JP3203266B2 - Board holder - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は一般に基板ホルダーに関
し、特にハードディスク用スパッタ装置に用いて最適な
基板ホルダーに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention generally relates to a substrate holder, and more particularly to a substrate holder most suitable for use in a hard disk sputtering apparatus.
【0002】[0002]
【従来の技術及びその問題点】図9及び図10は従来例
の基板ホルダーを示すものであるが、図9において薄板
でなる基板ホルダー1には4個の保持部2が形成されて
いる。この詳細は図10に示されるが、各保持部2は同
一の構成を有するものである。基板ホルダー1には1つ
の保持部2を形成するために、ほぼ円形の丸孔3が形成
されており、この外周縁部に内方に向かって下向きに傾
斜するテーパ3aが形成されており、この下側の約18
0度の部分は溝4を形成するために、ほかのテーパ3a
よりも厚い幅の溝形成部3bとして形成されており、こ
れにハードディスク用基板5が、その下方の約180度
の領域において、溝4に挿入され、溝形成部3bの両側
で図示されるように保持されている。2. Description of the Related Art FIGS. 9 and 10 show a conventional substrate holder. In FIG. 9, a substrate holder 1 made of a thin plate has four holding portions 2 formed therein. The details are shown in FIG. 10, but each holding section 2 has the same configuration. A substantially circular round hole 3 is formed in the substrate holder 1 in order to form one holding portion 2, and a taper 3 a that is inclined inward and downward is formed on the outer peripheral edge of the substrate holder 1. About 18 below this
In order to form the groove 4, the 0 degree portion has another taper 3 a.
It is formed as a groove forming portion 3b having a greater width, into which the hard disk substrate 5 is inserted into the groove 4 in an area of about 180 degrees below it, as shown on both sides of the groove forming portion 3b. Is held in.
【0003】このような基板ホルダー1が真空室内に配
設されて、公知のターゲットもしくはスパッタ源から、
原子または分子を受けて所望の物質でなる薄膜が基板5
上に形成されるのであるが、溝4に挿入されている基板
5の外周部に対し溝形成部3bがスパッタされる原子ま
たは分子に対し影となり、この部分には薄膜を形成させ
ることができない。[0003] Such a substrate holder 1 is provided in a vacuum chamber, and is provided from a known target or sputter source.
A thin film made of a desired substance receiving atoms or molecules is formed on the substrate 5.
Although formed on the upper surface, the groove forming portion 3b shadows atoms or molecules to be sputtered on the outer peripheral portion of the substrate 5 inserted into the groove 4, and a thin film cannot be formed on this portion. .
【0004】特に基板5の径が小型のものでは、その最
外周部分まで成膜し、例えば磁気記録エリアとして使用
したいという要求が強いが、この要求に到底対処するこ
とができなかった。In particular, when the diameter of the substrate 5 is small, there is a strong demand that the film be formed up to the outermost peripheral portion and used as, for example, a magnetic recording area, but this request cannot be met at all.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする問題点】本発明は上記問題点
に鑑みてなされ、基板の最外周部分まで成膜を可能にす
る基板ホルダーを提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above problems, and has as its object to provide a substrate holder capable of forming a film up to the outermost peripheral portion of a substrate.
【0006】[0006]
【問題点を解決するための手段】以上の目的は、基板の
中心開口に係合可能な支持アーム又は円筒体と、該支持
アーム又は円筒体を担持体に支持するための充分に細い
ワイヤー部材とから成り、前記基板の前方又は後方から
原子又は分子を受けて薄膜を形成するようにしたことを
特徴とする基板ホルダーによって達成される。Further objects Means for solving the problem] is engageable with the support arm or cylinder to <br/> central opening of the substrate, the support arm or cylinder sufficient for supporting the bearing member a thin <br/> Ri consists a wire member, the front or rear of the substrate to
The fact that a thin film is formed by receiving atoms or molecules.
Achieved by the featured substrate holder.
【0007】[0007]
【作用】基板は一般に中心に丸孔を有するが、これに支
持アーム又は円筒体を係合させる。また、この支持アー
ム又は円筒体は担持体に支持されているワイヤー部材で
支持されているので、これに対向する位置からスパッタ
される原子や分子が、基板の全領域にわたって衝突する
ことができ、従って全面にわたって薄膜を形成すること
ができる。なお、ワイヤー部材と基板との距離を、スパ
ッタ源からの距離に応じて、所定距離以上に設定してお
けば、このスパッタ源から飛来する原子や分子がワイヤ
ー部材の直後方にも、ある角度を持って基板に衝突する
ので、ワイヤー部材により影となって、これに対向する
部位に薄膜が形成されないということはない。The substrate generally has a round hole at the center, into which a support arm or a cylinder is engaged. Further, since the support arm or the cylindrical body is supported by the wire member supported by the carrier, atoms and molecules sputtered from a position opposed thereto can collide over the entire region of the substrate, Therefore, a thin film can be formed over the entire surface. If the distance between the wire member and the substrate is set to a predetermined distance or more according to the distance from the sputter source, atoms and molecules flying from the sputter source will be at a certain angle immediately after the wire member. Therefore, it does not occur that the wire member casts a shadow and a thin film is not formed on a portion facing the substrate.
【0008】[0008]
【実施例】以下、本発明の実施例による基板ホルダーに
つき、図面を参照して説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a substrate holder according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0009】図1及び図2は本発明の第1実施例による
基板ホルダー10を示すものであるが、図において直方
形状の担持体としてのフレームFには縦と横にワイヤー
11、12が張設されている。このワイヤー11、12
は充分に細いが、後述するように基板5を支持しても、
ほとんど撓むことのない剛性及び耐熱性を有するものと
する(例えば針金で成る)。FIGS. 1 and 2 show a substrate holder 10 according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1 and FIG. 2, wires 11 and 12 are stretched vertically and horizontally on a frame F as a rectangular carrier . Has been established. These wires 11, 12
Is sufficiently thin, but even if the substrate 5 is supported as described later,
It should have rigidity and heat resistance that hardly bends (for example, made of wire).
【0010】本実施例ではフレームF内においては4個
の基板5(ハードディスク)が保持されるのであるが、
その1つにつき図2を参照して説明すると、一方のワイ
ヤー11には横方向のワイヤー12を中心として、一対
のワイヤー部材15の一端が、例えば溶接あるいは接着
により固定されている。この支持アームとしてのワイヤ
ー15の一端には、V字形状の折り曲げ部15a、15
aが形成されており、またこの距離は基板5の中心孔5
aの径よりは若干大きいが、図2に示すように基板5の
その中心孔5aで折り曲げ部15aに係合させた場合に
は、若干径内方に撓ませられ、弾性力により基板5が確
実に、図示されるように位置決めされて、支持アームと
してのワイヤー部材15に支持される。なお19はワイ
ヤー15、15の補強用リング部材であるが、これは必
ずしも必要ではない。In this embodiment, four substrates 5 (hard disks) are held in the frame F.
One of the wires 11 will be described with reference to FIG. 2. One end of a pair of wire members 15 is fixed to one of the wires 11 around a horizontal wire 12 by, for example, welding or bonding. One end of the wire 15 as the support arm has V-shaped bent portions 15a, 15a.
a is formed, and this distance is equal to the center hole 5 of the substrate 5.
Although slightly larger than the diameter of a, when the bent portion 15a is engaged with the center hole 5a of the substrate 5 as shown in FIG. It is reliably positioned as shown in the figure and is supported by the wire member 15 as a support arm. Reference numeral 19 denotes a ring member for reinforcing the wires 15, 15, but this is not always necessary.
【0011】本発明の第1実施例による基板ホルダー1
0は以上のように構成されるのであるが、図2に明示さ
れる支持部が本実施例では4ケ所設けられ、この各々に
基板5がワイヤー部材15の一端部に形成される折り曲
げ部15aに係合し、保持される。図1は4個の基板ホ
ルダーを保持した状態を示すものであるが、このフレー
ム10の前方及び後方より、スパッタすべき原子または
分子が真空室内で投射され、この基板5の表面、裏面に
薄膜、例えば磁性材料が薄膜として形成される。この
時、基板5とワイヤー11、12から、基板5までの距
離は例えば20〜30mm離れていることにより、また
ワイヤー11、12は充分に細く、前方あるいは後方か
ら飛来する原子または分子の影となって、これに対向す
る部位には薄膜が形成されないということはなく、原子
又は分子は全領域に均一に衝突して基板5に薄膜を形成
させることができる。A substrate holder 1 according to a first embodiment of the present invention.
0 is constructed as described above, but in this embodiment, four support portions shown in FIG. 2 are provided, and the substrate 5 is formed on each of the bent portions 15 a formed at one end of the wire member 15. And is held. FIG. 1 shows a state in which four substrate holders are held, and atoms or molecules to be sputtered are projected from the front and rear of the frame 10 in a vacuum chamber, and thin films are formed on the front and back surfaces of the substrate 5. For example, a magnetic material is formed as a thin film. At this time, the distance between the substrate 5 and the wires 11 and 12 to the substrate 5 is, for example, 20 to 30 mm apart, and the wires 11 and 12 are sufficiently thin to prevent shadows of atoms or molecules flying from the front or the rear. As a result, a thin film is not formed at a portion opposed thereto, and atoms or molecules can uniformly collide with the entire region to form a thin film on the substrate 5.
【0012】以上により、円形の基板5の全領域にわた
って、すなわち従来ではこの外周縁部のほぼ180度の
領域にわたって溝にはまる部分は薄膜が形成されていな
かったが、本実施例では外周縁部にまで薄膜を形成する
ことができる。As described above, a thin film is not formed in the entire area of the circular substrate 5, that is, in the conventional technique, the thin film is not formed in the portion that fits into the groove over the substantially 180-degree area of the outer peripheral edge. The thin film can be formed up to.
【0013】更に、本実施例によれば図2に示すように
縦のワイヤー11及び横のワイヤー12から基板5の表
面、裏面までの距離が同一であるので、その成膜条件は
同一であり、表面、裏面に等質な薄膜が形成される。Further, according to the present embodiment, as shown in FIG. 2, since the distances from the vertical wire 11 and the horizontal wire 12 to the front and back surfaces of the substrate 5 are the same, the film forming conditions are the same. A homogeneous thin film is formed on the front and back surfaces.
【0014】図3及び図4は本発明の第2実施例による
基板ホルダーを示すものであるが、図において担持部2
0には、前後一対のワイヤー22、22及び23、23
がその一端部で固定されており、一方の対のワイヤー2
2の他端部は折り曲げ部22a、22aとされる。円筒
体21の周壁部には一対の切欠き21a、21aが形成
されており、これにワイヤー22、22の他端部の折り
曲げ部22a、22aが係合するように構成されてい
る。FIGS. 3 and 4 show a substrate holder according to a second embodiment of the present invention.
0, a pair of front and rear wires 22, 22 and 23, 23
Is fixed at one end thereof, and one pair of wires 2
The other end of 2 is bent portions 22a, 22a. A pair of notches 21a, 21a are formed in the peripheral wall of the cylindrical body 21, and the bent portions 22a, 22a at the other ends of the wires 22, 22 are configured to engage with the notches 21a.
【0015】更に、円筒体21のほぼ中央部には断面が
V字状の環状溝21bが形成されており、これに図示す
るように基板5の中心孔5aが係合して保持されるよう
になっている。Further, an annular groove 21b having a V-shaped cross section is formed at a substantially central portion of the cylindrical body 21 so that a center hole 5a of the substrate 5 is engaged with the annular groove 21 as shown in FIG. It has become.
【0016】基板5の装着時には一方のワイヤー22、
22が、図においてその下端部が外方へと弾性的に広げ
られた後、基板5を円筒体21の溝21bに、図4に示
すように係合させた後、ワイヤー22、22を弾性復帰
させて、図3のようにその折り曲げ部22a、22aを
円筒体21の切欠き21a、21aに係合させることに
より、円筒体21が担持部20に保持される。When the substrate 5 is mounted, one of the wires 22
After the lower end of the substrate 22 is elastically spread outward in the figure, the substrate 5 is engaged with the groove 21b of the cylindrical body 21 as shown in FIG. The cylinder body 21 is held by the holding unit 20 by returning to engage the notches 21a, 21a of the cylinder body 21 with the bent parts 22a, 22a as shown in FIG.
【0017】このような状態で第1実施例と同様に図4
において、右方又は左方からスパッタされる原子又は分
子が当てられる。基板5の表面全体に、均一に薄膜が形
成されることができる。In such a state, as in the first embodiment, FIG.
In the above, atoms or molecules sputtered from the right or left are applied. A thin film can be uniformly formed on the entire surface of the substrate 5.
【0018】図4に示すような状態で、図において右方
又は左方からスパッタされる原子及び分子が、投射さ
れ、基板5に薄膜が形成されるのであるが、図4におい
て左方又は右方から原子又は分子をスパッタする時に
は、ワイヤー22、23の位置を所定距離以上、基板5
から離すようにしておけば、表面、裏面全体の薄膜形成
に何ら差し支えはない。その他の作用、効果は第1実施
例と同様である。In the state shown in FIG. 4, atoms and molecules sputtered from the right or left in the figure are projected and a thin film is formed on the substrate 5, but in FIG. When atoms or molecules are sputtered from one side, the position of the wires 22 and
If it is kept away from the surface, there is no problem in forming a thin film on the entire front and back surfaces. Other operations and effects are the same as those of the first embodiment.
【0019】図5は本発明の第3実施例による基板ホル
ダー30を示すものであるが、長方形状の担持体として
の枠体32には、上下方向に整列してパイプ31の両端
が固定されている。各パイプ31には複数対のワイヤー
34、34がV字形状に吊下げられており、この上端部
はパイプ31に固定されるが、この下端部は基板受33
の外周面に固定されている。[0019] While FIG. 5 illustrates a substrate holder 30 according to a third embodiment of the present invention, a rectangular-shaped carrier
Both ends of the pipe 31 are fixed to the frame body 32 in a vertical direction. A plurality of pairs of wires 34, 34 are suspended from each pipe 31 in a V-shape, and the upper end thereof is fixed to the pipe 31.
Is fixed to the outer peripheral surface of.
【0020】この基板受33には、第2実施例における
円筒体21と同様に、その周面には断面がV字形状の環
状溝33aが形成されている。すなわち、第2実施例を
示す図4において、円筒体21の左半部に止着されるワ
イヤー23、23及び左半部を省略した形状となってい
る。なお、ワイヤー34、34と基板5との間隔は16
mmである。An annular groove 33a having a V-shaped cross section is formed on the peripheral surface of the substrate receiver 33, similarly to the cylindrical body 21 in the second embodiment. That is, in FIG. 4 showing the second embodiment, the wires 23, 23 fixed to the left half of the cylindrical body 21 and the left half are omitted. The distance between the wires 34 and 34 and the substrate 5 is 16
mm.
【0021】第3実施例では20枚の基板5が以上のよ
うにして基板ホルダ30に取り付けられているのである
が、図5の紙面に対して裏側から表側に向かって、原子
又は分子照射され、図5の紙面に関し、基板5の裏側に
薄膜が形成される。なお、基板5の裏側においても図5
に示すようにV字形状の一対ワイヤー34、34によ
り、基板受33を保持するようにしてもよい。この場合
には基板ホルダー30の両側から同一条件で薄膜を形成
させることができる。In the third embodiment, the twenty substrates 5 are mounted on the substrate holder 30 as described above. However, atoms or molecules are irradiated from the back side to the front side with respect to the plane of FIG. 5, a thin film is formed on the back side of the substrate 5. It should be noted that FIG.
As shown in the figure, the substrate receiver 33 may be held by a pair of V-shaped wires 34, 34. In this case, a thin film can be formed from both sides of the substrate holder 30 under the same conditions.
【0022】図6は以上のように構成される基板ホルダ
ーの搬送システムを示すものであるが、例えば第1実施
例の基板ホルダー10がキャリアベース49に何らかの
手段により、直立保持され、このキャリアベース40は
ローラ43に支持され、更にこのローラ43は支柱41
a、41bに回転可能に軸受されている回転軸42によ
り支柱41a、41bに支持されている。このようなロ
ーラ43が複数個、所定のピッチで配設されているので
あるが、キャリアベース40は、このローラ43の回転
と共に、真空室内の薄膜形成位置あるいは基板脱着ポジ
ションへと搬送される。FIG. 6 shows a transport system of the substrate holder constructed as described above. For example, the substrate holder 10 of the first embodiment is held upright on a carrier base 49 by some means. The roller 40 is supported by a roller 43, and the roller 43
The supporting members 41a, 41b support the rotating shaft 42 rotatably supported by the supporting members 41a, 41b. A plurality of such rollers 43 are arranged at a predetermined pitch. The carrier base 40 is conveyed to a thin film forming position or a substrate attaching / detaching position in a vacuum chamber with the rotation of the rollers 43.
【0023】図7は他例の搬送システムを示すものであ
るが、基板ホルダ10の下端部にはキャリアベース55
が固定されており、この下面に直線的なラック54が固
定されており、これと左右一対の支柱51a、51bに
より回転可能に支持されている回転軸52に固定されて
いる歯車53と噛合している。又、キャリアベース55
には左右一対の支軸が固定されており、これに左右一対
のローラ60が回動可能に支持され、これが左右一対の
レール支柱51a、51bに図示されるように載ってい
る。なお、図示せずとも回転軸52をモータにより駆動
することにより、歯車53の回転により、これに噛合す
るラック54に直線的な駆動力が与えられ、これにより
基板ホルダー10は真空室内の薄膜形成位置及び基板脱
着ポジションに搬送されることができる。FIG. 7 shows another example of a transport system. A carrier base 55 is provided at the lower end of the substrate holder 10.
A linear rack 54 is fixed to the lower surface, and meshes with a gear 53 fixed to a rotating shaft 52 rotatably supported by a pair of left and right columns 51a and 51b. ing. In addition, carrier base 55
A pair of left and right support shafts are fixed to the, and a pair of left and right rollers 60 are rotatably supported by the support shafts, and are mounted on a pair of left and right rail posts 51a and 51b as shown in the figure. Although not shown, when the rotating shaft 52 is driven by a motor, a linear driving force is applied to the rack 54 meshing with the gear 53 by the rotation of the gear 53, whereby the substrate holder 10 forms a thin film in a vacuum chamber. Position and substrate transfer position.
【0024】図8は第1実施例の変形例を示すものであ
るが、基板ホルダー60のフレームの片側に取り付けら
れているフレーム部分61をその上端部に形成される突
出片61bを他方のフレーム部分の上端部62に弾性的
に係合することにより、第1実施例のフレームを構成す
るものであるが、この片側のフレーム部分61を図示す
るように分解することにより、図8において左方から原
子又は分子を基板5に付着させることにより、この基板
5の左側の面に薄膜が形成されるのであるが、この場合
には前面にワイヤーが存在していないので、何らこの影
響を受けることはない。なお、この両面に薄膜を形成さ
せる場合には、第1実施例と同様にフレーム部分61の
上端部の突出片61bを、他方のフレーム部分60の上
端部62に係合させることにより、第1実施例のフレー
ムを構成し、両側から薄膜を形成させる場合には全くの
同一条件で薄膜が形成されることができる。FIG. 8 shows a modification of the first embodiment, in which a frame portion 61 attached to one side of a frame of a substrate holder 60 is connected to a projecting piece 61b formed at the upper end thereof. The frame of the first embodiment is constituted by elastically engaging with the upper end portion 62 of the portion. However, by disassembling the frame portion 61 on one side as shown in FIG. A thin film is formed on the left side surface of the substrate 5 by attaching atoms or molecules to the substrate 5, but in this case, there is no wire on the front surface, so there is no influence from this. There is no. When a thin film is formed on both surfaces, the first piece 61b at the upper end of the frame portion 61 is engaged with the upper end portion 62 of the other frame portion 60 in the same manner as in the first embodiment. When forming the frame of the embodiment and forming the thin film from both sides, the thin film can be formed under exactly the same conditions.
【0025】以上、本発明の各実施例について説明した
が、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明
の技術的思想に基いて種々の変形が可能である。Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is, of course, not limited thereto, and various modifications can be made based on the technical concept of the present invention.
【0026】例えば、以上の第1実施例では基板5を支
持するアームは一対のワイヤー15、15から成ってい
るが、これに代えて第2実施例のように円筒体を、縦又
は横のワイヤー11、12に固定させるようにし、この
円筒体の端部に第2実施例と同様に環状で断面がV字形
状の、溝を形成し、これに弾性的に中心開口5aを係合
させるようにしてもよい。For example, in the first embodiment, the arm for supporting the substrate 5 is composed of a pair of wires 15, 15, but instead of this, a cylindrical body is vertically or horizontally mounted as in the second embodiment. The cylindrical body is fixed to the wires 11 and 12. An annular groove having a V-shaped cross section is formed at the end of the cylindrical body as in the second embodiment, and the central opening 5a is elastically engaged with the groove. You may do so.
【0027】また、第2実施例では担持部20は上方に
あり、これにワイヤー22、23の一端を固定させるよ
うにしたが担持部は側方にあり、第1実施例における横
方向のワイヤーのように配設し、円筒体を支持するよう
にしてもよい。In the second embodiment, the support portion 20 is located above and one end of each of the wires 22 and 23 is fixed to the support portion. And may support the cylindrical body.
【0028】また、以上の実施例では基板5は円形であ
り、その中心に丸孔を形成させているが、この中心開口
は円形でなくとも多角形であってもよく、勿論、基板の
形状は円形に限ることはない。In the above embodiment, the substrate 5 has a circular shape and a circular hole is formed at the center thereof. However, the central opening may be a polygon instead of a circle. Is not limited to a circle.
【0029】また、以上の実施例では基板ホルダーを真
空中に静止した状態で、基板5にスパッタにより薄膜を
形成させる場合について説明したが、真空中で基板5を
移動させながら、スパッタにより成膜させてもよい。In the above embodiment, the case where a thin film is formed on the substrate 5 by sputtering while the substrate holder is kept in a vacuum has been described. However, the film is formed by sputtering while moving the substrate 5 in vacuum. May be.
【0030】[0030]
【発明の効果】以上述べたように、本発明の基板ホルダ
ーによれば、基板の最外周部分にまで薄膜を形成させる
ことができる。As described above, according to the substrate holder of the present invention, a thin film can be formed on the outermost peripheral portion of the substrate.
【図1】本発明の第1実施例による基板ホルダーの斜視
図である。FIG. 1 is a perspective view of a substrate holder according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1における[2]−[2]線方向の拡大断面
図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view taken along a line [2]-[2] in FIG.
【図3】本発明の第2実施例による基板ホルダーに基板
を保持させた状態を示す正面図である。FIG. 3 is a front view showing a state where a substrate is held by a substrate holder according to a second embodiment of the present invention.
【図4】同側面図である。FIG. 4 is a side view of the same.
【図5】本発明の第3実施例による基板ホルダーの正面
図である。FIG. 5 is a front view of a substrate holder according to a third embodiment of the present invention.
【図6】基板ホルダーの搬送システム表示の正面図であ
る。FIG. 6 is a front view of a transfer system display of the substrate holder.
【図7】基板ホルダーの他例の搬送システムを示す正面
図である。FIG. 7 is a front view showing another example of the transfer system of the substrate holder.
【図8】第1実施例の変形例を示す部分側面図である。FIG. 8 is a partial side view showing a modification of the first embodiment.
【図9】従来例の基板ホルダーの正面図である。FIG. 9 is a front view of a conventional substrate holder.
【図10】その1つの保持部の拡大正面図である。FIG. 10 is an enlarged front view of one of the holding portions.
11 ワイヤー 12 ワイヤー 15 ワイヤー 21 円筒体 31 パイプ 33 基板受 34 ワイヤー DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 wire 12 wire 15 wire 21 cylindrical body 31 pipe 33 substrate support 34 wire
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 16/00 - 16/56 B65H 51/30 H01L 21/203,21/31 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C23C 14/00-14/58 C23C 16/00-16/56 B65H 51/30 H01L 21/203, 21/31
Claims (1)
又は円筒体と、該支持アーム又は円筒体を担持体に支持
するための充分に細いワイヤー部材とから成り、前記基
板の前方又は後方から原子又は分子を受けて薄膜を形成
するようにしたことを特徴とする基板ホルダー。A support arm engageable with a central opening of a substrate.
Or a cylindrical body, Ri consists sufficiently thin wire member for supporting the carrier the support arm or cylinder, wherein the group
Form a thin film by receiving atoms or molecules from the front or back of the plate
A substrate holder characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07903792A JP3203266B2 (en) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | Board holder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07903792A JP3203266B2 (en) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | Board holder |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05239643A JPH05239643A (en) | 1993-09-17 |
| JP3203266B2 true JP3203266B2 (en) | 2001-08-27 |
Family
ID=13678723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07903792A Expired - Lifetime JP3203266B2 (en) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | Board holder |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3203266B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN111471965B (en) * | 2020-04-30 | 2024-08-23 | 苏州迈正科技有限公司 | Conveying carrier plate, vacuum coating equipment and vacuum coating method |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP07903792A patent/JP3203266B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05239643A (en) | 1993-09-17 |
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