JP3330156B2 - Antistatic display - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、表示面が帯電防止され
たディスプレー関するものである。さらに詳しくは、家
庭用テレビ等のAV製品やコンピュータに用いられてい
るCRT型ディスプレーや液晶表示型ディスプレーに関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display having a display surface having an antistatic property. More specifically, the present invention relates to a CRT display and a liquid crystal display used in AV products such as home televisions and computers.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のCRT型ディスプレーはガラス製
であり、使用時には内部で電子線を操作しながら照射す
るため、表示面が帯電され易く、この帯電により室内に
浮遊しているゴミや埃が引きつけられて汚れやすい欠点
があった。そこで、この帯電を防ぐため、表示面のガラ
ス表面に導電性樹脂を塗布したり導電性フィルムを張り
つけたり、ITO(インジウム−スズ酸化物)等の導電
性セラミックを蒸着する方法が用いられていた。別の手
段としては、たとえばワードプロセッサやパソコンなど
のディスプレーの前面にプラスチックプレート製光透過
板を設け、このプラスチックプレートの表面にITO等
の導電層を形成したものが知られている。2. Description of the Related Art A conventional CRT type display is made of glass and, when used, emits light while operating an electron beam internally, so that the display surface is easily charged, and dust and dust floating in a room due to the charging are liable to be charged. There was a drawback that it was attracted and easily stained. Therefore, in order to prevent this charging, a method of applying a conductive resin to the glass surface of the display surface, attaching a conductive film, or vapor-depositing a conductive ceramic such as ITO (indium-tin oxide) has been used. . As another means, for example, a light-transmitting plate made of a plastic plate is provided on the front of a display such as a word processor or a personal computer, and a conductive layer such as ITO is formed on the surface of the plastic plate.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、導電性
樹脂を塗布したり導電性フィルムを張りつける方法また
はプラスチックプレート製光透過板を設置する方法で
は、透明性が劣る上、剥離や傷が付き易いなどの欠点が
あった。また、ITOを蒸着する方法では、信頼性は高
いが、コストが高いなどの問題点があった。However, the method of applying a conductive resin or attaching a conductive film or the method of installing a light transmitting plate made of a plastic plate is inferior in transparency and easily peeled or scratched. There were drawbacks. In addition, the method of depositing ITO has high reliability but has problems such as high cost.
【0004】本発明は、前記従来技術の課題を解決する
ため、透明性や耐久性が高く、所望の弱導電性を有する
帯電防止膜を表示面に形成し、家庭用テレビ等のAV製
品やコンピュータ用ディスプレーの汚れを有効に防止す
る発明を提供することを目的とする。[0004] In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, the present invention forms an antistatic film having high transparency and durability and a desired weak electrical conductivity on a display surface, and is used for AV products such as home televisions and the like. It is an object of the present invention to provide an invention for effectively preventing a display for a computer from being stained.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の帯電防止ディスプレーは、表示面が化学吸
着単分子膜で被われたディスプレーであって、前記化学
吸着単分子膜は前記表示面とシロキサン結合によって結
合しており、かつ単分子膜表面に親水性基を含んでお
り、導電率が10 -6 S/cm〜10 -10 S/cmの範囲
内であることを特徴とする。前記構成においては、前記
単分子膜が以下の式、A−(B) r −SiCl 3 (ただし、式中、Aはブロモ基、ヨード基、シアノ基、
チオシアノ基、クロロシリル基、またはエステル結合を
含む官能基を示し、Bは有機基を示し、rは30以下の
自然数を示す) で表される分子によって形成された膜であり、前記分子
と前記表示面とがシロキサン結合によって結合している
ことが好ましい。In order to achieve the above object, an antistatic display according to the present invention is a display having a display surface covered with a chemisorption monomolecular film, wherein the chemisorption monomolecular film has the display. Surface and a siloxane bond and contain a hydrophilic group on the monomolecular film surface .
The conductivity is in the range of 10 −6 S / cm to 10 −10 S / cm
It is characterized by being within . In the above structure, the monomolecular film has the following formula: A- (B) r -SiCl 3 (where A is a bromo group, an iodo group, a cyano group,
A functional group containing a thiocyano group, a chlorosilyl group, or an ester bond , B represents an organic group, and r represents a natural number of 30 or less). It is preferable that the surfaces are bonded by a siloxane bond.
【0006】前記構成においては、親水性基が−OH、
−COOH、−NH2 、−N+ R3X- (Rはアルキル
基、Xはハロゲン原子を示す)、−NO2 、または−S
O3H基であることが好ましい。In the above structure, the hydrophilic group is -OH,
—COOH, —NH 2 , —N + R 3 X − (R represents an alkyl group, X represents a halogen atom), —NO 2 , or —S
It is preferably an O 3 H group.
【0007】また前記構成においては、−COOH、ま
たは−SO3 H基のHがアルカリ金属、アルカリ土類金
属または他の金属で置換されていることが好ましい。[0007] In addition the configuration, -COOH, or H is an alkali metal -SO 3 H group, it is preferably substituted with an alkaline earth metal or other metals.
【0008】[0008]
【作用】前記本発明の構成によれば、弱導電性の官能基
が化学吸着された分子を介してシロキサン結合でCRT
などのディスプレー表示面に固定されるため、帯電防止
効果を発揮し、剥離することもない。しかもこの単分子
膜は膜厚がナノメーターレベルであるため、表示画面の
画像特性を低下するおそれも無い。従ってCRTなどの
ディスプレー表示面の帯電による汚れの発生を防止で
き、耐久性にも優れたものとすることができる。According to the constitution of the present invention, the CRT is formed by a siloxane bond via a molecule having a weakly conductive functional group chemically adsorbed thereon.
Since it is fixed to a display surface such as a display, it exhibits an antistatic effect and does not peel off. Moreover, since the thickness of this monomolecular film is on the order of nanometers, there is no possibility that the image characteristics of the display screen will be reduced. Accordingly, it is possible to prevent generation of stains due to charging of a display surface of a CRT or the like, and to achieve excellent durability.
【0009】また親水性基が−OH、−COOH、−N
H2 、−N+ R3 X- (Rはアルキル基、Xはハロゲン
原子を示す)、−NO2 、または−SO3 H基であると
いう本発明の好ましい構成によれば、さらに優れた帯電
防止機能を発揮できる。Further, when the hydrophilic group is -OH, -COOH, -N
According to the preferred structure of the present invention in which H 2 , —N + R 3 X − (R represents an alkyl group and X represents a halogen atom), —NO 2 , or —SO 3 H group, further excellent charging is achieved. It can exhibit the prevention function.
【0010】また−COOH、または−SO3 H基のH
がアルカリ金属、アルカリ土類金属または他の金属で置
換されているという本発明の好ましい構成によれば、と
くに優れた帯電防止機能を発揮できる。[0010] Further, H of -COOH or -SO 3 H group
Is preferably substituted by an alkali metal, an alkaline earth metal or another metal, thereby exhibiting a particularly excellent antistatic function.
【0011】[0011]
【実施例】以下実施例を用いて本発明をさらに具体的に
説明する。本発明の帯電防止ディスプレーは次のように
して製造する。まず、加工の終了したガラス製のCRT
を用意し、その表示面にクロロシリル基を分子末端に含
む物質、たとえばA−(B)r −SiXq Cl3-q (た
だし、Aはブロモ基、ヨード基、シアノ基、チオシアノ
基、クロロシリル基、またはエステル結合を含む官能
基、qは0または1または2、rは30以下の自然数、
Bは有機基)を混ぜた非水系溶媒に接触させ、前記CR
T表示面面の水酸基と前記クロロシリル基を分子末端に
含む物質のクロロシリル基とを反応させて、前記物質を
前記表示面に析出させる工程と、非水系有機溶媒を用い
前記CRT表示面上に残った未反応クロロシリル基を複
数個含む物質を洗浄除去した後、前記物質のブロモ基、
ヨード基、シアノ基、チオシアノ基、クロロシリル基、
またはエステル結合を含む官能基をそのままあるいは化
学反応させて−OH、−COOH、−NH2 、−N+ R
3X- (Xはハロゲン原子を示す)、−NO2 、または
−SO3 H基に変換させる工程とにより帯電防止化学吸
着単分子膜をCRT表示面に形成する。あるいは、−C
OOH、または−SO3 H基に変換後、−COOH、ま
たは−SO3 H基の官能基内のHをアルカリ金属、アル
カリ土類金属または他の金属と置換した単分子膜を形成
する。ここでアルカリ金属とは、例えばLi,Na,
K,Rb,Cs,Frをいい、またはアルカリ土類金属
とは、例えばBe,Mg,Ca,Sr,Ba,Raをい
い、または他の金属とは、Al,Ti,V,Cr,M
n,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Ga,Zr,Ln
などの長周期型周期律表の4A,5A,6A,7A,
8,1B,2B,3B)の化合物などをいう。要は前記
カルボン酸またはスルホン酸と塩(錯塩を含む)を形成
できる金属であればどのような金属でも使用できる。The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The antistatic display of the present invention is manufactured as follows. First, a finished glass CRT
Was prepared, materials containing the molecular end a chlorosilyl group at the display surface, for example, A- (B) r -SiX q Cl 3-q ( although, A is bromo group, iodo group, cyano group, thiocyano group, chlorosilyl group Or a functional group containing an ester bond, q is 0 or 1 or 2, r is a natural number of 30 or less,
B is contacted with a non-aqueous solvent mixed with an organic group),
Reacting the hydroxyl group on the T display surface with the chlorosilyl group of the substance containing the chlorosilyl group at the molecular terminal to deposit the substance on the display surface, and leaving the substance on the CRT display surface using a non-aqueous organic solvent. After washing and removing the substance containing a plurality of unreacted chlorosilyl groups, the bromo group of the substance,
Iodine group, cyano group, thiocyano group, chlorosilyl group,
Alternatively, a functional group containing an ester bond is directly or chemically reacted to form —OH, —COOH, —NH 2 , —N + R
3 X - (X represents a halogen atom), - NO 2, or by a step of converting the -SO 3 H group to form an antistatic chemisorption monomolecular film on the CRT display surface. Or -C
OOH, or converted into -SO 3 H group, -COOH, or to form a -SO 3 H and alkali metal in the functional group of the H group, an alkaline earth metal or other metal and substituted monolayer. Here, the alkali metal is, for example, Li, Na,
K, Rb, Cs, Fr; or alkaline earth metal refers to, for example, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra; or other metal refers to Al, Ti, V, Cr, M
n, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Zr, Ln
Such as 4A, 5A, 6A, 7A,
8, 1B, 2B, 3B). In short, any metal that can form a salt (including a complex salt) with the carboxylic acid or sulfonic acid can be used.
【0012】以下、本発明に関するディスプレーの帯電
防止を目的とした弱導電性を有する化学吸着膜の作製に
は、単分子膜に帯電防止機能を有する官能基として−O
H、−COOH、−NH2 、−N+ R3 X- (Rはアル
キル基、Xはハロゲン原子を示す)、−NO2 、または
−SO3 H基等を導入する方法があるが、以下順に説明
する。Hereinafter, in order to prepare a chemically adsorbed film having weak conductivity for the purpose of preventing the display from being charged according to the present invention, a monomolecular film having -O as a functional group having an antistatic function is used.
H, -COOH, -NH 2, -N + R 3 X - (R represents an alkyl group, X is a halogen atom), - NO 2, or there is a method of introducing a -SO 3 H group, or less It will be described in order.
【0013】実施例1(−OH基の導入) まず、ガラス製CRT11を用意し(図1(a))、有
機溶媒で洗浄した後、表示面をエステル結合(R−CO
−OCH2 −(Rは官能基))を含む官能基及びクロロ
シラン基を含む化学吸着剤を混ぜた非水系の溶媒、例え
ば、CH3 OOC(CH2 )7 SiCl3 を用い、2wt
%程度の濃度で溶かした80wt%n−ヘキサデカン(ト
ルエン、キシレン、ビシクロヘキシルでもよい)、12
wt%四塩化炭素、8wt%クロロホルム溶液を調整し、前
記CRT表示面を5時間程度浸漬すると、CRT表示面
には水酸基12が多数含まれているので、前記化学吸着
剤のSiCl基と前記水酸基が反応し脱塩酸反応が生じ
る。次いで非水系容液の一例であるクロロホルムを用い
て未反応化学吸着剤を洗浄・除去し、次いで水と反応さ
せると、CRT表示面全面に亘り下記(化1)に示す結
合が生成され、エステル結合を含む単分子膜13がCR
T表示面と化学結合した状態で約20オングストローム
の膜厚で形成できた(図1(b))。Example 1 (Introduction of -OH group) First, a glass CRT 11 was prepared (FIG. 1 (a)), washed with an organic solvent, and the display surface was ester-bonded (R-CO).
A non-aqueous solvent mixed with a functional group containing —OCH 2 — (R is a functional group)) and a chemical adsorbent containing a chlorosilane group, for example, CH 3 OOC (CH 2 ) 7 SiCl 3 ;
80 wt% n-hexadecane (may be toluene, xylene, bicyclohexyl) dissolved at a concentration of about
When the CRT display surface is immersed for about 5 hours after preparing a wt% carbon tetrachloride and 8 wt% chloroform solution, since the CRT display surface contains a large number of hydroxyl groups 12, the chemical adsorbent contains SiCl groups and the hydroxyl groups. React to cause a dehydrochlorination reaction. Next, the unreacted chemical adsorbent is washed and removed using chloroform, which is an example of a non-aqueous solution, and then reacted with water to form the bond shown below (Chem. 1) over the entire CRT display surface, and the ester is formed. The monomolecular film 13 containing a bond is CR
A film having a thickness of about 20 Å was formed in a state of being chemically bonded to the T display surface (FIG. 1B).
【0014】[0014]
【化1】 Embedded image
【0015】次に、このCRT表示面を数wt%のリチウ
ムアルミニウムハイドライド(LiAlH4 )を含むエ
ーテル溶液中で室温下で20分反応させて、末端に親水
性の水酸基に変換し、次の化学式で表わされる単分子膜
14を形成した(図1(c))。Next, the CRT display surface is reacted at room temperature for 20 minutes in an ether solution containing a few wt% of lithium aluminum hydride (LiAlH 4 ) to convert the terminal to a hydrophilic hydroxyl group. Was formed (FIG. 1 (c)).
【0016】[0016]
【化2】 Embedded image
【0017】なお、この単分子膜14はきわめて強固に
CRT表示面に化学結合しているので剥離することがな
かった。また、この単分子膜は空気中の水蒸気を吸着
し、導電性は約10-8S/cmであった。Since the monomolecular film 14 is extremely strongly chemically bonded to the CRT display surface, it does not peel off. The monomolecular film adsorbed water vapor in the air, and had a conductivity of about 10 −8 S / cm.
【0018】さらに、ここでアルカリ金属の有機化合
物、例えばLi(CH2 )3 CH3 (NaOCH3 でも
よい)を5wt%程度溶解したヘキサン溶液にCRT表示
面を浸漬すると、次の化学式で表わされるきわめて親水
性の高い膜15が形成できた(図1(d))。Further, when the CRT display surface is immersed in a hexane solution in which about 5 wt% of an organic compound of an alkali metal, for example, Li (CH 2 ) 3 CH 3 (or NaOCH 3 ) is dissolved, the following chemical formula is obtained. An extremely hydrophilic film 15 was formed (FIG. 1D).
【0019】[0019]
【化3】 Embedded image
【0020】なお、この単分子膜は空気中の水蒸気を吸
着し、導電性は約10-6S/cmであった。なお、この
実施例においては、CRT組み立て後に吸着を行なった
が、組み立て前のフェイスプレートに前もって本実施例
の化学吸着膜を形成しておいてもよい。The monomolecular film adsorbed water vapor in the air, and had a conductivity of about 10 -6 S / cm. In this embodiment, the adsorption is performed after the CRT is assembled. However, the chemisorption film of the present embodiment may be formed in advance on the face plate before the assembly.
【0021】実施例2(−COOH基の導入) 例えば、平板のガラス製液晶表示ディスプレー21を用
意し(図2(a))、よく洗浄した後、エステル結合
(R−CO−OCH2 −(Rは有機基))をもつ官能基
とクロロシリル基を含む化学吸着剤を混ぜた非水系の溶
媒、例えばCH3OOC(CH2 )10SiCl3 を用
い、2wt%程度の濃度で溶かした80wt%n−ヘキサデ
カン(トルエン、キシレン、ビシクロヘキシルでもよ
い)、12wt%四塩化炭素、8wt%クロロホルム溶液を
調整し、前記基板を5時間程度浸漬すると、ディスプレ
ーの表面には水酸基22が多数含まれているので、前記
化学吸着剤のSiCl基と前記水酸基が反応し脱塩酸反
応が生じる。次いで非水系容液の一例であるクロロホル
ムを用いて未反応化学吸着剤を洗浄・除去し、次いで水
と反応させると、基板表面全面に亘り、下記(化4)に
示す結合が生成され、エステル結合を含む単分子膜23
が表示面の表面と化学結合した状態で約20オングスト
ロームの膜厚で形成できた(図2(b))。Example 2 (Introduction of -COOH group) For example, a flat glass liquid crystal display 21 was prepared (FIG. 2A), washed well, and then an ester bond (R-CO-OCH 2- ( R is a non-aqueous solvent mixed with a chemical adsorbent containing a functional group having an organic group)) and a chlorosilyl group, for example, CH 3 OOC (CH 2 ) 10 SiCl 3, and is dissolved at a concentration of about 2 wt% to 80 wt%. A solution of n-hexadecane (toluene, xylene, bicyclohexyl), 12 wt% carbon tetrachloride, 8 wt% chloroform solution is prepared, and the substrate is immersed for about 5 hours. The display surface contains a large number of hydroxyl groups 22. Therefore, the SiCl group of the chemical adsorbent reacts with the hydroxyl group to cause a dehydrochlorination reaction. Next, the unreacted chemical adsorbent is washed and removed using chloroform, which is an example of a non-aqueous solution, and then reacted with water, whereby the bond shown in the following (Formula 4) is formed over the entire surface of the substrate, and the ester is formed. Monolayer 23 containing a bond
Was formed with a thickness of about 20 Å in a state of being chemically bonded to the surface of the display surface (FIG. 2B).
【0022】[0022]
【化4】 Embedded image
【0023】次に、この表示面を塩酸(HCl)の36
wt%溶液中で65℃で30分反応させて、下記(化5)
に示す末端に親水性のカルボキシル基を形成した。Next, this display surface is made of hydrochloric acid (HCl) 36.
After reacting at 65 ° C. for 30 minutes in a wt% solution,
A hydrophilic carboxyl group was formed at the terminal shown in FIG.
【0024】[0024]
【化5】 Embedded image
【0025】なお、この単分子膜24(図2(c))も
きわめて強固に表示面に化学結合しているので剥離する
ことがなかった。また、この単分子膜は空気中の水蒸気
を吸着し、導電性は約10-9S/cmであった。The monomolecular film 24 (FIG. 2 (c)) was also very strongly chemically bonded to the display surface, and thus did not peel off. The monomolecular film adsorbed water vapor in the air, and had a conductivity of about 10 -9 S / cm.
【0026】さらに、ここでアルカリ金属、アルカリ土
類金属または他の金属の化合物、例えばNaOH(別の
ものとしてCa(OH)2 でもよい)を1wt%程度溶解
した水溶液に表示面を浸漬すると、下記(化6)で表わ
されるきわめて導電性の高い膜25(図2(d))が表
示面上に形成できた。Further, when the display surface is immersed in an aqueous solution in which about 1% by weight of a compound of an alkali metal, an alkaline earth metal or another metal, for example, NaOH (Ca (OH) 2 may be separately used) is dissolved, An extremely conductive film 25 (FIG. 2D) represented by the following (Formula 6) was formed on the display surface.
【0027】[0027]
【化6】 Embedded image
【0028】なお、この単分子膜は空気中の水蒸気を吸
着し、導電性は約10-6S/cmであった。この実施例
においては、液晶セル組み立て後に吸着を行なったが、
組み立て前のフェイスプレートに前もって化学吸着膜を
形成しておいてもよい。The monomolecular film adsorbed water vapor in the air, and had a conductivity of about 10 -6 S / cm. In this embodiment, adsorption was performed after assembling the liquid crystal cell.
A chemical adsorption film may be formed on the face plate before assembly.
【0029】実施例3(−NH2 基の導入) まず、CRT用フェイスプレート31を用意し(図3
(a))、重クロム酸を含む水溶液で80℃で30分程
度洗浄し、その後水洗してシアノ基及びクロロシリル基
を含む化学吸着剤を混ぜた非水系の溶媒、例えば、NC
(CH2 )17SiCl3 を用い、1wt%程度の濃度で溶
かした80wt%n−ヘキサデカン(トルエン、キシレ
ン、ビシクロヘキシルでもよい)、12wt%四塩化炭
素、8wt%クロロホルム溶液を調整し、前記フェイスプ
レートを2時間程度浸漬すると、プレート表面には水酸
基32が多数含まれているので、前記化学吸着剤のSi
Cl基と前記水酸基が反応し脱塩酸反応が生じる。次い
で非水系容液の一例であるクロロホルムを用いて未反応
化学吸着剤を洗浄・除去し、次いで水と反応させると、
表面全面に亘り、下記(化7)の結合が生成され、シア
ノ基を含む単分子膜33が表面と化学結合した状態で形
成できた(図3(b))。Example 3 (Introduction of —NH 2 group) First, a CRT face plate 31 was prepared (FIG. 3).
(A)) a non-aqueous solvent, such as NC, which is washed with an aqueous solution containing dichromic acid at 80 ° C. for about 30 minutes and then washed with a chemical adsorbent containing a cyano group and a chlorosilyl group;
Using (CH 2 ) 17 SiCl 3 , a solution of 80 wt% n-hexadecane (toluene, xylene, bicyclohexyl), 12 wt% carbon tetrachloride and 8 wt% chloroform dissolved at a concentration of about 1 wt% was prepared. When the plate is immersed for about 2 hours, a large number of hydroxyl groups 32 are contained on the plate surface.
The Cl group reacts with the hydroxyl group to cause a dehydrochlorination reaction. Next, the unreacted chemical adsorbent is washed and removed using chloroform, which is an example of a non-aqueous solution, and then reacted with water.
The following bond (Formula 7) was generated over the entire surface, and a monomolecular film 33 containing a cyano group could be formed in a state chemically bonded to the surface (FIG. 3B).
【0030】[0030]
【化7】 Embedded image
【0031】次に、リチウムアルミニウムハイドライド
の溶解したエーテル(10mg/ml)にプレートを浸
漬し、一晩反応させる。その後、溶液から取り出しエー
テル、続いてエーテルと同容量の10wt%の塩酸を加え
る。その後、さらにトリエチルアミン溶液に入れて、2
時間反応を行わせた後、クロロホルム溶液で洗浄する
と、下記(化8)で表わせる親水性の高い単分子膜を得
た。なお、この単分子膜は空気中の水蒸気を吸着し、導
電性は約10-9S/cmであった。また、この単分子膜
33(図3(c))もきわめて強固にプレート表面に化
学結合しているので剥離することがなかった。Next, the plate is immersed in ether (10 mg / ml) in which lithium aluminum hydride is dissolved, and reacted overnight. Thereafter, the solution is taken out of the solution, and ether is added, followed by 10 wt% hydrochloric acid in the same volume as the ether. Then, further put in a triethylamine solution,
After performing the reaction for a time, the resultant was washed with a chloroform solution to obtain a highly hydrophilic monomolecular film represented by the following (Formula 8). The monomolecular film adsorbed water vapor in the air, and had a conductivity of about 10 -9 S / cm. This monomolecular film 33 (FIG. 3 (c)) was also very strongly chemically bonded to the plate surface, and thus did not peel off.
【0032】[0032]
【化8】 Embedded image
【0033】他の−NH2 基の導入実施例として、次の
ようなものがある。まず、フェイスプレートよく水洗浄
した後、ブロモ基またはヨード基とクロロシラン基を含
む化学吸着剤を混ぜた非水系の溶媒、例えばBr(CH
2 )17SiCl3 を用い、1wt%程度の濃度で溶かした
80wt%n−ヘキサデカン(トルエン、キシレン、ビシ
クロヘキシルでもよい)、12wt%四塩化炭素、8wt%
クロロホルム溶液を調整し、前記プレートを2時間程度
浸漬すると、表面には水酸基が多数含まれているので、
ブロモ基を含む化学吸着剤のSiCl基と前記水酸基が
反応し脱塩酸反応が生じ表面全面に亘り、下記(化9)
に示す結合が生成され、ブロモ基を含む単分子膜が表面
と化学結合した状態で形成できた。Examples of the introduction of other --NH 2 groups are as follows. First, after washing well with a face plate, a non-aqueous solvent mixed with a chemical adsorbent containing a bromo group or an iodine group and a chlorosilane group, for example, Br (CH)
2 ) 80 wt% n-hexadecane (toluene, xylene, bicyclohexyl may be used) dissolved at a concentration of about 1 wt% using 17 SiCl 3 , 12 wt% carbon tetrachloride, 8 wt%
After preparing a chloroform solution and immersing the plate for about 2 hours, since the surface contains many hydroxyl groups,
The SiCl group of the chemical adsorbent containing a bromo group reacts with the hydroxyl group to cause a dehydrochlorination reaction.
Was formed, and a monomolecular film containing a bromo group was formed in a state chemically bonded to the surface.
【0034】[0034]
【化9】 Embedded image
【0035】次に、ナトリウムアミドの溶解したN,N
ジメチルホルムアミド溶液(8mg/ml)にプレート
を入れ一晩反応を行わせと、下記(化10)に示す単分
子膜を得た。Next, N, N dissolved in sodium amide
The plate was placed in a dimethylformamide solution (8 mg / ml) and reacted overnight to obtain a monomolecular film shown in the following (Chemical Formula 10).
【0036】[0036]
【化10】 Embedded image
【0037】さらに、リチウムアルミニウムハイドライ
ドの溶解したエーテル(10mg/ml)にプレートを
浸漬し、一晩反応させた後取り出し、空の容器に入れ
て、エーテル、続いてエーテルと同容量の10wt%の塩
酸を加える。その後トリエチルアミン溶液に入れて、2
時間反応を行わせた後クロロホルム溶液で洗浄すると、
下記(化11)に示す単分子膜を得た。Further, the plate was immersed in ether (10 mg / ml) in which lithium aluminum hydride was dissolved, allowed to react overnight, taken out, put in an empty container, and then put ether, and then 10 wt% of the same volume as ether. Add hydrochloric acid. Then put in triethylamine solution and add 2
After reacting for hours, washing with chloroform solution,
A monomolecular film shown in the following (Formula 11) was obtained.
【0038】[0038]
【化11】 Embedded image
【0039】なお、この単分子膜もきわめて強固にプレ
ートに化学結合しているので剥離することがなかった。 実施例4(−N+ R3 X- 基(Xはハロゲン原子を示
す)の導入) まず、CRTを用意し(図4(a))、有機溶媒で洗浄
した後、一端にクロロシリル基及び他の一端にもクロロ
シリル基を含む化学吸着剤を混ぜた非水系の溶媒、例え
ば、ClSi(CH3 )2 (CH2 )10SiCl3 を用
い、2wt%程度の濃度で溶かした80wt%n−ヘキサデ
カン(トルエン、キシレン、ビシクロヘキシルでもよ
い)、12wt%四塩化炭素、8wt%クロロホルム溶液を
調整し、前記CRT表示面41を5時間程度浸漬する
と、CRT表示面には水酸基42が多数含まれているの
で、前記化学吸着剤のSiCl基と前記水酸基が反応し
脱塩酸反応が生じる。次いで非水系容液の一例であるク
ロロホルムを用いて未反応化学吸着剤を洗浄・除去する
と、CRT表示面全面に亘り、下記(化12)に示す結
合が生成され、クロロシリル基を含む単分子膜43がC
RT表示面の表面と化学結合した状態で形成できた(図
4(b))。Note that this monomolecular film was also very strongly chemically bonded to the plate, and thus did not peel off. Example 4 (Introduction of -N + R 3 X - group (X represents a halogen atom)) First, a CRT was prepared (FIG. 4 (a)), washed with an organic solvent, and then a chlorosilyl group and another were added to one end. 80 wt% n-hexadecane dissolved at a concentration of about 2 wt% using a non-aqueous solvent, for example, ClSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 10 SiCl 3 mixed with a chemical adsorbent containing a chlorosilyl group at one end. (Toluene, xylene, bicyclohexyl), a solution of 12 wt% carbon tetrachloride and 8 wt% chloroform are prepared, and the CRT display surface 41 is immersed for about 5 hours. The CRT display surface contains many hydroxyl groups 42. Therefore, the SiCl group of the chemical adsorbent reacts with the hydroxyl group to cause a dehydrochlorination reaction. Next, when the unreacted chemical adsorbent is washed and removed using chloroform, which is an example of a non-aqueous solution, a bond shown in the following (Formula 12) is formed over the entire CRT display surface, and a monomolecular film containing a chlorosilyl group is formed. 43 is C
It was formed in a state of being chemically bonded to the surface of the RT display surface (FIG. 4B).
【0040】[0040]
【化12】 Embedded image
【0041】そこで10wt%(CH3 )2 NC2 H4 O
Hのクロロホルム溶液にCRT表示面を浸漬し脱塩酸反
応を生じさせた後、クロロホルムで洗浄すると下記(化
13)に示す単分子膜44が得られた(図4(c))。Therefore, 10 wt% (CH 3 ) 2 NC 2 H 4 O
The CRT display surface was immersed in a chloroform solution of H to cause a dehydrochlorination reaction, and then washed with chloroform to obtain a monomolecular film 44 shown in the following (Chem. 13) (FIG. 4 (c)).
【0042】[0042]
【化13】 Embedded image
【0043】そこで、さらにハロゲン原子としてヨウ素
を含むCH3 Iを溶解させたクロロホルム溶液に浸漬し
2時間還流すると下記(化14)に示す4級アミノ基を
表面に有するきわめて親水性の高い単分子膜45が得ら
れた(図4(d))。Then, when immersed in a chloroform solution in which CH 3 I containing iodine as a halogen atom is dissolved and refluxed for 2 hours, a highly hydrophilic single molecule having a quaternary amino group on the surface as shown in the following (formula 14) is obtained. The film 45 was obtained (FIG. 4D).
【0044】[0044]
【化14】 Embedded image
【0045】この単分子膜は空気中の水蒸気を吸着し導
電性は約10-7S/cmであった。 実施例5(−NO2 基の導入) まず、CRTを用意し(図5(a))、有機溶媒で洗浄
した後ブロモあるいはヨード基及びクロロシリル基を含
む化学吸着剤[例えば下記(化15)に示す化学吸着
剤]を用い、80wt%n−ヘキサデカン(トルエン、キ
シレン、ビシクロヘキシルでもよい)、12wt%四塩化
炭素、8wt%クロロホルム溶液に2wt%程度の濃度で溶
かして調整した。This monomolecular film adsorbed water vapor in the air and had a conductivity of about 10 -7 S / cm. Example 5 (Introduction of -NO 2 group) First, a CRT was prepared (FIG. 5 (a)), washed with an organic solvent, and then a chemical adsorbent containing a bromo or iodo group and a chlorosilyl group [for example, Chemical adsorbent shown in the following) was dissolved in 80 wt% n-hexadecane (toluene, xylene, bicyclohexyl), 12 wt% carbon tetrachloride, 8 wt% chloroform solution at a concentration of about 2 wt% to prepare.
【0046】[0046]
【化15】 Embedded image
【0047】前記CRT表示面51を5時間程度浸漬す
ると、CRT表示面には水酸基が多数含まれているの
で、ブロモ基を含む化学吸着剤のSiCl基と前記水酸
基52が反応し脱塩酸反応が生じる。次いで非水系容液
の一例であるクロロホルムを用いて未反応化学吸着剤を
洗浄・除去し、次いで水と反応させると、CRT表示面
全面に亘り、下記(化16)に示す結合が生成され、ブ
ロモ基を含む単分子膜53がCRT表示面と化学結合し
た状態で約20オングストロームの膜厚で形成できた
(図5(b))。When the CRT display surface 51 is immersed for about 5 hours, since the CRT display surface contains a large number of hydroxyl groups, the SiCl group of the chemical adsorbent containing a bromo group reacts with the hydroxyl groups 52 to cause a dehydrochlorination reaction. Occurs. Then, the unreacted chemical adsorbent is washed and removed using chloroform, which is an example of a non-aqueous solution, and then reacted with water, whereby the bond shown in the following (Formula 16) is generated over the entire CRT display surface, A monomolecular film 53 containing a bromo group was formed to a thickness of about 20 angstroms in a state chemically bonded to the CRT display surface (FIG. 5B).
【0048】[0048]
【化16】 Embedded image
【0049】次に、このCRT表示面を5wt%AgNO
3 を含むアルカリ性水溶液中で80℃、2時間反応させ
ると、下記(化16)で示される親水性の単分子膜54
(図5(c))が得られた。Next, this CRT display surface is made of 5 wt% AgNO.
When reacted at 80 ° C. for 2 hours in an alkaline aqueous solution containing 3 , a hydrophilic monomolecular film 54 represented by the following (Formula 16) is obtained.
(FIG. 5 (c)) was obtained.
【0050】[0050]
【化17】 Embedded image
【0051】なお、この単分子膜は空気中の水蒸気を吸
着し、導電性は約10-10 S/cmであった。この単分
子膜もきわめて強固にCRT表示面に化学結合している
ので剥離することがなかった。The monomolecular film adsorbed water vapor in the air, and had a conductivity of about 10 -10 S / cm. Since this monomolecular film was also very strongly chemically bonded to the CRT display surface, it did not peel off.
【0052】実施例6(−SO3 H基の導入) まず、CRTを用意し(図6(a))、有機溶媒で洗浄
した後、チオシアノ基(−SCN)及びクロロシリル基
を含む化学吸着剤を混ぜた非水系の溶媒、たとえば、N
CS(CH2 )10SiCl3 を用い、2wt%程度の濃度
で溶かした80wt%n−ヘキサデカン(トルエン、キシ
レン、ビシクロヘキシルでもよい)、12wt%四塩化炭
素、8wt%クロロホルム溶液を調整し、前記CRT表示
面61を5時間程度浸漬すると、CRT表示面には水酸
基62が多数含まれているので、チオシアノ基及びクロ
ロシリル基を含む化学吸着剤のSiCl基と前記水酸基
が反応し脱塩酸反応が生じる。次いで非水系容液の一例
であるクロロホルムを用いて未反応化学吸着剤を洗浄・
除去し、次いで水と反応させると、CRT表示面全面に
亘り、下記(化18)に示す結合が生成され、チオシア
ノ基を含む単分子膜63がCRT表示面の表面と化学結
合した状態で約20オングストロームの膜厚で形成でき
た(図6(b))。Example 6 (Introduction of -SO 3 H group) First, a CRT was prepared (FIG. 6 (a)), washed with an organic solvent, and then a chemical adsorbent containing a thiocyano group (-SCN) and a chlorosilyl group. Mixed with a non-aqueous solvent such as N
Using CS (CH 2 ) 10 SiCl 3 , an 80 wt% n-hexadecane (toluene, xylene, bicyclohexyl), 12 wt% carbon tetrachloride, 8 wt% chloroform solution dissolved at a concentration of about 2 wt% was prepared. When the CRT display surface 61 is immersed for about 5 hours, since the CRT display surface contains a large number of hydroxyl groups 62, the SiCl groups of the thiocyano group and the chlorosilyl group-containing chemical adsorbent react with the hydroxyl groups to cause a dehydrochlorination reaction. . Next, the unreacted chemical adsorbent is washed using chloroform, which is an example of a non-aqueous solution.
When removed and then reacted with water, a bond shown in the following (Formula 18) is generated over the entire surface of the CRT display surface, and the monomolecular film 63 containing a thiocyano group is chemically bonded to the surface of the CRT display surface. A film having a thickness of 20 Å was formed (FIG. 6B).
【0053】[0053]
【化18】 Embedded image
【0054】次に、リチウムアルミニウムハイドライド
の溶解したエーテル(10mg/ml)にCRT表示面
を入れ、4時間反応させると下記(化19)に示す親水
性の単分子膜64(図6(c))が得られた。Next, the CRT display surface was put in ether (10 mg / ml) in which lithium aluminum hydride was dissolved, and reacted for 4 hours. When the reaction was carried out for 4 hours, a hydrophilic monomolecular film 64 shown in the following (Chemical Formula 19) (FIG. 6C) )was gotten.
【0055】[0055]
【化19】 Embedded image
【0056】次に、10wt%の過酸化水素水と10wt%
の酢酸が容量比で1対5の混合溶液中に入れ、40℃か
ら50℃の間で30分反応させると、下記(化20)に
示す親水性の高い単分子膜65(図6(d))が得られ
た。Next, 10 wt% of hydrogen peroxide solution and 10 wt%
Acetic acid in a 1: 5 mixed solution by volume and reacted at 40 ° C. to 50 ° C. for 30 minutes to obtain a highly hydrophilic monomolecular film 65 (see FIG. 6 (d)). ))was gotten.
【0057】[0057]
【化20】 Embedded image
【0058】なお、この単分子膜は空気中の水蒸気を吸
着し、導電性は約10-8S/cmであった。さらに、こ
こでアルカリ金属、アルカリ土類金属または他の金属の
化合物、例えばNaOH(別のものとしてCa(OH)
2 でもよい)を2wt%程度溶解した水溶液にCRT表示
面を浸漬すると下記(化21)に示すきわめて親水性の
高い膜66が形成できた(図6(e))。The monomolecular film adsorbed water vapor in the air, and had a conductivity of about 10 -8 S / cm. Furthermore, here compounds of alkali metals, alkaline earth metals or other metals, such as NaOH (Alternatively, Ca (OH)
2 ) was dissolved in an aqueous solution in which about 2 wt% was dissolved, whereby a very hydrophilic film 66 shown in the following (Chem. 21) could be formed (FIG. 6 (e)).
【0059】[0059]
【化21】 Embedded image
【0060】なお、この単分子膜は空気中の水蒸気を吸
着し、導電性は約10-7S/cmであった。The monomolecular film adsorbed water vapor in the air, and had a conductivity of about 10 −7 S / cm.
【0061】[0061]
【発明の効果】以上述べてきたように、本発明の方法を
用いれば、帯電防止を目的とした親水性の官能基がディ
スプレー表面に化学吸着された分子を介して化学結合で
CRT表示面表面に固定されるため、比較的自由に任意
の導電性を有する帯電防止化学吸着単分子膜をディスプ
レー表面に形成できる。つまり、弱導電性の官能基が化
学吸着された分子を介して化学結合でCRT表示面に固
定されるため、CRT表面の帯電を防止できる効果があ
る。また、この単分子膜は化学結合で固定されているた
め、剥離することもない。しかも、この単分子膜は、膜
厚がナノメーターレベルであるため、表示画面の画像を
劣化させるおそれも無い。従って、CRT表示面の帯電
による汚れの発生を排除できる作用がある。As described above, according to the method of the present invention, the surface of the CRT display surface is formed by a chemical bond through a molecule in which a hydrophilic functional group for the purpose of preventing static electricity is chemically adsorbed on the display surface. Therefore, an antistatic chemisorption monomolecular film having any conductivity can be relatively freely formed on the display surface. That is, since the weakly conductive functional group is fixed to the CRT display surface by a chemical bond via the chemically adsorbed molecule, the CRT surface can be prevented from being charged. Further, since this monomolecular film is fixed by a chemical bond, it does not peel off. Moreover, since the thickness of the monomolecular film is on the order of nanometers, there is no possibility of deteriorating the image on the display screen. Accordingly, there is an effect that it is possible to eliminate the generation of dirt due to charging of the CRT display surface.
【図1】本発明の第1の実施例であるCRT表示面に帯
電防止性単分子薄膜を形成する工程を説明するために、
CRT表示面表面を分子レベルまで拡大した工程断面図
である。FIG. 1 is a view for explaining a step of forming an antistatic monomolecular thin film on a CRT display surface according to a first embodiment of the present invention;
It is a process sectional view which expanded a CRT display surface to the molecular level.
【図2】本発明の第2の実施例である液晶表示面に帯電
防止性単分子薄膜を形成する工程を説明するために、表
示面表面を分子レベルまで拡大した工程断面図である。FIG. 2 is a process sectional view in which a display surface is enlarged to a molecular level in order to explain a step of forming an antistatic monomolecular thin film on a liquid crystal display surface according to a second embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第3の実施例であるCRT表示面に帯
電防止性単分子薄膜を形成する工程を説明するために、
CRT表示面表面を分子レベルまで拡大した工程断面図
である。FIG. 3 is a view for explaining a step of forming an antistatic monomolecular thin film on a CRT display surface according to a third embodiment of the present invention;
It is a process sectional view which expanded a CRT display surface to the molecular level.
【図4】本発明の第4の実施例であるCRT表示面に帯
電防止性単分子薄膜を形成する工程を説明するために、
CRT表示面表面を分子レベルまで拡大した工程断面図
である。FIG. 4 is a view for explaining a step of forming an antistatic monomolecular thin film on a CRT display surface according to a fourth embodiment of the present invention;
It is a process sectional view which expanded a CRT display surface to the molecular level.
【図5】本発明の第5の実施例であるCRT表示面に帯
電防止性単分子薄膜を形成する工程を説明するために、
CRT表示面表面を分子レベルまで拡大した工程断面図
である。FIG. 5 is a view for explaining a step of forming an antistatic monomolecular thin film on a CRT display surface according to a fifth embodiment of the present invention;
It is a process sectional view which expanded a CRT display surface to the molecular level.
【図6】本発明の第6の実施例であるCRT表示面に帯
電防止性単分子薄膜を形成する工程を説明するために、
CRT表示面表面を分子レベルまで拡大した工程断面図
である。FIG. 6 is a view for explaining a step of forming an antistatic monomolecular thin film on a CRT display surface according to a sixth embodiment of the present invention;
It is a process sectional view which expanded a CRT display surface to the molecular level.
11、31、41、51、61 CRT表示面 21 液晶表示面 12、22、32、42、52、62 水酸基 13、14、15、23、24、25、33、34、4
3、44、45、53、54、63、64、65、66
単分子膜11, 31, 41, 51, 61 CRT display surface 21 Liquid crystal display surface 12, 22, 32, 42, 52, 62 Hydroxyl groups 13, 14, 15, 23, 24, 25, 33, 34, 4
3, 44, 45, 53, 54, 63, 64, 65, 66
Monolayer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 合議体 審判長 原 光明 審判官 橋本 恵一 審判官 山本 章裕 (56)参考文献 特開 昭63−160131(JP,A) 特開 昭63−6792(JP,A) 特開 昭63−96655(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page Judge Chief of the Panel Mitsuaki Hara Judge Keiichi Hashimoto Judge Akihiro Yamamoto (56) References JP-A-63-160131 (JP, A) JP-A-63-6792 (JP, A) JP 63-96655 (JP, A)
Claims (4)
ィスプレーであって、前記化学吸着単分子膜は前記表示
面とシロキサン結合によって結合しており、かつ単分子
膜表面に親水性基を含んでおり、導電率が10 -6 S/c
m〜10 -10 S/cmの範囲内であることを特徴とする
帯電防止ディスプレー。1. A display having a display surface covered with a chemisorption monolayer, wherein the chemisorption monolayer is bonded to the display surface by a siloxane bond, and a hydrophilic group is formed on the surface of the monolayer. And a conductivity of 10 -6 S / c
An antistatic display characterized by being in the range of m to 10 -10 S / cm .
チオシアノ基、クロロシリル基、またはエステル結合を
含む官能基を示し、Bは有機基を示し、rは30以下の
自然数を示す) で表される分子によって形成された膜であり、前記分子
と前記表示面とがシロキサン結合によって結合している
請求項1に記載の帯電防止ディスプレー。2. The monomolecular film has the following formula: A- (B) r -SiCl 3 (where A is a bromo group, an iodo group, a cyano group,
A functional group containing a thiocyano group, a chlorosilyl group, or an ester bond , B represents an organic group, and r represents a natural number of 30 or less). The antistatic display according to claim 1, wherein the surface and the surface are bonded by a siloxane bond.
2、−N+R3X-(Rはアルキル基、Xはハロゲン原子を
示す)、−NO2、または−SO3H基である請求項1に
記載の帯電防止ディスプレー。3. The compound according to claim 2, wherein the hydrophilic group is —OH, —COOH, or —NH.
2, -N + R 3 X - (R is an alkyl group, X represents a halogen atom), - NO 2 antistatic display according to claim 1 or -SO 3 H group,.
アルカリ金属、アルカリ土類金属または他の金属で置換
されている請求項3に記載の帯電防止ディスプレー。4. The antistatic display according to claim 3, wherein H of the —COOH or —SO 3 H group is substituted with an alkali metal, an alkaline earth metal or another metal.
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| JP9890391 | 1991-04-30 | ||
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