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JP3312994B2 - Adhesive surface peeling jig for light wave interference measurement - Google Patents
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JP3312994B2 - Adhesive surface peeling jig for light wave interference measurement - Google Patents

Adhesive surface peeling jig for light wave interference measurement

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JP3312994B2
JP3312994B2 JP12134394A JP12134394A JP3312994B2 JP 3312994 B2 JP3312994 B2 JP 3312994B2 JP 12134394 A JP12134394 A JP 12134394A JP 12134394 A JP12134394 A JP 12134394A JP 3312994 B2 JP3312994 B2 JP 3312994B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ブロックゲージの寸法
を光波干渉測定により求めた後に使用されるブロックゲ
ージと基準ブロックとの密着面剥離治具に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a jig for separating a contact surface between a block gauge and a reference block, which is used after the size of the block gauge is determined by light wave interference measurement.

【0002】[0002]

【背景技術】ブロックゲージの寸法測定は原則として光
波干渉測定により求められることがJISB7506に規定され
ている。このJISB7506によれば、ブロックゲージの測定
面と、このブロックゲージが密着(リンギング)された
基準平面を有する基準ブロックとの双方に光を照射し、
これらのブロックゲージの測定面及び基準平面から反射
した光を利用して測定面と基準平面との間の距離をブロ
ックゲージ寸法として測定する。ここで、前記測定面及
び基準平面は、測定に際しては干渉面として作用する。
ブロックゲージの寸法測定が終了した後は、ブロックゲ
ージを基準平面から剥離する。従来では、万力で挟持し
たブロックゲージを基準平面から無理に引き離すことに
よって両者を剥離している。
BACKGROUND ART It is stipulated in JISB7506 that the dimension measurement of a block gauge is basically determined by light wave interference measurement. According to this JISB7506, both the measurement surface of the block gauge and a reference block having a reference plane to which the block gauge is closely attached (ringed) are irradiated with light,
The distance between the measurement surface and the reference plane is measured as the block gauge size using the light reflected from the measurement surface and the reference plane of these block gauges. Here, the measurement surface and the reference plane act as interference surfaces during measurement.
After the dimension measurement of the block gauge is completed, the block gauge is peeled off from the reference plane. Conventionally, both are separated by forcibly pulling a block gauge held by a vice away from a reference plane.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ブロックゲージと基準
平面とは平面度が高いので、両者の密着力は大きく、ブ
ロックゲージと基準ブロックとの剥離は困難な作業であ
る。特に、5mm以下の寸法の短いブロックゲージでは、
剥離作業が極めて困難である。このように困難な剥離作
業を行うため、従来では、万力等を使用するので、ブロ
ックゲージに損傷を与えてしまうという問題点がある。
Since the flatness between the block gauge and the reference plane is high, the adhesion between the block gauge and the reference plane is large, and the separation between the block gauge and the reference block is a difficult operation. In particular, for short block gauges with dimensions of 5 mm or less,
The peeling operation is extremely difficult. Conventionally, a vise or the like is used to perform such a difficult peeling operation, so that there is a problem that the block gauge is damaged.

【0004】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、その目的は、ブロックゲージ及び基準ブロック
の双方に損傷を与えることなくブロックゲージと基準平
面とを簡単に剥離することができる光波干渉測定用密着
面剥離治具を提供することにある。
[0004] The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a light wave capable of easily separating a block gauge and a reference plane without damaging both the block gauge and the reference block. An object of the present invention is to provide a jig for peeling off a contact surface for interference measurement.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、基準ブロック
とブロックゲージとに相対的な温度差を付与して基準平
面に歪みを与え、さらに、基準ブロックとブロックゲー
ジとを相対移動可能にして前記目的を達成しようとする
ものである。具体的には、本発明の光波干渉測定用密着
面剥離治具は、光波干渉測定に用いられたブロックゲー
ジとこのブロックゲージが基準平面に密着された基準ブ
ロックとを剥離する密着面剥離治具であって、前記基準
ブロックを保持する基準ブロック保持手段と、前記ブロ
ックゲージを保持するブロックゲージ保持手段と、前記
基準ブロックと前記ブロックゲージとの相対的な温度差
を付与する温度差付与手段と、前記ブロックゲージ保持
手段及び基準ブロック保持手段の少なくとも一方に設け
られ前記ブロックゲージと前記基準ブロックとを相対移
動させる移動機構とを備えたことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a relative temperature difference between a reference block and a block gauge to distort a reference plane, and furthermore, makes the reference block and the block gauge relatively movable. It is intended to achieve the above object. Specifically, the contact surface peeling jig for light wave interference measurement of the present invention is a contact surface peeling jig for peeling a block gauge used for light wave interference measurement and a reference block in which the block gauge is closely adhered to a reference plane. And a reference block holding unit that holds the reference block, a block gauge holding unit that holds the block gauge, and a temperature difference providing unit that provides a relative temperature difference between the reference block and the block gauge. A moving mechanism provided on at least one of the block gauge holding means and the reference block holding means for relatively moving the block gauge and the reference block.

【0006】ここで、前記温度差付与手段は、前記基準
ブロック保持手段の内部に配置され前記基準ブロックを
加熱する加熱ヒータであってもよい。また、前記移動機
構はマイクロメータヘッド又は圧電素子を備えた構造で
もよい。さらに、前記マイクロメータヘッドは前記基準
ブロック保持手段に設けられ、この基準ブロック保持手
段は、前記基準ブロックのブロックゲージ押圧方向の移
動を規制するストッパ機構を備え、このストッパ機構
は、ストッパブロックと、このストッパブロックと前記
基準ブロックとの間に配置されるとともに前記マイクロ
メータヘッドのスピンドルの軸線方向と直交しかつ前記
基準平面と同一平面内で移動自在とされた基準ブロック
保持部材とを備え、この基準ブロック保持部材には前記
基準ブロックの側面と一致するガイドが形成されている
ものでもよい。前記ブロックゲージ保持手段は、先細り
のテーパ部を有するとともにこのテーパ部の先端が前記
ブロックゲージの前記基準平面の近傍を押圧する作動板
を備えた構造でもよい。
Here, the temperature difference providing means may be a heater arranged inside the reference block holding means for heating the reference block. Further, the moving mechanism may have a structure including a micrometer head or a piezoelectric element. Further, the micrometer head is provided on the reference block holding unit, and the reference block holding unit includes a stopper mechanism for restricting movement of the reference block in the block gauge pressing direction, and the stopper mechanism includes a stopper block, A reference block holding member disposed between the stopper block and the reference block and orthogonal to the axial direction of the micrometer head spindle and movable in the same plane as the reference plane; The reference block holding member may be formed with a guide that matches the side surface of the reference block. The block gauge holding means may have a structure having a tapered portion with a taper and an operating plate whose tip end presses the block gauge in the vicinity of the reference plane.

【0007】[0007]

【作用】作業員が手作業によりブロックゲージを基準ブ
ロックの基準平面に密着させた後、ブロックゲージ寸法
の光波干渉測定をJISB7506に従って行う。この光波干渉
測定が終了したら、密着面剥離治具を使用してブロック
ゲージを基準平面から剥離する。そのため、まず、温度
差付与手段により、前記基準ブロックと前記ブロックゲ
ージとに相対的な温度差を付与する。例えば、前記基準
ブロック保持手段の内部に配置された加熱ヒータで基準
ブロックのみを加熱する。これにより、基準ブロックの
基準平面に歪みが生じる。この状態で移動機構を操作す
る。前記温度差付与手段によって、基準平面に歪みを与
えているため、前記基準平面内でブロックゲージと基準
ブロックとの相対的なずれが容易に行われ、ブロックゲ
ージが基準平面から簡単に剥離される。
[Function] After the worker manually brings the block gauge into close contact with the reference plane of the reference block, light wave interference measurement of the block gauge dimensions is performed in accordance with JISB7506. After the light wave interference measurement is completed, the block gauge is peeled off from the reference plane by using a contact surface peeling jig. Therefore, first, a relative temperature difference is provided between the reference block and the block gauge by a temperature difference providing unit. For example, only the reference block is heated by a heater arranged inside the reference block holding means. This causes distortion in the reference plane of the reference block. The moving mechanism is operated in this state. Since the reference plane is distorted by the temperature difference providing means, the relative displacement between the block gauge and the reference block is easily performed in the reference plane, and the block gauge is easily separated from the reference plane. .

【0008】[0008]

【実施例】以下に、本発明に係るブロックゲージ寸法の
光波干渉測定用密着面剥離治具の好適な実施例を挙げ、
添付図面を参照しながら詳細に説明する。ここで、各実
施例中、同一又は同様の構成要素は同一符号を付して説
明を省略する。図1は第1実施例に係る密着面剥離治具
を示す正面図であり、図2はその平面図であり、図3は
図1のIII-III 線に沿う矢視断面図である。図1及び図
2において、密着面剥離治具は、円柱状の基準ブロック
1を保持する基準ブロック保持手段2と、前記基準ブロ
ック1の上に配置されたブロックゲージ3を保持するブ
ロックゲージ保持手段4と、前記基準ブロック保持手段
2に設けられた移動機構としてのマイクロメータヘッド
5と、前記基準ブロック保持手段2の内部に設けられた
温度差付与手段としての加熱ヒータ41とを備えて構成
され、このうち、前記基準ブロック保持手段2、前記ブ
ロックゲージ保持手段4及び前記マイクロメータヘッド
5は、干渉面補正治具の機能も併せて有する。前記マイ
クロメータヘッド5は、目盛りが形成された本体5A及
びスピンドル5Bを備え、ブロックゲージ3を図2中、
左側に押圧する構造である。前記基準ブロック1は、合
成石英等の略透明な材料から形成されており、その上端
面は平面度の高い基準平面1Aとされている。この基準
平面1Aに前記ブロックゲージ3が密着(リンギング)
されている。このブロックゲージ3は、スチール、セラ
ミック等、前記基準ブロック1とは異なる材質から直方
体に形成されている。このブロックゲージ3の前記基準
平面1Aと対向する面とこの面とは反対側の面とは測定
面3Aとされ、これらの測定面3Aの間の距離がブロッ
クゲージ寸法とされる。また、JISB7506に規定されるブ
ロックゲージ寸法の光波干渉測定に際しては、前記基準
平面1Aと測定面3Aとは干渉面として作用する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a jig for peeling an adhesive surface for measuring a light wave interference having a block gauge size according to the present invention will be described below.
This will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Here, in each embodiment, the same or similar components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted. FIG. 1 is a front view showing a contact surface peeling jig according to the first embodiment, FIG. 2 is a plan view thereof, and FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG. In FIGS. 1 and 2, a jig for separating a contact surface includes a reference block holding means 2 for holding a cylindrical reference block 1 and a block gauge holding means for holding a block gauge 3 disposed on the reference block 1. 4, a micrometer head 5 as a moving mechanism provided in the reference block holding means 2, and a heater 41 as a temperature difference providing means provided inside the reference block holding means 2. Of these, the reference block holding means 2, the block gauge holding means 4, and the micrometer head 5 also have the function of an interference surface correction jig. The micrometer head 5 includes a main body 5A on which graduations are formed and a spindle 5B.
It is a structure to press to the left. The reference block 1 is made of a substantially transparent material such as synthetic quartz, and its upper end surface is a reference plane 1A having a high flatness. The block gauge 3 closely adheres to this reference plane 1A (ringing).
Have been. The block gauge 3 is formed in a rectangular parallelepiped from a material different from the reference block 1, such as steel or ceramic. The surface of the block gauge 3 facing the reference plane 1A and the surface opposite to this surface are defined as measurement surfaces 3A, and the distance between the measurement surfaces 3A is defined as the block gauge size. Further, when measuring the light wave interference of the block gauge size specified in JISB7506, the reference plane 1A and the measurement surface 3A act as interference surfaces.

【0009】前記基準ブロック保持手段2は、平板状の
ベースブロック6と、このベースブロック6の上に設け
られるとともに前記基準ブロック1の下端面を支持する
ベースプレート基板7と、前記基準ブロック1のブロッ
クゲージ押圧方向の移動を規制するストッパ機構8と、
前記ベースブロック6の一端部に固定されるとともに前
記移動機構5が取り付けられた保持ブロック9とを備え
た構造である。前記ベースプレート基板7は、その中央
部に孔7Aが形成され、この孔7Aの内径は前記基準ブ
ロック1の外径より小さく形成されている(図3参
照)。前記ストッパ機構8は、前記ベースブロック6の
他端部に固定されたストッパブロック10と、このスト
ッパブロック10と前記基準ブロック1との間に配置さ
れた基準ブロック保持部材11とを備え、この基準ブロ
ック保持部材11は、前記基準平面1Aと同一平面内に
おいて前記移動機構5のスピンドル5Bの軸線方向と直
交する方向に移動自在とされている。また、基準ブロッ
ク保持部材11の上部には前記基準ブロック1の円周側
面と一致する円弧状のガイド11Aが形成されている。
The reference block holding means 2 includes a flat base block 6, a base plate substrate 7 provided on the base block 6 and supporting a lower end surface of the reference block 1, and a block of the reference block 1. A stopper mechanism 8 for regulating movement in the gauge pressing direction,
A holding block 9 fixed to one end of the base block 6 and having the moving mechanism 5 attached thereto. The base plate substrate 7 has a hole 7A formed in the center thereof, and the inner diameter of the hole 7A is smaller than the outer diameter of the reference block 1 (see FIG. 3). The stopper mechanism 8 includes a stopper block 10 fixed to the other end of the base block 6, and a reference block holding member 11 disposed between the stopper block 10 and the reference block 1. The block holding member 11 is movable in a direction perpendicular to the axial direction of the spindle 5B of the moving mechanism 5 in the same plane as the reference plane 1A. An arcuate guide 11A is formed on the upper part of the reference block holding member 11 so as to coincide with the circumferential side surface of the reference block 1.

【0010】前記ブロックゲージ保持手段4は、前記ブ
ロックゲージ3を押圧する略平板状の作動板12と、こ
の作動板12の両側下面にボルト13で取り付けられた
作動板ガイド14と、前記作動板12の中央部上面にボ
ルト15で取り付けられた把手16と、前記作動板12
の側部にアンビル固定板17を介して取り付けられると
ともに前記移動機構5のスピンドル5Bの先端部が当接
するアンビル18とを備えた構成であり、前記スピンド
ル5Bの軸線に沿って進退可能とされている。図3に示
される通り、2枚の作動板ガイド14及び作動板12か
ら前記基準ブロック1を跨ぐ門型形状が形成され、前記
作動板ガイド14の下端面はベースブロック6の上面に
当接され、かつ、前記作動板12の下面は前記基準ブロ
ック1の基準平面1Aに当接されている。前記把手16
は断熱性の材料、例えば、商品名ジュラコン等から梯子
状に形成されており、作業員の体温を基準ブロック1及
びブロックゲージ3に伝達しにくい構造とされている。
また、この把手16は、前記作動板12を基準ブロック
側に付勢する重りとしても機能する。ここで、前記作動
板12、作動板ガイド14及び把手16から前記基準ブ
ロック1のブロックゲージ側の移動を規制する、換言す
れば、前記基準ブロック1の浮き上がりを防止する基準
ブロック移動規制部材19が構成されている。
The block gauge holding means 4 includes a substantially plate-shaped operating plate 12 for pressing the block gauge 3, an operating plate guide 14 attached to lower surfaces on both sides of the operating plate 12 by bolts 13, and an operating plate guide. A handle 16 attached by bolts 15 to the upper surface of the central part of the
And an anvil 18 with which the tip of the spindle 5B of the moving mechanism 5 abuts, via an anvil fixing plate 17, so that it can advance and retreat along the axis of the spindle 5B. I have. As shown in FIG. 3, a gate-shaped shape that straddles the reference block 1 is formed from the two operation plate guides 14 and the operation plate 12, and the lower end surface of the operation plate guide 14 contacts the upper surface of the base block 6. The lower surface of the operation plate 12 is in contact with the reference plane 1A of the reference block 1. The handle 16
Is formed in a ladder shape from a heat-insulating material, for example, Duracon (trade name), and has a structure that does not easily transmit the body temperature of the worker to the reference block 1 and the block gauge 3.
The handle 16 also functions as a weight for urging the operation plate 12 toward the reference block. Here, a reference block movement restricting member 19 for restricting the movement of the reference block 1 on the block gauge side from the operation plate 12, the operation plate guide 14 and the handle 16, in other words, preventing the reference block 1 from floating is provided. It is configured.

【0011】図2に示される通り、前記作動板12の中
央部には、前記基準ブロック1上の前記ブロックゲージ
3との干渉を避けるための窓部12Aが形成され、この
窓部12Aの内側には前記ブロックゲージ3の短辺方向
と略同じ幅を有するテーパ部12Bが形成されている。
このテーパ部12Bは、その幅方向が前記マイクロメー
タヘッド5のスピンドル5Bの軸線方向と直交し、か
つ、幅方向の中心がスピンドル5Bの軸線と一致する。
前記作動板12の断面構造が図4に示されている。図4
において、前記テーパ部12Bは先細り形状とされ、そ
の先端は前記ブロックゲージ3の短辺側面の前記基準平
面1Aの近傍を押圧する構造とされている。また、前記
マイクロメータヘッド5は、そのスピンドル5Bの軸線
方向が前記基準平面1Aの上に位置するように高さが調
整されている。
As shown in FIG. 2, a window 12A is formed at the center of the operating plate 12 to avoid interference with the block gauge 3 on the reference block 1. Is formed with a tapered portion 12B having substantially the same width as the short side direction of the block gauge 3.
The width direction of the tapered portion 12B is orthogonal to the axis direction of the spindle 5B of the micrometer head 5, and the center in the width direction coincides with the axis line of the spindle 5B.
FIG. 4 shows a sectional structure of the operation plate 12. FIG.
In the above, the tapered portion 12B has a tapered shape, and the tip thereof is configured to press the short side surface of the block gauge 3 near the reference plane 1A. The height of the micrometer head 5 is adjusted so that the axial direction of the spindle 5B is located above the reference plane 1A.

【0012】前記加熱ヒータ41は、前記ベースプレー
ト基板7の孔7A内に配置されており(図3参照)、前
記基準ブロック1の下端部から基準ブロック1を加熱す
る構造である。また、前記加熱ヒータ41は前記ベース
プレート基板7の外部に配置されたヒータ電源装置42
に接続されている。
The heater 41 is disposed in the hole 7A of the base plate substrate 7 (see FIG. 3), and has a structure for heating the reference block 1 from the lower end of the reference block 1. Further, the heater 41 is provided with a heater power supply 42 disposed outside the base plate substrate 7.
It is connected to the.

【0013】次に、ブロックゲージ寸法の光波干渉測定
を行う方法を説明する。まず、作業員が手作業によりブ
ロックゲージ3の一方の測定面3Aを基準ブロック1の
基準平面1Aに密着させる。ブロックゲージ3の測定面
3Aと基準平面1Aとの密着状態を基準ブロック1の裏
面から目視することにより確認する。これらの測定面3
Aと基準平面1Aとの密着作業に伴いブロックゲージ3
及び基準ブロック1に作業員の体温が伝達するので、一
定時間、温度慣らしによって室温(20℃前後)に近づけ
る。温度慣らしが終了して所定時間経過したら、ブロッ
ク寸法の測定を行うが、その測定に先立ち干渉面である
測定面3A及び基準平面1Aの補正をする。
Next, a method for performing light wave interference measurement of a block gauge size will be described. First, an operator manually brings one measurement surface 3A of the block gauge 3 into close contact with the reference plane 1A of the reference block 1. The state of adhesion between the measurement surface 3A of the block gauge 3 and the reference plane 1A is confirmed by visual observation from the back surface of the reference block 1. These measurement surfaces 3
Block gauge 3 due to the close contact work between A and reference plane 1A
Since the body temperature of the worker is transmitted to the reference block 1, the temperature is brought close to room temperature (around 20 ° C.) for a certain period of time. After a lapse of a predetermined time after the temperature break-in, the block size is measured. Before the measurement, the measurement surface 3A and the reference plane 1A, which are interference surfaces, are corrected.

【0014】温度慣らし等により温度変化が生じ、ブロ
ックゲージ3及び基準ブロック1に熱応力歪みが発生す
る。この熱応力歪みに起因して測定面3A及び基準平面
1Aの平面度が劣化するが、これを回復するために干渉
面補正治具を使用する。まず、移動機構であるマイクロ
メータヘッド5を操作してこのスピンドル5Bを十分に
後退させ、基準平面1Aにブロックゲージ3が密着され
た状態の基準ブロック1を基準ブロック保持手段2のベ
ースプレート基板7の上に配置する。その後、基準ブロ
ック1をブロックゲージ保持手段4で覆うようにし、こ
の保持手段4の作動板12の窓12A内にブロックゲー
ジ3を位置させる。この際、ブロックゲージ3は、その
短辺側面に前記作動板12のテーパ部12Bの先端が当
接するように配置する。
A temperature change occurs due to temperature break-in or the like, and thermal stress distortion occurs in the block gauge 3 and the reference block 1. Although the flatness of the measurement surface 3A and the reference plane 1A deteriorates due to the thermal stress distortion, an interference surface correction jig is used to recover the deterioration. First, by operating the micrometer head 5 as a moving mechanism, the spindle 5B is sufficiently retracted, and the reference block 1 in a state where the block gauge 3 is in close contact with the reference plane 1A is placed on the base plate substrate 7 of the reference block holding means 2. Place on top. Thereafter, the reference block 1 is covered with the block gauge holding means 4, and the block gauge 3 is positioned in the window 12 A of the operation plate 12 of the holding means 4. At this time, the block gauge 3 is arranged such that the tip of the tapered portion 12B of the operation plate 12 abuts on the short side surface thereof.

【0015】この状態で、マイクロメータヘッド5を操
作し、スピンドル5Bを前進させる。すると、スピンド
ル5Bはアンビル18に当接した後、前記作動板12を
前進させる。この作動板12の前進により、テーパ部1
2Bの先端がブロックゲージ3の短辺側面を押圧する。
ブロックゲージ3が押圧されることにより、基準ブロッ
ク1も同方向に移動しようとするが、この基準ブロック
1は、その側面が基準ブロック保持手段2のストッパ機
構8に保持されていることから、前記基準ブロック1の
ブロックゲージ押圧方向の移動が規制される。ここで、
図5に示される通り、前記基準ブロック1の中心Pがス
ピンドル5Bの軸線Lの上からずれている場合、ストッ
パ機構8の基準ブロック保持部材11を前記スピンドル
5Bの軸線方向と直交する方向に移動してガイド11A
を基準ブロック1に一致させる。
In this state, the micrometer head 5 is operated to move the spindle 5B forward. Then, after the spindle 5B contacts the anvil 18, the operating plate 12 is advanced. By the advance of the operation plate 12, the tapered portion 1
The tip of 2 </ b> B presses the short side surface of the block gauge 3.
When the block gauge 3 is pressed, the reference block 1 also attempts to move in the same direction. However, since the side surface of the reference block 1 is held by the stopper mechanism 8 of the reference block holding means 2, The movement of the reference block 1 in the block gauge pressing direction is restricted. here,
As shown in FIG. 5, when the center P of the reference block 1 is displaced from the axis L of the spindle 5B, the reference block holding member 11 of the stopper mechanism 8 is moved in a direction perpendicular to the axis of the spindle 5B. Guide 11A
To the reference block 1.

【0016】スピンドル5Bの前進により、ブロックゲ
ージ3と基準ブロック1とが前記基準平面1A内で密着
状態が維持されながら相対的にずれることになり、ブロ
ックゲージ3及び基準ブロック1に発生した熱応力歪み
が開放され、干渉面である基準平面1A及び測定面3A
の平面度が補正される。ここで、マイクロメータヘッド
5によりブロックゲージ3と基準ブロック1とを相対移
動させる距離は、0.05〜0.1mm である。0.1mm を越える
と、両者の密着状態が解除されて適正なブロックゲージ
寸法の測定が行えない場合がある。マイクロメータヘッ
ド5のスピンドル5Bの前進は本体5Aの目盛りを読み
取りながら行う。
As the spindle 5B advances, the block gauge 3 and the reference block 1 are relatively displaced from each other while maintaining the close contact state in the reference plane 1A. The distortion is released, and the reference plane 1A and the measurement plane 3A which are the interference planes
Is corrected. Here, the distance by which the block gauge 3 and the reference block 1 are relatively moved by the micrometer head 5 is 0.05 to 0.1 mm. If it exceeds 0.1 mm, the close contact between the two may be released and proper measurement of the block gauge dimensions may not be performed. The advance of the spindle 5B of the micrometer head 5 is performed while reading the scale of the main body 5A.

【0017】基準平面1Aとブロックゲージ3の測定面
3Aとの平面度が補正されたら、マイクロメータヘッド
5を操作してスピンドル5Bを後退させる。さらに、ブ
ロックゲージ保持手段4を外し、ブロックゲージ3が密
着された基準ブロック1を基準ブロック保持手段2から
取り出す。基準ブロック保持手段2から取り出されたブ
ロックゲージ3と基準ブロック1の基準平面1Aとの密
着状態を確認する。その後、JISB7506に従って、ブロッ
クゲージ3の測定面3Aと、このブロックゲージ3が密
着される基準平面1Aとの双方に光を照射し、これらの
測定面3A及び基準平面1Aから反射した光を利用して
測定面3Aと基準平面1Aとの間の距離をブロックゲー
ジ寸法として測定する。
When the flatness between the reference plane 1A and the measurement surface 3A of the block gauge 3 is corrected, the micrometer head 5 is operated to move the spindle 5B backward. Further, the block gauge holding means 4 is removed, and the reference block 1 on which the block gauge 3 is in close contact is taken out from the reference block holding means 2. The close contact state between the block gauge 3 taken out from the reference block holding means 2 and the reference plane 1A of the reference block 1 is confirmed. Thereafter, in accordance with JISB7506, both the measurement surface 3A of the block gauge 3 and the reference plane 1A to which the block gauge 3 is adhered are irradiated with light, and the light reflected from the measurement surface 3A and the reference plane 1A is used. The distance between the measurement surface 3A and the reference plane 1A is measured as a block gauge dimension.

【0018】JISB7506による光波干渉測定が終了した
ら、ブロックゲージを基準平面から剥離する。そのた
め、前記マイクロメータヘッド5を操作し、このスピン
ドル5Bを十分に後退させ、基準平面1Aにブロックゲ
ージ3が密着された状態の基準ブロック1を基準ブロッ
ク保持手段2のベースプレート基板7の上に配置する。
その後、基準ブロック1をブロックゲージ保持手段4で
再度覆うようにし、この保持手段4の作動板12の窓1
2A内にブロックゲージ3を位置させる。
After the light wave interference measurement according to JISB7506 is completed, the block gauge is peeled off from the reference plane. Therefore, the micrometer head 5 is operated, the spindle 5B is sufficiently retracted, and the reference block 1 in a state where the block gauge 3 is in close contact with the reference plane 1A is placed on the base plate substrate 7 of the reference block holding means 2. I do.
Thereafter, the reference block 1 is again covered with the block gauge holding means 4, and the window 1 of the operation plate 12 of the holding means 4 is provided.
Position the block gauge 3 in 2A.

【0019】前記基準ブロック1は加熱ヒータ41の上
に配置されており、前記ヒータ電源装置42のスイッチ
を入れて加熱ヒータ41に一定時間電流を流す。する
と、常温であるブロックゲージ3に対し、基準ブロック
1は、その下端部から加熱され、ブロックゲージ3の温
度より高くなる。従って、ブロックゲージ3と基準ブロ
ック1との間には相対的な温度差が生じることになり、
基準平面1Aは歪むことになる。この状態で前記マイク
ロメータヘッド5を操作し、スピンドル5Bを前進させ
る。すると、スピンドル5Bは前記作動板12を前進さ
せ、この作動板12の前進により、テーパ部12Bの先
端がブロックゲージ3の側面を押圧する。これにより、
ブロックゲージ3と基準ブロック1とが前記基準平面1
A内で相対的にずれることになり、ブロックゲージ3が
基準平面1Aから剥離される。
The reference block 1 is disposed on the heater 41, and switches on the heater power supply 42 to supply a current to the heater 41 for a certain period of time. Then, the reference block 1 is heated from its lower end with respect to the block gauge 3 at room temperature, and becomes higher than the temperature of the block gauge 3. Therefore, a relative temperature difference occurs between the block gauge 3 and the reference block 1, and
The reference plane 1A will be distorted. In this state, the micrometer head 5 is operated to advance the spindle 5B. Then, the spindle 5B advances the operating plate 12, and by the advance of the operating plate 12, the tip of the tapered portion 12B presses the side surface of the block gauge 3. This allows
The block gauge 3 and the reference block 1 are the reference plane 1
A is relatively displaced in A, and the block gauge 3 is peeled off from the reference plane 1A.

【0020】従って、本実施例によれば、基準ブロック
1を保持する基準ブロック保持手段2と、ブロックゲー
ジ3を保持するブロックゲージ保持手段4と、前記基準
ブロック保持手段2に設けられ前記ブロックゲージ3と
前記基準ブロック1とを相対移動させる移動機構5と、
前記基準ブロック1と前記ブロックゲージ3との相対的
な温度差を付与する温度差付与手段41と、を備えて光
波干渉測定用密着面剥離治具を構成したので、万力等で
挟持されたブロックゲージを基準平面から無理に引き離
す必要がなく、よって、ブロックゲージ3に損傷を与え
ることなくブロックゲージ3と基準平面1Aとを簡単に
剥離することができる。しかも、基準平面1Aに歪みを
付与するにあたり、基準ブロック1自体を加圧すること
がないので、基準ブロック1の破損を防止できる。ま
た、本実施例では、前記温度差付与手段を前記基準ブロ
ック保持手段2の内部に配置され前記基準ブロック3を
加熱する加熱ヒータ41としたから、簡単な構造で基準
ブロック1とブロックゲージ3との間に温度差を付与で
きる。しかも、この加熱ヒータ41をブロックゲージ3
が密着された位置から最も離れた基準ブロック1の下方
に配置したから、ブロックゲージ3と基準ブロック1と
の温度差をより大きくできる。
Therefore, according to this embodiment, the reference block holding means 2 for holding the reference block 1, the block gauge holding means 4 for holding the block gauge 3, and the block gauge provided in the reference block holding means 2. A moving mechanism 5 for relatively moving the reference block 1 and the reference block 1;
Since a temperature difference providing means 41 for providing a relative temperature difference between the reference block 1 and the block gauge 3 is provided to constitute a jig for peeling off a contact surface for light wave interference measurement, the jig is held by a vice or the like. There is no need to forcibly separate the block gauge from the reference plane, so that the block gauge 3 and the reference plane 1A can be easily separated without damaging the block gauge 3. In addition, since the reference block 1 itself is not pressurized when applying distortion to the reference plane 1A, it is possible to prevent the reference block 1 from being damaged. Further, in the present embodiment, the temperature difference providing means is a heater 41 disposed inside the reference block holding means 2 and heating the reference block 3, so that the reference block 1 and the block gauge 3 are provided with a simple structure. Temperature difference can be given between the two. In addition, the heater 41 is connected to the block gauge 3
Is disposed below the reference block 1 farthest from the position where the contact is made, the temperature difference between the block gauge 3 and the reference block 1 can be further increased.

【0021】さらに、移動機構をマイクロメータヘッド
5としたから、このマイクロメータヘッド5の目盛りを
読み取りながらスピンドル5Bを前進させることによ
り、基準平面1Aからブロックゲージ3を確実に剥離す
ることができる。また、基準ブロック保持手段2は、前
記基準ブロック1のブロックゲージ押圧方向の移動を規
制するストッパ機構8を備え、このストッパ機構8は、
ストッパブロック10と、このストッパブロック10と
前記基準ブロック1との間に配置されるとともに前記マ
イクロメータヘッド22のスピンドル軸線方向と直交し
かつ前記基準平面1Aと同一平面内で移動自在とされた
基準ブロック保持部材11とを備え、この基準ブロック
保持部材11には前記基準ブロック1の側面と一致する
ガイド11Aが形成されているので、前記基準ブロック
1の中心Pがスピンドル5Bの軸線Lの上からずれて配
置されても、ストッパ機構8の基準ブロック保持部材1
1を前記スピンドル5Bの軸線方向と直交する方向に移
動してガイド11Aを基準ブロック1に一致させること
により、ブロックゲージ3と基準平面1Aとを確実に剥
離することができる。
Further, since the moving mechanism is the micrometer head 5, the block gauge 3 can be reliably separated from the reference plane 1A by moving the spindle 5B forward while reading the scale of the micrometer head 5. The reference block holding means 2 includes a stopper mechanism 8 for restricting the movement of the reference block 1 in the block gauge pressing direction.
A stopper block 10, a reference disposed between the stopper block 10 and the reference block 1 and perpendicular to the spindle axis direction of the micrometer head 22 and movable in the same plane as the reference plane 1 </ b> A. Since the guide 11A is formed on the reference block holding member 11 so as to coincide with the side surface of the reference block 1, the center P of the reference block 1 is positioned above the axis L of the spindle 5B. Even if the reference block holding member 1 of the stopper mechanism 8 is displaced,
By moving the guide 1 in the direction orthogonal to the axis of the spindle 5B and aligning the guide 11A with the reference block 1, the block gauge 3 and the reference plane 1A can be reliably separated.

【0022】さらに、前記ブロックゲージ保持手段4を
先細りのテーパ部12Bを有するとともにこのテーパ部
12Bの先端が前記ブロックゲージ3の前記基準平面1
Aの近傍を押圧する作動板12を備えた構造としたか
ら、ブロックゲージ3と基準ブロック1とを相対移動さ
せる力を基準平面1Aの近傍に作用させ、ブロックゲー
ジ3と基準平面1Aとを剥離する際に基準平面1Aに破
損が生じることがない。即ち、ブロックゲージ3の押圧
位置を基準平面1Aから離れた位置、例えば、ブロック
ゲージ3の上側部とすると、ブロックゲージ3を押圧す
ることにより、ブロックゲージ3の押圧位置とは反対側
の下側部のエッジに下向き(基準平面側)の力が作用す
ることになり、基準平面1Aを破損させるおそれがある
が、本実施例では、ブロックゲージ3を押圧する力を基
準平面1Aの近傍に作用させたので、ブロックゲージ3
の下側部のエッジに下向きの力が作用することがない。
Further, the block gauge holding means 4 has a tapered portion 12B which is tapered, and the tip of the tapered portion 12B is formed on the reference plane 1 of the block gauge 3.
Since the structure provided with the operating plate 12 that presses the vicinity of A, a force for relatively moving the block gauge 3 and the reference block 1 is applied to the vicinity of the reference plane 1A to separate the block gauge 3 and the reference plane 1A. In this case, the reference plane 1A is not damaged. That is, assuming that the pressing position of the block gauge 3 is a position away from the reference plane 1A, for example, the upper portion of the block gauge 3, pressing the block gauge 3 causes the lower side of the block gauge 3 opposite to the pressing position. A downward (reference plane side) force acts on the edge of the portion, and there is a possibility that the reference plane 1A may be damaged. However, in this embodiment, a force pressing the block gauge 3 is applied to the vicinity of the reference plane 1A. Block gauge 3
The downward force does not act on the lower edge of the.

【0023】また、本実施例では、前記基準ブロック保
持手段2、前記ブロックゲージ保持手段4及び前記マイ
クロメータヘッド5を備えて干渉面補正治具を構成した
ので、光波干渉測定の前にブロックゲージ3及び基準ブ
ロック1に熱応力歪みが発生しても前記ブロックゲージ
3と前記基準ブロック1とを密着状態を維持しながら相
対移動させることにより熱応力歪みを開放し、これらの
平面度の劣化を回復してブロックゲージ寸法の精密測定
を行える。また、前記ブロックゲージ保持手段4の把手
16を断熱部材から形成したので、作業員の体温が把手
16を介してブロックゲージ3や基準ブロック1に伝達
されにくい。
In this embodiment, since the interference surface correction jig is constituted by the reference block holding means 2, the block gauge holding means 4 and the micrometer head 5, the block gauge is provided before the light wave interference measurement. Even when thermal stress distortion occurs in the reference block 3 and the reference block 1, the thermal stress distortion is released by relatively moving the block gauge 3 and the reference block 1 while maintaining the close contact state, thereby reducing the deterioration of the flatness. It recovers and the precision measurement of the block gauge size can be performed. Further, since the handle 16 of the block gauge holding means 4 is formed of a heat insulating member, the body temperature of the worker is hardly transmitted to the block gauge 3 and the reference block 1 via the handle 16.

【0024】次に、本発明の第2実施例を図6及び図7
に基づいて説明する。第2実施例では、前記移動機構の
構成が前記第1実施例と相違するが、他の構成は前記第
1実施例と略同様である。図6は第2実施例の全体を示
す。この図6において、ブロックゲージ保持手段30
は、前記作動板12、前記作動板ガイド14及び前記把
手16から構成されている。前記作動板12には移動機
構としての圧電素子31が圧電素子取付板32を介して
取り付けられている。基準ブロック保持手段33は、前
記ベースブロック6、前記ベースプレート基板7、前記
ストッパ機構8、前記保持ブロック9及びこの保持ブロ
ック9に取り付けられたマイクロメータヘッド36から
構成されている。このマイクロメータヘッド36は、本
体36A及びスピンドル36Bを備えた構造であり、ス
ピンドル36Bは前記圧電素子31に当接可能である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
It will be described based on. In the second embodiment, the configuration of the moving mechanism is different from that of the first embodiment, but other configurations are substantially the same as those of the first embodiment. FIG. 6 shows the whole second embodiment. In FIG. 6, the block gauge holding means 30
Is composed of the operating plate 12, the operating plate guide 14, and the handle 16. A piezoelectric element 31 as a moving mechanism is mounted on the operation plate 12 via a piezoelectric element mounting plate 32. The reference block holding means 33 includes the base block 6, the base plate substrate 7, the stopper mechanism 8, the holding block 9, and a micrometer head 36 attached to the holding block 9. The micrometer head 36 has a structure including a main body 36A and a spindle 36B, and the spindle 36B can contact the piezoelectric element 31.

【0025】前記圧電素子31は、一般的な構造であ
り、その振動方向が前記スピンドル36Bの軸線方向と
一致するように前記圧電素子取付板32に取り付けられ
ている。前記圧電素子31は制御手段38から印加電圧
信号が送られるようになっており、この制御手段38が
圧電素子31へ送る印加電圧信号の波形が図7に示され
ている。制御手段38は、図7(A)に示される通り、
1回の矩形波状の印加電圧信号や、図7(B)に示され
る通り、複数回の矩形波状の印加電圧信号や、図7
(C)に示される通り、時間経過に伴って階段状に大き
くなる印加電圧信号を前記圧電素子31に送るようにさ
れている。
The piezoelectric element 31 has a general structure, and is mounted on the piezoelectric element mounting plate 32 such that its vibration direction coincides with the axial direction of the spindle 36B. The applied voltage signal is sent from the control means 38 to the piezoelectric element 31. The waveform of the applied voltage signal sent from the control means 38 to the piezoelectric element 31 is shown in FIG. The control means 38, as shown in FIG.
As shown in FIG. 7B, one rectangular wave applied voltage signal, a plurality of rectangular wave applied voltage signals,
As shown in (C), an applied voltage signal that increases in a stepwise manner with the passage of time is sent to the piezoelectric element 31.

【0026】このような構成の第2実施例によれば、前
記第1実施例の効果に加え次の効果を奏することができ
る。即ち、移動機構を圧電素子31としたので、基準平
面1Aとブロックゲージ3との剥離作業に際して、これ
らのブロックゲージ3と基準ブロック1との相対移動距
離を小さくできるので、基準平面1Aとブロックゲージ
3との密着面に与える損傷を小さくできる。
According to the second embodiment having such a configuration, the following effects can be obtained in addition to the effects of the first embodiment. That is, since the moving mechanism is the piezoelectric element 31, the relative movement distance between the block gauge 3 and the reference block 1 can be reduced during the work of separating the reference plane 1A and the block gauge 3, so that the reference plane 1A and the block gauge 3 are separated. Damage to the surface in close contact with 3 can be reduced.

【0027】以上、本発明について好適な実施例を挙げ
て説明したが、本発明はこの実施例に限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の
改良並びに設計の変更が可能なことは勿論である。例え
ば、前記第1実施例では移動機構5をマイクロメータヘ
ッドとしたが、本発明では、基準平面1Aとブロックゲ
ージ3とを相対移動できる構造であれば、マイクロメー
タヘッドに代えてねじ又はボールねじ等を用い、基準平
面1Aに対してブロックゲージ3を引き、あるいは、基
準平面1Aからブロックゲージ3を離隔させる構成でも
よい。さらに、前記温度差付与手段を前記基準ブロック
保持手段2の内部に配置された加熱ヒータ41とし、こ
の加熱ヒータ41で前記基準ブロック3を下端部から加
熱する構造としたが、前記温度差付与手段の構造はこれ
に限定されるものではない。例えば、ブロックゲージ3
にのみ冷気を噴射する構成の冷却装置でもよく、ブロッ
クゲージ3にのみ加熱する加熱ヒータでもよく、基準ブ
ロック1にのみ冷気を噴射する構成の冷却装置でもよ
く、あるいは、ブロックゲージ3を冷却し、基準ブロッ
ク1を加熱する構造、この逆に、ブロックゲージ3を加
熱し、基準ブロック1を冷却する構造でもよい。要する
に、本発明の温度差付与手段は、前記基準ブロック1と
前記ブロックゲージ3との相対的な温度差を付与する構
成であるならば、その具体的な構成は問わない。
Although the present invention has been described with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to these embodiments, and various improvements and design changes may be made without departing from the spirit of the present invention. Of course, it is possible. For example, in the first embodiment, the moving mechanism 5 is a micrometer head. However, in the present invention, a screw or a ball screw may be used instead of the micrometer head if the reference plane 1A and the block gauge 3 can be relatively moved. For example, the block gauge 3 may be pulled with respect to the reference plane 1A, or the block gauge 3 may be separated from the reference plane 1A. Further, the temperature difference providing means is a heater 41 disposed inside the reference block holding means 2 and the heater 41 heats the reference block 3 from the lower end. Is not limited to this. For example, block gauge 3
A cooling device configured to inject cold air only to the block gauge 3, a heater configured to heat only the block gauge 3 may be used, or a cooling device configured to inject cool air only to the reference block 1 may be used. A structure for heating the reference block 1, or conversely, a structure for heating the block gauge 3 and cooling the reference block 1 may be used. In short, the specific structure of the temperature difference providing means of the present invention is not limited as long as it is configured to provide a relative temperature difference between the reference block 1 and the block gauge 3.

【0028】また、移動機構であるマイクロメータヘッ
ド5を基準ブロック保持手段2に設け、この基準ブロッ
ク保持手段2のストッパ機構8で基準ブロック1のブロ
ックゲージ押圧方向の移動を規制する構成としたが、本
発明では、ブロックゲージ3を固定し、基準ブロック保
持手段2に移動機構を設けて基準ブロック1を移動させ
る構成、あるいは、基準ブロック保持手段2及びブロッ
クゲージ保持手段4の双方に移動機構を設け、ブロック
ゲージ3と基準ブロック1とを互いに対向する方向に移
動させる構成でもよい。さらに、ストッパブロック10
及び基準ブロック保持部材11から前記ストッパ機構8
を構成したが、本発明では、ストッパブロック10のみ
からストッパ機構8を構成してもよい。また、前記作動
板12は、先細りのテーパ部12Bを有するとともにこ
のテーパ部12Bの先端が前記ブロックゲージ3の前記
基準平面1Aの近傍を押圧する構造としたが、ブロック
ゲージ3を押圧する部位は必ずしもテーパ部12Bの先
端であることを要しない。例えば、作動板12を平板か
ら形成し、この平板の垂直端面でブロックゲージ3を押
圧する構成でもよい。
Also, the micrometer head 5 as a moving mechanism is provided on the reference block holding means 2 and the stopper mechanism 8 of the reference block holding means 2 regulates the movement of the reference block 1 in the block gauge pressing direction. According to the present invention, the block gauge 3 is fixed, and a moving mechanism is provided in the reference block holding means 2 to move the reference block 1, or a moving mechanism is provided in both the reference block holding means 2 and the block gauge holding means 4. A configuration may be provided in which the block gauge 3 and the reference block 1 are moved in directions facing each other. Further, the stopper block 10
And from the reference block holding member 11 to the stopper mechanism 8
However, in the present invention, the stopper mechanism 8 may be constituted by only the stopper block 10. The operation plate 12 has a tapered portion 12B that is tapered, and the tip of the tapered portion 12B presses the vicinity of the reference plane 1A of the block gauge 3, but the portion that presses the block gauge 3 is It does not necessarily need to be the tip of the tapered portion 12B. For example, the operating plate 12 may be formed from a flat plate, and the block gauge 3 may be pressed by the vertical end face of the flat plate.

【0029】さらに、前記実施例では、前記基準ブロッ
ク移動規制部材19は、ブロックゲージ保持手段4の構
成部材である作動板12、作動板ガイド14及び把手1
6から構成されたが、この構成に基準ブロック移動規制
部材は限定されない。例えば、基準ブロック移動規制部
材は、基準ブロック1の基準平面1Aを係止するフック
を含んで構成し、このフックは基準ブロック保持手段2
の構成部材としてベースブロック6に固定した構造とし
てもよい。また、前記ブロックゲージ保持手段4の把手
16は、必ずしも断熱性材料から形成することを要しな
い。さらに、基準ブロック1は、角柱等の円柱以外の形
状でもよい。また、基準ブロック1とブロックゲージ3
とは同じ材質でもよい。
Further, in the embodiment, the reference block movement restricting member 19 includes the operating plate 12, the operating plate guide 14 and the handle 1, which are constituent members of the block gauge holding means 4.
6, the reference block movement restricting member is not limited to this configuration. For example, the reference block movement restricting member is configured to include a hook that locks the reference plane 1A of the reference block 1, and the hook is a reference block holding unit 2.
May be fixed to the base block 6. Further, the handle 16 of the block gauge holding means 4 does not necessarily need to be formed from a heat insulating material. Further, the reference block 1 may have a shape other than a cylinder such as a prism. Also, reference block 1 and block gauge 3
May be the same material.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基準ブロックを保持する基準ブロック保持手段と、ブロ
ックゲージを保持するブロックゲージ保持手段と、前記
基準ブロックと前記ブロックゲージとの相対的な温度差
を付与する温度差付与手段と、このブロックゲージ保持
手段及び基準ブロック保持手段の少なくとも一方に設け
られ前記ブロックゲージと前記基準ブロックとを相対移
動させる移動機構とを備えて光波干渉測定用密着面剥離
治具を構成したから、万力等で挟持されたブロックゲー
ジを基準平面から無理に引き離す必要がなく、よって、
ブロックゲージ及び基準ブロックの双方に損傷を与える
ことなくブロックゲージと基準平面とを簡単に剥離する
ことができる。また、本発明では、前記温度差付与手段
を前記基準ブロック保持手段の内部に配置され前記基準
ブロックを加熱する加熱ヒータとすれば、簡単な構造で
基準ブロックとブロックゲージの間の温度差を付与でき
る。
As described above, according to the present invention,
Reference block holding means for holding a reference block, block gauge holding means for holding a block gauge, temperature difference providing means for giving a relative temperature difference between the reference block and the block gauge, and block gauge holding means And a moving mechanism provided on at least one of the reference block holding means and configured to relatively move the block gauge and the reference block, so that the jig for peeling off the contact surface for light wave interference measurement is constituted. There is no need to force the block gauge away from the reference plane,
The block gauge and the reference plane can be easily peeled off without damaging both the block gauge and the reference block. Further, in the present invention, if the temperature difference providing means is a heater arranged inside the reference block holding means and heating the reference block, the temperature difference between the reference block and the block gauge is provided with a simple structure. it can.

【0031】さらに、移動機構をマイクロメータヘッド
とすれば、このマイクロメータヘッドの目盛りを読み取
りながらスピンドルを前進させることにより、基準平面
からブロックゲージを確実に剥離することができる。さ
らに、移動機構を圧電素子とすれば、ブロックゲージと
基準ブロックとの相対移動距離を小さくできるので、基
準平面とブロックゲージとの密着面に与える損傷を小さ
くできる。また、前記マイクロメータヘッドを前記基準
ブロック保持手段に設け、この基準ブロック保持手段
を、前記基準ブロックのブロックゲージ押圧方向の移動
を規制するストッパ機構を備え、このストッパ機構を、
ストッパブロックと、このストッパブロックと前記基準
ブロックとの間に配置されるとともに前記マイクロメー
タヘッドのスピンドルの軸線方向と直交しかつ前記基準
平面と同一平面内で移動自在とされた基準ブロック保持
部材とを備え、この基準ブロック保持部材に前記基準ブ
ロックの側面と一致するガイドを形成すれば、基準ブロ
ックの中心がスピンドルの軸線の上からずれて配置され
ても、ストッパ機構の基準ブロック保持部材を前記スピ
ンドルの軸線方向と直交する方向に移動してガイドを基
準ブロックに一致させることにより、ブロックゲージと
基準平面とを確実に剥離することができる。
Further, if the moving mechanism is a micrometer head, the block gauge can be reliably peeled off from the reference plane by moving the spindle forward while reading the scale of the micrometer head. Further, if the moving mechanism is a piezoelectric element, the relative movement distance between the block gauge and the reference block can be reduced, so that damage to the contact surface between the reference plane and the block gauge can be reduced. Further, the micrometer head is provided on the reference block holding means, and the reference block holding means includes a stopper mechanism for restricting movement of the reference block in the block gauge pressing direction.
A stopper block, a reference block holding member disposed between the stopper block and the reference block, and perpendicular to the axial direction of the micrometer head spindle and movable in the same plane as the reference plane. If a guide that coincides with the side surface of the reference block is formed on the reference block holding member, the reference block holding member of the stopper mechanism is moved even when the center of the reference block is displaced from above the axis of the spindle. By moving the guide to the reference block by moving in the direction perpendicular to the axial direction of the spindle, the block gauge and the reference plane can be reliably separated.

【0032】前記ブロックゲージ保持手段を、先細りの
テーパ部を有するとともにこのテーパ部の先端が前記ブ
ロックゲージの前記基準平面の近傍を押圧する作動板を
備えた構成にすれば、ブロックゲージと基準平面とを剥
離する際に基準平面に破損が生じることがない。
If the block gauge holding means has a tapered tapered portion and an operation plate for pressing the tip of the tapered portion near the reference plane of the block gauge, the block gauge and the reference plane are provided. No damage occurs on the reference plane when exfoliating.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例に係る密着面剥離治具を示
す正面図である。
FIG. 1 is a front view showing a contact surface peeling jig according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2は図1の平面図である。FIG. 2 is a plan view of FIG. 1;

【図3】図3は図1のIII-III 線に沿う矢視断面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III in FIG. 1;

【図4】第1実施例の要部を示す縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing a main part of the first embodiment.

【図5】ブロック機構の作用を示す図2と同様の図であ
る。
FIG. 5 is a view similar to FIG. 2, showing the operation of the block mechanism.

【図6】本発明の第2実施例に係る密着面剥離治具を示
す図2と同様の図である。
FIG. 6 is a view similar to FIG. 2 showing a contact surface peeling jig according to a second embodiment of the present invention.

【図7】圧電素子へ送られる印加電圧信号の波形を示す
グラフである。
FIG. 7 is a graph showing a waveform of an applied voltage signal sent to a piezoelectric element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基準ブロック 1A 基準平面 2,33 基準ブロック保持手段 3 ブロックゲージ 3A 測定面 4,30 ブロックゲージ保持手段 5 移動機構としてのマイクロメータヘッ
ド 5B スピンドル 8 ストッパ機構 10 ストッパブロック 11 基準ブロック保持部材 11A ガイド 12 作動板 12B テーパ部 31 移動機構としての圧電素子 41 温度差付与手段としての加熱ヒータ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reference block 1A Reference plane 2, 33 Reference block holding means 3 Block gauge 3A Measurement surface 4, 30 Block gauge holding means 5 Micrometer head as a moving mechanism 5B Spindle 8 Stopper mechanism 10 Stopper block 11 Reference block holding member 11A Guide 12 Operating plate 12B Tapered portion 31 Piezoelectric element 41 as moving mechanism 41 Heater as temperature difference providing means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 胡 尚弥 神奈川県川崎市高津区坂戸1−20−1 株式会社ミツトヨ内 (72)発明者 稲垣 章 神奈川県川崎市高津区坂戸1−20−1 株式会社ミツトヨ内 (56)参考文献 特開 平5−126972(JP,A) 特開 平5−226214(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 9/00 - 11/30 102 G01B 3/00 - 5/30 G01B 21/00 - 21/32 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hu Naoya 1-2-1-1, Sakado, Takatsu-ku, Kawasaki, Kanagawa Prefecture Mitutoyo Co., Ltd. (72) Akira Inagaki 1-2-1-1, Sakado, Takatsu-ku, Kawasaki, Kanagawa Stock (56) References JP-A-5-126972 (JP, A) JP-A-5-226214 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01B 9/00 -11/30 102 G01B 3/00-5/30 G01B 21/00-21/32

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 光波干渉測定に用いられたブロックゲー
ジとこのブロックゲージが基準平面に密着された基準ブ
ロックとを剥離する密着面剥離治具であって、前記基準
ブロックを保持する基準ブロック保持手段と、前記ブロ
ックゲージを保持するブロックゲージ保持手段と、前記
基準ブロックと前記ブロックゲージとの相対的な温度差
を付与する温度差付与手段と、前記ブロックゲージ保持
手段及び基準ブロック保持手段の少なくとも一方に設け
られ前記ブロックゲージと前記基準ブロックとを相対移
動させる移動機構とを備えたことを特徴とする光波干渉
測定用密着面剥離治具。
1. A jig for separating a block gauge used for light wave interference measurement and a reference block in which the block gauge is in close contact with a reference plane, the reference block holding means holding the reference block. A block gauge holding unit for holding the block gauge, a temperature difference providing unit for giving a relative temperature difference between the reference block and the block gauge, and at least one of the block gauge holding unit and the reference block holding unit. And a moving mechanism for relatively moving the block gauge and the reference block.
【請求項2】 請求項1記載の光波干渉測定用密着面剥
離治具において、前記温度差付与手段は、前記基準ブロ
ック保持手段の内部に配置され前記基準ブロックを加熱
する加熱ヒータであることを特徴とする光波干渉測定用
密着面剥離治具。
2. The jig according to claim 1, wherein the temperature difference providing means is a heater arranged inside the reference block holding means for heating the reference block. Characteristic adhesive surface peeling jig for light wave interference measurement.
【請求項3】 請求項1又は2記載の光波干渉測定用密
着面剥離治具において、前記移動機構はマイクロメータ
ヘッドを備えて構成されたことを特徴とする光波干渉測
定用密着面剥離治具。
3. A jig for peeling a contact surface for light wave interference measurement according to claim 1 or 2, wherein said moving mechanism comprises a micrometer head. .
【請求項4】 請求項1又は2記載の光波干渉測定用密
着面剥離治具において、前記移動機構は圧電素子を備え
て構成されたことを特徴とする光波干渉測定用密着面剥
離治具。
4. The jig for peeling a contact surface for light wave interference measurement according to claim 1, wherein the moving mechanism is provided with a piezoelectric element.
【請求項5】 請求項3記載の光波干渉測定用密着面剥
離治具において、前記マイクロメータヘッドは前記基準
ブロック保持手段に設けられ、この基準ブロック保持手
段は、前記基準ブロックのブロックゲージ押圧方向の移
動を規制するストッパ機構を備え、このストッパ機構
は、ストッパブロックと、このストッパブロックと前記
基準ブロックとの間に配置されるとともに前記マイクロ
メータヘッドのスピンドルの軸線方向と直交しかつ前記
基準平面と同一平面内で移動自在とされた基準ブロック
保持部材とを備え、この基準ブロック保持部材には前記
基準ブロックの側面と一致するガイドが形成されている
ことを特徴とする光波干渉測定用密着面剥離治具。
5. The jig according to claim 3, wherein the micrometer head is provided on the reference block holding unit, and the reference block holding unit is configured to press the reference block with a block gauge. A stopper mechanism for restricting the movement of the micrometer head. The stopper mechanism is disposed between the stopper block and the reference block, and is orthogonal to the axial direction of the spindle of the micrometer head and the reference plane. A reference block holding member movable in the same plane as the reference block holding member, and a guide coinciding with a side surface of the reference block is formed on the reference block holding member. Peeling jig.
【請求項6】 請求項1から5にいずれか記載の光波干
渉測定用密着面剥離治具において、前記ブロックゲージ
保持手段は、先細りのテーパ部を有するとともにこのテ
ーパ部の先端が前記ブロックゲージの前記基準平面の近
傍を押圧する作動板を備えたことを特徴とする光波干渉
測定用密着面剥離治具。
6. A jig for separating an adhesive surface for light wave interference measurement according to claim 1, wherein said block gauge holding means has a tapered tapered portion, and a tip of said tapered portion is formed of said block gauge. A contact surface peeling jig for light wave interference measurement, comprising an operating plate for pressing the vicinity of the reference plane.
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