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JP3367985B2 - How to duplicate relief patterns - Google Patents
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JP3367985B2 - How to duplicate relief patterns - Google Patents

How to duplicate relief patterns

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JP3367985B2
JP3367985B2 JP03196093A JP3196093A JP3367985B2 JP 3367985 B2 JP3367985 B2 JP 3367985B2 JP 03196093 A JP03196093 A JP 03196093A JP 3196093 A JP3196093 A JP 3196093A JP 3367985 B2 JP3367985 B2 JP 3367985B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はホログラム等のレリーフ
パターンを複製する方法に関し、特にレジストをレリー
フ版からの複製に使用する基板としてフレキシブルな材
質のものを用いて樹脂版を作製するようにしたレリーフ
パターン複製方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for reproducing a relief pattern such as a hologram, and more particularly, a resin plate is prepared by using a flexible material as a substrate for copying a resist from a relief plate. The present invention relates to a relief pattern duplication method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、レジストレリーフ版から複製品を
得る場合には、図6に示すように、Ni等の金型50を
作製し、ガラス基板51に紫外線硬化性樹脂52を滴下
して上から金型50で押圧してラミネートし、ガラス基
板51側からUV露光することにより、紫外線硬化性樹
脂52を硬化させてレリーフパターンの複製を行ってい
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a duplicate is obtained from a resist relief plate, a mold 50 made of Ni or the like is prepared as shown in FIG. Then, the relief pattern is duplicated by pressing it with a mold 50 to laminate it and exposing it to UV from the glass substrate 51 side to cure the ultraviolet curable resin 52.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
複製方法では樹脂を滴下してラミネートする際に泡等が
混入し易く、一度混入してしまうとこれを除去すること
ができず、欠陥が発生し易いという問題があった。ま
た、基板のフレキシブル性が欠けるため金型とガラス基
板とを反らしながら剥離することができず、この際にも
欠陥が発生し易かった。また、レジストレリーフ板から
一旦金型50を作製して複製を行う場合、金型に傷等の
破損や樹脂残り等の異物混入の欠陥が発生した際は、再
度金型を作製しなければならない。しかしこの金型の作
製はメッキ等が必要となり、非常に手間を要してしま
う。また、金型を用いて複数回複製すると、図7に示す
ように、樹脂のはみ出し52によるバリや異物混入およ
び原版から複製品の剥離困難等により、原版および複製
品に欠陥が発生してしまう。例えば、樹脂のはみ出しが
あった際にUV照射して樹脂を硬化させると、これを剥
離除去しにくく、カッター等で無理に除去しようとする
とゴミ等の異物がパターン内に混入したり、傷つけてし
まうという問題があった。
However, in the conventional duplication method, bubbles and the like are easily mixed when the resin is dropped and laminated, and once mixed, the bubbles cannot be removed and a defect occurs. There was a problem that it was easy to do. Further, since the substrate is lacking in flexibility, the mold and the glass substrate cannot be separated while warping, and defects are likely to occur in this case as well. In addition, when the mold 50 is once manufactured from the resist relief plate and duplicated, if a defect such as a damage such as a scratch or a resin residue is generated in the mold, the mold must be manufactured again. . However, the production of this mold requires plating and the like, which is extremely troublesome. Further, when the mold is duplicated a plurality of times, as shown in FIG. 7, defects are generated in the original plate and the duplicated product due to burrs and foreign matters mixed in by the resin protrusion 52 and the difficulty of peeling the duplicated product from the original plate. . For example, if the resin squeezes out and is irradiated with UV to cure the resin, it is difficult to peel and remove it, and if you try to remove it with a cutter, foreign matter such as dust may get mixed in the pattern or scratch it. There was a problem of being lost.

【0004】本発明はかかる事情に鑑みててされたもの
であり、欠陥がなく、レリーフパターンを容易に複製す
ることができ、またその最終複製の原版となる版が使用
不可能となった時にも原版の作製を容易に行うことがで
きるレリーフパターン複製方法を提供することを目的と
する。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to easily reproduce a relief pattern without defects and to use the original plate of the final copy when it becomes unusable. Another object of the present invention is to provide a relief pattern duplication method capable of easily producing an original plate.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明のレリーフパター
ン複製方法は、ホログラム等のレリーフパターンを複製
する際、例えば泡等の異物が混入しても押し出して除去
できるようにレジストレリーフパターン版から複製する
基板としてアクリル板等のフレキシブルな材質を用い、
欠陥のないレリーフパターンの複製を可能にしたことを
特徴とするものである。
According to the relief pattern duplication method of the present invention, when a relief pattern such as a hologram is duplicated, it is duplicated from a resist relief pattern plate so that foreign matter such as bubbles can be extruded and removed even if it is mixed. A flexible material such as an acrylic plate is used as the substrate
It is characterized in that a relief pattern without defects can be duplicated.

【0006】図1は本発明の複製方法を説明するための
ものであり、図1(a)において、パターン5が形成さ
れたクロムマスク4とガラス基板1上にポジ型レジスト
層2が形成された乾板3を対向配置し、クロムマスク4
側からUV光6で露光すると、パターン5の領域を除い
てポジ型レジストが露光され、現像すると露光部分が除
かれて、図1(b)に示すようにガラス基板1上にレリ
ーフパターン7が形成され、クロムマスク4の複製が行
われる。もちろん、ネガ型レジストを使用することも可
能である。なお、レリーフパターンとしては、鏡面と粗
面からなるものや、レリーフホログラム等任意のもので
よい。
FIG. 1 is for explaining the duplication method of the present invention. In FIG. 1A, a positive resist layer 2 is formed on a chrome mask 4 having a pattern 5 and a glass substrate 1. Dry plates 3 are placed opposite to each other, and a chrome mask 4
When exposed with UV light 6 from the side, the positive type resist is exposed except for the area of the pattern 5, and when developed, the exposed portion is removed and the relief pattern 7 is formed on the glass substrate 1 as shown in FIG. 1 (b). Once formed, the chrome mask 4 is duplicated. Of course, it is also possible to use a negative resist. The relief pattern may be a mirror surface and a rough surface, or may be a relief hologram or the like.

【0007】次いで、図1(c)に示すように、複製し
た版(原版)とアクリル基板8上に紫外性硬化性樹脂9
を滴下したものとを対向配置し、アクリル基板8側から
UV光6により露光する。この際アクリル基板8上には
有効領域外に離型層10を塗布しておく。なお、紫外線
硬化性樹脂9を滴下する際、この中に泡11等が混入す
るが、原版とアクリル基板8とを密着させる際、アクリ
ル基板8はフレキシブル性であるため破線で示すように
反らせながら中央部分から密着させることにより押し出
して除去することができる。そして、UV光6により紫
外線硬化性樹脂9がパターン状に硬化し両者を剥離する
際、図1(d)に示すように、アクリル基板8がフレキ
シブル性であるとともに、離型層10が塗布されている
ため、アクリル基板を反らせながら容易に剥離すること
ができる。また、離型層10上の樹脂9はちぎれて容易
に除去でき、樹脂の端部を滑らかにすることができる。
Then, as shown in FIG. 1C, the ultraviolet curable resin 9 is applied on the duplicated plate (original plate) and the acrylic substrate 8.
Are placed opposite to each other and exposed to UV light 6 from the acrylic substrate 8 side. At this time, a release layer 10 is applied on the acrylic substrate 8 outside the effective area. When the ultraviolet curable resin 9 is dropped, bubbles 11 and the like are mixed therein. However, when the original plate and the acrylic substrate 8 are brought into close contact with each other, the acrylic substrate 8 is flexible and warped as shown by a broken line. It can be extruded and removed by adhering it from the central part. Then, when the UV curable resin 9 is cured in a pattern by the UV light 6 to separate them, as shown in FIG. 1D, the acrylic substrate 8 is flexible and the release layer 10 is applied. Therefore, the acrylic substrate can be easily peeled off while warping. Further, the resin 9 on the release layer 10 is torn and can be easily removed, so that the end portion of the resin can be smoothed.

【0008】次いで、フレキシブル性アクリル基板を原
版とする例について、図2により説明する。図2(a)
は、例えばガラス基板等の上にパターン5をのせてクロ
ムマスク4を形成し、この上にレジスト2を積層する。
即ち、クロムマスク4は、通常、蒸着等により形成する
ため、せいぜい0.1μm厚程度しか得られず、1.0
μm厚程度のレリーフを得るために上にレジストを載
せ、基板側からUV光6を照射することにより所定の厚
みを持ったレリーフパターンを形成する。ついで、これ
を原版として用い、図1で示した方法によりアクリル基
板8上にレリーフパターン7を形成した版M1を得る
(図2(c))。さらにこの版M1を原版とし、図2
(d)に示すように、同様にフレキシブルな基板上に紫
外線硬化性樹脂からなるパターンが形成された複数の版
M2を形成し、さらにM2を原版として同様に図2
(e)に示すような複数の版M3を形成する。こうして
形成した版M3を原版とし、ガラス基板上に樹脂層から
なるパターンを形成した最終製品を複製する。
Next, an example of using a flexible acrylic substrate as an original plate will be described with reference to FIG. Figure 2 (a)
For example, a pattern 5 is placed on a glass substrate or the like to form a chrome mask 4, and a resist 2 is laminated thereon.
That is, since the chrome mask 4 is usually formed by vapor deposition or the like, a thickness of about 0.1 μm can be obtained at most.
In order to obtain a relief of about μm thickness, a resist is placed on it, and UV light 6 is irradiated from the substrate side to form a relief pattern having a predetermined thickness. Then, using this as an original plate, a plate M1 having a relief pattern 7 formed on an acrylic substrate 8 by the method shown in FIG. 1 is obtained (FIG. 2C). Further, this version M1 is used as an original plate, and FIG.
As shown in (d), a plurality of plates M2 on which a pattern made of an ultraviolet curable resin is formed are similarly formed on a flexible substrate, and M2 is used as an original plate in the same manner as in FIG.
A plurality of plates M3 as shown in (e) are formed. The plate M3 thus formed is used as an original plate, and a final product in which a pattern made of a resin layer is formed on a glass substrate is duplicated.

【0009】このように基板がガラスであるレジストレ
リーフ原版から、順次M1,M2,M3のようにフレキ
シブルな基板上にパターンが形成された版を複製してこ
れを原版とし、ガラス基板を有する最終製品を複製する
ことにより、例えば版M3が傷ついて使用できなくなっ
た場合にも、版M2を原版とすれば良く、また版M2が
使用できなくなった場合でも版M1を使用すればよいの
で、原版に耐刷性がなくなった時に新たに1番最初のレ
ジストレリーフ版から作製する必要がないため手間が省
け、コストを低減化し、量産化に対応することが可能で
ある。
Thus, from the resist relief original plate whose substrate is glass, a plate having a pattern formed on a flexible substrate such as M1, M2, and M3 is sequentially duplicated to make an original plate, and a final plate having a glass substrate is prepared. By copying the product, for example, even when the plate M3 is damaged and cannot be used, the plate M2 can be used as the original plate, and even when the plate M2 cannot be used, the plate M1 can be used. When printing durability is lost, there is no need to newly prepare from the first resist relief plate, which saves labor, reduces cost, and enables mass production.

【0010】このようにフレキシブルな基板を用いたレ
リーフ版からの複製に際し、図3に示すように、複製用
基板20を複製したい有効域21の寸法よりも大きく
し、この有効域21にプライマーを塗布するとともに、
有効域外22には離型剤を塗布し、これに原版23を密
着させ、UV露光により樹脂を硬化させて両者を剥離す
る。このとき有効域21から樹脂24がはみ出しても有
効域外22には離型剤が塗布されているため、複製用基
板20と原版23を容易に剥離することができ、または
み出した樹脂24は離型剤が塗布されているためエアを
吹き掛けるだけで容易に除去することができる。また、
原版23側においてもはみ出した樹脂24の付着が比較
的少なくてすむ。なお、有効域外22への離型剤は塗布
しなくても有効域のみにプライマーを塗布しておけば、
プライマーの塗布されてない有効域外22には樹脂はほ
とんど付着しないので、有効域へのプライマー塗布のみ
で対応することも可能である。
When replicating from a relief plate using such a flexible substrate, as shown in FIG. 3, the replica substrate 20 is made larger than the size of the effective region 21 to be replicated, and a primer is applied to the effective region 21. While applying
A mold release agent is applied to the outside of the effective area 22, the original plate 23 is brought into close contact therewith, and the resin is cured by UV exposure to separate the two. At this time, even if the resin 24 protrudes from the effective area 21, since the release agent is applied to the outside of the effective area 22, the duplication substrate 20 and the original plate 23 can be easily peeled off, or the protruding resin 24 is separated. Since the mold agent is applied, it can be easily removed by blowing air. Also,
Even on the side of the original plate 23, the amount of the resin 24 sticking out is relatively small. Even if the release agent is not applied to the outside of the effective area 22, if the primer is applied only to the effective area,
Since the resin hardly adheres to the outside of the effective area 22 where the primer is not applied, it is possible to deal with it by only applying the primer to the effective area.

【0011】また、図4に示すように樹脂製原版30の
パターン部である有効域31を除く領域32に離型剤を
塗布し、複製用基材33の全面にプライマーを塗布して
未硬化の樹脂を介在させてラミネートするようにしても
良い。UV露光により樹脂を硬化させて両者を剥離する
と、原版のはみ出し樹脂34はエアを吹きかけるだけで
容易に剥離することができ、無欠陥の原版として複数回
の複製に供することができ、また、複製品の方は全面に
プライマー処理をしてあるためパターンに相当する部分
は欠陥なく複製することが可能である。
Further, as shown in FIG. 4, a release agent is applied to the area 32 excluding the effective area 31 which is the pattern portion of the resin original plate 30, and a primer is applied to the entire surface of the duplication substrate 33 to uncured. You may make it laminate | stack by interposing resin of this. When the resin is cured by UV exposure and peeled off, the protrusion resin 34 of the original plate can be easily peeled off by blowing air, and can be used as a defect-free original plate for multiple times of duplication. Since the surface of the product is treated with a primer, the part corresponding to the pattern can be reproduced without any defect.

【0012】また、図5に示すように、樹脂製原版を使
用して複数回複製した後、複製原版として使用した版3
0を、スピンナーチャック台40にセットし、IPA
(イソプロピルアルコール)洗浄液で洗浄すると、作業
中に混入した異物を除去でき、また原版から複製品を剥
離する力を小さくすることができる。即ち、離型剤塗布
の代わりに複製原版である版30をパターンの面を上側
にしてスピンナーチャック台40にセットし、例えば第
1回目は700rpmで10秒間、第2回目は1500
rpmで30秒間回転し、その最初の数秒間IPAを滴
下し続け、続く数秒間IPAを滴下しながら回転せると
表面に付着している樹脂残りやゴミ等の異物を除去する
ことができる。その後、IPAの滴下を止め、そのまま
回転を続ければ、IPAを飛ばすことができる。
Further, as shown in FIG. 5, a plate 3 used as a duplicate original plate after being duplicated a plurality of times using a resin original plate
0 is set on the spinner chuck base 40 and IPA is set.
By cleaning with (isopropyl alcohol) cleaning liquid, foreign substances mixed in during the work can be removed, and the force for peeling the duplicated product from the original plate can be reduced. That is, instead of coating with a release agent, a plate 30, which is a replication original plate, is set on the spinner chuck table 40 with the pattern surface facing upward. For example, the first time is 700 rpm for 10 seconds, and the second time is 1500.
If the resin is rotated at rpm for 30 seconds, IPA is continuously dripped for the first few seconds, and then IPA is dripped for several seconds, the IPA can be rotated to remove foreign matter such as resin residue and dust adhering to the surface. After that, if the dropping of IPA is stopped and the rotation is continued, the IPA can be ejected.

【0013】なお、上記説明においては、紫外線硬化性
樹脂を用いる場合について説明したが、本発明は電子線
硬化性樹脂を用い、電子線を照射して硬化する場合にも
適用可能であることは言うまでもない。
In the above description, the case where the ultraviolet curable resin is used has been described, but the present invention is applicable to the case where the electron beam curable resin is used and the resin is irradiated with an electron beam to be cured. Needless to say.

【0014】[0014]

【作用】本発明はレジストレリーフ版からの複製に使用
する基板としてフレキシブルな材質を用い、基板のフレ
キシブル性を利用して原版作製時の泡の混入等の欠陥を
なくし、また原版と複製用基板との剥離は基板を反らす
ことができるので容易となる。さらに、フレキシブルな
基板を用いて複製した版を次の複製の原版として使用す
ることにより、複製したい基材が硬い材質であっても複
製を容易に行うことができる。また、フレキシブル性の
原版を複数枚準備しておくことにより、欠陥発生時に新
たにレジストレリーフ版から作製する必要がなくなり、
コストを低減化し、手間を省略することができる。さら
に複製時に有効領域のみプライマーを塗布するか、また
有効領域外に離型剤を塗布することにより、一層複製時
の剥離効果を高めることが可能である。また複数回の複
製を行った後、その複製原版をスピンナー上にセット
し、IPAで洗浄することにより作業中に混入した異物
を除去でき、また原版からの複製品の剥離を容易に行う
ことが可能となる。
According to the present invention, a flexible material is used as a substrate for replication from a resist relief plate, the flexibility of the substrate is used to eliminate defects such as bubbles mixed during the production of the original plate, and the original plate and the duplicate substrate. The substrate can be easily peeled off because the substrate can be warped. Furthermore, by using a plate duplicated using a flexible substrate as an original plate for the next duplication, duplication can be easily performed even if the base material to be duplicated is a hard material. Further, by preparing a plurality of flexible original plates, it is not necessary to newly prepare from a resist relief plate when a defect occurs,
Cost can be reduced and labor can be saved. Further, it is possible to further enhance the peeling effect at the time of copying by applying a primer only to the effective area at the time of copying or by applying a release agent outside the effective area. Also, after performing duplicates multiple times, set the duplicate original plate on the spinner and wash it with IPA to remove foreign substances mixed in during the work, and to easily separate the duplicate from the original plate. It will be possible.

【0015】[0015]

【実施例】図1(a)に示すように、フォトレジストと
して東京応化(株)製OFPR800を用い、ガラス基
板1上にスピンナー法により1500回転/分でポジ型
フォトレジスト層をコーティングし、レリーフホログラ
ム乾板3を作製した。次いで干渉縞を濃淡2値化したパ
ターン5が形成された振幅ホログラムからなるクロムマ
スク4を用意し、このマスクのクロムマスク面側を乾板
3に密着させてUV光6を40mJ照射した。この後、
現像液として東京応化(株)製NMD−3を用いて露光
済みの乾板の現像を行い、図1(b)に示すようなレリ
ーフパターン7が形成されたレリーフホログラム現像が
得られた。次いで、アクリル基板8の有効域外のポリエ
チレン−EVA製の保護フィルム(SPV−367日東
電工)をラミネートして、有効域のみにプライマーをス
ピンナーにより塗布した後、その保護フィルムを剥離し
て今度はその有効域外の部分に離型剤(フロン,1,
3;MS−77,ダイキン工業)を塗布した。次いで、
アクリル基板8に紫外線硬化性樹脂9を滴下し、レジス
ト原版を密着させた。このレジスト原版の密着によりフ
ォトレジスト7の部分は紫外線硬化性樹脂9が排除さ
れ、フォトレジストパターン間に紫外線硬化性樹脂9が
満たされ、それと同時に混入した泡等の異物はアクリル
基板のフレキシブル性により外に押し出され、除去する
ことができた。この状態でアクリル基板8側からUV光
6を450mJ照射した。そして、フレキシブルなアク
リル基板側を反らすようにして剥離していくことによ
り、容易にガラス基板側への樹脂残りが無く剥離でき、
アクリル基板上に樹脂のレリーフパターンが得られた。
得られた版に再度紫外線を照射し、充分に樹脂を硬化
(ポリマー化)させ、フレキシブルなレリーフホログラ
ムレンズが得られた。
EXAMPLE As shown in FIG. 1 (a), OFPR800 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. was used as a photoresist, and a positive photoresist layer was coated on a glass substrate 1 by a spinner method at 1500 revolutions / minute to obtain a relief. A hologram dry plate 3 was produced. Next, a chrome mask 4 made of an amplitude hologram having a pattern 5 in which the interference fringes were binarized was prepared, the chrome mask surface side of this mask was brought into close contact with the dry plate 3, and 40 mJ of UV light 6 was irradiated. After this,
The exposed dry plate was developed using NMD-3 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. as a developing solution to obtain a relief hologram developed with a relief pattern 7 as shown in FIG. 1 (b). Then, a protective film made of polyethylene-EVA (SPV-367 Nitto Denko) outside the effective area of the acrylic substrate 8 is laminated, a primer is applied only to the effective area by a spinner, and then the protective film is peeled off, and this time Release agent (Freon, 1,
3; MS-77, Daikin Industries, Ltd.). Then
The ultraviolet curable resin 9 was dropped on the acrylic substrate 8 to bring the resist original plate into close contact. Due to the adhesion of the resist original plate, the ultraviolet curable resin 9 is removed from the photoresist 7 portion, the ultraviolet curable resin 9 is filled between the photoresist patterns, and at the same time, foreign matter such as bubbles mixed in is caused by the flexibility of the acrylic substrate. It was pushed out and could be removed. In this state, 450 mJ of UV light 6 was irradiated from the acrylic substrate 8 side. Then, by peeling the flexible acrylic substrate side while warping it, it is possible to peel easily without resin residue on the glass substrate side,
A resin relief pattern was obtained on the acrylic substrate.
The obtained plate was irradiated again with ultraviolet rays to sufficiently cure (polymerize) the resin, and a flexible relief hologram lens was obtained.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、欠陥のな
いレリーフパターンを容易に複製することが可能であ
り、最終複製の原版となる版が使用不可能となった時の
原版の再作製が極めて容易となり、特にホログラムの複
製等に使用した場合に極めて有効なものである。
As described above, according to the present invention, it is possible to easily reproduce a relief pattern having no defect, and to re-produce the original plate when the original plate for final reproduction becomes unusable. It is extremely easy to manufacture and is extremely effective especially when used for hologram duplication and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の複製方法を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a duplication method of the present invention.

【図2】 樹脂製の版を原版とする例の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of an example in which a resin plate is used as an original plate.

【図3】 フレキシブルな基板を用いたレリーフ版から
の複製を説明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating duplication from a relief plate using a flexible substrate.

【図4】 フレキシブルな基板を用いたレリーフ版から
の複製を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating duplication from a relief plate using a flexible substrate.

【図5】 樹脂製原版の洗浄を説明する図である。FIG. 5 is a diagram illustrating cleaning of a resin original plate.

【図6】 従来のレリーフ版の複製を説明する図であ
る。
FIG. 6 is a diagram illustrating copying of a conventional relief plate.

【図7】 従来のレリーフ版複製の問題点を説明する図
である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a problem of conventional relief plate duplication.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラス基板、2…ポジ型レジスト、3…乾板、4…
クロムマスク、5…パターン、6…UV光、7…レリー
フパターン、8…アクリル基板、9…紫外線硬化性樹
脂、10…離型層、20…複製用基板、21…有効域、
22…有効域外、23…原版、24…樹脂。
1 ... Glass substrate, 2 ... Positive resist, 3 ... Dry plate, 4 ...
Chrome mask, 5 ... Pattern, 6 ... UV light, 7 ... Relief pattern, 8 ... Acrylic substrate, 9 ... UV curable resin, 10 ... Release layer, 20 ... Duplication substrate, 21 ... Effective area,
22 ... outside the effective range, 23 ... original plate, 24 ... resin.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03H 1/20 G03H 1/18 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03H 1/20 G03H 1/18

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 原版と複製用基板の何れか一方がフレキ
シブルであり、両者間に未硬化の紫外線硬化性樹脂また
は電子線硬化性樹脂を介在させて密着させ、紫外線また
は電子線を照射して樹脂を硬化させた後、両者のうちフ
レキシブルな方を反らせながら剥離する複製方法におい
て、原版または複製用基板の寸法を複製パターンの領域
よりも大きくし、複製パターンの領域以外の部分に離型
剤を塗布したことを特徴とするレリーフパターンの複製
方法。
1. Either one of the original plate and the duplication substrate is flexible.
A reluctant, after both interposed an uncured ultraviolet-curable resin or electron beam curable resin between in close contact with, by irradiating ultraviolet rays or electron beam to cure the resin, of both full
In the duplication method that peels while curving the lexible side, the dimensions of the original plate or duplication substrate are set to the area of the duplication pattern.
Larger than the mold release area other than the duplicate pattern area
A method for replicating a relief pattern, characterized in that a relief agent is applied .
【請求項2】 請求項1記載の方法において、離型剤と
してロン1,1,3を用いることを特徴とするレリー
フパターンの複製方法。
2. A method according to claim 1, wherein replication method of the relief pattern which comprises using the CFCs 1,1,3 as a release agent.
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