄剤回収配管５２、５３……遮蔽板５４……冷却用コイル５５……冷却部５６……分離部５８……蒸気洗浄剤戻り配管Ａ……シリコーン化合物層Ｂ……ペルフルオロ化合物層

フロントページの続き (72)発明者今城康隆東京都港区芝浦１丁目１番１号株式会社東芝本社事務所内 (72)発明者福岡顕一東京都港区芝浦１丁目１番１号株式会社東芝本社事務所内 (72)発明者斉藤信宏群馬県太田市西新町133番地東芝シリコーン株式会社内 (72)発明者山藤茂夫群馬県太田市西新町133番地東芝シリコーン株式会社内 (56)参考文献特開平４−297590（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C23G 5/032

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】被洗浄物を洗浄剤が収容された洗浄槽に
より洗浄する工程と、蒸気発生槽によって蒸気化した蒸
気洗浄剤を蒸気洗浄槽に供給し、この蒸気洗浄槽内で前
記洗浄後の被洗浄物を乾燥させる工程とを有する洗浄方
法において、前記洗浄剤として、前記蒸気洗浄剤の沸点温度近傍にて
該蒸気洗浄剤に対して相溶性を示すと共に冷却に伴って
分離し、かつそれらの比重差が0.05g/cm³以上の液状洗
浄剤を用い、かつ、前記液状洗浄剤を含む前記蒸気洗浄剤の凝縮液を
回収し、該凝縮液を強制的に冷却した後、該液状洗浄剤
と蒸気洗浄剤との比重差により分離した蒸気洗浄剤を蒸
気発生槽に再供給しつつ、前記乾燥を行うことを特徴と
する洗浄方法。
【請求項２】請求項１記載の洗浄方法において、前記冷却を、前記蒸気洗浄剤に対する前記液状洗浄剤の
溶解量が30重量％以下となるような温度で行うことを特
徴とする洗浄方法。
【請求項３】請求項１記載の洗浄方法において、前記蒸気洗浄剤として、ペルフルオロ化合物を用いるこ
とを特徴とする洗浄方法。
【請求項４】請求項１記載の洗浄方法において、前記洗浄剤として、シリコーン系化合物を含む液状洗浄
剤を用いることを特徴とする洗浄方法。
【請求項５】請求項１記載の洗浄方法において、前記蒸気洗浄剤としてペルフルオロ化合物を用いると共
に、前記洗浄剤としてシリコーン系化合物を含む液状洗
浄剤を用いることを特徴とする洗浄方法。