JP3312992B2 - Interference surface correction jig for light wave interference measurement of block gauge size - Google Patents
Interference surface correction jig for light wave interference measurement of block gauge sizeInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ブロックゲージの寸法
を光波干渉測定により求める際に使用されるブロックゲ
ージの干渉面補正治具に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a jig for correcting an interference surface of a block gauge, which is used when determining the size of the block gauge by light wave interference measurement.
【0002】[0002]
【背景技術】ブロックゲージの寸法測定は原則として光
波干渉測定により求められることがJISB7506に規定され
ている。このJISB7506によれば、ブロックゲージの測定
面と、このブロックゲージが密着(リンギング)された
基準平面を有する基準ブロックとの双方に光を照射し、
これらのブロックゲージの測定面及び基準平面から反射
した光を利用して測定面と基準平面との間の距離をブロ
ックゲージ寸法として測定する。ここで、前記測定面及
び基準平面は、測定に際しては干渉面として作用する。
前記ブロックゲージの材質は一般的にスチール又はセラ
ミックであるが、JISB7506では、ブロックゲージと基準
ブロックとは同材質と規定されている。しかし、前記ブ
ロックゲージと基準平面との密着状態の良否は寸法測定
結果に影響を与えるため、ブロックゲージが基準平面に
確実に密着されているか否かを確認する必要がある。そ
こで、実際には、基準ブロックは、その裏面から目視に
よってブロックゲージと基準平面との密着状態が確認で
きるように合成石英等から略透明に形成されている。BACKGROUND ART It is stipulated in JISB7506 that the dimension measurement of a block gauge is basically determined by light wave interference measurement. According to this JISB7506, both the measurement surface of the block gauge and a reference block having a reference plane to which the block gauge is closely attached (ringed) are irradiated with light,
The distance between the measurement surface and the reference plane is measured as the block gauge size using the light reflected from the measurement surface and the reference plane of these block gauges. Here, the measurement surface and the reference plane act as interference surfaces during measurement.
The material of the block gauge is generally steel or ceramic, but JISB7506 stipulates that the block gauge and the reference block are the same material. However, since the quality of the close contact between the block gauge and the reference plane affects the dimension measurement result, it is necessary to check whether the block gauge is securely adhered to the reference plane. Therefore, in practice, the reference block is made of synthetic quartz or the like so as to be substantially transparent so that the adherence between the block gauge and the reference plane can be visually confirmed from the back surface.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ブロックゲージと基準
平面との密着は作業員の手作業で行われ、この作業時に
は、作業員の体温の影響でブロックゲージ及び基準ブロ
ックは温度上昇し、その状態で両者は密着される。しか
し、ブロックゲージ及び基準ブロックの温度上昇は好ま
しくはないので、一定時間、温度慣らしによって室温
(20℃前後)に近づけた後に測定を行う。ブロックゲー
ジと基準ブロックとは材質が異なり、その線膨張係数も
相違するので、光波干渉測定を行う際には、ブロックゲ
ージ及び基準ブロックに熱応力歪みが発生し、測定面及
び基準平面の平面度が劣化してブロックゲージ寸法の精
密測定が十分に行われていないという問題点がある。The close contact between the block gauge and the reference plane is performed manually by an operator. During this operation, the temperature of the block gauge and the reference block rises due to the influence of the worker's body temperature, and the state is increased. The two are brought into close contact. However, since the temperature rise of the block gauge and the reference block is not preferable, the measurement is performed after the temperature is brought close to room temperature (about 20 ° C.) for a certain period of time. Since the block gauge and the reference block are made of different materials and have different coefficients of linear expansion, when performing light wave interference measurement, thermal stress distortion occurs in the block gauge and the reference block, and the flatness of the measurement surface and the reference plane is measured. However, there is a problem that the precision measurement of the block gauge dimension is not sufficiently performed due to deterioration of the gauge.
【0004】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、その目的は、ブロックゲージの測定面と基準ブ
ロックの基準平面との平面度の劣化を回復してブロック
ゲージ寸法の精密測定が行え、かつ、干渉面補正時に基
準平面とブロックゲージとの密着面に与える損傷を小さ
くできるブロックゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補
正治具を提供することにある。本発明の異なる目的は、
前記目的に加え、基準平面とブロックゲージとの密着が
外れることがないブロックゲージ寸法の光波干渉測定用
干渉面補正治具を提供することにある。The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to accurately measure the dimensions of a block gauge by recovering the deterioration of the flatness between the measurement surface of the block gauge and the reference plane of the reference block. It is an object of the present invention to provide an interference surface correction jig for light wave interference measurement having a block gauge dimension that can be performed and can reduce damage to a contact surface between a reference plane and a block gauge at the time of correcting an interference surface. Different objects of the invention are:
In addition to the above object, an object of the present invention is to provide an interference plane correction jig for light wave interference measurement having a block gauge dimension that does not cause the close contact between the reference plane and the block gauge.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、基準ブロック
とブロックゲージとを密着状態を維持しながら圧電素子
により基準平面内で相対移動可能にして前記目的を達成
しようとするものである。具体的には、本発明のブロッ
クゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具は、それ
ぞれ異なる材質から形成されたブロックゲージ及び基準
ブロックを使用し、この基準ブロックの基準平面に密着
された前記ブロックゲージの寸法を求めるための光波干
渉測定に用いられる干渉面補正治具であって、前記基準
ブロックを保持する基準ブロック保持手段と、前記ブロ
ックゲージを保持するブロックゲージ保持手段と、これ
らのブロックゲージ保持手段及び基準ブロック保持手段
の少なくとも一方に設けられ前記ブロックゲージと前記
基準ブロックとを密着状態を維持しながら前記基準平面
内で相対移動させる圧電素子とを備えたことを特徴とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to achieve the above object by making a reference block and a block gauge relatively movable in a reference plane by a piezoelectric element while maintaining a close contact state. Specifically, the interference surface correction jig for light wave interference measurement of the block gauge dimensions of the present invention uses a block gauge and a reference block formed of different materials, respectively, and is in close contact with a reference plane of the reference block. An interference surface correction jig used for light wave interference measurement for determining the size of a block gauge, a reference block holding means for holding the reference block, a block gauge holding means for holding the block gauge, and these blocks A piezoelectric element provided on at least one of the gauge holding means and the reference block holding means for relatively moving the block gauge and the reference block within the reference plane while maintaining a close contact state.
【0006】ここで、前記圧電素子は制御手段から印加
電圧信号が送られるが、この印加電圧信号は、矩形波状
のもの、あるいは、時間経過に伴って階段状に大きくな
るものでもよい。また、前記圧電素子は前記ブロックゲ
ージ保持手段に設けられ、前記基準ブロック保持手段
は、前記基準ブロックのブロックゲージ押圧方向の移動
を規制するストッパ機構を備えた構造でもよい。このス
トッパ機構は、ストッパブロックと、このストッパブロ
ックと前記基準ブロックとの間に配置され前記圧電素子
の往復振動方向と直交しかつ前記基準平面と同一平面内
で移動自在とされた基準ブロック保持部材とを備え、こ
の基準ブロック保持部材には前記基準ブロックの側面と
一致するガイドが形成されているものでもよい。さら
に、前記圧電素子は前記ブロックゲージ保持手段を介し
て直方体のブロックゲージの短辺側面を押圧可能として
いる構造でもよい。前記ブロックゲージ保持手段は、先
細りのテーパ部を有するとともにこのテーパ部の先端が
前記ブロックゲージの前記基準平面の近傍を押圧する作
動板を備えた構造でもよい。前記基準ブロック保持手段
及び前記ブロックゲージ保持手段の少なくとも一方は、
前記基準ブロックのブロックゲージ側の移動を規制する
基準ブロック移動規制部材を備えた構成でもよい。Here, an applied voltage signal is sent from the control means to the piezoelectric element, and the applied voltage signal may be a rectangular wave-like signal or a step-like signal with time. Further, the piezoelectric element may be provided in the block gauge holding means, and the reference block holding means may have a structure including a stopper mechanism for restricting movement of the reference block in the block gauge pressing direction. The stopper mechanism includes a stopper block, and a reference block holding member disposed between the stopper block and the reference block, the reference block holding member being orthogonal to the reciprocating vibration direction of the piezoelectric element and movable in the same plane as the reference plane. The reference block holding member may have a guide formed so as to coincide with a side surface of the reference block. Further, the piezoelectric element may have a structure in which the short side surface of the rectangular parallelepiped block gauge can be pressed via the block gauge holding means. The block gauge holding means may have a structure having a tapered portion with a taper and an operating plate whose tip end presses the block gauge in the vicinity of the reference plane. At least one of the reference block holding means and the block gauge holding means,
A configuration may be provided that includes a reference block movement restricting member that restricts the movement of the reference block on the block gauge side.
【0007】[0007]
【作用】ブロックゲージ寸法の光波干渉測定を行うた
め、まず、作業員が手作業によりブロックゲージを基準
ブロックの基準平面に密着させる。ブロックゲージと基
準平面との密着状態を基準ブロックの裏面から目視する
ことにより確認する。ブロックゲージと基準ブロックの
基準平面との密着作業に伴いこれらの部材に作業員の体
温が伝達するので、一定時間、温度慣らしによって室温
(20℃前後)に近づける。温度慣らしが終了して所定時
間経過したらブロック寸法の測定を行うが、その測定に
先立ち干渉面補正治具を使用する。即ち、温度慣らし等
により温度変化が生じ、ブロックゲージ及び基準ブロッ
クに熱応力歪みが発生する。この熱応力歪みに起因して
測定面及び基準平面の平面度が劣化するが、これを回復
するために圧電素子に印加電圧信号を送る。In order to measure the light wave interference of a block gauge, first, an operator manually brings the block gauge into close contact with the reference plane of the reference block. The close contact between the block gauge and the reference plane is confirmed by visual observation from the back surface of the reference block. Since the body temperature of the worker is transmitted to these members as the block gauge and the reference plane of the reference block are brought into close contact with each other, the temperature is brought close to room temperature (around 20 ° C.) for a certain period of time. After a lapse of a predetermined time after the end of the temperature break-in, the block size is measured. Before the measurement, an interference surface correction jig is used. That is, a temperature change occurs due to temperature break-in or the like, and thermal stress distortion occurs in the block gauge and the reference block. Although the flatness of the measurement plane and the reference plane deteriorates due to the thermal stress distortion, an applied voltage signal is sent to the piezoelectric element in order to recover the deterioration.
【0008】これにより、ブロックゲージ保持手段及び
基準ブロック保持手段を介してブロックゲージと基準ブ
ロックとは前記基準平面内で密着状態が維持されながら
相対的にずれることになり、ブロックゲージ及び基準ブ
ロックに発生した熱応力歪みが開放されて適正な平面度
に補正される。ここで、圧電素子によりブロックゲージ
と基準ブロックとを相対移動させる距離は、0.05〜0.1m
m である。0.1mm を越えると、両者の密着は外れて適正
なブロックゲージ寸法の測定が行えず、干渉面補正時に
基準平面とブロックゲージとの密着面に大きな損傷を与
えることになる場合がある。干渉面補正治具によって、
基準平面とブロックゲージの測定面との平面度が補正さ
れたら、JISB7506に従って、ブロックゲージの測定面
と、このブロックゲージが密着される基準平面との双方
に光を照射し、これらの測定面及び基準平面から反射し
た光を利用して測定面と基準平面との間の距離をブロッ
クゲージ寸法として測定する。Accordingly, the block gauge and the reference block are relatively displaced via the block gauge holding means and the reference block holding means while maintaining a close contact state in the reference plane. The generated thermal stress strain is released and corrected to an appropriate flatness. Here, the distance by which the block gauge and the reference block are relatively moved by the piezoelectric element is 0.05 to 0.1 m.
m. If the thickness exceeds 0.1 mm, the contact between the two will come off, making it impossible to measure the appropriate block gauge dimensions, and may result in significant damage to the contact surface between the reference plane and the block gauge at the time of correcting the interference surface. By the interference surface correction jig
When the flatness between the reference plane and the measurement surface of the block gauge is corrected, in accordance with JISB7506, light is applied to both the measurement surface of the block gauge and the reference plane on which the block gauge is in close contact, and these measurement surfaces and Using the light reflected from the reference plane, the distance between the measurement plane and the reference plane is measured as a block gauge dimension.
【0009】[0009]
【実施例】以下に、本発明に係るブロックゲージ寸法の
光波干渉測定用干渉面補正治具の好適な実施例を挙げ、
添付図面を参照しながら詳細に説明する。図1は一実施
例に係る干渉面補正治具を示す正面図であり、図2はそ
の平面図であり、図3は図1のIII-III 線に沿う矢視断
面図である。図1及び図2において、干渉面補正治具
は、円柱状の基準ブロック1を保持する基準ブロック保
持手段2と、前記基準ブロック1の上に配置されたブロ
ックゲージ3を保持するブロックゲージ保持手段4と、
このブロックゲージ保持手段4に設けられるとともにこ
のブロックゲージ保持手段4を介してブロックゲージ3
を押圧する圧電素子18と、この圧電素子18に印加電
圧信号を送る制御手段20とを備えて構成されている。
前記基準ブロック1は、合成石英等の略透明な材料から
形成されており、その上端面は平面度の高い基準平面1
Aとされている。この基準平面1Aに前記ブロックゲー
ジ3が密着(リンギング)されている。このブロックゲ
ージ3は、スチール、セラミック等、前記基準ブロック
1とは異なる材質から直方体に形成されている。このブ
ロックゲージ3の前記基準平面1Aと対向する面とこの
面とは反対側の面とは測定面3Aとされ、これらの測定
面3Aの間の距離がブロックゲージ寸法とされる。ま
た、JISB7506に規定されるブロックゲージ寸法の光波干
渉測定に際しては、前記基準平面1Aと測定面3Aとは
干渉面として作用する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of an interference surface correcting jig for measuring light wave interference with a block gauge according to the present invention will be described below.
This will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a front view showing an interference surface correcting jig according to an embodiment, FIG. 2 is a plan view thereof, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 1 and 2, an interference surface correction jig includes a reference block holding means 2 for holding a cylindrical reference block 1, and a block gauge holding means for holding a block gauge 3 disposed on the reference block 1. 4 and
The block gauge 3 is provided on the block gauge holding means 4 and is provided through the block gauge holding means 4.
And a control means 20 for sending an applied voltage signal to the piezoelectric element 18.
The reference block 1 is formed of a substantially transparent material such as synthetic quartz, and has an upper end surface having a high flatness.
A. The block gauge 3 is in close contact (ringing) with the reference plane 1A. The block gauge 3 is formed in a rectangular parallelepiped from a material different from the reference block 1, such as steel or ceramic. The surface of the block gauge 3 facing the reference plane 1A and the surface opposite to this surface are defined as measurement surfaces 3A, and the distance between the measurement surfaces 3A is defined as the block gauge size. Further, when measuring the light wave interference of the block gauge size specified in JISB7506, the reference plane 1A and the measurement surface 3A act as interference surfaces.
【0010】前記基準ブロック保持手段2は、平板状の
ベースブロック6と、このベースブロック6の上に設け
られるとともに前記基準ブロック1の下端面を支持する
ベースプレート基板7と、前記基準ブロック1のブロッ
クゲージ押圧方向の移動を規制するストッパ機構8と、
前記ベースブロック6の一端部にマイクロメータヘッド
保持ブロック9を介して取り付けられたマイクロメータ
ヘッド5とを備えた構造である。このマイクロメータヘ
ッド5は、目盛りが形成された本体5Aと前記圧電素子
18に当接可能なスピンドル5Bとを備えた構造であ
る。前記ベースプレート基板7は、その中央部に孔7A
が形成され、この孔7Aの内径は前記基準ブロック1の
外径より小さく形成されている(図3参照)。前記スト
ッパ機構8は、前記ベースブロック6の他端部に固定さ
れたストッパブロック10と、このストッパブロック1
0と前記基準ブロック1との間に配置された基準ブロッ
ク保持部材11とを備え、この基準ブロック保持部材1
1は、前記基準平面1Aと同一平面内において前記マイ
クロメータヘッド5のスピンドル5Bの軸線方向と直交
する方向に移動自在とされている。また、基準ブロック
保持部材11の上部には前記基準ブロック1の円周側面
と一致する円弧状のガイド11Aが形成されている。The reference block holding means 2 includes a flat base block 6, a base plate substrate 7 provided on the base block 6 and supporting a lower end surface of the reference block 1, and a block of the reference block 1. A stopper mechanism 8 for regulating movement in the gauge pressing direction,
The structure has a micrometer head 5 attached to one end of the base block 6 via a micrometer head holding block 9. The micrometer head 5 has a structure including a main body 5A on which graduations are formed and a spindle 5B that can contact the piezoelectric element 18. The base plate substrate 7 has a hole 7A at its center.
The inner diameter of the hole 7A is smaller than the outer diameter of the reference block 1 (see FIG. 3). The stopper mechanism 8 includes a stopper block 10 fixed to the other end of the base block 6 and the stopper block 1.
0 and a reference block holding member 11 disposed between the reference block 1 and the reference block holding member 1.
Numeral 1 is movable in a direction perpendicular to the axial direction of the spindle 5B of the micrometer head 5 in the same plane as the reference plane 1A. An arcuate guide 11A is formed on the upper part of the reference block holding member 11 so as to coincide with the circumferential side surface of the reference block 1.
【0011】前記ブロックゲージ保持手段4は、前記ブ
ロックゲージ3を押圧する略平板状の作動板12と、こ
の作動板12の両側下面にボルト13で取り付けられた
作動板ガイド14と、前記作動板12の中央部上面にボ
ルト15で取り付けられた把手16と、前記圧電素子1
8を取り付けるために前記作動板12の側部に設けられ
た圧電素子取付板17とを備えた構成であり、前記スピ
ンドル5Bの軸線に沿って進退可能とされている。図3
に示される通り、2枚の作動板ガイド14及び作動板1
2から前記基準ブロック1を跨ぐ門型形状が形成され、
前記作動板ガイド14の下端面はベースブロック6の上
面に当接され、かつ、前記作動板12の下面は前記基準
ブロック1の基準平面1Aに当接されている。前記把手
16は断熱性の材料、例えば、商品名ジュラコン等から
梯子状に形成されており、作業員の体温を基準ブロック
1及びブロックゲージ3に伝達しにくい構造とされてい
る。また、この把手16は、前記作動板12を基準ブロ
ック側に付勢する重りとしても機能する。ここで、前記
作動板12、作動板ガイド14及び把手16から前記基
準ブロック1のブロックゲージ側の移動を規制する、換
言すれば、前記基準ブロック1の浮き上がりを防止する
基準ブロック移動規制部材19が構成されている。The block gauge holding means 4 includes a substantially flat operating plate 12 for pressing the block gauge 3, an operating plate guide 14 attached to lower surfaces on both sides of the operating plate 12 by bolts 13, A handle 16 attached to an upper surface of a central portion of the piezoelectric element 12 by bolts 15;
And a piezoelectric element mounting plate 17 provided on a side portion of the operation plate 12 for mounting the operation plate 8, and can be advanced and retracted along the axis of the spindle 5B. FIG.
As shown in FIG. 2, the two operation plate guides 14 and the operation plate 1
2 to form a gate-shaped shape that straddles the reference block 1,
The lower end surface of the operation plate guide 14 is in contact with the upper surface of the base block 6, and the lower surface of the operation plate 12 is in contact with the reference plane 1A of the reference block 1. The handle 16 is formed in a ladder shape from a heat-insulating material, for example, Duracon (trade name), and has a structure that does not easily transmit the body temperature of the worker to the reference block 1 and the block gauge 3. The handle 16 also functions as a weight for urging the operation plate 12 toward the reference block. Here, a reference block movement restricting member 19 for restricting the movement of the reference block 1 on the block gauge side from the operation plate 12, the operation plate guide 14 and the handle 16, in other words, preventing the reference block 1 from floating is provided. It is configured.
【0012】図2に示される通り、前記作動板12の中
央部には、前記基準ブロック1上の前記ブロックゲージ
3との干渉を避けるための窓部12Aが形成され、この
窓部12Aの内側には前記ブロックゲージ3の短辺方向
と略同じ幅を有するテーパ部12Bが形成されている。
このテーパ部12Bは、その幅方向が前記マイクロメー
タヘッド5のスピンドル5Bの軸線方向と直交し、か
つ、幅方向の中心がスピンドル5Bの軸線と一致する。
前記作動板12の断面構造が図4に示されている。図4
において、前記テーパ部12Bは先細り形状とされ、そ
の先端は前記ブロックゲージ3の短辺側面の前記基準平
面1Aの近傍を押圧する構造とされている。また、前記
マイクロメータヘッド5は、そのスピンドル5Bの軸線
方向が前記基準平面1Aの上に位置するように高さが調
整されている。前記圧電素子18は、一般的な構造であ
り、その振動方向が前記スピンドル5Bの軸線方向と一
致するように前記圧電素子取付板17に取り付けられて
いる。前記制御手段20が圧電素子18へ送る印加電圧
信号の波形が図5に示されている。制御手段20は、図
5(A)に示される通り、1回の矩形波状の印加電圧信
号や、図5(B)に示される通り、複数回の矩形波状の
印加電圧信号や、図5(C)に示される通り、時間経過
に伴って階段状に大きくなる印加電圧信号を前記圧電素
子18に送るようにされている。As shown in FIG. 2, a window 12A is formed at the center of the operation plate 12 to avoid interference with the block gauge 3 on the reference block 1. Inside the window 12A, Is formed with a tapered portion 12B having substantially the same width as the short side direction of the block gauge 3.
The width direction of the tapered portion 12B is orthogonal to the axis direction of the spindle 5B of the micrometer head 5, and the center in the width direction coincides with the axis line of the spindle 5B.
FIG. 4 shows a sectional structure of the operation plate 12. FIG.
In the above, the tapered portion 12B has a tapered shape, and the tip thereof is configured to press the short side surface of the block gauge 3 near the reference plane 1A. The height of the micrometer head 5 is adjusted so that the axial direction of the spindle 5B is located above the reference plane 1A. The piezoelectric element 18 has a general structure, and is mounted on the piezoelectric element mounting plate 17 such that its vibration direction coincides with the axial direction of the spindle 5B. FIG. 5 shows the waveform of the applied voltage signal sent from the control means 20 to the piezoelectric element 18. The control means 20 may apply one rectangular wave applied voltage signal as shown in FIG. 5A, a plurality of rectangular wave applied voltage signals as shown in FIG. As shown in C), an applied voltage signal that increases in a stepwise manner with time is sent to the piezoelectric element 18.
【0013】次に、ブロックゲージ寸法の光波干渉測定
を行う方法を説明する。まず、作業員が手作業によりブ
ロックゲージ3の一方の測定面3Aを基準ブロック1の
基準平面1Aに密着させる。ブロックゲージ3の測定面
3Aと基準平面1Aとの密着状態を基準ブロック1の裏
面から目視することにより確認する。これらの測定面3
Aと基準平面1Aとの密着作業に伴いブロックゲージ3
及び基準ブロック1に作業員の体温が伝達するので、一
定時間、温度慣らしによって室温(20℃前後)に近づけ
る。温度慣らしが終了して所定時間経過したら、ブロッ
ク寸法の測定を行うが、その測定に先立ち干渉面補正治
具で干渉面である測定面3A及び基準平面1Aの補正を
する。Next, a method for performing light wave interference measurement of a block gauge size will be described. First, an operator manually brings one measurement surface 3A of the block gauge 3 into close contact with the reference plane 1A of the reference block 1. The state of adhesion between the measurement surface 3A of the block gauge 3 and the reference plane 1A is confirmed by visual observation from the back surface of the reference block 1. These measurement surfaces 3
Block gauge 3 due to the close contact work between A and reference plane 1A
Since the body temperature of the worker is transmitted to the reference block 1, the temperature is brought close to room temperature (around 20 ° C.) for a certain period of time. When a predetermined time elapses after the temperature break-in, the block size is measured. Before the measurement, the measurement surface 3A and the reference plane 1A, which are interference surfaces, are corrected by an interference surface correction jig.
【0014】温度慣らし等により温度変化が生じ、ブロ
ックゲージ3及び基準ブロック1に熱応力歪みが発生す
る。この熱応力歪みに起因して測定面3A及び基準平面
1Aの平面度が劣化するが、これを回復するために干渉
面補正治具を使用する。まず、マイクロメータヘッド5
を操作してスピンドル5Bを十分に後退させておき、基
準平面1Aにブロックゲージ3が密着された状態の基準
ブロック1を基準ブロック保持手段2のベースプレート
基板7の上に配置する。その後、基準ブロック1を圧電
素子18が取り付けられたブロックゲージ保持手段4で
覆うようにし、この保持手段4の作動板12の窓12A
内にブロックゲージ3を位置させる。この際、ブロック
ゲージ3は、その短辺側面に前記作動板12のテーパ部
12Bの先端が当接するように配置する。A temperature change occurs due to temperature break-in or the like, and thermal stress distortion occurs in the block gauge 3 and the reference block 1. Although the flatness of the measurement surface 3A and the reference plane 1A deteriorates due to the thermal stress distortion, an interference surface correction jig is used to recover the deterioration. First, the micrometer head 5
Is operated to retract the spindle 5B sufficiently, and the reference block 1 in a state where the block gauge 3 is in close contact with the reference plane 1A is arranged on the base plate substrate 7 of the reference block holding means 2. Thereafter, the reference block 1 is covered with the block gauge holding means 4 to which the piezoelectric element 18 is attached, and the window 12A of the operation plate 12 of the holding means 4 is provided.
The block gauge 3 inside. At this time, the block gauge 3 is arranged such that the tip of the tapered portion 12B of the operation plate 12 abuts on the short side surface thereof.
【0015】この状態で、マイクロメータヘッド5を操
作し、スピンドル5Bを圧電素子18に当接させるまで
前進させる。その後、制御手段20から前記圧電素子1
8へ印加電圧信号を送る。すると、前記圧電素子18は
往復振動し、その振動によりテーパ部12Bの先端がブ
ロックゲージ3の短辺側面を押圧する。制御手段20か
ら前記圧電素子18へ送られる印加電圧信号が図5
(A)で示されるものである場合には、1回の振動によ
りテーパ部12Bの先端がブロックゲージ3の短辺側面
を急激に押圧する。前記印加電圧信号が図5(B)で示
されるものである場合には、複数回の振動によりテーパ
部12Bの先端がブロックゲージ3の短辺側面を複数回
にわたって急激に押圧する。前記印加電圧信号が図5
(C)で示されるものである場合には、微小な振動が複
数回繰り返されることによりテーパ部12Bの先端がブ
ロックゲージ3の短辺側面を徐々に押圧する。ブロック
ゲージ3が押圧されることにより、基準ブロック1も同
方向に移動しようとするが、この基準ブロック1は、そ
の側面が基準ブロック保持手段2のストッパ機構8に保
持されていることから、前記基準ブロック1のブロック
ゲージ押圧方向の移動が規制される。ここで、図6に示
される通り、前記基準ブロック1の中心Pがスピンドル
5Bの軸線Lの上からずれている場合、ストッパ機構8
の基準ブロック保持部材11を前記スピンドル5Bの軸
線方向と直交する方向に移動してガイド11Aを基準ブ
ロック1に一致させる。In this state, the micrometer head 5 is operated to move the spindle 5B forward until it comes into contact with the piezoelectric element 18. After that, the control unit 20 sends the piezoelectric element 1
8 to send an applied voltage signal. Then, the piezoelectric element 18 reciprocates and the tip of the tapered portion 12B presses the short side surface of the block gauge 3 by the vibration. The applied voltage signal sent from the control means 20 to the piezoelectric element 18 is shown in FIG.
In the case of (A), the tip of the tapered portion 12B rapidly presses the short side surface of the block gauge 3 by one vibration. When the applied voltage signal is as shown in FIG. 5 (B), the tip of the tapered portion 12B rapidly presses the short side surface of the block gauge 3 a plurality of times by a plurality of vibrations. FIG. 5 shows the applied voltage signal.
In the case of (C), the tip of the tapered portion 12B gradually presses the short side surface of the block gauge 3 by repeating the minute vibration a plurality of times. When the block gauge 3 is pressed, the reference block 1 also attempts to move in the same direction. However, since the side surface of the reference block 1 is held by the stopper mechanism 8 of the reference block holding means 2, The movement of the reference block 1 in the block gauge pressing direction is restricted. Here, as shown in FIG. 6, when the center P of the reference block 1 is shifted from above the axis L of the spindle 5B, the stopper mechanism 8
The reference block holding member 11 is moved in a direction orthogonal to the axial direction of the spindle 5B to align the guide 11A with the reference block 1.
【0016】圧電素子18の往復振動により、ブロック
ゲージ3と基準ブロック1とが前記基準平面1A内で密
着状態が維持されながら相対的に急激にずれることにな
り、ブロックゲージ3及び基準ブロック1に発生した熱
応力歪みが開放され、干渉面である基準平面1A及び測
定面3Aの平面度が補正される。ここで、圧電素子18
によりブロックゲージ3と基準ブロック1とを相対移動
させる距離は、0.05〜0.1mm である。0.1mm を越える
と、両者の密着状態が解除されて適正なブロックゲージ
寸法の測定が行えず、干渉面補正時に基準平面1Aとブ
ロックゲージ3との密着面に大きな損傷を与えることに
なる場合がある。The reciprocating vibration of the piezoelectric element 18 causes the block gauge 3 and the reference block 1 to relatively relatively shift while maintaining the close contact state in the reference plane 1A. The generated thermal stress strain is released, and the flatness of the reference plane 1A and the measurement plane 3A, which are interference planes, is corrected. Here, the piezoelectric element 18
The distance by which the block gauge 3 and the reference block 1 are relatively moved is 0.05 to 0.1 mm. If it exceeds 0.1 mm, the close contact between them will be released and the measurement of the appropriate block gauge dimensions will not be possible, and the contact surface between the reference plane 1A and the block gauge 3 will be greatly damaged when the interference surface is corrected. is there.
【0017】干渉面補正治具によって、基準平面1Aと
ブロックゲージ3の測定面3Aとの平面度が補正された
ら、マイクロメータヘッド5を操作してスピンドル5B
を後退させる。さらに、圧電素子18が取り付けられた
ブロックゲージ保持手段4を外し、ブロックゲージ3が
密着された基準ブロック1を基準ブロック保持手段2か
ら取り出す。基準ブロック保持手段2から取り出された
ブロックゲージ3と基準ブロック1の基準平面1Aとの
密着状態を確認する。その後、JISB7506に従って、ブロ
ックゲージ3の測定面3Aと、このブロックゲージ3が
密着される基準平面1Aとの双方に光を照射し、これら
の測定面3A及び基準平面1Aから反射した光を利用し
て測定面3Aと基準平面1Aとの間の距離をブロックゲ
ージ寸法として測定する。When the flatness between the reference plane 1A and the measurement surface 3A of the block gauge 3 is corrected by the interference surface correction jig, the micrometer head 5 is operated to operate the spindle 5B.
Retreat. Further, the block gauge holding means 4 to which the piezoelectric element 18 is attached is removed, and the reference block 1 on which the block gauge 3 is in close contact is taken out from the reference block holding means 2. The close contact state between the block gauge 3 taken out from the reference block holding means 2 and the reference plane 1A of the reference block 1 is confirmed. Thereafter, in accordance with JISB7506, both the measurement surface 3A of the block gauge 3 and the reference plane 1A to which the block gauge 3 is adhered are irradiated with light, and the light reflected from the measurement surface 3A and the reference plane 1A is used. The distance between the measurement surface 3A and the reference plane 1A is measured as a block gauge dimension.
【0018】従って、本実施例によれば、基準ブロック
1を保持する基準ブロック保持手段2と、ブロックゲー
ジ3を保持するブロックゲージ保持手段4と、このブロ
ックゲージ保持手段4に設けられ前記ブロックゲージ3
と前記基準ブロック1とを密着状態を維持しながら基準
平面1A内で相対移動させる圧電素子18とを備えて干
渉面補正治具を構成したので、ブロックゲージ3及び基
準ブロック1に熱応力歪みが発生しても前記ブロックゲ
ージ3と前記基準ブロック1とを相対移動させて熱応力
歪みを開放し、これらの平面度の劣化を回復してブロッ
クゲージ寸法の精密測定を行え、しかも、これらのブロ
ックゲージ3と基準ブロック1との相対移動距離を小さ
くできるので、干渉面補正時に基準平面1Aとブロック
ゲージ3との密着面に与える損傷を小さくできる。ま
た、本実施例の干渉面補正治具は制御手段20を備えて
構成され、この制御手段20を1回又は複数回の矩形波
状の印加電圧信号を前記圧電素子18に送る構成とした
から、作動板12のテーパ部12Bの先端がブロックゲ
ージ3の短辺側面を急激に押圧して確実に熱応力歪みを
開放することができる。さらに、前記制御手段20を時
間経過に伴って階段状に大きくなる印加電圧信号を前記
圧電素子18に送る構成としたから、圧電素子18の微
小な振動が複数回繰り返されることにより前記テーパ部
12Bの先端がブロックゲージ3の短辺側面を徐々に押
圧して基準平面1Aとブロックゲージ3との密着面に与
える損傷をより小さくできる。Therefore, according to the present embodiment, the reference block holding means 2 for holding the reference block 1, the block gauge holding means 4 for holding the block gauge 3, and the block gauge provided in the block gauge holding means 4. 3
And the piezoelectric element 18 for relatively moving the reference block 1 in the reference plane 1A while maintaining the close contact state, the interference surface correction jig is configured. Even if it occurs, the block gauge 3 and the reference block 1 are relatively moved to release the thermal stress distortion, to recover the deterioration of the flatness, and to perform the precise measurement of the block gauge dimensions. Since the relative movement distance between the gauge 3 and the reference block 1 can be reduced, damage to the contact surface between the reference plane 1A and the block gauge 3 at the time of correcting the interference surface can be reduced. Further, the interference surface correction jig of the present embodiment is provided with the control means 20, and the control means 20 is configured to send the applied voltage signal in the form of a rectangular wave one or more times to the piezoelectric element 18. The distal end of the tapered portion 12B of the operation plate 12 rapidly presses the short side surface of the block gauge 3 to reliably release the thermal stress distortion. Further, since the control means 20 is configured to send the applied voltage signal, which increases stepwise with time, to the piezoelectric element 18, the minute vibration of the piezoelectric element 18 is repeated a plurality of times so that the tapered portion 12B Can gradually reduce the damage to the contact surface between the reference plane 1 </ b> A and the block gauge 3 by gradually pressing the short side surface of the block gauge 3.
【0019】さらに、前記圧電素子18でブロックゲー
ジ保持手段4を介してブロックゲージ3の短辺側面を押
圧する構成としたから、熱歪み開放時に前記ブロックゲ
ージ3と前記基準平面1Aとの密着が外れることがな
い。また、前記ブロックゲージ保持手段4を先細りのテ
ーパ部12Bを有するとともにこのテーパ部12Bの先
端が前記ブロックゲージ3の前記基準平面1Aの近傍を
押圧する作動板12を備えた構造としたから、ブロック
ゲージ3と基準ブロック1とを相対移動させる力を基準
平面1Aの近傍に作用させることができ、この点からも
ブロックゲージ3と基準平面1Aとの密着が外れること
を防止できる。さらに、前記圧電素子18をブロックゲ
ージ保持手段4に設け、前記基準ブロック保持手段2の
ストッパ機構8でブロックゲージ3より大きな基準ブロ
ック1のブロックゲージ押圧方向の移動を規制する構成
としたから、この点からも、ブロックゲージ3と基準ブ
ロック1とを相対移動させる力を基準平面1Aの近傍に
してブロックゲージ3と基準平面1Aとの密着が外れる
ことを防止できる。Further, since the short side surface of the block gauge 3 is pressed by the piezoelectric element 18 via the block gauge holding means 4, the close contact between the block gauge 3 and the reference plane 1A when the thermal strain is released. It does not come off. Also, the block gauge holding means 4 has a structure having a tapered tapered portion 12B and an operating plate 12 whose tip end presses the block gauge 3 near the reference plane 1A. A force for relatively moving the gauge 3 and the reference block 1 can be applied to the vicinity of the reference plane 1A, and from this point, the close contact between the block gauge 3 and the reference plane 1A can be prevented. Further, the piezoelectric element 18 is provided on the block gauge holding means 4 and the stopper mechanism 8 of the reference block holding means 2 restricts the movement of the reference block 1 larger than the block gauge 3 in the block gauge pressing direction. From the point of view, it is possible to prevent the contact between the block gauge 3 and the reference plane 1A from coming off by setting the force for relatively moving the block gauge 3 and the reference block 1 near the reference plane 1A.
【0020】また、前記ストッパ機構8を、ストッパブ
ロック10と、このストッパブロック10と前記基準ブ
ロック1との間に配置され前記圧電素子18の往復振動
方向(スピンドル5Bの軸線方向)と直交しかつ前記基
準平面1Aと同一平面内で移動自在とされた基準ブロッ
ク保持部材11と、を備えた構造とし、この基準ブロッ
ク保持部材11に前記基準ブロック1の周側面と一致す
るガイド11Aを形成したから、前記基準ブロック1の
中心Pがスピンドル5Bの軸線Lの上からずれて配置さ
れても、ストッパ機構8の基準ブロック保持部材11を
前記スピンドル5Bの軸線方向と直交する方向に移動し
てガイド11Aを基準ブロック1に一致させることによ
り、ブロックゲージ3の長手方向中心線をスピンドル5
Bの軸線に合わせてブロックゲージ3と基準平面1Aと
の密着が外れることを防止できる。The stopper mechanism 8 is provided between the stopper block 10 and the stopper block 10 and the reference block 1, and is orthogonal to the reciprocating vibration direction of the piezoelectric element 18 (the axis direction of the spindle 5B). A reference block holding member 11 that is movable in the same plane as the reference plane 1A, and a guide 11A that matches the peripheral side surface of the reference block 1 is formed on the reference block holding member 11. Even if the center P of the reference block 1 is displaced from the axis L of the spindle 5B, the reference block holding member 11 of the stopper mechanism 8 is moved in a direction orthogonal to the axis of the spindle 5B to guide the guide 11A. Of the block gauge 3 in the longitudinal direction of the spindle 5
It is possible to prevent the close contact between the block gauge 3 and the reference plane 1A in accordance with the axis of B.
【0021】さらに、前記ブロックゲージ保持手段4
は、前記基準ブロック1のブロックゲージ側の移動を規
制する基準ブロック移動規制部材19を含んで構成され
ているので、ブロックゲージ3の側面を押圧しても、ブ
ロックゲージ3の押圧方向が変わることがないので、こ
の点からも、ブロックゲージ3と基準平面1Aとの密着
が外れることを防止できる。また、前記ブロックゲージ
保持手段4の把手16を断熱部材から形成したので、作
業員の体温が把手16を介してブロックゲージ3や基準
ブロック1に伝達されにくい。Further, the block gauge holding means 4
Is configured to include the reference block movement restricting member 19 for restricting the movement of the reference block 1 on the block gauge side. Therefore, even if the side surface of the block gauge 3 is pressed, the pressing direction of the block gauge 3 changes. In this respect, the close contact between the block gauge 3 and the reference plane 1A can be prevented from this point. Further, since the handle 16 of the block gauge holding means 4 is formed of a heat insulating member, the body temperature of the worker is hardly transmitted to the block gauge 3 and the reference block 1 via the handle 16.
【0022】以上、本発明について好適な実施例を挙げ
て説明したが、本発明はこの実施例に限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の
改良並びに設計の変更が可能なことは勿論である。例え
ば、前記実施例では、前記圧電素子18に矩形波状の印
加電圧信号を送り、あるいは、前記圧電素子18に時間
経過に伴って階段状に大きくなる印加電圧信号を送る制
御手段20を備えて干渉面補正治具が構成されている
が、本発明では、制御手段は、時間経過に伴って階段状
に小さくなる印加電圧信号を前記圧電素子18に送る構
成でもよい。また、前記圧電素子18をブロックゲージ
保持手段4に設け、前記基準ブロック保持手段2のスト
ッパ機構8で基準ブロック1のブロックゲージ押圧方向
の移動を規制する構成としたが、本発明では、ブロック
ゲージ3を固定し、前記基準ブロック保持手段2に圧電
素子18を設けて基準ブロック1を移動させる構成、あ
るいは、基準ブロック保持手段2及びブロックゲージ保
持手段4の双方に圧電素子18を設け、ブロックゲージ
3と基準ブロック1とを互いに対向する方向に移動させ
る構成でもよい。Although the present invention has been described with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to these embodiments, and various improvements and design changes may be made without departing from the spirit of the present invention. Of course, it is possible. For example, in the above-described embodiment, the control device 20 includes a control unit 20 that sends a rectangular wave applied voltage signal to the piezoelectric element 18 or an applied voltage signal that increases in a stepwise manner with time to the piezoelectric element 18. Although a surface correction jig is configured, the present invention may be configured such that the control means sends an applied voltage signal, which decreases stepwise with time, to the piezoelectric element 18. Further, the piezoelectric element 18 is provided on the block gauge holding means 4 and the stopper mechanism 8 of the reference block holding means 2 restricts the movement of the reference block 1 in the block gauge pressing direction. 3, the piezoelectric element 18 is provided on the reference block holding means 2 and the reference block 1 is moved, or the piezoelectric element 18 is provided on both the reference block holding means 2 and the block gauge holding means 4 and the block gauge is provided. 3 and the reference block 1 may be moved in the directions facing each other.
【0023】さらに、ストッパブロック10及び基準ブ
ロック保持部材11から前記ストッパ機構8を構成した
が、本発明では、ストッパブロック10のみからストッ
パ機構8を構成してもよい。前記圧電素子18でブロッ
クゲージ保持機構4を介して前記ブロックゲージ3の短
辺側面を押圧する構成としたが、ブロックゲージ3の長
辺側面を押圧する構成でもよい。また、前記作動板12
は、先細りのテーパ部12Bを有するとともにこのテー
パ部12Bの先端が前記ブロックゲージ3の前記基準平
面1Aの近傍を押圧する構造としたが、ブロックゲージ
3を押圧する部位は必ずしもテーパ部12Bの先端であ
ることを要しない。例えば、作動板12を平板から形成
し、この平板の垂直端面でブロックゲージ3を押圧する
構成でもよい。Further, the stopper mechanism 8 is constituted by the stopper block 10 and the reference block holding member 11, but in the present invention, the stopper mechanism 8 may be constituted only by the stopper block 10. Although the short side surface of the block gauge 3 is pressed by the piezoelectric element 18 via the block gauge holding mechanism 4, the long side surface of the block gauge 3 may be pressed. In addition, the operation plate 12
Has a structure in which a tapered portion 12B is tapered and the tip of the tapered portion 12B presses the vicinity of the reference plane 1A of the block gauge 3, but the portion that presses the block gauge 3 is not necessarily the tip of the tapered portion 12B. It does not need to be. For example, the operating plate 12 may be formed from a flat plate, and the block gauge 3 may be pressed by the vertical end face of the flat plate.
【0024】さらに、前記実施例では、前記基準ブロッ
ク移動規制部材19は、ブロックゲージ保持手段4の構
成部材である作動板12、作動板ガイド14及び把手1
6から構成されたが、この構成に基準ブロック移動規制
部材は限定されない。例えば、基準ブロック移動規制部
材は、基準ブロック1の基準平面1Aを係止するフック
を含んで構成し、このフックは基準ブロック保持手段2
の構成部材としてベースブロック6に固定した構造とし
てもよい。また、前記ブロックゲージ保持手段4の把手
16は、必ずしも断熱性材料から形成することを要しな
い。さらに、基準ブロック1は、角柱等の円柱以外の形
状でもよい。また、マイクロメータヘッド5に代えてね
じ又はボールねじ等を用いてもよい。Further, in the above embodiment, the reference block movement restricting member 19 includes the operating plate 12, the operating plate guide 14 and the handle 1, which are constituent members of the block gauge holding means 4.
6, the reference block movement restricting member is not limited to this configuration. For example, the reference block movement restricting member is configured to include a hook that locks the reference plane 1A of the reference block 1, and the hook is a reference block holding unit 2.
May be fixed to the base block 6. Further, the handle 16 of the block gauge holding means 4 does not necessarily need to be formed from a heat insulating material. Further, the reference block 1 may have a shape other than a cylinder such as a prism. Further, a screw or a ball screw may be used instead of the micrometer head 5.
【0025】[0025]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基準ブロックを保持する基準ブロック保持手段と、ブロ
ックゲージを保持するブロックゲージ保持手段と、これ
らのブロックゲージ保持手段及び基準ブロック保持手段
の少なくとも一方に設けられ前記ブロックゲージと前記
基準ブロックとを密着状態を維持しながら基準平面内で
相対移動させる圧電素子とを備えて干渉面補正治具を構
成したので、ブロックゲージ及び基準ブロックに熱応力
歪みが発生しても、前記ブロックゲージと前記基準ブロ
ックを相対移動させて熱応力歪みを開放し、これらの平
面度の劣化を回復してブロックゲージ寸法の精密測定が
行え、しかも、これらのブロックゲージと基準ブロック
との相対移動距離を小さくできるので、干渉面補正時に
基準平面とブロックゲージとの密着面に与える損傷を小
さくできる。また、1回又は複数回の矩形波状の印加電
圧信号を圧電素子に送る制御手段を含んで構成すれば、
ブロックゲージと基準ブロックとを急激に相対移動させ
ることにより、確実に熱応力歪みを開放することができ
る。さらに、時間経過に伴って階段状に大きくなる印加
電圧信号を前記圧電素子に送る制御手段を含んで構成す
れば、圧電素子の微小な振動が複数回繰り返されること
により基準平面とブロックゲージとの密着面に与える損
傷をより小さくできる。さらに、前記圧電素子でブロッ
クゲージ保持手段を介してブロックゲージの短辺側面を
押圧する構成とすれば、熱歪み開放時に前記ブロックゲ
ージと前記基準平面との密着が外れることがない。ま
た、前記ブロックゲージ保持手段を先細りのテーパ部を
有するとともにこのテーパ部の先端が前記ブロックゲー
ジの前記基準平面の近傍を押圧する作動板を備えた構造
とすれば、ブロックゲージと基準ブロックとを相対移動
させる力を基準平面の近傍に作用させることができ、こ
の点からもブロックゲージと基準平面との密着が外れる
ことを防止できる。さらに、前記圧電素子をブロックゲ
ージ保持手段に設け、前記基準ブロック保持手段のスト
ッパ機構でブロックゲージより大きな基準ブロックのブ
ロックゲージ押圧方向の移動を規制する構成とすれば、
この点からも、ブロックゲージと基準ブロックとを相対
移動させる力を基準平面の近傍にしてブロックゲージと
基準平面との密着が外れることを防止できる。また、前
記ストッパ機構をストッパブロックと、このストッパブ
ロックと前記基準ブロックとの間に配置され前記圧電素
子の往復振動方向と直交しかつ前記基準平面と同一平面
内で移動自在とされた基準ブロック保持部材とを備えた
構造とし、この基準ブロック保持部材に前記基準ブロッ
クの側面と一致するガイドを形成すれば、前記基準ブロ
ックの中心が圧電素子の往復振動方向の上からずれて配
置されても、基準ブロック保持部材を前記往復振動方向
と直交する方向に移動してガイドを基準ブロックに一致
させることにより、ブロックゲージの長手方向中心線を
圧電素子の往復振動方向に合わせてブロックゲージと基
準平面との密着が外れることを防止できる。さらに、前
記ブロックゲージ保持手段を、前記基準ブロックのブロ
ックゲージ側の移動を規制する基準ブロック移動規制部
材を含んで構成すれば、ブロックゲージの押圧方向が変
わることがないので、この点からも、ブロックゲージと
基準平面との密着が外れることを防止できる。As described above, according to the present invention,
A reference block holding unit for holding a reference block, a block gauge holding unit for holding a block gauge, and a block gauge provided on at least one of the block gauge holding unit and the reference block holding unit, wherein the block gauge and the reference block are brought into close contact with each other. Since the interference surface correction jig is configured with the piezoelectric element that relatively moves in the reference plane while maintaining the above, even if thermal stress distortion occurs in the block gauge and the reference block, the block gauge and the reference block are Relative movement releases thermal stress strain, recovers these deteriorations in flatness, enables precise measurement of block gauge dimensions, and reduces the relative movement distance between these block gauges and the reference block. Damage to the contact surface between the reference plane and the block gauge during surface correction can be reduced. In addition, if it is configured to include a control unit that sends one or a plurality of rectangular wave applied voltage signals to the piezoelectric element,
By rapidly moving the block gauge and the reference block relatively, thermal stress distortion can be reliably released. Furthermore, if it comprises a control means for sending an applied voltage signal that increases in a stepwise manner to the piezoelectric element with the passage of time, a minute vibration of the piezoelectric element is repeated a plurality of times, so that a difference between the reference plane and the block gauge is generated. Damage to the contact surface can be reduced. Further, if the short side surface of the block gauge is pressed by the piezoelectric element via the block gauge holding means, the close contact between the block gauge and the reference plane does not come off when the thermal strain is released. Further, if the block gauge holding means has a tapered tapered portion and a structure in which the tip of the tapered portion is provided with an operating plate that presses the vicinity of the reference plane of the block gauge, the block gauge and the reference block are formed. The force for the relative movement can be applied to the vicinity of the reference plane, and from this point, the close contact between the block gauge and the reference plane can be prevented. Further, if the piezoelectric element is provided in the block gauge holding means, and the stopper mechanism of the reference block holding means restricts the movement of the reference block larger than the block gauge in the block gauge pressing direction,
Also from this point, it is possible to prevent the block gauge from coming into close contact with the reference plane by setting the force for relatively moving the block gauge and the reference block near the reference plane. Also, the stopper mechanism is provided between the stopper block and the stopper block and the reference block, and a reference block holding member which is orthogonal to a reciprocating vibration direction of the piezoelectric element and is movable in the same plane as the reference plane. If a guide is formed on the reference block holding member so as to coincide with the side surface of the reference block, even if the center of the reference block is displaced from above the reciprocating vibration direction of the piezoelectric element, By moving the reference block holding member in a direction perpendicular to the reciprocating vibration direction and aligning the guide with the reference block, the longitudinal center line of the block gauge is aligned with the reciprocating vibration direction of the piezoelectric element, and the block gauge and the reference plane are aligned. Can be prevented from coming off. Furthermore, if the block gauge holding means is configured to include a reference block movement restricting member that restricts the movement of the reference block on the block gauge side, the pressing direction of the block gauge does not change. The contact between the block gauge and the reference plane can be prevented from coming off.
【図1】本発明の一実施例に係る干渉面補正治具を示す
正面図である。FIG. 1 is a front view showing an interference surface correction jig according to an embodiment of the present invention.
【図2】図2は図1の平面図である。FIG. 2 is a plan view of FIG. 1;
【図3】図3は図1のIII-III 線に沿う矢視断面図であ
る。FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III in FIG. 1;
【図4】作動板の縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view of an operation plate.
【図5】(A)から(C)は制御手段が圧電素子へ送る
印加電圧信号の波形を示すグラフである。FIGS. 5A to 5C are graphs showing waveforms of an applied voltage signal sent to a piezoelectric element by a control unit.
【図6】ブロック機構の作用を示す図2と同様の図であ
る。FIG. 6 is a view similar to FIG. 2, showing the operation of the block mechanism.
1 基準ブロック 1A 基準平面 2 基準ブロック保持手段 3 ブロックゲージ 3A 測定面 4 ブロックゲージ保持手段 8 ストッパ機構 10 ストッパブロック 11 基準ブロック保持部材 11A ガイド 12 作動板 12B テーパ部 18 圧電素子 19 基準ブロック移動規制部材 20 制御手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reference block 1A Reference plane 2 Reference block holding means 3 Block gauge 3A Measurement surface 4 Block gauge holding means 8 Stopper mechanism 10 Stopper block 11 Reference block holding member 11A Guide 12 Operating plate 12B Taper portion 18 Piezoelectric element 19 Reference block movement restricting member 20 control means
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 胡 尚弥 神奈川県川崎市高津区坂戸1−20−1 株式会社ミツトヨ内 (72)発明者 稲垣 章 神奈川県川崎市高津区坂戸1−20−1 株式会社ミツトヨ内 (56)参考文献 特開 平5−93611(JP,A) 特開 平6−341809(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 9/00 - 11/30 102 G01B 3/00 - 5/30 G01B 21/00 - 21/32 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hu Naoya 1-2-1-1, Sakado, Takatsu-ku, Kawasaki, Kanagawa Prefecture Mitutoyo Co., Ltd. (72) Akira Inagaki 1-2-1-1, Sakado, Takatsu-ku, Kawasaki, Kanagawa Shares (56) References JP-A-5-93611 (JP, A) JP-A-6-341809 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01B 9/00 -11/30 102 G01B 3/00-5/30 G01B 21/00-21/32
Claims (8)
ックゲージ及び基準ブロックを使用し、この基準ブロッ
クの基準平面に密着された前記ブロックゲージの寸法を
求めるための光波干渉測定に用いられる干渉面補正治具
であって、前記基準ブロックを保持する基準ブロック保
持手段と、前記ブロックゲージを保持するブロックゲー
ジ保持手段と、これらのブロックゲージ保持手段及び基
準ブロック保持手段の少なくとも一方に設けられ前記ブ
ロックゲージと前記基準ブロックとを密着状態を維持し
ながら前記基準平面内で相対移動させる圧電素子とを備
えたことを特徴とするブロックゲージ寸法の光波干渉測
定用干渉面補正治具。An interference surface correction jig used for light wave interference measurement for determining the dimensions of a block gauge which is in close contact with a reference plane of the reference block, using a block gauge and a reference block formed of different materials. A reference block holding means for holding the reference block, a block gauge holding means for holding the block gauge, and the block gauge provided on at least one of the block gauge holding means and the reference block holding means. A piezoelectric element for relatively moving the reference block in the reference plane while maintaining a close contact state with the reference block.
波干渉測定用干渉面補正治具において、矩形波状の印加
電圧信号を前記圧電素子に送る制御手段を備えたことを
特徴とするブロックゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面
補正治具。2. The jig according to claim 1, further comprising control means for sending a rectangular wave applied voltage signal to said piezoelectric element. Interference surface correction jig for light wave interference measurement.
波干渉測定用干渉面補正治具において、時間経過に伴っ
て階段状に大きくなる印加電圧信号を前記圧電素子に送
る制御手段を備えたことを特徴とするブロックゲージ寸
法の光波干渉測定用干渉面補正治具。3. The interference surface correcting jig for measuring light wave interference having a block gauge size according to claim 1, further comprising control means for sending to the piezoelectric element an applied voltage signal that increases stepwise as time elapses. An interference surface correction jig for light wave interference measurement having a block gauge size.
クゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具におい
て、前記圧電素子は前記ブロックゲージ保持手段に設け
られ、前記基準ブロック保持手段は、前記基準ブロック
のブロックゲージ押圧方向の移動を規制するストッパ機
構を備えていることを特徴とするブロックゲージ寸法の
光波干渉測定用干渉面補正治具。4. The jig according to claim 1, wherein the piezoelectric element is provided on the block gauge holding means, and wherein the reference block holding means comprises: An interference surface correcting jig for measuring a light wave interference having a block gauge size, comprising a stopper mechanism for restricting movement of the reference block in a block gauge pressing direction.
波干渉測定用干渉面補正治具において、前記ストッパ機
構は、ストッパブロックと、このストッパブロックと前
記基準ブロックとの間に配置されるとともに前記圧電素
子の往復振動方向と直交しかつ前記基準平面と同一平面
内で移動自在とされた基準ブロック保持部材とを備え、
この基準ブロック保持部材には前記基準ブロックの側面
と一致するガイドが形成されていることを特徴とするブ
ロックゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具。5. The interference surface correcting jig for measuring light wave interference having a block gauge size according to claim 4, wherein the stopper mechanism is disposed between a stopper block and the stopper block and the reference block. A reference block holding member orthogonal to the reciprocating vibration direction of the piezoelectric element and movable in the same plane as the reference plane,
An interference surface correction jig for measuring light wave interference having a block gauge size, wherein a guide is formed on the reference block holding member so as to coincide with a side surface of the reference block.
クゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具におい
て、前記ブロックゲージは直方体に形成され、前記圧電
素子は前記ブロックゲージ保持手段を介して前記ブロッ
クゲージの短辺側面を押圧可能とされていることを特徴
とするブロックゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正
治具。6. The jig according to claim 1, wherein the block gauge is formed in a rectangular parallelepiped, and the piezoelectric element is provided via the block gauge holding means. An interference surface correcting jig for light wave interference measurement of a block gauge dimension, wherein a short side surface of the block gauge can be pressed.
クゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具におい
て、前記ブロックゲージ保持手段は、先細りのテーパ部
を有するとともにこのテーパ部の先端が前記ブロックゲ
ージの前記基準平面の近傍を押圧する作動板を備えたこ
とを特徴とするブロックゲージ寸法の光波干渉測定用干
渉面補正治具。7. An interference surface correcting jig for measuring light wave interference having a block gauge dimension according to claim 4, wherein said block gauge holding means has a tapered portion and a tip of said tapered portion. An interference surface correction jig for measuring light wave interference having a block gauge size, comprising an operation plate for pressing the block gauge in the vicinity of the reference plane.
クゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具におい
て、前記基準ブロック保持手段及び前記ブロックゲージ
保持手段の少なくとも一方は、前記基準ブロックのブロ
ックゲージ側の移動を規制する基準ブロック移動規制部
材を備えたことを特徴とするブロックゲージ寸法の光波
干渉測定用干渉面補正治具。8. The jig for correcting an interference surface for light wave interference measurement having a block gauge size according to claim 1, wherein at least one of the reference block holding means and the block gauge holding means is provided on the reference block. An interference surface correction jig for light wave interference measurement having a block gauge dimension, comprising a reference block movement restricting member for restricting movement on the block gauge side.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12134194A JP3312992B2 (en) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | Interference surface correction jig for light wave interference measurement of block gauge size |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12134194A JP3312992B2 (en) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | Interference surface correction jig for light wave interference measurement of block gauge size |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07324905A JPH07324905A (en) | 1995-12-12 |
| JP3312992B2 true JP3312992B2 (en) | 2002-08-12 |
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Family Applications (1)
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| JP12134194A Expired - Fee Related JP3312992B2 (en) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | Interference surface correction jig for light wave interference measurement of block gauge size |
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|---|---|---|---|---|
| CN114286554B (en) * | 2021-12-02 | 2023-11-14 | 华天科技(南京)有限公司 | Height measurement jig and height measurement method for die bonder |
-
1994
- 1994-06-02 JP JP12134194A patent/JP3312992B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPH07324905A (en) | 1995-12-12 |
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