JP3359725B2 - Base material setting method and base material setting device used for the same - Google Patents
Base material setting method and base material setting device used for the sameInfo
- Publication number
- JP3359725B2 JP3359725B2 JP2309894A JP2309894A JP3359725B2 JP 3359725 B2 JP3359725 B2 JP 3359725B2 JP 2309894 A JP2309894 A JP 2309894A JP 2309894 A JP2309894 A JP 2309894A JP 3359725 B2 JP3359725 B2 JP 3359725B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- substrate
- rotating body
- liquid resin
- original
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、原版の上に液状樹脂を
滴下し、その上に可撓性シートからなる基材を載せて液
状樹脂を均一に押し広げるための基材セット方法及びそ
れに使用する基材セット装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for setting a base material for dropping a liquid resin on an original plate, placing a base material made of a flexible sheet on the original resin, and uniformly spreading the liquid resin, and a method for setting the base material. The present invention relates to a substrate setting device to be used.
【0002】[0002]
【従来の技術】光記録体は高密度記録を達成するため光
記録体用基材に凹凸状光学的情報記録パターンを形成す
る必要がある。このようなパターンの成形方法の一つと
して、微細な情報記録パターンの転写精度の極めて高い
2P(Photo Polymerization)法が知られている。この
2P法は、表面に凹凸を有する原版の上に液状の紫外線
硬化型樹脂を滴下し、その上に光記録体用基材を重ねて
樹脂を延ばした状態とした後、紫外線を照射して樹脂を
硬化させてから原版を剥離することにより基材上に硬化
型樹脂による情報記録パターンを形成するものである。
このようなプロセスにおいて液状の樹脂を滴下した原版
の上に基材をセットする場合、下に凸になるように基材
を湾曲させた状態とし、樹脂との接触面積が小さくなる
ように樹脂上に重ね合わせるようにしたものが知られて
いる(例えば、特開平2−118932号公報参照)。2. Description of the Related Art In an optical recording medium, it is necessary to form a concave-convex optical information recording pattern on a substrate for an optical recording medium in order to achieve high-density recording. As one method of forming such a pattern, a 2P (Photo Polymerization) method, which has a very high transfer accuracy of a fine information recording pattern, is known. In the 2P method, a liquid ultraviolet-curable resin is dropped on an original plate having irregularities on its surface, a substrate for an optical recording medium is superimposed on the resin, and the resin is stretched. The information recording pattern of the curable resin is formed on the substrate by curing the resin and then peeling the master.
In such a process, when setting the base material on the original plate on which the liquid resin is dropped, the base material is curved so as to be convex downward, and the resin is set so that the contact area with the resin is reduced. (See, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-118932).
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の基材セ
ット方法では、基材と樹脂の最初の接触が点又は線にな
り、この状態から次第に接触面積が大きくなるようにし
て基材を樹脂上に設置するので、樹脂中に気泡が混入す
るのが防止されるという利点はあるが、液状樹脂を均一
に広げることができず、また基材の原版に対する位置が
ずれるという問題点があった。In the above-mentioned conventional substrate setting method, the initial contact between the substrate and the resin is a point or a line, and from this state the contact area is gradually increased so that the substrate is Since it is installed on the upper side, there is an advantage that air bubbles are prevented from being mixed into the resin, but there is a problem that the liquid resin cannot be spread uniformly, and the position of the base material with respect to the original plate is shifted. .
【0004】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、気泡が混
入することなく液状樹脂を均一に押し広げることができ
るとともに、基材の原版に対する位置ずれを防止するこ
とのできる基材セット方法及びそれに使用する基材セッ
ト装置を提供することにある。[0004] The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to be able to uniformly spread a liquid resin without introducing air bubbles, and to improve the base material. It is an object of the present invention to provide a base material setting method capable of preventing displacement of an original and a base material setting device used for the method.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の基材セット方法は、原版の上に液状樹脂を
滴下し、可撓性シートからなる基材をその上に重ねてセ
ットするに際して、基材の周辺を吸着パッドで吊り下
げ、垂直面内を揺動可能な支持棒の先端に取り付けられ
た回転体を基材に押し当てることにより基材を原版に対
して2方向に反らせた状態とし、この状態で基材を下降
させて液状樹脂に接触させた後、基材と原版がずれない
ように摺動棒により基材の一端を原版に対して押し付け
た状態で液状樹脂を押し広げるよう回転体を1方向に回
転しながら往復運動させることを特徴としている。In order to achieve the above object, a base material setting method according to the present invention comprises the steps of: dropping a liquid resin on an original plate; and stacking a base material made of a flexible sheet thereon. At the time of setting, the periphery of the substrate is suspended with a suction pad, and the rotating body attached to the tip of a support rod that can swing in a vertical plane is pressed against the substrate, so that the substrate is moved in two directions with respect to the original. After lowering the substrate in this state and bringing it into contact with the liquid resin, the liquid is applied while one end of the substrate is pressed against the original with a sliding rod so that the substrate and the original do not shift. The rotating body is reciprocated while rotating in one direction so as to spread the resin.
【0006】そして、上記基材セット方法に使用する基
材セット装置は、基材の周辺を吸着して吊り下げるため
の4つの吸着パッドと、これらの吸着パッドの中央付近
で垂直面内を揺動可能な支持棒の先端に取り付けられた
回転体と、基材と原版がずれないように基材の一端を押
さえる摺動棒とを具備して構成される。The substrate setting apparatus used in the substrate setting method includes four suction pads for sucking and suspending the periphery of the substrate, and swinging in a vertical plane near the center of the suction pads. It comprises a rotating body attached to the tip of a movable supporting rod, and a sliding rod for pressing one end of the substrate so that the substrate and the original do not shift.
【0007】[0007]
【作用】基材が2方向に反った状態で液状樹脂に接触す
ることにより、液状樹脂に対して基材が点接触し、液状
樹脂はこの点接触状態から回転体の往復運動で押し広げ
られることになるため、気泡の混入が防止される。ま
た、押し広げ中は摺動棒により基材の位置ずれが防止さ
れる。When the base material contacts the liquid resin while being warped in two directions, the base material comes into point contact with the liquid resin, and the liquid resin is spread from the point contact state by the reciprocating motion of the rotating body. Therefore, the incorporation of bubbles is prevented. Further, during the spreading, the displacement of the base material is prevented by the sliding bar.
【0008】[0008]
【実施例】図1は本発明の基材セット方法を実施する基
材セット装置の一例を示す正面図、図2は同じく側面図
である。FIG. 1 is a front view showing an example of a substrate setting apparatus for carrying out the substrate setting method of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the same.
【0009】基材セット装置は、移動用ロボットR(図
示せず)に連結されるフレームを有しており、該フレー
ムは上板1、側板2及び下板3からなる。図中4は基材
を吊り下げるための4つの吸着パッドで、それぞれバネ
5により固定板6に対して前後左右に揺動可能に取り付
けられており、固定板6は上板1の下側に固定されたエ
アシリンダ7により側板2に沿って上下動するようにな
っている。なお、吸着パッド4を支持する上記バネ5は
中空であり、空気の流れるチューブがその中を通って吸
着パッド4に取り付けられている。8はガイドで、上板
1の上側に固定されたエアシリンダ9により側板2に設
けられたガイドレール10に沿って上下方向に摺動す
る。そして、吸着パッド4がaだけ上昇する時は、ガイ
ド8は図の実線位置にあり固定板6がエアシリンダ7に
より上昇しガイド8に当接して停止する。吸着パッド4
がさらにbだけ上昇する時は、ガイド8がエアシリンダ
9によりbだけ上昇するとともに固定板6もエアシリン
ダ7によりbだけ上昇する。すなわち、エアシリンダ7
のストロークはa+bあり、エアシリンダ9のストロー
クはbだけある。The substrate setting device has a frame connected to a moving robot R (not shown), and the frame includes an upper plate 1, a side plate 2 and a lower plate 3. In the figure, reference numeral 4 denotes four suction pads for suspending the base material, each of which is attached to a fixed plate 6 by a spring 5 so as to be able to swing back and forth and right and left. The fixed air cylinder 7 moves up and down along the side plate 2. The spring 5 supporting the suction pad 4 is hollow, and a tube through which air flows passes therethrough and is attached to the suction pad 4. A guide 8 slides vertically along a guide rail 10 provided on the side plate 2 by an air cylinder 9 fixed above the upper plate 1. When the suction pad 4 rises by a, the guide 8 is at the position indicated by the solid line in the drawing, and the fixing plate 6 rises by the air cylinder 7 and comes into contact with the guide 8 and stops. Suction pad 4
Is further raised by b, the guide 8 is raised by b by the air cylinder 9 and the fixing plate 6 is also raised by b by the air cylinder 7. That is, the air cylinder 7
Is a + b, and the stroke of the air cylinder 9 is only b.
【0010】11は下板3に取り付けられた回転体取付
板で、その下端には支軸12により回転体支持棒13が
回動可能に取り付けられ、回転体支持棒13の先端には
回転体14が回動可能に取り付けられている。また、回
転体取付板11と回転体支持棒13の上端の間には回転
体用バネ15が配設されている。これにより回転体14
は図の実線位置と点線位置の間を揺動可能になってい
る。Reference numeral 11 denotes a rotating body mounting plate mounted on the lower plate 3. A rotating body supporting rod 13 is rotatably mounted on a lower end of the rotating body supporting rod 13 by a support shaft 12, and a rotating body supporting rod 13 is mounted on a tip of the rotating body supporting rod 13. 14 is rotatably mounted. A rotating body spring 15 is disposed between the rotating body mounting plate 11 and the upper end of the rotating body support bar 13. Thereby, the rotating body 14
Can swing between a solid line position and a dotted line position in the figure.
【0011】16は摺動棒で、下端に円錐状の押圧部1
6aと上端に固定リング16bを備えており、下板3に
取り付けられたリニアベアリング17を通っている。そ
して、押圧部16aと下板3の間に摺動用バネ18が配
設されて、摺動棒16は下から押すことにより上下動可
能になっている。また、摺動棒16の押圧部16aは回
転体14よりも下方に突き出た状態でセットされてい
る。Reference numeral 16 denotes a sliding rod, which has a conical pressing portion 1 at its lower end.
6a and a fixed ring 16b at the upper end, which passes through a linear bearing 17 attached to the lower plate 3. A sliding spring 18 is provided between the pressing portion 16a and the lower plate 3, and the sliding bar 16 can be moved up and down by pushing from below. The pressing portion 16a of the slide bar 16 is set in a state protruding below the rotating body 14.
【0012】以下、上記の構成からなる基材セット装置
により原版上に基材をセットする方法について説明す
る。Hereinafter, a method of setting a base material on an original using the base material setting apparatus having the above configuration will be described.
【0013】まず、基材の供給ステージ(図示せず)に
1枚の基材を供給する。次に、基材セット装置のエアシ
リンダ7を作動させて吸着パッド4をaだけ上昇させた
状態とし、この状態で基材セット装置を原点位置から供
給ステージへと移動させる。これは移動時に吸着パッド
4が他の部材に接触しないようにするためである。次い
で、供給ステージにおいて吸着パッド4をaだけ下降さ
せ、基材の四方を吸着パッド4で吸着してから再度吸着
パッド4をaだけ上昇させる。この状態では回転体14
と摺動棒16は動かずに図3及び図4に示す状態で基材
Sが吊り下げられる。図中、S1 ,S2 は基材Sのセン
ター(基材Sの最大凸部)及びエッジを表している。こ
の場合、吸着パッド4を取り付けたバネ5は、基材Sが
撓むことにより剪断力と垂直方向の力を同時に受けて内
側にずれながら傾く。このように基材Sを図3及び図4
に示す状態で吊り下げてから、基材セット装置を原点位
置まで復帰させる。First, one substrate is supplied to a substrate supply stage (not shown). Next, the air cylinder 7 of the substrate setting device is operated to raise the suction pad 4 by a, and in this state, the substrate setting device is moved from the origin position to the supply stage. This is to prevent the suction pad 4 from contacting other members during movement. Next, in the supply stage, the suction pad 4 is lowered by a, the four sides of the base material are suctioned by the suction pad 4, and then the suction pad 4 is again raised by a. In this state, the rotating body 14
The substrate S is suspended in the state shown in FIGS. 3 and 4 without moving the sliding bar 16. In the drawing, S 1 and S 2 represent the center (the largest convex portion of the substrate S) and the edge of the substrate S. In this case, the spring 5 to which the suction pad 4 is attached tilts while being shifted inward by receiving the shearing force and the vertical force at the same time due to the bending of the base material S. As described above, the base material S is provided in FIGS.
And then return the substrate setting device to the origin position.
【0014】一方、ディスペンサー位置において、ディ
スペンサーにより原版P上に液状樹脂Lを滴下する(図
7参照)。液状樹脂Lを滴下した後、基材セット装置で
はエアシリンダ9とエアシリンダ7を作動させて吸着パ
ッド4をさらにbだけ上昇させる。この時点でも回転体
14及び摺動棒16は動かず、吸着パッド4のバネ5が
やや傾きを増し、基材Sは図5及び図6に示すように2
方向に反った状態で撓む。そして、この状態で基材セッ
ト装置をディスペンサー位置にある原版P上まで移動さ
せる。On the other hand, at the dispenser position, the liquid resin L is dropped on the original plate P by the dispenser (see FIG. 7). After dropping the liquid resin L, in the substrate setting device, the air cylinder 9 and the air cylinder 7 are operated to further raise the suction pad 4 by b. Even at this time, the rotating body 14 and the sliding bar 16 do not move, the spring 5 of the suction pad 4 slightly increases in inclination, and the base material S becomes 2 as shown in FIGS.
It bends in a state warped in the direction. Then, in this state, the base material setting device is moved onto the original plate P at the dispenser position.
【0015】ディスペンサー位置において基材セット装
置全体を下降させる。この場合、図7及び図8に示すよ
うに、基材Sにおける回転体14下部の部分が液状樹脂
Lに接触するよりも先に摺動棒16下部の部分が原版P
に接触し、基材Sを動かないように固定する。ここで、
図7において基材センターS1 と原版Pとの角度αは1
5〜30°が好ましい。そして、この下降操作により回
転体支持棒13が支軸12の周りを揺動しつつ、回転体
14は基材Sの上を1方向に回転しながら移動する。下
降操作は図9及び図10に示すように回転体支持棒13
が水平になるまで行う。この位置では基材Sの撓みがな
くなり略水平になる。これにより基材Sの上を回転しな
がら移動する回転体14が液状樹脂Lを押し広げるよう
に作用する。At the dispenser position, the entire substrate setting device is lowered. In this case, as shown in FIGS. 7 and 8, the lower part of the sliding rod 16 of the base material S contacts the original P before the lower part of the rotating body 14 contacts the liquid resin L.
To fix the base material S so as not to move. here,
In FIG. 7, the angle α between the substrate center S 1 and the master P is 1
5 ° to 30 ° is preferred. Then, by this lowering operation, the rotating body 14 moves while rotating in one direction on the base material S while the rotating body support rod 13 swings around the support shaft 12. The lowering operation is performed as shown in FIG. 9 and FIG.
Until it is horizontal. At this position, the base material S does not bend and becomes substantially horizontal. Thus, the rotating body 14 moving while rotating on the base material S acts to push and spread the liquid resin L.
【0016】回転体14が移動しきったところで吸着パ
ッド4の吸着を解除して基材Sを吸着パッド4から離し
た状態とし、基材セット装置全体を上昇させる。この
時、回転体14は基材Sに接触しながら元の位置に戻ろ
うとし、基材Sがずれる恐れがあるが、回転体14が基
材から離れるまで摺動棒16が基材Sを押し付けて固定
する役目を果たす。このようにして基材Sのセットが完
了した後、基材セット装置はロボットRにより原点位置
まで移動し、同時に吸着パッド4はbだけ下降する。そ
して、次の基材セットが同様にして行われる。When the rotating body 14 has completely moved, the suction of the suction pad 4 is released, the substrate S is separated from the suction pad 4, and the entire substrate setting apparatus is raised. At this time, the rotating body 14 tries to return to the original position while contacting the base material S, and the base material S may be displaced. However, the sliding rod 16 moves the base material S until the rotating body 14 separates from the base material. Plays the role of pressing and fixing. After the setting of the base material S is completed in this way, the base material setting device is moved to the origin position by the robot R, and at the same time, the suction pad 4 is lowered by b. Then, the next substrate set is performed in the same manner.
【0017】一方、基材Sのセットされた原版Pは、次
の加圧工程において平板プレス機により液状樹脂Lが押
し広げられた後、続くUV照射工程において液状樹脂L
が硬化させられる。そして、剥離工程において原版Pか
ら基材Sが剥がされる。剥がされた基材Sは排出ステー
ジに移動させられ、剥離後の原版Pは静電除去、ゴミ除
去が行われて再びディスペンサー位置に戻るようにな
る。On the other hand, after the original resin P on which the base material S is set is spread by the flat plate press in the next pressing step, the liquid resin L is spread in the subsequent UV irradiation step.
Is cured. Then, the substrate S is peeled from the original plate P in a peeling step. The peeled substrate S is moved to a discharge stage, and the original plate P after peeling is subjected to electrostatic removal and dust removal, and returns to the dispenser position again.
【0018】[0018]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
回転体を基材に押し当てることにより基材を原版に対し
て2方向に反らせた状態とし、この状態で基材を下降さ
せて液状樹脂に接触させた後、液状樹脂を押し広げるよ
う回転体を1方向に回転しながら往復運動させるように
したので、気泡が混入した場合もこれを逃がすように液
状樹脂が押し広げられることから気泡の混入が防止で
き、均一に押し広げることができる。また基材と原版が
ずれないように摺動棒により基材の一端を原版に対して
押し付けた状態で液状樹脂を押し広げるようにしたの
で、基材の原版に対する位置ずれを防止することができ
る。As described above, according to the present invention,
By pressing the rotator against the base material, the base material is warped in two directions with respect to the original plate. In this state, the base material is lowered and brought into contact with the liquid resin. Is reciprocated while rotating in one direction, so that even when air bubbles are mixed in, the liquid resin is spread out so as to escape the air bubbles, so that air bubbles can be prevented from being mixed in and can be evenly expanded. Further, since the liquid resin is spread while the one end of the base material is pressed against the master plate by the sliding bar so that the base material and the master plate do not shift, the displacement of the base member with respect to the master plate can be prevented. .
【図1】基材セット装置の一例を示す正面図である。FIG. 1 is a front view showing an example of a substrate setting device.
【図2】図1の側面図である。FIG. 2 is a side view of FIG.
【図3】基材を吊り下げた状態で示す正面図である。FIG. 3 is a front view showing a state in which a substrate is suspended.
【図4】図3の側面図である。FIG. 4 is a side view of FIG. 3;
【図5】吊り下げた基材を反らせた状態で示す正面図で
ある。FIG. 5 is a front view showing a hung substrate in a warped state.
【図6】図5の側面である。FIG. 6 is a side view of FIG. 5;
【図7】基材を下降させる途中の状態で示す正面図であ
る。FIG. 7 is a front view showing a state where the base material is being lowered.
【図8】図7の側面図である。FIG. 8 is a side view of FIG. 7;
【図9】基材をセットした状態で示す正面図である。FIG. 9 is a front view showing a state where a base material is set.
【図10】図9の側面図である。FIG. 10 is a side view of FIG. 9;
4 吸着パッド 13 支持棒 14 回転体 16 摺動棒 P 原版 L 液状樹脂 S 基材 4 Suction pad 13 Support rod 14 Rotating body 16 Sliding rod P Master L Liquid resin S Substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−184801(JP,A) 特開 平2−118932(JP,A) 特開 平4−28033(JP,A) 特開 平4−23244(JP,A) 特開 昭61−235133(JP,A) 特開 昭53−116105(JP,A) 特開 平2−203444(JP,A) 特開 昭57−163534(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 41/20 B29C 41/12 G11B 7/26 521 B29C 39/10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-2-184801 (JP, A) JP-A-2-18932 (JP, A) JP-A-4-28033 (JP, A) JP-A-4-184 23244 (JP, A) JP-A-61-235133 (JP, A) JP-A-53-116105 (JP, A) JP-A-2-203444 (JP, A) JP-A-57-163534 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B29C 41/20 B29C 41/12 G11B 7/26 521 B29C 39/10
Claims (2)
ートからなる基材をその上に重ねてセットするに際し
て、基材の周辺を吸着パッドで吊り下げ、垂直面内を揺
動可能な支持棒の先端に取り付けられた回転体を基材に
押し当てることにより基材を原版に対して2方向に反ら
せた状態とし、この状態で基材を下降させて液状樹脂に
接触させた後、基材と原版がずれないように摺動棒によ
り基材の一端を原版に対して押し付けた状態で液状樹脂
を押し広げるよう回転体を1方向に回転しながら往復運
動させることを特徴とする基材セット方法。When a liquid resin is dropped on an original plate and a substrate made of a flexible sheet is set on the original, the periphery of the substrate is suspended by a suction pad, and the substrate is swung in a vertical plane. By pressing a rotating body attached to the tip of a possible support rod against the substrate, the substrate was warped in two directions with respect to the original, and in this state, the substrate was lowered and brought into contact with the liquid resin. Then, the rotating body is reciprocated while rotating in one direction so as to spread the liquid resin while pressing one end of the base material against the master plate with a sliding rod so that the base material and the master plate do not shift. Substrate setting method.
4つの吸着パッドと、これらの吸着パッドの中央付近で
垂直面内を揺動可能な支持棒の先端に取り付けられた回
転体と、基材と原版がずれないように基材の一端を押さ
える摺動棒とを具備したことを特徴とする基材セット装
置。2. A suction body for sucking and suspending the periphery of a base material, and a rotating body attached to a tip of a support rod swingable in a vertical plane near a center of the suction pads. And a sliding rod for holding one end of the base material so that the base plate does not shift.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2309894A JP3359725B2 (en) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | Base material setting method and base material setting device used for the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2309894A JP3359725B2 (en) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | Base material setting method and base material setting device used for the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07205295A JPH07205295A (en) | 1995-08-08 |
| JP3359725B2 true JP3359725B2 (en) | 2002-12-24 |
Family
ID=12100982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2309894A Expired - Fee Related JP3359725B2 (en) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | Base material setting method and base material setting device used for the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3359725B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105501942A (en) * | 2016-02-03 | 2016-04-20 | 江苏远翔物联科技有限公司 | Foldable bracket |
-
1994
- 1994-01-25 JP JP2309894A patent/JP3359725B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07205295A (en) | 1995-08-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003077867A (en) | Moving stage for imprint lithography | |
| US20100303947A1 (en) | Fine-structure transfer apparatus | |
| JP2005205915A (en) | Imprint and embossing alignment system | |
| EP0114712A2 (en) | Device for photolithographically treating a thin substrate | |
| CA1157608A (en) | Device for molding information-carrying disks | |
| JP3359725B2 (en) | Base material setting method and base material setting device used for the same | |
| JPH0558515A (en) | Board positioning device | |
| JPS5884731A (en) | Manufacture of information carrying disk | |
| JPH10135698A (en) | Substrate support device | |
| US4080068A (en) | Extremely high speed halftone screen positioning assembly | |
| JPH09325309A (en) | Pre-alignment apparatus and pre-alignment method | |
| JP2772443B2 (en) | Semiconductor package sealing method and sealing device | |
| KR100718236B1 (en) | Nano Imprinting Device | |
| KR100784826B1 (en) | Nanoimprinting Lithography Apparatus Using Rollstamps | |
| CN118046166A (en) | A welding limit device for billboards | |
| JP4440370B2 (en) | Pattern replication device to flexible sheet base material | |
| CA2010480C (en) | Method and apparatus for facilitating loading of a panel processing machine and positioning of artwork on a work surface thereon | |
| JP4608028B2 (en) | Mold and manufacturing method thereof | |
| JPH113876A (en) | Tape cutting device for wafer mounter | |
| CN219683158U (en) | Gluing clamping device | |
| KR102911814B1 (en) | Angle variable conical hot stamping apparatus | |
| JP3314673B2 (en) | Positioning device for work carrier | |
| JPH09147786A (en) | Method for holding substrate, and substrate holding mechanism used therefor | |
| JP3200993B2 (en) | Substrate positioning device and chip mounting method | |
| JPH03141052A (en) | Method and device for reproducing optical recording carrier |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081011 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091011 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |