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JP3202190B2 - Method for forming bump, template used in method for forming bump, and method for manufacturing same - Google Patents
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JP3202190B2 - Method for forming bump, template used in method for forming bump, and method for manufacturing same - Google Patents

Method for forming bump, template used in method for forming bump, and method for manufacturing same

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JP3202190B2
JP3202190B2 JP11086998A JP11086998A JP3202190B2 JP 3202190 B2 JP3202190 B2 JP 3202190B2 JP 11086998 A JP11086998 A JP 11086998A JP 11086998 A JP11086998 A JP 11086998A JP 3202190 B2 JP3202190 B2 JP 3202190B2
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    • H10W72/01221Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps using local deposition
    • H10W72/01225Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps using local deposition in solid form, e.g. by using a powder or by stud bumping

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子部品への導電バ
ンプの形成に使用されるバンプの形成方法及びその形成
方法で用いられるテンプレート及びその製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a bump used for forming a conductive bump on an electronic component, a template used for the method, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】LSI等の電子部品にはんだバンプ等の
メタルバンプを形成し、メタルバンプによって電子部品
をプリント回路板に接合することは広く行われている。
メタルバンプを形成するための一方法においては、メタ
ルボールを予め形成してメタルボール容器に貯蔵してお
き、メタルボールをメタルボール容器から取り出して電
子部品の電極へ取り付けて電子部品のメタルバンプとす
る。例えば特開平8−112671号公報はこのような
メタルバンプ形成装置を開示している。
2. Description of the Related Art It is widely practiced to form a metal bump such as a solder bump on an electronic component such as an LSI and bond the electronic component to a printed circuit board by the metal bump.
In one method for forming a metal bump, a metal ball is formed in advance and stored in a metal ball container, and the metal ball is taken out of the metal ball container and attached to an electrode of an electronic component to form a metal bump on the electronic component. I do. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 8-112671 discloses such a metal bump forming apparatus.

【0003】従来のメタルバンプ形成装置においては、
メタルボールをメタルボール容器から取り出して、電子
部品の電極に取り付けるために、吸着ヘッドが使用され
る。吸着ヘッドには、電子部品の電極の配列と同じ配列
で配置された貫通孔を有するメタルボール搭載用テンプ
レート(吸着パッド)が取り付けられる。吸着ヘッドの
表面には真空源に接続された吸着溝が設けられ、メタル
ボール搭載用テンプレートの貫通孔は吸着ヘッドの吸着
溝に接続され、メタルボールを吸着することができる。
In a conventional metal bump forming apparatus,
A suction head is used to remove a metal ball from a metal ball container and attach it to an electrode of an electronic component. A metal ball mounting template (suction pad) having through holes arranged in the same arrangement as the electrodes of the electronic component is attached to the suction head. A suction groove connected to a vacuum source is provided on the surface of the suction head, and a through hole of the metal ball mounting template is connected to the suction groove of the suction head, so that the metal ball can be sucked.

【0004】メタルボール搭載用テンプレートがメタル
ボール容器のメタルボールに接触すると、メタルボール
がメタルボール搭載用テンプレートの貫通孔にそれぞれ
吸着される。それから、吸着ヘッドを電子部品の上にも
っていくと、メタルボール搭載用テンプレートの貫通孔
に吸着されたメタルボールはそれぞれ電子部品の電極の
上に位置するようになる。そこで、メタルボールを電子
部品の電極に熱圧着すると、メタルボールは電子部品の
電極に接合され、メタルバンプとなる。そこで、吸着ヘ
ッドは電子部品から引き離され、メタルボールは吸着ヘ
ッドから電子部品へ転写される。
When the metal ball mounting template comes into contact with the metal balls of the metal ball container, the metal balls are attracted to the through holes of the metal ball mounting template. Then, when the suction head is moved over the electronic component, the metal balls sucked into the through holes of the metal ball mounting template are respectively positioned above the electrodes of the electronic component. Then, when the metal ball is thermocompression-bonded to the electrode of the electronic component, the metal ball is joined to the electrode of the electronic component to form a metal bump. Then, the suction head is separated from the electronic component, and the metal balls are transferred from the suction head to the electronic component.

【0005】メタルボール搭載用テンプレートは、通常
は、ひずみにくく且つ帯電性が低い無機素材、例えばガ
ラス等で作られる。プラスチックはひずみやすく且つ帯
電性があるので、メタルボール搭載用テンプレートの材
料としては適していない。もし、メタルボール搭載用テ
ンプレートがひずみやすい材料の板で作られていると、
メタルボールを電子部品の電極に圧着するときにメタル
ボール搭載用テンプレートがひずんで貫通孔の位置が電
子部品の電極の位置からずれる可能性がある。また、メ
タルボール搭載用テンプレートに帯電性があると、メタ
ルボール搭載用テンプレートをメタルボール容器上にも
ってきてメタルボールを貫通孔に吸着させるときに、メ
タルボールが静電気によってメタルボール搭載用テンプ
レートの貫通孔以外の位置に付着する可能性が生じる。
[0005] The metal ball mounting template is usually made of an inorganic material that is hardly distorted and has low chargeability, such as glass. Plastic is not suitable as a material for a metal ball mounting template because plastic is easily distorted and has chargeability. If the metal ball mounting template is made of a plate of easily distorted material,
When the metal ball is pressed against the electrode of the electronic component, the metal ball mounting template may be distorted and the position of the through hole may be shifted from the position of the electrode of the electronic component. Also, if the metal ball mounting template has an electrostatic property, when the metal ball mounting template is brought to the metal ball container and the metal ball is attracted to the through-hole, the metal ball is electrostatically charged to the metal ball mounting template. There is a possibility that it may adhere to a position other than the through hole.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ガラスでできたメタル
ボール搭載用テンプレートの貫通孔は、エッチングによ
り形成される。あるいは、貫通孔はドリル放電加工等の
機械加工により形成されることもできる。しかし、メタ
ルボール搭載用テンプレートがガラス等の無機素材で作
られる場合には、貫通孔の形成時に、貫通孔の側壁が円
滑にならず、凹凸状のバリが発生することがある。
The through-hole of the metal ball mounting template made of glass is formed by etching. Alternatively, the through holes can be formed by machining such as drill electric discharge machining. However, when the metal ball mounting template is made of an inorganic material such as glass, when forming the through hole, the side wall of the through hole is not smooth, and irregular burrs may be generated.

【0007】貫通孔の側壁が円滑でないと、電子部品の
電極にメタルボールを接合するためにメタルボール搭載
用テンプレートを電子部品に向かって押しつけるとき
に、メタルボールがメタルボール搭載用テンプレートの
貫通孔の端部に食い込み、吸着ヘッドを電子部品から引
き離すときに、メタルボールがメタルボール搭載用テン
プレートに付着した状態となり、メタルボールが電子部
品の電極から引き剥がされるという問題があった。
If the side wall of the through hole is not smooth, when the metal ball mounting template is pressed toward the electronic component in order to join the metal ball to the electrode of the electronic component, the metal ball is pressed through the through hole of the metal ball mounting template. When the suction head is cut off from the electronic component and the suction head is separated from the electronic component, the metal ball adheres to the metal ball mounting template, and the metal ball is peeled off from the electrode of the electronic component.

【0008】本発明の目的は、メタルボールを電子部品
の電極パッドに確実に接合できるメタルボール搭載用テ
ンプレート及びその製造方法を提供することである。本
発明の他の目的は、半導体電極用メタルバンプ配列テン
プレートを使用したバンプの形成方法を提供することで
ある。本発明の他の目的は、半導体電極用メタルバンプ
配列テンプレートとして使用可能な有孔板の製造方法及
び装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a metal ball mounting template capable of securely bonding a metal ball to an electrode pad of an electronic component, and a method of manufacturing the same. It is another object of the present invention to provide a method for forming a bump using a metal bump array template for a semiconductor electrode. It is another object of the present invention to provide a method and an apparatus for manufacturing a perforated plate that can be used as a metal bump array template for a semiconductor electrode.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明によるバンプの形
成方法は、バンプを形成するチップの電極に対応した貫
通孔を形成し、該貫通孔の側壁を平滑化加工したテンプ
レートを用い、該テンプレートの該貫通孔でバンプとな
る導電ボールを真空吸引し、該テンプレートで吸引した
該導電ボールを前記電極に位置決めし、該テンプレート
で該導電ボールを該電極に押圧し、該吸引を解除するこ
とを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a method of forming a bump, comprising forming a through-hole corresponding to an electrode of a chip on which a bump is to be formed, and using a template in which the side wall of the through-hole is smoothed. Vacuum-suctioning the conductive ball to be a bump in the through hole, positioning the conductive ball sucked by the template on the electrode, pressing the conductive ball against the electrode with the template, and releasing the suction. Features.

【0010】本発明によるテンプレートの製造方法は、
プレートに導電ボールを吸引支持するための貫通孔を形
成する孔加工ステップと、該孔加工ステップで形成した
該貫通孔の側壁を平滑化する平滑化ステップとからなる
ことを特徴とするものである。好ましくは、該貫通孔を
エッチングによって形成する。平滑化はレーザビームを
照射することによって行う。また、好ましくは、該貫通
孔の側壁にレーザビームを照射するステップが、一つの
貫通孔の直径とほぼ等しいかそれよりもわずかに大きい
開口部を有するマスクを介してレーザビームを照射す
る。
The method for producing a template according to the present invention comprises:
A hole forming step of forming a through hole for suction-supporting the conductive ball in the plate; and a smoothing step of smoothing a side wall of the through hole formed in the hole forming step. . Preferably, the through-hole is formed by etching. Smoothing is performed by irradiating a laser beam. Preferably, the step of irradiating the side wall of the through hole with a laser beam irradiates the laser beam through a mask having an opening substantially equal to or slightly larger than the diameter of one through hole.

【0011】本発明によるテンプレートは、導電ボール
を吸引支持するための貫通孔を有し、該貫通孔の側壁が
平滑化されていることを特徴とするものである。これら
の構成においては、テンプレートの貫通孔の側壁が好ま
しくはレーザビームの照射により平滑化されている。従
って、導電ボールがテンプレートの貫通孔の端部に食い
込むことがなくなり、電子部品の電極パッドに導電ボー
ルを接合して吸着ヘッドを電子部品から引き離するとき
に、導電ボールがテンプレートから確実に離れ、導電ボ
ールが電子部品の電極パッドに確実に接合されるように
なる。
The template according to the present invention has a through hole for supporting the conductive ball by suction, and the side wall of the through hole is smoothed. In these configurations, the side wall of the through hole of the template is preferably smoothed by irradiation with a laser beam. Therefore, the conductive ball does not bite into the end of the through hole of the template, and when the conductive ball is bonded to the electrode pad of the electronic component and the suction head is separated from the electronic component, the conductive ball is securely separated from the template, The conductive balls are securely bonded to the electrode pads of the electronic component.

【0012】さらに、本発明は、無機素材層と、有機素
材層とを積層してなり、導電ボールを吸引支持するため
の貫通孔が該無機素材層及び該有機素材層を貫通してバ
ンプを形成するチップの電極に対応する位置に形成さ
、有機素材層の表面に静防止膜が設けられていること
を特徴とするテンプレートを提供するものである。この
構成においては、無機素材層はテンプレートに十分な強
度を与えてたわみにくくする。貫通孔は無機素材層及び
有機素材層を貫通して形成されており、有機素材層の貫
通孔の部分は無機素材層の貫通孔の部分よりも円滑に形
成されることができる。導電ボールは有機素材層の貫通
孔の部分によって吸着される。従って、導電ボールがテ
ンプレートの貫通孔の端部に食い込むことがなくなり、
電子部品の電極パッドに導電ボールを接合して吸着ヘッ
ドを電子部品から引き離すときに、導電ボールがテンプ
レートから確実に離れ、導電ボールが電子部品の電極パ
ッドに確実に接合されるようになる。
Further, according to the present invention, an inorganic material layer and an organic material layer are laminated, and a through hole for sucking and supporting a conductive ball penetrates the inorganic material layer and the organic material layer to form a bump. An object of the present invention is to provide a template formed at a position corresponding to an electrode of a chip to be formed , wherein a static prevention film is provided on a surface of an organic material layer . In this configuration, the inorganic material layer imparts sufficient strength to the template to make it difficult to bend. The through hole is formed through the inorganic material layer and the organic material layer, and the through hole portion of the organic material layer can be formed more smoothly than the through hole portion of the inorganic material layer. The conductive balls are adsorbed by the through holes in the organic material layer. Therefore, the conductive ball does not bite into the end of the through hole of the template,
When the conductive ball is bonded to the electrode pad of the electronic component and the suction head is separated from the electronic component, the conductive ball is reliably separated from the template, and the conductive ball is securely bonded to the electrode pad of the electronic component.

【0013】さらに、本発明は、通気性の素材層と、樹
脂層とが接着されており、該樹脂層に導電ボールを吸引
支持するための貫通孔がバンプを形成するチップの電極
に対応する位置に形成され、通気性の素材層が多孔質の
素材または繊維状の素材からなることを特徴とするテン
プレートを提供するものである。通気性の素材層は吸着
ヘッドの吸着溝と樹脂層の貫通孔とを連通させ、貫通孔
が導電ボールを吸着することができる。この場合にも、
導電ボールがテンプレートの貫通孔の端部に食い込むこ
とがなくなり、電子部品の電極パッドに導電ボールを接
合して吸着ヘッドを電子部品から引き離するときに、導
電ボールがテンプレートから確実に離れ、導電ボールが
電子部品の電極パッドに確実に接合されるようになる。
Further, according to the present invention, a gas-permeable material layer and a resin layer are bonded to each other , and a through-hole for sucking and supporting a conductive ball in the resin layer corresponds to an electrode of a chip forming a bump. It is another object of the present invention to provide a template, wherein the template is formed at a position and the air-permeable material layer is made of a porous material or a fibrous material. The air-permeable material layer allows the suction groove of the suction head to communicate with the through hole of the resin layer, and the through hole can suck the conductive ball. Again, in this case,
The conductive balls do not bite into the ends of the through holes of the template, and when the conductive balls are joined to the electrode pads of the electronic component and the suction head is separated from the electronic component, the conductive balls are surely separated from the template, and the conductive balls are removed. Is securely bonded to the electrode pad of the electronic component.

【0014】さらに、本発明の別の特徴は、ガラス板に
レーザビームを照射することによって貫通孔を形成す
る。すなわち、本発明によるバンプの形成方法は、バン
プを形成するチップの電極に対応した貫通孔を紫外線の
帯域の波長を有するレーザによって形成した紫外線の帯
域の光を吸収するガラスのテンプレートを用い、該テン
プレートの該貫通孔でバンプとなる導電ボールを真空吸
引し、該テンプレートの貫通孔のバンプ吸着部は平滑化
されており、該テンプレートで吸引した該導電ボールを
前記電極に位置決めし、該テンプレートで該導電ボール
を前記電極に押圧し、該吸引を解除することを特徴とす
る。
Still another feature of the present invention is that a through hole is formed by irradiating a glass plate with a laser beam. That is, the method for forming a bump according to the present invention uses a glass template that absorbs light in the ultraviolet band formed by a laser having a wavelength in the ultraviolet band through the through hole corresponding to the electrode of the chip on which the bump is formed. Vacuum suction of the conductive ball which becomes a bump in the through hole of the template , and smoothing of the bump suction portion of the through hole of the template.
The conductive ball sucked by the template is positioned on the electrode, the conductive ball is pressed against the electrode by the template, and the suction is released.

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図5は本発明の対象とするメタル
ボール(導電ボール)搭載用テンプレートを含むメタル
バンプ形成装置10を示す図である。メタルバンプ形成
装置10は、LSI等の電子部品12を支持するための
ステージ14と、予め形成されたメタルボール16を入
れたメタルボール容器18と、メタルボール搭載用テン
プレート20を取り付けた吸着ヘッド22とを含む。
FIG. 5 is a diagram showing a metal bump forming apparatus 10 including a metal ball (conductive ball) mounting template according to the present invention. The metal bump forming apparatus 10 includes a stage 14 for supporting an electronic component 12 such as an LSI, a metal ball container 18 containing metal balls 16 formed in advance, and a suction head 22 having a metal ball mounting template 20 mounted thereon. And

【0019】ステージ14は吸着孔14aを有し、電子
部品12を真空吸引により保持するようになっている。
電子部品12は所定のパターンで形成された電極24を
有する。吸着ヘッド22は吸着孔22aと吸着溝22b
とを有する。図6は吸着ヘッド22を示す図である。吸
着孔22aは吸着ヘッド22内を延び、吸着溝22bは
吸着ヘッド22の表面に設けられている。また、プレー
ト吸着孔22cが吸着ヘッド22の表面に開口してい
る。
The stage 14 has a suction hole 14a, and holds the electronic component 12 by vacuum suction.
The electronic component 12 has an electrode 24 formed in a predetermined pattern. The suction head 22 has a suction hole 22a and a suction groove 22b.
And FIG. 6 is a diagram showing the suction head 22. The suction holes 22 a extend in the suction head 22, and the suction grooves 22 b are provided on the surface of the suction head 22. Further, a plate suction hole 22 c is opened on the surface of the suction head 22.

【0020】図7はメタルボール搭載用テンプレート2
0を示す図である。メタルボール搭載用テンプレート2
0は貫通孔26を有する。貫通孔26は電子部品12の
電極24と同じ配列で設けられる。電子部品12の種類
に応じて異なった配列の貫通孔26を有するメタルボー
ル搭載用テンプレート20を準備することができる。貫
通孔26は、メタルボール搭載用テンプレート20がプ
レート吸着孔22cによって吸着ヘッド22に吸着され
たときに吸着溝22bの範囲内に位置するように配置さ
れる。従って、全ての貫通孔26が吸着溝22bと連通
する。
FIG. 7 shows a template 2 for mounting a metal ball.
FIG. Metal ball mounting template 2
0 has a through hole 26. The through holes 26 are provided in the same arrangement as the electrodes 24 of the electronic component 12. It is possible to prepare the metal ball mounting template 20 having the through holes 26 arranged differently according to the type of the electronic component 12. The through hole 26 is arranged so as to be located within the range of the suction groove 22b when the metal ball mounting template 20 is sucked by the suction head 22 by the plate suction hole 22c. Therefore, all the through holes 26 communicate with the suction grooves 22b.

【0021】従って、図5に示されるように、メタルボ
ール搭載用テンプレート20の貫通孔26にメタルボー
ル16を吸着することができる。図5のメタルバンプ形
成装置10はさらに移送装置28を備えており、吸着ヘ
ッド22をメタルボール容器18上、及び電子部品12
上に位置させるように吸着ヘッド22を移動させること
ができる。
Accordingly, as shown in FIG. 5, the metal balls 16 can be attracted to the through holes 26 of the metal ball mounting template 20. The metal bump forming apparatus 10 shown in FIG. 5 further includes a transfer device 28 for moving the suction head 22 on the metal ball container 18 and the electronic component 12.
The suction head 22 can be moved so as to be positioned above.

【0022】図8はメタルバンプ形成装置10の作用を
示す図である。(A)は吸着ヘッド22をメタルボール
容器18の上に移動させてメタルボール16をメタルボ
ール搭載用テンプレート20の貫通孔26に吸着すると
ころを示す図である。(B)は吸着ヘッド22をステー
ジ14上の電子部品12の上にもってきたところを示す
図である。(C)はメタルボール16を電子部品12の
電極24に熱圧着するところを示す図である。(D)は
吸着ヘッド22を電子部品12から引き離すところを示
す図である。この場合、吸着孔22cへの真空は供給さ
れ続け、吸着孔22aへの真空は遮断される。これによ
って、メタルボール16は電子部品12の電極24に接
合され、メタルバンプとなる。この後、メタルボール1
6をガラス板に押しつけてレベリングし、銀ペーストを
付着させることもできる。(E)はその後で電子部品1
2をメタルバンプを用いてプリント回路基板30に接合
するところを示す図である。この場合、電子部品12と
プリント回路板30とを絶縁性接着剤で接着することも
できる。
FIG. 8 is a diagram showing the operation of the metal bump forming apparatus 10. FIG. 3A is a view showing a state in which the suction head 22 is moved above the metal ball container 18 to suck the metal balls 16 into the through holes 26 of the metal ball mounting template 20. FIG. 3B is a view showing a state where the suction head 22 is moved over the electronic component 12 on the stage 14. FIG. 2C is a view showing a state where the metal ball 16 is thermocompression-bonded to the electrode 24 of the electronic component 12. (D) is a diagram showing a state where the suction head 22 is separated from the electronic component 12. In this case, the vacuum to the suction hole 22c is continuously supplied, and the vacuum to the suction hole 22a is cut off. Thereby, the metal ball 16 is joined to the electrode 24 of the electronic component 12 to form a metal bump. After this, metal ball 1
6 can be pressed against a glass plate and leveled to attach silver paste. (E) is the electronic component 1
FIG. 2 is a diagram showing a state where No. 2 is bonded to a printed circuit board 30 using metal bumps. In this case, the electronic component 12 and the printed circuit board 30 can be bonded with an insulating adhesive.

【0023】図8の(D)において、上記したように、
メタルボール搭載用テンプレート20の貫通孔26が円
滑でない場合には、メタルボール搭載用テンプレート2
0を電子部品12に向かって押しつけるときに、メタル
ボール16が貫通孔26の端部のバリ42に食い込み、
吸着ヘッド22を電子部品12から引き離すときに、メ
タルボール16がメタルボール搭載用テンプレート20
とともに移動し、メタルボール16がせっかく接合した
電子部品12の電極24から引き剥がされるという問題
が生じる。従って、メタルボール16が貫通孔26の端
部に食い込まないようにするのが望ましい。
In FIG. 8D, as described above,
If the through hole 26 of the metal ball mounting template 20 is not smooth, the metal ball mounting template 2
0 is pressed toward the electronic component 12, the metal ball 16 bites into the burr 42 at the end of the through hole 26,
When the suction head 22 is separated from the electronic component 12, the metal ball 16 is
And the metal ball 16 is peeled off from the electrode 24 of the electronic component 12 to which the metal ball 16 has been joined. Therefore, it is desirable that the metal ball 16 does not bite into the end of the through hole 26.

【0024】図1及び図2は本発明の第1実施例を示す
図である。メタルボール搭載用テンプレート20は無機
素材であるガラスで作られる。図1(A)においては、
メタルボール搭載用テンプレート(ガラス板)20をエ
ッチングして貫通孔26を形成する。この場合、マスク
40をしたガラス板をフッ化物を含むエッチング液中に
浸漬してエッチングを行う。図1(B)に示されるよう
に、ガラス板をエッチングして貫通孔26を形成する
と、貫通孔26の側壁が円滑にならず、バリ42ができ
る。
FIGS. 1 and 2 show a first embodiment of the present invention. The metal ball mounting template 20 is made of glass which is an inorganic material. In FIG. 1A,
The through hole 26 is formed by etching the metal ball mounting template (glass plate) 20. In this case, etching is performed by immersing the glass plate with the mask 40 in an etching solution containing fluoride. As shown in FIG. 1B, when the through hole 26 is formed by etching the glass plate, the side wall of the through hole 26 is not smooth, and the burr 42 is formed.

【0025】そこで、図2(A)に示されるように、貫
通孔26の側壁にレーザビームLBを照射して貫通孔の
側壁を平滑化する。図2(B)は、図1(B)の貫通孔
26の側壁のバリ42がなくなり、貫通孔の側壁が平滑
化されていることを簡単化して示している。貫通孔26
の側壁へのレーザビームLBの照射は、貫通孔26の周
囲のごく限られた領域にのみ行うのが望ましい。レーザ
ビームLBが隣接する2つの貫通孔26の間のメタルボ
ール搭載用テンプレート20の部分に余分に照射される
と、メタルボール搭載用テンプレート20の表面が変形
するなどの不都合が生じる。使用するレーザーはエキシ
マレーザーが好ましい。YAGレーザーはエネルギーが
強すぎて微細な加工には不向きであり、CO2 レーザー
はガラスの加工には不向きである。
Therefore, as shown in FIG. 2A, the side wall of the through hole 26 is irradiated with a laser beam LB to smooth the side wall of the through hole. FIG. 2B schematically shows that the burr 42 on the side wall of the through hole 26 in FIG. 1B is eliminated and the side wall of the through hole is smoothed. Through hole 26
Irradiation of the laser beam LB to the side wall is desirably performed only on a very limited area around the through hole 26. If the laser beam LB is excessively applied to the portion of the metal ball mounting template 20 between the two adjacent through holes 26, inconveniences such as deformation of the surface of the metal ball mounting template 20 occur. The laser used is preferably an excimer laser. The YAG laser has too much energy and is not suitable for fine processing, and the CO 2 laser is not suitable for processing glass.

【0026】実施例においては、マスク44をしてレー
ザビームLBを照射する。貫通孔26の直径が24μm
の場合に、マスク44の開口部の直径が26μmであっ
た。つまり、レーザビームLBは貫通孔26の直径より
も2μm程度大きい範囲に行うのが好ましい。レーザー
の出力条件は、メタルボール搭載用テンプレート20の
板厚が300μmの場合に、出力が300mJ/200
Hzであり、パルス数が1000パルスであった。ま
た、クリプトンガスとフッ素ガスを用いた。この場合、
アシストガスとしてHe又はNeを加えた。さらに、ガ
ラス板の前処理として、ガラス板にカーボン(C)を蒸
着した。
In the embodiment, the laser beam LB is irradiated on the mask 44. The diameter of the through hole 26 is 24 μm
In this case, the diameter of the opening of the mask 44 was 26 μm. That is, it is preferable that the laser beam LB be applied to a range larger than the diameter of the through hole 26 by about 2 μm. The output condition of the laser is such that when the thickness of the metal ball mounting template 20 is 300 μm, the output is 300 mJ / 200.
Hz and the number of pulses was 1000 pulses. In addition, krypton gas and fluorine gas were used. in this case,
He or Ne was added as an assist gas. Further, as a pretreatment of the glass plate, carbon (C) was deposited on the glass plate.

【0027】図3はレーザビームLBを照射して平滑化
した貫通孔26の端部(メタルボール搭載用テンプレー
ト20の表面の近くの貫通孔26の部分)を示した図で
ある。エッチングによって形成した貫通孔26のバリ4
2(図1(B))が、レーザビームLBを照射すること
によって溶解し、表面がより滑らかになる。なお、貫通
孔26にバリ42のある状態、及び図3のようにバリが
なくなった状態は、顕微鏡観察や写真により、見ること
ができる。
FIG. 3 is a diagram showing an end portion of the through hole 26 (the portion of the through hole 26 near the surface of the metal ball mounting template 20) which has been smoothed by irradiating the laser beam LB. Burrs 4 of through holes 26 formed by etching
2 (FIG. 1B) is melted by irradiating the laser beam LB, and the surface becomes smoother. The state in which the burrs 42 are present in the through holes 26 and the state in which the burrs are removed as shown in FIG. 3 can be seen by microscopic observation and photographs.

【0028】図1(A)ではメタルボール搭載用テンプ
レート20の貫通孔26はほぼ一様な直径をもつように
示されているが、図4はメタルボール搭載用テンプレー
ト20の貫通孔26がテーパーをもって形成されている
例を示す図である。エッチングをして貫通孔26を形成
したメタルボール搭載用テンプレート20では、図3の
ように貫通孔26がテーパーになることが多い。この場
合にも、貫通孔26にはバリが生じるので、貫通孔26
の側壁にレーザビームLBを照射して貫通孔の側壁を平
滑化する。この場合、レーザビームLBは貫通孔26の
直径の小さい方の端部に照射し、使用においてはレーザ
ビームLBを照射した方をメタルボール16に向けるよ
うにする。
In FIG. 1A, the through hole 26 of the metal ball mounting template 20 is shown to have a substantially uniform diameter, but in FIG. 4, the through hole 26 of the metal ball mounting template 20 is tapered. It is a figure showing the example formed with. In the metal ball mounting template 20 formed by etching to form the through holes 26, the through holes 26 are often tapered as shown in FIG. Also in this case, since burrs are formed in the through holes 26, the through holes 26 are formed.
Is irradiated with the laser beam LB to smooth the side wall of the through hole. In this case, the laser beam LB is irradiated to the end of the through hole 26 having the smaller diameter, and the laser beam LB is directed toward the metal ball 16 in use.

【0029】以上の例では、メタルボール搭載用テンプ
レート20の貫通孔26はエッチングにより形成された
が、貫通孔26はドリル放電加工等の機械加工により形
成されることもでき、そして、貫通孔26を形成した後
でレーザビームLBを照射する。図9は本発明の第2実
施例を示す図である。この実施例では、メタルボール搭
載用テンプレート20は、無機素材層50と有機素材層
52とを積層してなり、メタルボール16を吸引支持す
るための貫通孔26(50a、52a)が無機素材層5
0及び有機素材層52を貫通して形成されている。有機
素材層52はプリプレグや接着剤によって無機素材層5
0に接着される。
In the above example, the through hole 26 of the metal ball mounting template 20 was formed by etching. However, the through hole 26 can be formed by machining such as drill electric discharge machining. Is formed, a laser beam LB is irradiated. FIG. 9 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. In this embodiment, the metal ball mounting template 20 is formed by laminating an inorganic material layer 50 and an organic material layer 52, and the through holes 26 (50a, 52a) for sucking and supporting the metal balls 16 are formed of the inorganic material layer. 5
0 and the organic material layer 52. The organic material layer 52 is made of an inorganic material layer 5 using a prepreg or an adhesive.
0.

【0030】無機素材層50はガラス板からなるもので
あり、貫通孔50aはエッチングによって形成されてい
る。無機素材層50はメタルボール搭載用テンプレート
20に必要な強度を提供する。有機素材層52はポリイ
ミド、PTFE等のフッ素系樹脂、ナイロン等の耐熱性
の優れたプラスチックからなる。無機素材層50に貫通
孔50aを形成する場合と比べて、有機素材層52には
レーザー加工等によって円滑な貫通孔52aを容易に形
成することができる。この貫通孔52aがメタルボール
16に向くようにして使用される。
The inorganic material layer 50 is made of a glass plate, and the through holes 50a are formed by etching. The inorganic material layer 50 provides a necessary strength for the metal ball mounting template 20. The organic material layer 52 is made of a fluorine-based resin such as polyimide or PTFE, or a plastic having excellent heat resistance such as nylon. Compared with the case where the through holes 50a are formed in the inorganic material layer 50, the through holes 52a can be easily formed in the organic material layer 52 by laser processing or the like. The through hole 52 a is used so as to face the metal ball 16.

【0031】従って、無機素材層50と有機素材層52
とからなるメタルボール搭載用テンプレート20は、十
分な強度を有し、且つメタルボール16が貫通孔26に
食いつくことがなく、このメタルボール搭載用テンプレ
ート20を使用して電子部品12に確実にメタルバンプ
を形成することができる。なお、無機素材層50と有機
素材層52とは、それぞれに貫通孔50a、52aを形
成してから互いに張りつけてもよく、あるいは両者を張
りつけた後で貫通孔26を形成してもよい。また、有機
素材層52の表面には静電気防止膜を設けてもよい。
Therefore, the inorganic material layer 50 and the organic material layer 52
The metal ball mounting template 20 made of the metal ball mounting template 20 has sufficient strength, and the metal ball 16 does not bite into the through-hole 26. A bump can be formed. In addition, the inorganic material layer 50 and the organic material layer 52 may be bonded to each other after forming the through holes 50a and 52a, respectively, or the through hole 26 may be formed after bonding both. Further, an antistatic film may be provided on the surface of the organic material layer 52.

【0032】図10は図9のメタルボール搭載用テンプ
レート20の変形例を示す図である。このメタルボール
搭載用テンプレート20は、貫通孔26がテーパーして
形成されていること以外は図9のものと同様である。図
11から図13は本発明の第3実施例を示す図である。
図11に示されるように、メタルボール搭載用テンプレ
ート20は、通気性の素材層60と樹脂層62とを積層
してなり、この樹脂層62に貫通孔62aを形成してあ
る。通気性の素材層60と樹脂層62とは互いに接着さ
れている。通気性の素材層60は、例えば十分な強度を
もった多孔質の素材又は繊維状素材(ガラス繊維等)で
あり、空気が通気性の素材層60を通り抜けることがで
きる。図11では、通気性の素材層60は多孔質の素材
の板からなり、板の内部に微小な穴61が形成されてい
る。
FIG. 10 is a view showing a modification of the metal ball mounting template 20 of FIG. This metal ball mounting template 20 is the same as that of FIG. 9 except that the through-hole 26 is formed to be tapered. FIGS. 11 to 13 show a third embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 11, the metal ball mounting template 20 is formed by laminating a gas permeable material layer 60 and a resin layer 62, and a through hole 62a is formed in the resin layer 62. The breathable material layer 60 and the resin layer 62 are bonded to each other. The air-permeable material layer 60 is, for example, a porous material or a fibrous material (glass fiber or the like) having a sufficient strength, and air can pass through the air-permeable material layer 60. In FIG. 11, the air-permeable material layer 60 is made of a porous material plate, and a minute hole 61 is formed inside the plate.

【0033】図12はメタルボール搭載用テンプレート
20の通気性の素材層60を示す図である。通気性の素
材層60の樹脂層62とは反対側の表面の中央部には、
不通気性の保持部材64が設けられる。図13は吸着ヘ
ッド22を示す図である。吸着ヘッド22は、吸着孔2
2aと、吸着溝22bと、プレート吸着孔22cとを有
する。プレート吸着孔22cは吸着ヘッド22の中央部
に設けられ、通気性の素材層60に設けた保持部材64
を吸着し、それによってメタルボール搭載用テンプレー
ト20全体を吸着保持することができる。吸着溝22b
はプレート吸着孔22cのまわりに環状に形成され、吸
着孔22aは吸着溝22bの内部に開口する。樹脂層6
2の貫通孔62aは吸着溝22bの範囲内に配置され
る。
FIG. 12 is a view showing the air-permeable material layer 60 of the metal ball mounting template 20. At the center of the surface of the air-permeable material layer 60 on the side opposite to the resin layer 62,
An impermeable holding member 64 is provided. FIG. 13 is a diagram illustrating the suction head 22. The suction head 22 is provided with the suction hole 2.
2a, a suction groove 22b, and a plate suction hole 22c. The plate suction hole 22 c is provided at the center of the suction head 22, and the holding member 64 provided on the air-permeable material layer 60 is provided.
And thereby the entire metal ball mounting template 20 can be sucked and held. Suction groove 22b
Is formed annularly around the plate suction hole 22c, and the suction hole 22a opens inside the suction groove 22b. Resin layer 6
The two through holes 62a are arranged in the range of the suction groove 22b.

【0034】従って、この場合にも、通気性の素材層6
0と樹脂層62とからなるメタルボール搭載用テンプレ
ート20は、十分な強度を有し、且つメタルボール16
が貫通孔62aに食いつくことがなく、このメタルボー
ル搭載用テンプレート20を使用して電子部品12に確
実にメタルバンプを形成することができる。なお、通気
性の素材層60と樹脂層62とは、貫通孔62aを形成
してから互いに張りつけてもよく、あるいは両者を張り
つけた後で貫通孔62aを形成してもよい。
Therefore, also in this case, the air-permeable material layer 6
The metal ball mounting template 20 composed of the metal ball 16 and the resin layer 62 has sufficient strength,
Does not bite into the through-hole 62a, and the metal bump mounting template 20 can be used to reliably form a metal bump on the electronic component 12. The air-permeable material layer 60 and the resin layer 62 may be bonded to each other after forming the through-hole 62a, or may be formed after bonding both.

【0035】図14は通気性の素材層60と樹脂層62
とを張りつけた後で貫通孔62aを形成する例を示して
いる。(A)は通気性の素材層60の表面に紫外線硬化
型樹脂62pを塗布又は含浸するところを示している。
(B)は紫外線硬化型樹脂62pに貫通孔62aを形成
すべき位置にマスク66を形成し、紫外線(UV)を照
射するところを示している。(C)はマスク66で遮光
されない紫外線硬化型樹脂62pは硬化し、未硬化部分
を溶剤で除去すると、貫通孔62aを有する樹脂層62
となることを示している。
FIG. 14 shows a breathable material layer 60 and a resin layer 62.
The example in which the through-hole 62a is formed after the bonding is performed is shown. (A) shows that the surface of the air-permeable material layer 60 is coated or impregnated with the ultraviolet curable resin 62p.
(B) shows that a mask 66 is formed at a position where the through hole 62a is to be formed in the ultraviolet curable resin 62p, and the ultraviolet light (UV) is irradiated. (C) shows that the ultraviolet curable resin 62p which is not shielded from light by the mask 66 is cured, and the uncured portion is removed with a solvent to obtain a resin layer 62 having a through hole 62a.
It is shown that it becomes.

【0036】図15は樹脂層62に貫通孔62aを形成
した後で、通気性の素材層60と樹脂層62とを張りつ
た例を示している。図16から図27は本発明の第4
実施例を示す図である。図16は本発明の第4実施例で
使用する半導体電極用メタルバンプ配列テンプレート2
0(有孔板)の製造装置70を示す図である。製造装置
70はレーザ発生部72と、レーザ加工部74とを含
む。レーザ発生部72はこの実施例ではエキシマレーザ
装置である。レーザ発生部72で発生したレーザビーム
は、導管75によってレーザ加工部74へ供給される。
FIG. 15 shows an example in which after forming a through-hole 62a in the resin layer 62, the air-permeable material layer 60 and the resin layer 62 are adhered. 16 to 27 show the fourth embodiment of the present invention.
It is a figure showing an example. FIG. 16 shows a metal bump array template 2 for a semiconductor electrode used in the fourth embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the manufacturing apparatus 70 of 0 (perforated board). The manufacturing device 70 includes a laser generation unit 72 and a laser processing unit 74. The laser generator 72 is an excimer laser device in this embodiment. The laser beam generated by the laser generator 72 is supplied to a laser processing unit 74 via a conduit 75 .

【0037】レーザ加工部74は、テンプレート20を
形成すべき被加工板102(図17)を支持する支持台
76と、XYステージ78と、Zステージ80と、θス
テージ82とを含む。Zステージ80はXYステージ7
8に取り付けられ、θステージ82はZステージ80に
取り付けられ、支持台76はθステージ82に取り付け
られている。さらに図示しないφステージがあり、支持
台76は5軸方向に移動可能に支持される。
The laser processing section 74 includes a support base 76 for supporting a work plate 102 (FIG. 17) on which the template 20 is to be formed, an XY stage 78, a Z stage 80, and a θ stage 82. Z stage 80 is XY stage 7
8, the θ stage 82 is attached to the Z stage 80, and the support base 76 is attached to the θ stage 82. Further, there is a φ stage (not shown), and the support base 76 is supported so as to be movable in five axial directions.

【0038】レーザ加工部74は、さらに、ミラー8
4、86、88と、マスクホルダ90と、縮小レンズ9
2と、リング照明94とを含む。レーザ発生部72から
導管75を介してレーザ加工部74へ供給されたレーザ
ビームは、ミラー84へ導かれるようになっている。レ
ーザビームは、ミラー84、86、88で反射して、支
持台76上の被加工板102へ向かう。
The laser processing section 74 further includes a mirror 8
4, 86, 88, mask holder 90, reduction lens 9
2 and a ring light 94. The laser beam supplied from the laser generating section 72 to the laser processing section 74 via the conduit 75 is guided to the mirror 84. The laser beam is reflected by mirrors 84, 86, and 88, and travels to the plate 102 on the support base.

【0039】マスクホルダ90はマスク(図示せず)を
保持し、レーザビームのスポットの大きさを調節するこ
とができる。縮小レンズ92はレーザビームが支持台7
6上の被加工板102において最も絞られるようにす
る。従って、レーザ加工面が縮小投影位置から外れ、投
影像が得られなくても、レーザビーム中央付近のエネル
ギーで貫通孔を加工することができる。ミラー84、8
6、88は可動であって、レーザビームの光路を切り換
えることができる。レーザ加工部74は、さらに、顕微
鏡98及びCCDカメラ100を含む。顕微鏡98及び
CCDカメラ100によって、支持台76上の被加工板
102を観察できるようになっている。
The mask holder 90 holds a mask (not shown) and can adjust the size of a laser beam spot. The laser beam is applied to the support 7
6 so that it can be most narrowed down on the plate 102 to be processed. Therefore, even if the laser processing surface deviates from the reduced projection position and a projected image cannot be obtained, the through hole can be processed with energy near the center of the laser beam. Mirrors 84, 8
Reference numerals 6 and 88 are movable and can switch the optical path of the laser beam. The laser processing unit 74 further includes a microscope 98 and a CCD camera 100. The work plate 102 on the support base 76 can be observed by the microscope 98 and the CCD camera 100.

【0040】図17は図16の支持台76の拡大図であ
り、図18は図17のA部分の拡大図である。支持台7
6は被加工板102を支持することのできる表面76a
と、表面76aに設けられた凹部76Bと、被加工板1
02を真空吸着するための真空孔76Cを有する。表面
76aは真空吸着された被加工板102をまっすぐな姿
勢でぴったりと保持できるように平坦になっている。凹
部76Bは形成すべき貫通孔26の位置、すなわちバン
プの位置に対応して形成されている。
FIG. 17 is an enlarged view of the support base 76 of FIG. 16, and FIG. 18 is an enlarged view of a portion A of FIG. Support stand 7
6 is a surface 76a capable of supporting the work plate 102
A concave portion 76B provided on the surface 76a;
02 has a vacuum hole 76C for vacuum suction. The surface 76a is flat so that the vacuum-adsorbed workpiece plate 102 can be held tightly in a straight posture. The concave portion 76B is formed corresponding to the position of the through hole 26 to be formed, that is, the position of the bump.

【0041】図18は被加工板102を支持台76に支
持し、レーザビームLBを照射することによって貫通孔
26を形成するところを示している。レーザビームLB
は被加工板102に凹部76Bの位置において照射され
る。本発明においては、ガラスの被加工板102にレー
ザビームによって貫通孔26を形成する。ガラスの被加
工板102の厚さは0.3mmであり、貫通孔26の直径
は30μm以下である。レーザビームの焦点は被加工板
102の表面に合わせてある。
FIG. 18 shows a state in which the plate to be processed 102 is supported on the support base 76 and the through-hole 26 is formed by irradiating a laser beam LB. Laser beam LB
Is irradiated on the plate to be processed 102 at the position of the concave portion 76B. In the present invention, the through holes 26 are formed in the glass processing plate 102 by a laser beam. The thickness of the glass processing plate 102 is 0.3 mm, and the diameter of the through hole 26 is 30 μm or less. The focus of the laser beam is set on the surface of the plate 102 to be processed.

【0042】このような厚さのガラス板にレーザビーム
によって貫通孔をあけることは一般的にはできない。つ
まり、ガラス板は一般に光を透過するので、レーザビー
ムを照射しても貫通孔をあけるほどのエネルギーが吸収
されない。本発明では、被加工板102として紫外線の
帯域の光を吸収するガラスを選択し、紫外線の帯域の波
長を有するレーザビームを照射することによって、ガラ
スの被加工板102にレーザビームによって貫通孔26
をあけることができた。
In general, it is not possible to make a through hole in a glass plate having such a thickness with a laser beam. That is, since the glass plate generally transmits light, even if the glass plate is irradiated with the laser beam, it does not absorb enough energy to make a through hole. In the present invention, a glass that absorbs light in the ultraviolet band is selected as the plate to be processed 102, and a laser beam having a wavelength in the ultraviolet band is irradiated, so that the through-hole 26 is formed on the plate to be processed 102 by the laser beam.
Was able to open.

【0043】紫外線の帯域の光を吸収するガラスとして
は、90パーセント以上の紫外線吸収率を有するものが
好ましく、パイレックス(ホウ珪酸ガラス)や、青ガラ
ス、白ガラス等がある。石英ガラスは紫外線吸収率が低
い(透過率が高い)ので、レーザビームによって貫通孔
26を形成するのに適していない。紫外線の帯域の波長
を有するレーザビームの例としては、エキシマレーザ
や、高調波YAGレーザがある。利用できるエキシマレ
ーザとしては、ArFの波長は194nm、KrFの波長
は248nm、XeFの波長は308nmである。高調波Y
AGレーザとしては、4倍高調波YAG(FHG−YA
G)の波長は266nmである。
The glass that absorbs light in the ultraviolet band preferably has an ultraviolet absorptivity of 90% or more, and includes Pyrex (borosilicate glass), blue glass, white glass, and the like. Quartz glass has a low ultraviolet absorptivity (high transmittance) and is not suitable for forming the through-hole 26 with a laser beam. Examples of a laser beam having a wavelength in the ultraviolet band include an excimer laser and a harmonic YAG laser. As excimer lasers that can be used, the wavelength of ArF is 194 nm, the wavelength of KrF is 248 nm, and the wavelength of XeF is 308 nm. Harmonic Y
As the AG laser, the fourth harmonic YAG (FHG-YA)
The wavelength of G) is 266 nm.

【0044】こうして、レーザビームLBを照射するこ
とによって、ガラスの被加工板102(半導体電極用メ
タルバンプ配列テンプレート20)の貫通孔26を直接
にあけることができる。レーザビームLBの照射条件は
被加工板102の厚さ及び貫通孔26の直径に応じて適
切に定めることができる。一例としては、図2を参照し
て説明したように、エッチングによって形成したテンプ
レート20の貫通孔26の側壁を平滑化加工する場合の
レーザビームLBの照射条件と同様とすることができ
る。ただし、レーザビームLBを照射することによっ
て、ガラスの被加工板102の貫通孔26を直接にあけ
る場合には、平滑化加工の場合よりもかなり長い時間が
かかる。
Thus, by irradiating the laser beam LB, the through-hole 26 of the glass processing plate 102 (the metal bump array template 20 for semiconductor electrodes) can be directly opened. The irradiation condition of the laser beam LB can be appropriately determined according to the thickness of the workpiece plate 102 and the diameter of the through hole 26. As an example, as described with reference to FIG. 2, the irradiation conditions of the laser beam LB when the side wall of the through hole 26 of the template 20 formed by etching is smoothed can be set. However, when the through-hole 26 of the glass processing plate 102 is directly opened by irradiating the laser beam LB, it takes much longer time than in the case of the smoothing processing.

【0045】しかし、ガラスの被加工板102の貫通孔
26をレーザビームLBの照射によって形成すると、貫
通孔26のレーザビームLBの照射側の端部は切削パー
ティクルが付着する。そして、支持台76の凹部76B
がないと、貫通孔26を通り抜けたレーザビームLBが
支持台76の表面76Aで反射し、貫通孔26のレーザ
ビームLBの照射側とは反対側の端部壁が荒れ、支持台
76の貫通孔26のまわりの壁に割れが生じたりする。
However, when the through-hole 26 of the glass processing plate 102 is formed by irradiating the laser beam LB, cutting particles adhere to the end of the through-hole 26 on the irradiation side of the laser beam LB. And the concave portion 76B of the support base 76
Otherwise, the laser beam LB passing through the through-hole 26 is reflected by the surface 76A of the support base 76, the end wall of the through-hole 26 opposite to the side irradiated with the laser beam LB becomes rough, and the support base 76 penetrates. The wall around the hole 26 may be cracked.

【0046】支持台76に凹部76Bを設けることによ
って、貫通孔26を通り抜けたレーザビームLBが支持
台76の表面76Aで反射することがなくなり、貫通孔
26のレーザビームLBの照射側とは反対側の端部壁が
荒れるのが防止され、貫通孔26のレーザビームLBの
照射側とは反対側の端部壁は円滑になる。凹部76B
、貫通孔26を通り抜けたレーザビームLBが支持台
76の表面76Aで反射して貫通孔26が荒らされない
ような形状及び大きさに形成される。例えば、凹部76
Bの面積は貫通孔26の面積と同じかそれ以上、好まし
くは貫通孔26の面積の2倍程度あればよい。凹部76
Bの深さは0.1mm以上あればよく、好ましくは0.5
mm程度でよい。さらに、凹部76Bの表面(底面及び側
面)は貫通したレーザビームLBを拡散させるための微
小な凹凸を設けてあるとよい。
By providing the concave portion 76B in the support 76, the laser beam LB passing through the through hole 26 is not reflected on the surface 76A of the support 76, and is opposite to the side of the through hole 26 where the laser beam LB is irradiated. The end wall on the side is prevented from being roughened, and the end wall of the through hole 26 on the side opposite to the side irradiated with the laser beam LB becomes smooth. Recess 76B
The laser beam LB passing through the through hole 26 is formed in a shape such that not vandalized through hole 26 and is reflected by the surface 76A and the size of the support 76. For example, the concave portion 76
The area of B may be equal to or larger than the area of the through hole 26, and preferably about twice the area of the through hole 26. Recess 76
The depth of B may be 0.1 mm or more, preferably 0.5 mm.
It may be about mm. Further, the surface (bottom surface and side surface) of the concave portion 76B may be provided with minute unevenness for diffusing the penetrated laser beam LB.

【0047】従って、バンプの形成において、こうして
貫通孔26を形成したガラスの被加工板102を半導体
電極用メタルバンプ配列テンプレート20として使用
し、テンプレート20の貫通孔26でメタルボール16
を吸引保持しながら、メタルボール16を電子部品12
の電極24に確実に取り付けることができる。この場
合、貫通孔26のレーザビームLBの照射側とは反対側
の端部壁は円滑であるので、この部分でメタルボール1
6を吸引保持すればよい。
Therefore, in forming the bumps, the glass processing plate 102 having the through holes 26 thus formed is used as the metal bump array template 20 for the semiconductor electrode, and the metal balls 16 are formed in the through holes 26 of the template 20.
While holding the metal ball 16 with the electronic component 12.
Can be securely attached to the electrode 24. In this case, since the end wall of the through hole 26 on the side opposite to the side irradiated with the laser beam LB is smooth, the metal ball 1
6 may be held by suction.

【0048】図19は図18の貫通孔形成の変化例を示
す図である。貫通孔26の加工に際して、図19(A)
に示されるように、ガラスの被加工板102の一方の側
からレーザビームLBを照射し、貫通孔26を形成す
る。この場合には、完全な貫通孔26としなくても、途
中まであいた孔であってもよい。それから、図19
(B)に示されるように、ガラスの被加工板102を反
転させ、ガラスの被加工板102の他方の側からレーザ
ビームLBを照射する。こうして、貫通孔26の吸着部
となる側の端部の大きさを適切に成形し、且つ貫通孔2
6の最初にレーザビームLBを照射した側(図19
(B)の下側)の端部が過度に大きくなるのを防止する
ことができる。
FIG. 19 is a view showing a variation of the formation of the through holes in FIG. When processing the through-hole 26, FIG.
As shown in FIG. 2, a laser beam LB is irradiated from one side of a glass plate 102 to form a through hole 26. In this case, the hole may not be a complete through-hole 26 but may be a hole partially formed. Then, FIG.
As shown in (B), the glass processing plate 102 is inverted, and a laser beam LB is irradiated from the other side of the glass processing plate 102. Thus, the size of the end of the through hole 26 on the side to be the suction portion is appropriately formed, and the through hole 2 is formed.
The side irradiated with the laser beam LB first in FIG.
The lower end of (B) can be prevented from becoming excessively large.

【0049】図20から図22は貫通孔形成のさらなる
変化例を示す図である。図20は図17に対応する支持
台76の部分を示す図であり、この支持台76は図16
の支持台76として使用可能である。図21は図20の
B部分の拡大図、図22は貫通孔形成時の図21と同じ
部分を示す図である。支持台76は被加工板102を支
持することのできる表面76aと、表面76aに設けら
れた凹部76Bと、被加工板102を真空吸着するため
の真空孔76Cを有する。表面76aは真空吸着された
被加工板102をまっすぐな姿勢でぴったりと保持でき
るように平坦になっている。凹部76Bは形成すべき貫
通孔26の位置、すなわちバンプの位置に対応して形成
されている。
FIG. 20 to FIG. 22 are views showing further examples of changes in the formation of through holes. FIG. 20 is a diagram showing a portion of the support base 76 corresponding to FIG.
Can be used as the support base 76. 21 is an enlarged view of a portion B in FIG. 20, and FIG. 22 is a diagram showing the same portion as FIG. 21 when a through hole is formed. The support base 76 has a surface 76a capable of supporting the plate to be processed 102, a concave portion 76B provided on the surface 76a, and a vacuum hole 76C for vacuum-sucking the plate to be processed 102. The surface 76a is flat so that the vacuum-adsorbed workpiece plate 102 can be held tightly in a straight posture. The concave portion 76B is formed corresponding to the position of the through hole 26 to be formed, that is, the position of the bump.

【0050】さらに、石英ガラスの挿入部材104が凹
部76Bに配置されている。石英ガラスは被加工板10
2よりもレーザの透過率の高い材料である。例えば、被
加工板102のレーザの吸収率が90パーセント以上で
あるのに対して、石英ガラスの挿入部材104レーザの
透過率が90パーセント以上であり、反射率は非常に小
さい。挿入部材104は被加工板102と挿入部材10
4との間に適切な微小なギャップ106が存在するよう
に凹部76Bに支持される。挿入部材104は凹部76
Bの壁に摩擦により保持されることもできるが、支持突
起108等によって所定のギャップ106を形成するよ
うに保持されることができる。
Further, an insertion member 104 made of quartz glass is arranged in the recess 76B. Quartz glass is the plate 10 to be processed.
This is a material having a laser transmittance higher than that of 2. For example, while the laser absorptance of the plate to be processed 102 is 90% or more, the transmittance of the quartz glass insertion member 104 laser is 90% or more, and the reflectance is very small. The insertion member 104 includes the workpiece plate 102 and the insertion member 10.
4 is supported by the concave portion 76B so that an appropriate minute gap 106 exists. The insertion member 104 has the concave portion 76
Although it can be held by friction on the wall of B, it can be held so as to form the predetermined gap 106 by the support protrusion 108 or the like.

【0051】貫通孔26の加工に際して、図22に示さ
れるように、ガラスの被加工板102の一方の側からレ
ーザビームLBを照射し、貫通孔26を形成する。こう
して、上記したのとほぼ同様にして貫通孔26が形成さ
れるが、石英ガラスの挿入部材104が凹部76Bにあ
るために、被加工板102を貫通して凹部76Bに入
り、石英ガラスの挿入部材104の表面透過しなかった
レーザビームLBが、被加工板102の貫通孔26のま
わりの部分を加工する。従って、被加工板102の貫通
孔26のまわりの部分は図22に示されるように円滑に
丸くなり、丸い部分は比較的に浅い。このような形状は
メタルボール16を吸引する上で好都合である。ギャッ
プ106はレーザビームLBの条件によって左右され、
大きすぎ(離れすぎ)ても、小さすぎ(近寄りすぎ)て
も好ましくない。挿入部材104が金属であればレーザ
ビームLBのほとんどは被加工板102を加工し、被加
工板102の貫通孔26のまわりの部分は過度に加工さ
れ、上記したように貫通孔26のまわりの部分が荒れる
ことになる。
At the time of processing the through hole 26, as shown in FIG. 22, a laser beam LB is irradiated from one side of the glass plate 102 to form the through hole 26. Thus, the through-hole 26 is formed in substantially the same manner as described above, but since the quartz glass insertion member 104 is in the recess 76B, it penetrates the work plate 102 and enters the recess 76B, and the quartz glass is inserted. The laser beam LB that has not passed through the surface of the member 104 processes the portion around the through hole 26 of the workpiece 102. Therefore, the portion around the through-hole 26 of the plate to be processed 102 is smoothly rounded as shown in FIG. 22, and the rounded portion is relatively shallow. Such a shape is convenient for sucking the metal ball 16. The gap 106 depends on the conditions of the laser beam LB,
It is not preferable that it is too large (too far) or too small (too close). If the insertion member 104 is metal, most of the laser beam LB processes the plate 102, and the portion of the plate 102 around the through hole 26 is excessively processed, and as described above, the portion around the through hole 26 The part will be rough.

【0052】図23は図20から図22の方法で形成し
た貫通孔26のレーザビームLBの照射側の端部を示
し、図24は同じ貫通孔26のレーザビームLBの照射
側とは反対側の端部を示す図である。これらの図は写真
を基にしている。加工に用いたレーザはエキシマレーザ
(波長λ=248nm)であり、加工孔直径=30μmで
ある。また、全ての実施例において、貫通孔26の内面
の異物や突起物等を除去するためや、貫通孔26の周囲
を平滑化するために、被加工板102を有機溶剤又はH
F等の強酸性水溶液を用いて洗浄又は溶解を行うのが好
ましい。
FIG. 23 shows an end of the through-hole 26 formed by the method of FIGS. 20 to 22 on the irradiation side of the laser beam LB, and FIG. 24 shows a side of the same through-hole 26 opposite to the irradiation side of the laser beam LB. FIG. These figures are based on photographs. The laser used for the processing is an excimer laser (wavelength λ = 248 nm), and the processing hole diameter is 30 μm. Further, in all the embodiments, in order to remove foreign matters and protrusions on the inner surface of the through hole 26 and to smooth the periphery of the through hole 26, the processing target plate 102 is made of an organic solvent or H
It is preferable to perform washing or dissolution using a strongly acidic aqueous solution such as F.

【0053】図25はレーザビームLBを照射すること
によって貫通孔26を形成した半導体電極用メタルバン
プ配列テンプレート20の表面を示す図である。図26
は同じテンプレート20の裏面を示す図である。このテ
ンプレート20の表面には文字や図形等の標識110を
彫刻してあり、それによってテンプレート20の表面と
裏面とを容易に判別できるようになっている。この標識
110は、図16の顕微鏡98及びCCDカメラ100
によって観察及び読取りをすることができる。この標識
110はメタルボールを吸着する面に彫刻すると、メタ
ルボールが彫刻した溝等に付着する可能性があるため、
メタルボールを吸着する面の反対側に彫刻を施すのがよ
い。
FIG. 25 is a view showing the surface of the metal bump array template 20 for a semiconductor electrode in which the through holes 26 are formed by irradiating the laser beam LB. FIG.
Is a diagram showing the back surface of the same template 20. Markers 110 such as characters and figures are engraved on the front surface of the template 20 so that the front surface and the back surface of the template 20 can be easily distinguished. The marker 110 corresponds to the microscope 98 and the CCD camera 100 shown in FIG.
Can be observed and read. If this sign 110 is engraved on the surface where the metal ball is adsorbed, there is a possibility that the metal ball adheres to the groove or the like engraved with the metal ball.
It is better to engrave on the side opposite to the surface where metal balls are adsorbed.

【0054】レーザビームLBを照射することによって
貫通孔26を形成したガラス等の無機材料からなる被加
工板102は、有孔板として、半導体電極用メタルバン
プ配列テンプレート20以外の用途にも使用されること
ができる。例えば、図27は被加工板102をろか部材
として使用する例を示す図である。ガラス板にレーザビ
ームLBを照射することによって多数の例えば直径10
μmの貫通孔26を形成することができ、これをろか部
材として使用することができる。
The processed plate 102 made of an inorganic material such as glass having the through holes 26 formed by irradiating the laser beam LB is also used as a perforated plate for applications other than the metal bump array template 20 for semiconductor electrodes. Can be For example, FIG. 27 is a diagram illustrating an example in which the work plate 102 is used as a rolling member. By irradiating the glass plate with the laser beam LB, a large number of, e.g.
A through hole 26 of μm can be formed, and this can be used as a filtering member.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
バリのない、円滑な表面をもった貫通孔をもったメタル
ボール搭載用テンプレートが得られるので、電子部品に
メタルバンプを容易に且つ確実に形成することができる
ようになる。また、接続部の信頼性向上及びメタルバン
プ形成装置及び接合装置の構造簡易化等を図ることがで
きる。さらに、メタルバンプの品質向上及び生産性の向
上に寄与する。また、紫外線の帯域の波長を有するレー
ザビームを照射することによって貫通孔を形成してなる
ガラスのテンプレートを得ることができる。レーザビー
ムによるガラスの有孔板の製作はエッチングによる製作
より2倍以上短い期間でできるため、効率がよい。
As described above, according to the present invention,
Since a metal ball mounting template having a through-hole having a smooth surface without burrs is obtained, metal bumps can be easily and reliably formed on an electronic component. Further, it is possible to improve the reliability of the connection portion and simplify the structures of the metal bump forming device and the joining device. Further, it contributes to the improvement of the quality and productivity of the metal bump. Further, a through-hole is formed by irradiating a laser beam having a wavelength in the ultraviolet band.
A glass template can be obtained. The production of a perforated glass plate by a laser beam can be performed in a period that is twice or more shorter than the production by etching, and is thus efficient.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例の貫通孔を形成する工程を
示し、(A)はメタルボール搭載用テンプレートを示す
断面図、(B)はバリができた貫通孔を示す平面図であ
る。
FIGS. 1A and 1B show a process of forming a through hole according to a first embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is a cross-sectional view showing a metal ball mounting template, and FIG. is there.

【図2】図1のメタルボール搭載用テンプレートにレー
ザービームを照射するところを示す工程を示し、(A)
はメタルボール搭載用テンプレートを示す断面図、
(B)はバリがなくなった貫通孔を示す平面図である。
FIG. 2 shows a process of irradiating the metal ball mounting template of FIG. 1 with a laser beam;
Is a cross-sectional view showing a metal ball mounting template,
(B) is a plan view showing a through hole in which burrs are eliminated.

【図3】レーザビームを照射して平滑化された貫通孔の
周囲の端部を示す図解的斜視図である。
FIG. 3 is a schematic perspective view showing an end around a through hole that has been smoothed by irradiating a laser beam;

【図4】メタルボール搭載用テンプレートの変形例を示
す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a modification of the metal ball mounting template.

【図5】本発明の対象とするメタルボール搭載用テンプ
レートを含むメタルバンプ形成装置を示す図である。
FIG. 5 is a view showing a metal bump forming apparatus including a metal ball mounting template according to the present invention.

【図6】図5の吸着ヘッドを示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing the suction head of FIG. 5;

【図7】図5のメタルボール搭載用テンプレートを示す
斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing the metal ball mounting template of FIG. 5;

【図8】メタルバンプ形成装置の作用を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing the operation of the metal bump forming apparatus.

【図9】本発明の第2実施例のメタルボール搭載用テン
プレートの一部を示す断面図である。
FIG. 9 is a sectional view showing a part of a metal ball mounting template according to a second embodiment of the present invention.

【図10】図9のメタルボール搭載用テンプレートの変
形例を示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view showing a modification of the metal ball mounting template of FIG. 9;

【図11】本発明の第3実施例のメタルボール搭載用テ
ンプレートの一部を示す断面図である。
FIG. 11 is a sectional view showing a part of a metal ball mounting template according to a third embodiment of the present invention.

【図12】図11のメタルボール搭載用テンプレートの
通気性の素材層を示す平面図である。
FIG. 12 is a plan view showing a gas-permeable material layer of the metal ball mounting template of FIG. 11;

【図13】図11及び図12のメタルボール搭載用テン
プレートとともに使用する吸着ヘッドの平面図である。
FIG. 13 is a plan view of a suction head used with the metal ball mounting template of FIGS. 11 and 12.

【図14】図11のメタルボール搭載用テンプレートの
製造の一例を示す図である。
FIG. 14 is a view showing an example of the production of the metal ball mounting template of FIG. 11;

【図15】図11のメタルボール搭載用テンプレートの
製造の他の一例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing another example of the production of the metal ball mounting template of FIG. 11;

【図16】本発明の第4実施例の半導体電極用メタルバ
ンプ配列テンプレートの製造装置を示す図である。
FIG. 16 is a view showing an apparatus for manufacturing a metal bump array template for a semiconductor electrode according to a fourth embodiment of the present invention.

【図17】図16の装置の支持台の部分の拡大図であ
る。
FIG. 17 is an enlarged view of a portion of a support base of the apparatus of FIG.

【図18】図17のA部分の拡大図である。18 is an enlarged view of a portion A in FIG.

【図19】図18の貫通孔形成の変化例を示す図であ
る。
FIG. 19 is a diagram showing a modified example of the formation of the through holes in FIG. 18;

【図20】貫通孔形成のさらなる変化例を示す図であ
る。
FIG. 20 is a diagram showing a further example of a change in the formation of a through hole.

【図21】図20のB部分の拡大図である。FIG. 21 is an enlarged view of a portion B in FIG. 20;

【図22】貫通孔形成時の図21と同じ部分を示す図で
ある。
FIG. 22 is a diagram showing the same portion as FIG. 21 when a through hole is formed.

【図23】図20から図22の方法で形成した貫通孔の
レーザビームの照射側の端部を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing an end of the through hole formed by the method of FIGS. 20 to 22 on the irradiation side of the laser beam.

【図24】同じ貫通孔のレーザビームLBの照射側とは
反対側の端部を示す図である。
FIG. 24 is a diagram showing an end of the same through hole on the side opposite to the side irradiated with the laser beam LB.

【図25】レーザビームを照射することによって貫通孔
を形成した半導体電極用メタルバンプ配列テンプレート
の表面を示す図である。
FIG. 25 is a diagram showing a surface of a metal bump array template for a semiconductor electrode in which through holes are formed by irradiating a laser beam.

【図26】同じテンプレートの裏面を示す図である。FIG. 26 is a diagram showing a back surface of the same template.

【図27】レーザビームを照射することによって貫通孔
を形成した被加工板をろか部材として使用する例を示す
図である。
FIG. 27 is a diagram showing an example in which a work plate having a through hole formed by irradiating a laser beam is used as a lathing member.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12…電子部品 16…メタルボール 20…メタルボール搭載用テンプレート 22…吸着ヘッド 24…電極 26…貫通孔 40、44…マスク 42…バリ 50…無機素材層 52…有機素材層 60…通気性の素材層 62…樹脂層 76…支持台 76A…表面 76B…凹部 102…被加工板 104…挿入部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 ... Electronic component 16 ... Metal ball 20 ... Metal ball mounting template 22 ... Suction head 24 ... Electrode 26 ... Through hole 40, 44 ... Mask 42 ... Burr 50 ... Inorganic material layer 52 ... Organic material layer 60 ... Air-permeable material Layer 62: Resin layer 76: Support base 76A: Surface 76B: Recess 102: Worked plate 104: Insert member

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野田 豊 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (72)発明者 村岡 良孝 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−25435(JP,A) 特開 平2−182390(JP,A) 特開 平8−141765(JP,A) 特開 平1−45150(JP,A) 特開 平1−73625(JP,A) 特開 平4−69945(JP,A) 特開 平8−18209(JP,A) 特開 平9−270429(JP,A) 特開 平9−298356(JP,A) 特開 平9−298355(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yutaka Noda 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Yoshitaka Muraoka 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa No. 1 Fujitsu Limited (56) References JP-A-62-25435 (JP, A) JP-A-2-182390 (JP, A) JP-A-8-141765 (JP, A) JP-A-1- 45150 (JP, A) JP-A-1-73625 (JP, A) JP-A-4-69945 (JP, A) JP-A-8-18209 (JP, A) JP-A-9-270429 (JP, A) JP-A-9-298356 (JP, A) JP-A-9-298355 (JP, A)

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 バンプを形成するチップの電極に対応し
た貫通孔を形成し、該貫通孔の側壁を平滑化加工したテ
ンプレートを用い、該テンプレートの該貫通孔でバンプ
となる導電ボールを真空吸引し、該テンプレートで吸引
した該導電ボールを前記電極に位置決めし、該テンプレ
ートで該導電ボールを該電極に押圧し、該吸引を解除す
ることを特徴とするバンプの形成方法。
A through hole corresponding to an electrode of a chip on which a bump is to be formed is formed, and a template in which a side wall of the through hole is smoothed is used. And positioning the conductive ball sucked by the template on the electrode, pressing the conductive ball against the electrode with the template, and releasing the suction.
【請求項2】 プレートに導電ボールを吸引支持するた
めの貫通孔を形成する孔加工ステップと、該孔加工ステ
ップで形成した貫通孔の側壁を平滑化加工する平滑化ス
テップとからなることを特徴とするテンプレートの製造
方法。
2. The method according to claim 1, further comprising a hole forming step of forming a through hole for supporting the conductive ball by suction on the plate, and a smoothing step of smoothing a side wall of the through hole formed in the hole forming step. Method of manufacturing a template.
【請求項3】 該孔加工ステップはエッチングによって
行われ、該平滑化ステップはレーザビームの照射によっ
て行われることを特徴とする請求項2に記載のテンプレ
ートの製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein the hole processing step is performed by etching, and the smoothing step is performed by irradiating a laser beam.
【請求項4】 該貫通孔の側壁にレーザビームを照射す
るステップが、一つの貫通孔の直径とほぼ等しいかそれ
よりもわずかに大きい開口部を有するマスクを介してレ
ーザビームを照射することを特徴とする請求項3に記載
のテンプレートの製造方法。
4. The step of irradiating the side wall of the through hole with a laser beam includes irradiating the laser beam through a mask having an opening substantially equal to or slightly larger than the diameter of one through hole. The method for manufacturing a template according to claim 3, wherein:
【請求項5】 導電ボールを吸引支持するための貫通孔
を有し、該貫通孔の側壁が平滑化されていることを特徴
とするテンプレート。
5. A template having a through-hole for sucking and supporting a conductive ball, wherein a side wall of the through-hole is smoothed.
【請求項6】 無機素材層と、有機素材層とを積層して
なり、導電ボールを吸引支持するための貫通孔が該無機
素材層及び該有機素材層を貫通してバンプを形成するチ
ップの電極に対応する位置に形成され、有機素材層の表
面に静電気防止膜が設けられていることを特徴とするテ
ンプレート。
6. A chip formed by laminating an inorganic material layer and an organic material layer, wherein a through hole for sucking and supporting a conductive ball is formed on the chip which penetrates the inorganic material layer and the organic material layer to form a bump. A template formed at a position corresponding to an electrode, wherein an antistatic film is provided on a surface of an organic material layer.
【請求項7】 通気性の素材層と、樹脂層とが接着され
ており、該樹脂層に導電ボールを吸引支持するための貫
通孔がバンプを形成するチップの電極に対応する位置に
形成され、通気性の素材層は多孔質の素材または繊維状
素材からなることを特徴とするテンプレート。
7. The air-permeable material layer and the resin layer are bonded to each other.
And has a through hole for sucking supporting the conductive ball into the resin layer is formed at a position corresponding to the tip of the electrode forming the bumps, breathable material layer is made of a porous material or fibrous material A template characterized by
【請求項8】 バンプを形成するチップの電極に対応し
た貫通孔を紫外線の帯域の波長を有するレーザによって
形成した紫外線の帯域の光を吸収するガラスのテンプレ
ートを用い、該テンプレートの該貫通孔でバンプとなる
導電ボールを真空吸引し、該テンプレートの貫通孔のバ
ンプ吸着部は平滑化されており、該テンプレートで吸引
した該導電ボールを前記電極に位置決めし、該テンプレ
ートで該導電ボールを前記電極に押圧し、該吸引を解除
することを特徴とするバンプの形成方法。
8. A glass template that absorbs light in the ultraviolet band formed by a laser having a wavelength in the ultraviolet band is formed in a through hole corresponding to an electrode of a chip for forming a bump. The conductive balls serving as bumps are vacuum-sucked, the bump suction portions of the through holes of the template are smoothed, the conductive balls sucked by the template are positioned on the electrodes, and the conductive balls are drawn by the template onto the electrodes. And releasing the suction.
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