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JP3300518B2 - Reflector and reflector for strobe using the same - Google Patents
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JP3300518B2 - Reflector and reflector for strobe using the same - Google Patents

Reflector and reflector for strobe using the same

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JP3300518B2
JP3300518B2 JP02081294A JP2081294A JP3300518B2 JP 3300518 B2 JP3300518 B2 JP 3300518B2 JP 02081294 A JP02081294 A JP 02081294A JP 2081294 A JP2081294 A JP 2081294A JP 3300518 B2 JP3300518 B2 JP 3300518B2
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reflector
film
strobe
polymer film
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文晴 山崎
悟志 川本
福田  伸
信弘 福田
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、銀反射体に関するもの
であり、さらに詳しくは、ストロボ用の反射傘に好適に
用いることができる銀反射体とその反射傘に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver reflector and, more particularly, to a silver reflector which can be suitably used for a strobe reflector and its reflector.

【0002】[0002]

【従来の技術】ストロボ用の反射傘として従来、表面を
研磨したアルミの板を板金加工により成形加工したもの
が用いられてきたが、近年、レンズ付きフィルムの様な
簡便なカメラにもストロボが装備されるようになり、ス
トロボのシステム全体として見た場合に、軽量化および
小型化が重要視されるようになってきた。ストロボに用
いるキセノンランプを放電させるためのコンデンサーが
ストロボの回路において大きな割合を占めており、上記
コンデンサーを小さくすることは、ストロボシステム全
体としての小型化ばかりでなく低コスト化につながり産
業上きわめて重要である。このコンデンサーを小型化す
る1つの方法は、キセノンランプから放射される光を効
率的に被写体に到達させるために、上記の表面研磨した
アルミに代わって、より反射率の高い銀を用いることが
1つの解決法として考えられる。本発明者らは、アルミ
よりも可視光領域で反射率が高く、かつ、アルミ板と同
様に板金加工や打ち抜き加工が可能な反射板に関する技
術を開示した(例えば特開平5−162227)。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a reflector for a strobe, an aluminum plate having a polished surface formed by sheet metal processing has been used. In recent years, however, a strobe is also used for a simple camera such as a film with a lens. As a result, the weight and size of the electronic flash system have become increasingly important as a whole. A capacitor for discharging a xenon lamp used for a strobe occupies a large proportion in a strobe circuit, and reducing the size of the capacitor not only leads to a reduction in the size of the entire strobe system but also a reduction in cost, which is extremely important in industry. It is. One method of reducing the size of this capacitor is to use silver having a higher reflectivity in place of the above-polished aluminum in order to allow the light emitted from the xenon lamp to efficiently reach the subject. Can be considered as one solution. The present inventors have disclosed a technique relating to a reflector having a higher reflectance in the visible light region than aluminum and capable of performing sheet metal working or punching as in the case of an aluminum plate (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-162227).

【0003】本発明者らが提案した反射板は、透明高分
子フィルム(A)、銀薄膜層(B)、接着層(C)、板
状成形体(D)が、ABCDの順に形成されたものであ
って、銀薄膜表面を直接大気に暴露することがなく、銀
薄膜表面の腐食の問題等を解決し、銀を用いた反射体の
耐侯性を飛躍的に向上させるものであった。
The reflector proposed by the present inventors has a transparent polymer film (A), a silver thin film layer (B), an adhesive layer (C), and a plate-like molded body (D) formed in the order of ABCD. In this method, the surface of the silver thin film was not directly exposed to the atmosphere, the problem of corrosion of the surface of the silver thin film was solved, and the weather resistance of the reflector using silver was remarkably improved.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らはそこで、
上記銀を用いた反射体を打ち抜き加工し、ストロボ用に
板金加工し、実際にストロボに用い10〜50回発光さ
せたところ、該銀反射板の高分子フィルム層表面が黒化
するという予期せざる問題に遭遇した。しかして、実際
に使用される反射体では、少なくとも50回の発光に対
して黒化しないことが望まれる。黒化の原因を本発明者
等が鋭意検討したところ、意外なことに、発光を誘起さ
せるためにランプの外部から印加する高電圧の高周波ト
リガに黒化の原因があることを発見した。そこで、この
問題を解決する方法を鋭意検討したところ、該反射体
に、誘電正接が0.0025以下の透明高分子フィルム
を用いることで上記の問題を解決できることを見いだし
本発明に到達した。本発明は、かかる知見に基づきなさ
れるに至ったものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have
The above-mentioned reflector using silver was punched out, processed into a sheet metal for a strobe, and actually used for a strobe to emit light 10 to 50 times, so that the surface of the polymer film layer of the silver reflector was expected to be blackened. I encountered an inconvenient problem. Therefore, it is desired that the reflector actually used does not blacken at least 50 times of light emission. The present inventors have conducted intensive studies on the cause of the blackening, and surprisingly discovered that the high voltage high-frequency trigger applied from outside the lamp to induce light emission causes the blackening. Accordingly, the present inventors have made intensive studies on a method for solving this problem. As a result, they have found that the above problem can be solved by using a transparent polymer film having a dielectric loss tangent of 0.0025 or less for the reflector, and arrived at the present invention. The present invention has been made based on such findings.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、少
なくとも、透明高分子フィルム(A)、銀薄膜層
(B)、接着層(C)および板状成形体(D)が、AB
CDの順に層形成された、Aの面が反射面である反射板
にして、該透明高分子フィルム(A)の100kHz〜
10MHzの高周波に対する誘電正接が0.0025以
下である銀反射板、であり、または、透明高分子フィル
ム(A)の常用耐熱性が、80℃以上である銀反射板で
あり、または、透明高分子フィルム(A)が、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、もしくはポ
リスチレンである銀反射板であり、また、透明高分子フ
ィルム(A)の波長400nmから750nmの範囲の
光線に対する透過率が80%以上である銀反射板であ
り、また、銀薄膜層(B)がスパッタリング法もしくは
真空蒸着法で形成される銀反射板であり、また、板状成
形体(D)がアルミニウム、アルミ合金、ステンレス
鋼、銅亜鉛合金および鋼から選ばれたものである銀反射
板であり、また、波長450nm〜750nmの範囲の
光線に対する反射率が93%以上である銀反射板であ
り、また、銀薄膜層(B)の膜厚が70nm〜300n
mである銀反射板であり、上記の銀反射板を傘状に加工
形成してなるストロボ用反射傘である。
That is, according to the present invention, at least the transparent polymer film (A), the silver thin film layer (B), the adhesive layer (C) and the plate-like molded product (D) are made of AB.
A surface of the transparent polymer film (A) is formed as a reflection plate having a surface A as a reflection surface.
A silver reflector having a dielectric loss tangent of not more than 0.0025 at a high frequency of 10 MHz, or a silver reflector having a normal heat resistance of the transparent polymer film (A) of 80 ° C. or more; The molecular film (A) is a silver reflector made of polyethylene, polypropylene, polycarbonate, or polystyrene, and the transparent polymer film (A) has a transmittance of 80% or more for light rays in the wavelength range of 400 nm to 750 nm. A silver reflecting plate, wherein the silver thin film layer (B) is a silver reflecting plate formed by a sputtering method or a vacuum evaporation method, and the plate-like formed body (D) is aluminum, an aluminum alloy, stainless steel, copper It is a silver reflector selected from a zinc alloy and steel, and has a reflectance for light rays in a wavelength range of 450 nm to 750 nm. A silver reflection plate is 3% or more, also, the film thickness of the silver thin film layer (B) is 70nm~300n
m, which is a reflective umbrella for a strobe formed by processing the above-mentioned silver reflective plate into an umbrella shape.

【0006】以下、添付図面を参照しながら、本発明を
説明する。図1は、本発明の反射板の断面構造の一例を
示す図である。図1において01は透明高分子フィル
ム、02は銀薄膜層、03は接着層、04は板状成形体
であり、01〜04が銀反射板20を形成する。また、
図2はキセノン管に銀反射板を接触させたストロボ構造
の断面を示す図であり、図3はキセノン管に銀反射板を
接触させたストロボ構造の発光面の裏側から見た図であ
り、図4はストロボ発光回路を示す図である。なお、1
0はキセノンランプ、20は銀反射板、30はトリガ端
子を示す。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a diagram showing an example of the cross-sectional structure of the reflector of the present invention. In FIG. 1, 01 is a transparent polymer film, 02 is a silver thin film layer, 03 is an adhesive layer, 04 is a plate-like molded body, and 01 to 04 form a silver reflecting plate 20. Also,
FIG. 2 is a view showing a cross section of a strobe structure in which a silver reflector is brought into contact with a xenon tube, and FIG. 3 is a view seen from the back side of a light emitting surface of the strobe structure in which a silver reflector is brought into contact with a xenon tube. FIG. 4 is a diagram showing a strobe light emitting circuit. In addition, 1
0 indicates a xenon lamp, 20 indicates a silver reflector, and 30 indicates a trigger terminal.

【0007】本発明における高分子フィルムの材料は、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネートもし
くはポリスチレン等が使用できるが、必ずしもこれらに
限定されるわけではなく、まははこれらのうち、透明で
あり、ある程度常用耐熱温度が高く、誘電正接が0.0
025以下のものであれば使用できる。ポリエチレンフ
ィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフ
ィルム及びポリスチレンフィルムは、フィルムコンデン
サの誘電体として広く利用されており、誘電正接の低い
材料として認知されているが、それらのフィルムでも、
なかには誘電正接が0.0025より大きいものあり、
これらは本発明の目的には使用できないことを注意しな
ければならない。しかしながら、本発明において肝要な
のは誘電正接が0.0025以下の高分子フィルムを使
用することである。誘電正接が0.0025より大きい
高分子フィルムを用いて銀反射板を形成しても、10回
〜50回のストロボ発光に対しフィルムが黒化してしま
い、十分な耐久性は得られないのである。
[0007] The material of the polymer film in the present invention is:
Polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polystyrene, or the like can be used, but is not necessarily limited thereto, or among them, it is transparent, has a relatively high normal heat resistance, and has a dielectric loss tangent of 0.0.
If it is 025 or less, it can be used. Polyethylene film, polypropylene film, polycarbonate film and polystyrene film are widely used as dielectrics of film capacitors, and are recognized as a material having a low dielectric loss tangent.
Some have a dielectric loss tangent greater than 0.0025,
It should be noted that these cannot be used for the purposes of the present invention. However, it is important in the present invention to use a polymer film having a dielectric loss tangent of 0.0025 or less. Even if a silver reflector is formed using a polymer film having a dielectric loss tangent of greater than 0.0025, the film is blackened by 10 to 50 strobe light emissions, and sufficient durability cannot be obtained. .

【0008】なお、フィルムの誘電損が、誘電正接と比
誘電率の積に比例することは当業者が理解しているとこ
ろであるが、透明高分子フィルムの比誘電率は、一般的
に100kHz〜10MHzの範囲で、2.0〜3.5
であってフィルムの種類による大差はなく、小さい値で
あることが知られている。従って、本発明にかかる銀反
射体を作製するとき比誘電率の選択の余地はあまりない
のであるが、本発明の目的には、比誘電率2.0〜3.
5の範囲のフィルムを用いるのが好ましい。
It is understood by those skilled in the art that the dielectric loss of the film is proportional to the product of the dielectric loss tangent and the relative dielectric constant, but the relative dielectric constant of the transparent polymer film is generally 100 kHz to 100 kHz. 2.0 to 3.5 in the range of 10 MHz
It is known that there is no great difference depending on the type of the film, and the value is small. Therefore, there is not much room for selection of the relative dielectric constant when producing the silver reflector according to the present invention, but for the purpose of the present invention, the relative dielectric constant is 2.0 to 3.0.
It is preferred to use a film in the range of 5.

【0009】本発明において使用する高分子フィルムの
厚さには限定的な制限値はないが、25〜150μm程
度のものが好ましく用いられる。使用する高分子フィル
ムの光学特性は、波長550nmの光の光線透過率が8
0%以上であることが好ましい。より好ましくは、波長
500〜700nmの光に対して、光線透過率が80%
以上であり、より好ましくは85%以上である。光線透
過率が80%よりあまり低いと、反射フィルムとした時
の全反射率が所望の値に達しなくなる。
The thickness of the polymer film used in the present invention is not limited, but a thickness of about 25 to 150 μm is preferably used. The optical characteristics of the polymer film used are such that the light transmittance of light having a wavelength of 550 nm is 8
It is preferably 0% or more. More preferably, the light transmittance is 80% for light having a wavelength of 500 to 700 nm.
And more preferably 85% or more. If the light transmittance is much lower than 80%, the total reflectance of the reflective film will not reach a desired value.

【0010】本発明においては、かかる透明高分子フィ
ルムの一方の主面上に、図1に示すように、銀薄膜層を
形成するが、かかる銀薄膜の形成法としては、湿式法及
び乾式法が適用できる。湿式法とはいわゆるメッキ法の
総称であり、溶液から銀を析出させ膜を形成する方法で
ある。具体例を挙げるとすれば、銀鏡反応等がある。一
方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例
示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加
熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビー
ムアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわ
け、本発明においては、連続的に成膜するロールツロー
ル方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。
In the present invention, as shown in FIG. 1, a silver thin film layer is formed on one main surface of such a transparent polymer film. Such a silver thin film is formed by a wet method or a dry method. Can be applied. The wet method is a general term for a so-called plating method, and is a method of depositing silver from a solution to form a film. Specific examples include a silver mirror reaction. On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specific examples thereof include a resistance heating type vacuum deposition method, an electron beam heating type vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method. And a sputtering method. In particular, in the present invention, a vacuum film forming method capable of a roll-to-roll system for continuously forming a film is preferably used.

【0011】真空蒸着法では銀の原材料を電子ビーム、
抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇させ、
好ましくは0.1mTorr(約0.1Pa)以上導入
させ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こしてもよ
い。
In the vacuum deposition method, a silver raw material is an electron beam,
Melt by resistance heating, induction heating, etc., raise the vapor pressure,
Preferably, 0.1 mTorr (about 0.1 Pa) or more is introduced to cause high-frequency or direct-current glow discharge.

【0012】スパッタ法では、DCマグネトロンスパッ
タ法、rfマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ECRスパッタ法、コンベンショナルrfスパ
ッタ法、コンベンショナルDCスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料としては、銀の板状
のターゲットを用いればよい。スパッタガスにはヘリウ
ム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を使用
し得るが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純
度は、99.0%以上が好ましいが、より好ましくは9
9.5%以上である。
In the sputtering method, a DC magnetron sputtering method, an rf magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, an ECR sputtering method, a conventional rf sputtering method, a conventional DC sputtering method, or the like can be used. In the sputtering method, a silver plate-shaped target may be used as a raw material. Helium, neon, argon, krypton, xenon, or the like can be used as the sputtering gas, but argon is preferably used. The purity of the gas is preferably 99.0% or more, more preferably 99.0%.
9.5% or more.

【0013】銀薄膜層の厚さは特に臨界的な条件ではな
いが、70nm〜300nm程度が好ましく、より好ま
しくは70nm〜200nmである。銀薄膜層の厚みが
あまり薄く例えば70nm未満では、銀の膜厚が十分で
ないために、透過する光が存在し、反射率が十分でなく
なる。一方、膜厚を例えば300nmを越えてあまり厚
く形成しても、反射率は上昇せず、飽和傾向を示す上
に、銀層の高分子フィルムに対する密着性が低下するの
で好ましくない。
The thickness of the silver thin film layer is not particularly critical, but is preferably about 70 nm to 300 nm, more preferably 70 nm to 200 nm. If the thickness of the silver thin film layer is too small, for example, less than 70 nm, the thickness of the silver film is not sufficient, so that transmitted light is present and the reflectance is not sufficient. On the other hand, if the film thickness is too large, for example, more than 300 nm, the reflectance does not increase, showing a tendency to saturate, and the adhesion of the silver layer to the polymer film is undesirably reduced.

【0014】膜厚の測定は、触針粗さ計、繰り返し反射
干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法等があるが、
水晶振動子法では成膜中に膜厚の測定が可能なので所望
の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜条件
を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜
厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚制御する方
法もある。なお、銀薄膜層には、性能に害を及ぼさない
程度の、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステ
ン、モリブデン、タンタル、クロム、インジュウム、マ
ンガン、チタン等の金属不純物が含まれてもよいことは
勿論である。
The film thickness can be measured by a stylus roughness meter, a repetitive reflection interferometer, a microbalance, a quartz oscillator method, etc.
The quartz oscillator method is suitable for obtaining a desired film thickness because the film thickness can be measured during film formation. There is also a method in which film formation conditions are determined in advance, a film is formed on a sample substrate, the relationship between the film formation time and the film thickness is examined, and the film thickness is controlled by the film formation time. The silver thin film layer may contain metal impurities such as gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, and titanium, which do not impair the performance. Of course.

【0015】さらに、銀層を形成した後、銀層の保護や
フィルムの滑り性の向上のために、インコネル、クロ
ム、ニッケル、チタン、アルミニウム、モリブデン、タ
ングステン等の単金属層もしくは合金層を10nm〜3
0nm程度積層することが有効であることは、当業者が
理解しているところであろう。なお、銀薄膜層を透明高
分子フィルム上に設ける際に、高分子フィルム表面に、
コロナ放電処理、グロー放電処理、表面化学処理、粗面
化処理等を行うことが銀薄膜層と高分子フィルムの密着
性を向上させる上で効果があることは当業者の技術的常
識の範囲であろう。
After the silver layer is formed, a single metal layer or an alloy layer of Inconel, chromium, nickel, titanium, aluminum, molybdenum, tungsten, or the like is formed to a thickness of 10 nm in order to protect the silver layer and improve the slipperiness of the film. ~ 3
It will be understood by those skilled in the art that lamination of about 0 nm is effective. When providing the silver thin film layer on the transparent polymer film,
It is within the technical common sense of those skilled in the art that performing corona discharge treatment, glow discharge treatment, surface chemical treatment, surface roughening treatment, etc. is effective in improving the adhesion between the silver thin film layer and the polymer film. There will be.

【0016】しかして、上記の処理を行うと基板である
透明高分子フィルムが加熱され、また、ストロボ発光し
た際ランプが発熱するため、熱による透明高分子フィル
ムの変形及び変色のおそれを実質的に無からしめるため
には、フィルムの常用耐熱温度はある程度高く例えば8
0℃以上であることが好ましい。より好ましくは常用耐
熱温度100℃以上である。ポリスチレンの常用耐熱温
度は80℃であるため、ストロボ用銀反射板に好適に利
用できる。また、ポリエチレンの常用耐熱温度は120
℃、ポリプロピレンの常用耐熱温度は130℃、ポリカ
ーボネートの常用耐熱温度は120℃であるため、これ
らのフィルムはストロボ用銀反射板により好適に使用で
きる。
However, when the above process is performed, the transparent polymer film as the substrate is heated, and the lamp generates heat when a strobe light is emitted. In order to reduce the temperature, the normal heat resistance temperature of the film is somewhat high, for example, 8
The temperature is preferably 0 ° C. or higher. More preferably, the normal heat resistance temperature is 100 ° C. or higher. Since the normal heat-resistant temperature of polystyrene is 80 ° C., it can be suitably used for a silver reflector for strobe light. The normal heat-resistant temperature of polyethylene is 120
° C, the common heat-resistant temperature of polypropylene is 130 ° C, and the common heat-resistant temperature of polycarbonate is 120 ° C. Therefore, these films can be suitably used for a silver reflector for a strobe light.

【0017】本発明においては、銀薄膜層(B)と板状
成形体(D)を、接着層(C)で接着一体化するが、こ
こで用いられる接着剤は、熱または触媒の助けにより接
着される接着剤であればいずれも使用できる。具体的に
は、シリコン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキ
シ系接着剤、シアノアクリレート系接着剤など一般的な
接着剤を用いることができる。シリコン系接着剤、及び
ポリエステル系接着剤は耐熱性、電気特性に優れている
ためトリガを印加するストロボ用反射体用に好適に利用
できる。エポキシ系接着剤は強度、耐熱性に優れている
ため、これもまた好適に利用できる。シアノアクリレー
ト系接着剤は、速攻性と強度に優れているため、効率的
な反射体作製に利用できる。これらの接着剤は、接着方
法によって熱硬化型、ホットメルト型、二液混合型に大
別されるが、好ましくは連続生産が可能な熱硬化型ある
いはホットメルト型が使用される。熱接着剤の厚みに
は、特に限定はないが、通常0.5μm 〜50μm 、好
ましくは1μm 〜20μm 程度である。
In the present invention, the silver thin film layer (B) and the plate-like molded body (D) are bonded and integrated by an adhesive layer (C). The adhesive used here is heat or with the aid of a catalyst. Any adhesive can be used as long as it can be adhered. Specifically, a general adhesive such as a silicone adhesive, a polyester adhesive, an epoxy adhesive, and a cyanoacrylate adhesive can be used. Silicone-based adhesives and polyester-based adhesives have excellent heat resistance and electrical properties, and thus can be suitably used for a strobe reflector for applying a trigger. Epoxy-based adhesives are excellent in strength and heat resistance, and therefore can also be suitably used. The cyanoacrylate-based adhesive has excellent quickness and strength, and can be used for efficient reflector production. These adhesives are roughly classified into a thermosetting type, a hot-melt type, and a two-component mixing type depending on the bonding method, and a thermosetting type or a hot-melt type which can be continuously produced is preferably used. Although the thickness of the thermal adhesive is not particularly limited, it is generally about 0.5 μm to 50 μm, preferably about 1 μm to 20 μm.

【0018】銀薄膜層を形成した高分子フィルムと板状
成形体との接着は、通常銀薄膜層への接着剤のコーティ
ング、乾燥、ローラーによる板状成形体とのラミネー
ト、の手順により行われる。接着剤のコーティング方法
は、基材や接着剤の種類によって多くの方法があるが、
広く使用されているのはグラビアコーター方式及びリバ
ースコーター方式である。グラビアコーター方式では、
接着剤に一部分が浸されているグラビアロールを回転さ
せ、バックアップロールによって送られるフィルムを接
着剤の付着したグラビアロールに接触させることでコー
ティングする。コーティング量はロールの回転数、接着
剤の粘度を制御することで調整できる。リバースコータ
ー方式も、グラビアロール方式に類似した方法だが、コ
ーティングロールに付着する接着剤の量を、それに接し
て設置されているメタリングロールによって調整する。
コーティングされた接着剤の乾燥温度、及びラミネート
温度は接着剤の種類によってまちまちであるが、上記に
掲げた一般的な接着剤を用いる場合は100℃前後であ
る。
The adhesion between the polymer film having the silver thin film layer formed thereon and the plate-shaped molded product is usually performed by the steps of coating the silver thin film layer with an adhesive, drying, and laminating the plate-shaped molded product with a roller. . There are many methods for coating the adhesive, depending on the type of substrate and adhesive.
The gravure coater method and the reverse coater method are widely used. In the gravure coater method,
The gravure roll partially immersed in the adhesive is rotated, and the film fed by the backup roll is coated by contacting the gravure roll with the adhesive. The coating amount can be adjusted by controlling the number of rotations of the roll and the viscosity of the adhesive. The reverse coater method is similar to the gravure roll method, but the amount of the adhesive adhering to the coating roll is adjusted by a metering roll installed in contact with the coating roll.
The drying temperature and the laminating temperature of the coated adhesive vary depending on the type of the adhesive, but are around 100 ° C. when the above-mentioned general adhesive is used.

【0019】以上のごとくして得られた、銀薄膜層を形
成した透明高分子フィルムと板状成形体との接着剤によ
る密着強度は、180度ピール強度で測定して100g
/cm以上であることが望ましい。この密着強度に達し
ない場合には、ストロボ用反射体として板金加工した
際、銀薄膜層を形成した透明高分子フィルムの板状成形
体からの剥がれ等が生じ、変形等を引き起こしうる。
The adhesive strength between the transparent polymer film having the silver thin film layer formed thereon and the plate-like molded body obtained as described above, measured with a 180 degree peel strength, was 100 g.
/ Cm or more. If the adhesion strength is not reached, when the sheet metal is processed as a strobe reflector, the transparent polymer film having the silver thin film layer may be peeled off from the plate-like molded body, which may cause deformation or the like.

【0020】本発明で使用する板状成形体を形成する材
料としては、通常金属が好ましく、例えば、アルミニウ
ム、アルミ合金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等が使
用されるが、これらの金属にはそれぞれ長所があり次の
ように用途に応じて選択して使い分けることができる。
アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝導率
が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすことが
できるため、ランプ発光によって反射体が加熱されるス
トロボ用反射傘に好適に利用できる。アルミ合金は軽量
かつ機械的強度が強いため、ストロボ用反射傘に好適に
利用できる。ステンレス鋼は機械的強度が高度にあり、
また耐蝕性にすぐれているため、ストロボ用反射傘に好
適に利用できる。鋼亜鉛合金すなわち黄銅またはしんち
ゅうは、機械的強度の強いことに加え、はんだづけが容
易なためトリガ端子をとり易くこれもまたストロボ用反
射傘に好適に利用できる。鋼は安価なため、コストを抑
える必要がある時に好ましく用いられる。
As a material for forming the plate-like molded body used in the present invention, usually, a metal is preferable. For example, aluminum, aluminum alloy, stainless steel, steel zinc alloy, steel and the like are used. Each has advantages, and can be selected and used depending on the application as follows.
Aluminum is lightweight and excellent in workability, and has high thermal conductivity and can effectively release the heat applied to the atmosphere, so that it can be suitably used as a reflector for a strobe in which a reflector is heated by lamp emission. . Since aluminum alloy is lightweight and has high mechanical strength, it can be suitably used as a reflector for strobe light. Stainless steel has high mechanical strength,
Further, since it has excellent corrosion resistance, it can be suitably used as a reflector for strobe light. A steel zinc alloy, that is, brass or brass, has a high mechanical strength and is easy to solder, so that it is easy to take a trigger terminal, and this can also be suitably used for a reflector for strobe light. Since steel is inexpensive, it is preferably used when it is necessary to reduce costs.

【0021】かくして、作製された反射板の反射率は、
典型的には550nmの波長の光に対して93%以上で
あり、より詳しくは450nm〜750nmの範囲で9
3%以上である。
Thus, the reflectance of the produced reflector is
Typically, it is 93% or more for light having a wavelength of 550 nm, and more specifically, 9% in the range of 450 nm to 750 nm.
3% or more.

【0022】かかる銀反射板を用いてストロボ用銀反射
傘を加工形成するには、アルミ板をストロボ用反射傘に
加工する従来の方法がそのまま適用できる。例えば、反
射体を反射傘を平面的に展開した形状に裁断し、この裁
断した平板を折曲げ加工して形成されるのである(特開
昭55−118002)。当該方法は製造コストが安い
ことから、レンズ付きフィルム等に好適に利用されてい
る。
In order to process and form a silver reflector for a strobe using such a silver reflector, a conventional method of processing an aluminum plate into a reflector for a strobe can be applied as it is. For example, a reflector is cut into a shape obtained by expanding a reflector umbrella in a plane, and the cut flat plate is bent and formed (JP-A-55-118002). Since this method has a low production cost, it is suitably used for films with lenses.

【0023】本発明にかかる銀反射体の構成、及び電気
特性の代表的な評価方法を以下に説明する。透明高分子
フィルム、銀薄膜層、接着層、板状成形体の各部の厚さ
は、その断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察する
ことで直接測定できる。高分子フィルムの材料分析は、
赤外分光(IR)によりできる。また、接着剤の材料分
析は銀薄膜層と板状成形体を引き剥して接着剤を露出さ
せ、適当な溶媒にそれを溶かした試料を作製し、その赤
外分光(IR)をとることによりなされる。銀薄膜層及
び板状形成体の材料分析は、蛍光X線分光(XRF)に
よりできる。さらに、X線マイクロアナライザ(EPM
A)では蛍光X線分光より微細な部分の元素分析が行え
る。また、銀薄膜層の形成された高分子フィルムを、接
着層から引き剥し銀薄膜層を露出させれば、オージェ電
子分光(AES)により組成分析、及び深さプロファイ
ルをとることで厚さも知ることができる。透明高分子フ
ィルムの誘電率及び誘電正接は、JIS−K−6911
に準じた方法で測定できる。なお、より精度を求めるな
らば相互誘導ブリッジ法(変成器ブリッジ法)、簡便に
は電圧上昇比率法(Qメータ法)が用いられる。以下、
実施例により本発明の実施の態様の一例を説明する。
The structure of the silver reflector according to the present invention and a typical method for evaluating the electrical characteristics will be described below. The thickness of each part of the transparent polymer film, the silver thin film layer, the adhesive layer, and the plate-like molded body can be directly measured by observing the cross section with a transmission electron microscope (TEM). Material analysis of polymer film
This can be done by infrared spectroscopy (IR). The material analysis of the adhesive is performed by peeling off the silver thin film layer and the plate-like molded body, exposing the adhesive, preparing a sample in which the adhesive is dissolved in an appropriate solvent, and taking an infrared spectrum (IR) thereof. Done. Material analysis of the silver thin film layer and the plate-like formed body can be performed by X-ray fluorescence spectroscopy (XRF). Furthermore, an X-ray microanalyzer (EPM
In A), elemental analysis of a finer part than X-ray fluorescence spectroscopy can be performed. In addition, if the polymer film on which the silver thin film layer is formed is peeled from the adhesive layer to expose the silver thin film layer, the composition can be analyzed by Auger electron spectroscopy (AES) and the thickness can be determined by taking a depth profile. Can be. The dielectric constant and the dielectric loss tangent of the transparent polymer film are determined according to JIS-K-6911.
It can be measured by a method according to. If more accuracy is required, a mutual induction bridge method (transformer bridge method), or more simply, a voltage rise ratio method (Q meter method) is used. Less than,
An example of an embodiment of the present invention will be described with reference to an example.

【0024】[0024]

【実施例】以下、実施例により本発明の実施の態様の一
例を説明する。なお、実施例に記載された全光線透過
率、反射率及び誘電正接は以下に記載する機器ないし方
法で測定した。 全光線透過率、反射率:分光光度計(日立U−340
0)で測定した。 誘電正接:JIS−K−6911によるところの電圧上
昇比率法(Qメータ法)により測定した。測定は室温で
行い、測定周波数は1MHz、5回の測定値の平均をと
った。
EXAMPLES Examples of the embodiments of the present invention will be described below with reference to examples. In addition, the total light transmittance, the reflectance, and the dielectric loss tangent described in the examples were measured by the following devices and methods. Total light transmittance, reflectance: spectrophotometer (Hitachi U-340
0). Dielectric tangent: Measured by a voltage rise ratio method (Q-meter method) according to JIS-K-6911. The measurement was performed at room temperature, and the measurement frequency was 1 MHz, and the average of five measurements was taken.

【0025】以下、実施例1〜5,比較例1〜3におけ
る写真撮影用のストロボは、図2及び図3に概略図とし
て示したようなものである。ここで図2はキセノン管に
銀反射板を接触させたストロボ構造の断面を示し、図3
はキセノン管に銀反射板を接触させたストロボ構造の発
光面の裏側から見た図を示している。念のため、図にお
いて、10はキセノンランプ、20は銀反射板、30は
トリガ端子である。なお、図4はストロボを発光させる
ための発光回路である。キセノンランプに電界コンデサ
で充電した電圧を印加し、発光を誘起するためにトリガ
端子に高電圧、高周波のトリガを印加する。ここで、キ
セノンランプにかかる電圧、トリガ端子にかかる電圧及
び周波数は、キセノンランプを発光させ得る適当な値に
設定すればよい。
Hereinafter, the strobe for photographing in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 is as schematically shown in FIGS. 2 and 3. Here, FIG. 2 shows a cross section of a strobe structure in which a silver reflector is brought into contact with a xenon tube, and FIG.
Shows a view from the back side of the light emitting surface of the strobe structure in which a silver reflector is brought into contact with a xenon tube. As a precautionary measure, 10 is a xenon lamp, 20 is a silver reflector, and 30 is a trigger terminal. FIG. 4 shows a light emitting circuit for emitting a flash. The voltage charged by the electric field capacitor is applied to the xenon lamp, and a high-voltage, high-frequency trigger is applied to the trigger terminal to induce light emission. Here, the voltage applied to the xenon lamp, the voltage applied to the trigger terminal, and the frequency may be set to appropriate values that allow the xenon lamp to emit light.

【0026】実施例1 ポリプロピレンフィルム(厚さ50μm 、全光線透過率
=87%、1MHzにおける誘電正接=0.0003)
に電子ビーム真空蒸着法で、純度99.9%の銀を蒸着
した。水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したとこ
ろ、100nmであった。そのフィルムの銀側とアルミ
ニウム板とをポリエステル系ホットメルト型接着剤で接
着し、銀反射板を形成した。その反射率は94.6%で
あった。それを板金加工によってストロボ反射体用傘と
し、キセノンランプとポリプロピレンフィルム側を接触
させて固定、ストロボ発光回路のトリガ端子を銀反射板
のアルミニウム板に接続することで、写真撮影用のスト
ロボを形成した。
Example 1 Polypropylene film (50 μm thick, total light transmittance = 87%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0003)
Was deposited with a purity of 99.9% by electron beam vacuum evaporation. When the thickness of the silver layer was measured with a quartz crystal film thickness monitor, it was 100 nm. The silver side of the film and the aluminum plate were bonded with a polyester hot melt adhesive to form a silver reflector. Its reflectance was 94.6%. It is used as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, the xenon lamp and the polypropylene film side are fixed in contact, and the trigger terminal of the strobe light emission circuit is connected to the aluminum plate of the silver reflector to form a strobe for photography. did.

【0027】実施例2 ポリエチレンフィルム(厚さ25μm 、全光線透過率=
88%、1MHzにおける誘電正接=0.0005)に
DCマグネトロンスパッタ法で、純度99.9%の銀を
ターゲットとし、純度99.5%のアルゴンをスパッタ
ガスとしてフィルム上に150nmになるように形成し
た。そのフィルムの銀側とステンレス板とをポリエステ
ル系ホットメルト型接着剤で接着し、銀反射板を形成し
た。その反射率は95.3%であった。それを板金加工
によってストロボ反射体用傘とし、キセノンランプと銀
反射板のポリエチレンフィルム側を接触させて固定、ス
トロボ発光回路のトリガ端子を銀反射板のステンレス板
に接続することで、写真撮影用のストロボを形成した。
Example 2 Polyethylene film (25 μm thick, total light transmittance =
88%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0005), formed by DC magnetron sputtering using a 99.9% pure silver as a target and a 99.5% pure argon as a sputter gas to a thickness of 150 nm on the film. did. The silver side of the film and the stainless steel plate were bonded with a polyester hot melt type adhesive to form a silver reflection plate. Its reflectivity was 95.3%. It is used as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, the xenon lamp and the polyethylene film side of the silver reflector are brought into contact and fixed, and the trigger terminal of the strobe light emitting circuit is connected to the stainless steel plate of the silver reflector, for photographing A strobe was formed.

【0028】実施例3 ポリカーボネートフィルム(厚さ50μm 、全光線透過
率=88%、1MHzにおける誘電正接=0.001)
に電子ビーム真空蒸着法で、純度99.9%の銀を蒸着
した。水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したとこ
ろ120nmであった。そのフィルムの銀側と剛亜鉛合
金板とをエポキシ系接着剤で接着し、銀反射板を形成し
た。その反射率は95.0%であった。それを板金加工
によってストロボ反射体用傘とし、キセノンランプと銀
反射板のポリカーボネートフィルム側を接触させて固
定、ストロボ発光回路のトリガ端子を銀反射板の鋼亜鉛
合金板に接続することで、写真撮影用のストロボを形成
した。
Example 3 Polycarbonate film (50 μm thickness, total light transmittance = 88%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.001)
Was deposited with a purity of 99.9% by electron beam vacuum evaporation. The thickness of the silver layer was measured with a quartz film thickness monitor and found to be 120 nm. The silver side of the film and the hard zinc alloy plate were bonded with an epoxy adhesive to form a silver reflector. Its reflectance was 95.0%. It is made into an umbrella for a strobe reflector by sheet metal processing, the xenon lamp and the polycarbonate film side of the silver reflector are fixed in contact, and the trigger terminal of the strobe light emitting circuit is connected to the steel zinc alloy plate of the silver reflector, A flash for photography was formed.

【0029】実施例4 ポリスチレンフィルム(厚さ50μm 、全光線透過率=
88%、1MHzにおける誘電正接=0.0003)に
DCスパッタリング法で、純度99.9%の銀をターゲ
ットとし、スパッタガスとして純度99.5%のアルゴ
ンを用い、フィルム上に120nmになるように形成し
た。そのフィルムの銀側とアルミニウム板とをエポキシ
系接着剤で接着し、銀反射板を形成した。その反射率は
94.2%であった。それを板金加工によってストロボ
反射体用傘とし、キセノンランプと銀反射板のポリスチ
レンフィルム側を接触させて固定、ストロボ発光回路の
トリガ端子を銀反射板のアルミニウム板に接続すること
で、写真撮影用のストロボを形成した。
Example 4 Polystyrene film (50 μm thick, total light transmittance =
88%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0003) by DC sputtering, using 99.9% pure silver as a target, and using 99.5% pure argon as a sputtering gas, so that the thickness becomes 120 nm on the film. Formed. The silver side of the film and the aluminum plate were adhered with an epoxy adhesive to form a silver reflector. Its reflectance was 94.2%. It is made into an umbrella for a strobe reflector by sheet metal processing, and the xenon lamp and the polystyrene film side of the silver reflector are contacted and fixed, and the trigger terminal of the strobe light emitting circuit is connected to the aluminum plate of the silver reflector for photography. A strobe was formed.

【0030】実施例5 ポリカーボネートフィルム(厚さ50μm 、全光線透過
率=88%、誘電正接=0.0025)にDCマグネト
ロンスパッタ法で、純度99.9%の銀をターゲットと
し、純度99.5%のアルゴンをスパッタガスとしてフ
ィルム上に120nmになるように成膜した。そのフィ
ルムの銀側と鋼亜鉛合金板とをポリエステル系ホットメ
ルト型接着剤で接着し、銀反射板を形成した。その反射
率は95.3%であった。それを板金加工によってスト
ロボ反射体用傘とし、キセノンランプと銀反射板のポリ
カーボネートフィルム側を接触させて固定、ストロボ発
光回路のトリガ端子を銀反射板の鋼亜鉛合金板に接続す
ることで、写真撮影用のストロボを形成した。
Example 5 A polycarbonate film (thickness: 50 μm, total light transmittance: 88%, dielectric loss tangent: 0.0025) was subjected to a DC magnetron sputtering method using silver having a purity of 99.9% as a target, and a purity of 99.5. % Argon was used as a sputtering gas to form a film on the film to a thickness of 120 nm. The silver side of the film and the steel zinc alloy plate were bonded with a polyester hot melt type adhesive to form a silver reflector. Its reflectivity was 95.3%. It is made into an umbrella for a strobe reflector by sheet metal processing, the xenon lamp and the polycarbonate film side of the silver reflector are fixed in contact, and the trigger terminal of the strobe light emitting circuit is connected to the steel zinc alloy plate of the silver reflector, A flash for photography was formed.

【0031】比較例1 ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ50μm 、
全光線透過率=88%、1MHzにおける誘電正接=
0.005)にDCスパッタリング法で、純度99.9
%の銀をターゲットとし、純度99.5%のアルゴンを
スパッタガスとしてフィルム上に120nmになるよう
に形成した。そのフィルムの銀側とアルミニウム板とを
ポリエステル系ホットメルト型接着剤で接着し、銀反射
板を形成した。その反射率は95.5%であった。それ
を板金加工によってストロボ反射体用傘とし、キセノン
ランプと銀反射板のポリエチレンテレフタレートフィル
ム側を接触させて固定、ストロボ発光回路のトリガ端子
を銀反射板のアルミニウム板に接続することで、写真撮
影用のストロボを形成した。
Comparative Example 1 A polyethylene terephthalate film (50 μm thick,
Total light transmittance = 88%, dielectric tangent at 1 MHz =
0.005) by DC sputtering method, with a purity of 99.9.
% Of silver as a target, and a sputtering gas of 99.5% purity of argon was formed on the film to have a thickness of 120 nm. The silver side of the film and the aluminum plate were bonded with a polyester hot melt adhesive to form a silver reflector. Its reflectivity was 95.5%. It is made into an umbrella for a strobe reflector by sheet metal processing, the xenon lamp and the polyethylene terephthalate film side of the silver reflector are fixed by contact, and the trigger terminal of the strobe light emitting circuit is connected to the aluminum plate of the silver reflector, taking a picture Strobe was formed.

【0032】比較例2 ポリエチレンナフタレートフィルム(厚さ50μm 、全
光線透過率=84%、1MHzにおける誘電正接=0.
003)に電子ビーム真空蒸着法で、純度99.9%の
銀を蒸着した。水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定
したところ100nmであった。そのフィルムの銀側と
ステンレス板とをエポキシ系接着剤で接着し、銀反射板
を形成した。その反射率は94.9%であった。それを
板金加工によってストロボ反射体用傘とし、キセノンラ
ンプと銀反射板のポリエチレンナフタレートフィルム側
を接触させて固定、ストロボ発光回路のトリガ端子を銀
反射板のステンレス板に接続することで、写真撮影用の
ストロボを形成した。
Comparative Example 2 Polyethylene naphthalate film (thickness: 50 μm, total light transmittance = 84%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.
In 003), silver having a purity of 99.9% was deposited by an electron beam vacuum deposition method. The thickness of the silver layer was measured with a quartz crystal film thickness monitor to be 100 nm. The silver side of the film and the stainless steel plate were adhered with an epoxy adhesive to form a silver reflector. Its reflectance was 94.9%. This is made into a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, and the xenon lamp and the polyethylene naphthalate film side of the silver reflector are contacted and fixed.The trigger terminal of the strobe light emitting circuit is connected to the stainless steel plate of the silver reflector. A flash for photography was formed.

【0033】比較例3 ポリエーテルサルフォンフィルム(厚さ25μm 、全光
線透過率=88%、誘電正接=0.005)に電子ビー
ム真空蒸着法で、純度99.9%の銀を蒸着した。水晶
式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したところ90nm
であった。そのフィルムの銀側とアルミニウム板とをポ
リエステル系ホットメルト型接着剤で接着し、銀反射板
を形成した。その反射率は95.1%であった。それを
板金加工によってストロボ反射体用傘とし、キセノンラ
ンプと銀反射板のポリエーテルサルフォンフィルム側を
接触させて固定、ストロボ発光回路のトリガ端子を銀反
射板のアルミニウム板に接続することで、写真撮影用の
ストロボを形成した。
Comparative Example 3 Silver having a purity of 99.9% was vapor-deposited on a polyethersulfone film (thickness 25 μm, total light transmittance = 88%, dielectric loss tangent = 0.005) by an electron beam vacuum vapor deposition method. When the film thickness of the silver layer was measured with a quartz crystal film thickness monitor, it was 90 nm.
Met. The silver side of the film and the aluminum plate were bonded with a polyester hot melt adhesive to form a silver reflector. Its reflectance was 95.1%. By making it into a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixing the xenon lamp and the silver reflector with the polyether sulfone film side in contact, connecting the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the aluminum plate of the silver reflector, A strobe for photography was formed.

【0034】実施例1〜5及び比較例1〜3において形
成した、写真撮影用ストロボを、図4でもって説明した
ストロボ回路に組み込み、キセノンランプに印加する電
圧を320V、トリガ端子に印加する電圧をピーク−ピ
ーク値で15kV、周波数1MHzに設定し、キセノン
ランプを30秒間隔で繰り返し発光させ、耐久試験を行
い表1の結果を得た。
The strobe for photographing formed in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 is incorporated in the strobe circuit described with reference to FIG. 4, the voltage applied to the xenon lamp is 320 V, and the voltage applied to the trigger terminal is 320 V. Was set at a peak-to-peak value of 15 kV and a frequency of 1 MHz, a xenon lamp was repeatedly emitted at intervals of 30 seconds, and a durability test was performed. The results shown in Table 1 were obtained.

【0035】[0035]

【表1】 表中記号は ○:異常なし ×:黒化した[Table 1] Symbols in the table are ○: No abnormality ×: Blackened

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明にかかる実施例1〜5が、従来銀
反射板として用いられていた比較例1〜3に比べてスト
ロボ発光に対する耐久性が格段に優れていることは、前
者が50回の発光に対してなんら異常を示していないの
に対し、後者が10〜50回の発光ですでに黒化してい
るという実験結果から明らかである。なお、実施例1〜
3については300回の発光に対してさえも黒化しなか
ったことを申し添える次第である。すなわち、本発明に
従えば、ストロボの銀反射体に好適に用いることができ
る優れた銀反射板を提供することができる。
The fact that Examples 1 to 5 according to the present invention are far superior in durability against strobe light emission as compared with Comparative Examples 1 to 3 which have been conventionally used as a silver reflection plate is that the former is 50%. It is clear from the experimental results that no abnormalities are shown for the one light emission, whereas the latter is already darkened by 10 to 50 light emission. In addition, Examples 1 to
It is to be noted that the sample No. 3 did not blacken even after 300 light emission. That is, according to the present invention, it is possible to provide an excellent silver reflector that can be suitably used for a silver reflector of a strobe.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】反射板の断面構造を示す図FIG. 1 is a diagram showing a sectional structure of a reflector.

【図2】キセノン管に銀反射板を接触させたストロボ構
造の断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view of a strobe structure in which a silver reflector is brought into contact with a xenon tube.

【図3】キセノン管に銀反射板を接触させたストロボ構
造の発光面の裏側から見た図
FIG. 3 is a view from the back side of a light emitting surface of a strobe structure in which a silver reflector is brought into contact with a xenon tube.

【図4】ストロボ発光回路を示す図FIG. 4 is a diagram showing a strobe light emitting circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

01 透明高分子フィルム 02 銀薄膜層 03 接着層 04 板状成形体 10 キセノンランプ 20 銀反射板 30 トリガ端子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 01 Transparent polymer film 02 Silver thin film layer 03 Adhesive layer 04 Plate-shaped molded object 10 Xenon lamp 20 Silver reflector 30 Trigger terminal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−191205(JP,A) 特開 平7−32537(JP,A) 特開 平7−32536(JP,A) 特開 平4−177758(JP,A) 特開 平2−169244(JP,A) 特開 平1−279202(JP,A) 特開 平1−279201(JP,A) 特開 昭54−62843(JP,A) 実開 昭58−7125(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B32B 15/08 G02B 5/08 G03B 15/02 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP-A-7-191205 (JP, A) JP-A-7-32537 (JP, A) JP-A-7-32536 (JP, A) JP-A-4- 177758 (JP, A) JP-A-2-169244 (JP, A) JP-A-1-279202 (JP, A) JP-A-1-279201 (JP, A) JP-A-54-62843 (JP, A) 58-125 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B32B 15/08 G02B 5/08 G03B 15/02

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくとも、透明高分子フィルム
(A)、銀薄膜層(B)、接着層(C)および板状成形
体(D)が、ABCDの順に層形成された、Aの面が反
射面である反射板にして、該透明高分子フィルム(A)
の100kHz〜10MHzの高周波に対する誘電正接
が0.0025以下である銀反射板。
At least the transparent polymer film (A), the silver thin film layer (B), the adhesive layer (C) and the plate-like molded body (D) are formed in the order of ABCD, and the surface of A is reflected. A transparent polymer film (A)
A silver reflector having a dielectric loss tangent to a high frequency of 100 kHz to 10 MHz of 0.0025 or less.
【請求項2】 透明高分子フィルム(A)の常用耐熱性
が、80℃以上である請求項1に記載の銀反射板。
2. The silver reflector according to claim 1, wherein the transparent polymer film (A) has a normal heat resistance of 80 ° C. or higher.
【請求項3】 透明高分子フィルム(A)が、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、もしくはポ
リスチレンである、請求項1に記載の銀反射板。
3. The silver reflector according to claim 1, wherein the transparent polymer film (A) is polyethylene, polypropylene, polycarbonate, or polystyrene.
【請求項4】 透明高分子フィルム(A)の波長400
nmから750nmの範囲の光線に対する透過率が80
%以上である請求項1に記載の銀反射板。
4. The wavelength 400 of the transparent polymer film (A).
80 for light in the range of
% Or more.
【請求項5】 銀薄膜層(B)がスパッタリング法もし
くは真空蒸着法で形成される請求項1〜4の何れかに記
載の銀反射板。
5. The silver reflector according to claim 1, wherein the silver thin film layer (B) is formed by a sputtering method or a vacuum evaporation method.
【請求項6】 板状成形体(D)がアルミニウム、アル
ミ合金、ステンレス鋼、銅亜鉛合金および鋼から選ばれ
たものである請求項1〜5の何れかに記載の銀反射板。
6. The silver reflection plate according to claim 1, wherein the plate-shaped formed body (D) is selected from aluminum, aluminum alloy, stainless steel, copper zinc alloy and steel.
【請求項7】 波長450nm〜750nmの範囲の光
線に対する反射率が93%以上である請求項1〜6の何
れかに記載の銀反射板。
7. The silver reflector according to claim 1, which has a reflectivity of 93% or more for light rays having a wavelength in the range of 450 nm to 750 nm.
【請求項8】 銀薄膜層(B)の膜厚が70nm〜30
0nmである請求項1〜7の何れかに記載の銀反射板。
8. The silver thin film layer (B) has a thickness of 70 nm to 30 nm.
The silver reflector according to any one of claims 1 to 7, which has a thickness of 0 nm.
【請求項9】 請求項1〜8の何れかに記載の銀反射板
を傘状に加工形成してなるストロボ用反射傘。
9. A strobe reflecting umbrella obtained by processing the silver reflecting plate according to claim 1 into an umbrella shape.
JP02081294A 1994-02-18 1994-02-18 Reflector and reflector for strobe using the same Expired - Lifetime JP3300518B2 (en)

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