JP3390882B2 - 露光レチクル用ペリクル及びその貼り付け方法及びその貼り付け装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置の
製造工程で用いる露光レチクル用ペリクル及びその貼り
付け方法及びその貼り付け装置に関する。近年、半導体
集積回路装置が高集積化されているため、回路パターン
の最小線幅を決める設計ルールがサブミクロンオーダー
になることが多い。

【０００２】このような半導体集積回路装置を高品質で
製造するためには、フォトプロセスにおいて、ウェーハ
上にパターンを転写する際の露光光のエネルギーを常に
管理することが必要である。

【０００３】ところが、近年の高集積化された半導体集
積回路装置を製造するフォトプロセスにおいては、回路
パターンを形成した露光レチクルの上にゴミや粒子等の
異物が付着し、このゴミ等の影がウェーハ上に鮮明に投
影されて、回路パターンの露光を要する部分に非露光部
分を形成するのを防ぐために、回路パターンを形成した
露光レチクルの上に、この露光レチクルの表面よりも
６．３ｍｍ程度高い位置に、ニトロセルロース等の光学
的に安定し透明な高分子薄膜をアルミニウム等の枠に張
り渡して設け、本来ならば露光レチクルの表面に落下し
て付着するゴミ等を、この透明な高分子薄膜の上に受
け、このゴミ等の粒径が小さい場合は、縮小投影レンズ
系の焦点深度の外に出すことによって、ゴミの影がウェ
ーハ上に投影されないようにするためのペリクルが用い
られている。

【０００４】

【従来の技術】そして、従来の、露光光を放射する光源
と、その下に配置された露光光を平行光にするコンデン
サレンズ系と、その下に配置されたペリクルを設けた露
光レチクルを載置するレチクルステージと、その下に配
置された露光レチクルの露光パターンを透過した光を縮
小する縮小投影レンズ系と、その下に配置された露光パ
ターンを焼き付けるウェーハを載置するウェーハステー
ジを有する露光装置においては、露光パターンの外周を
露光光から遮蔽して不所望の光の漏洩、散乱を防ぐため
のブラインド（アパーチャーとも称されている）を、ペ
リクルを設けた露光レチクルの上に設けていた。

【０００５】図９は、従来の露光装置の概略構成説明図
である。この図において、８１は光源、８２はコンデン
サレンズ系、８３はブラインド、８４はペリクル、８４
₁ は枠、８４₂ は高分子薄膜、８５は露光レチクル、８
５₁ は透明レチクル基板、８５₂ は露光パターン、８６
はレチクルステージ、８７は縮小投影レンズ系、８８は
ウェーハ、８９はウェーハステージである。

【０００６】この従来の露光装置においては、水銀ラン
プ等の光源８１から放射される露光光を、その下に設け
られたコンデンサレンズ系８２によって平行光線にし、
この平行光線を、レチクルステージ８６に載置された、
露光パターン８５₂ を有する透明レチクル基板８５₁ か
らなる露光レチクル８５と、アルミニウム等の金属で形
成された枠８４₁ の上縁に高分子薄膜８４₂ を貼り渡し
たペリクル８４を貼り付けたものを透過させ、露光パタ
ーン８５₂ の透明部分を通過して露光光を縮小投影レン
ズ系８７によって１／５程度に縮小して、ＸＹ方向に移
動できるウェーハステージ８９の上に載置されたウェー
ハ８８の感光性樹脂の上に投影して露光パターンを焼き
付けるようになっている。

【０００７】そして、コンデンサレンズ系８２とペリク
ル８４の高分子薄膜８４₂ の間に、例えば、４枚の矩形
の遮光性板状体を同一平面上で枠状に組み合わせて構成
されたブラインド８３が形成されており、この４枚の遮
光性板状体の位置をスライドすることによって開口の大
きさを調節し、光源８１から放射され、コンデンサレン
ズ系８２を通過した平行光線が、ペリクル８４の枠８４
₁ の上縁に貼り渡された高分子薄膜８４₂ の、露光レチ
クル８５の露光パターン８５₂ 以外の領域を遮光し、コ
ンデンサレンズ系８２を通過した平行光線が、露光パタ
ーン８５₂ の外側を通過し、露光装置の容器壁等に反射
してウェーハステージ８９の上に載置されたウェーハ８
８の感光性樹脂膜に入射するのを防いでいる。

【０００８】このように、透明レチクル基板８５₁ の表
面に落下して付着するゴミ等を、ペリクル８４の高分子
薄膜８４₂ の上に受けるようにし、このゴミ等を縮小投
影レンズ系の焦点深度から外すことによって、ゴミの影
がウェーハ８８の感光性樹脂膜に投影されるのを防いで
いる。

【０００９】ところが、前記のように、ウェーハ８８の
上にパターンを転写する際の露光光のエネルギーを管理
することが必要であるが、ペリクル８４の高分子薄膜８
４₂は、紫外線等露光光に照射されると徐々に着色され
露光光の透過率が低下する性質を有している。したがっ
て、従来から、露光光の照射量と、露光レチクル８５に
貼り付けられたペリクル８４の高分子薄膜８４₂ の透過
率の関係を測定しておき、露光光の延べ照射時間から通
常の露光光のエネルギーからのエネルギーダウン率を推
定する方法や、直接ペリクル８４の高分子薄膜８４₂ の
透過率を測定し、通常の露光光のエネルギーからのエネ
ルギーダウン率が規定値に達したときに、ペリクル８４
を貼り替る方法によって露光光のエネルギーを管理して
いた。

【００１０】また、前記の従来技術においては、露光レ
チクル８５の透明レチクル基板８５ ₁ に露光パターン８
５₂ を形成し、洗浄した後、その上面に、アルミニウム
等の金属で形成された枠８４₁ の上縁にニトロセルロー
ス等の光学的に安定な透明な高分子薄膜８４₂ を貼り渡
したペリクル８４を、この枠８４₁ の下縁に塗布形成さ
れた接着剤層によって貼り付け、レーザ光を用いた検査
装置によって透明レチクル基板８５₁ の上（露光パター
ンが形成された面の裏面）の異物検査を行い、規格を満
たしている場合は合格品として出荷している。

【００１１】そして、露光レチクル８５にペリクル８４
を貼り付け後の検査によって、ペリクル８４内に異物が
混入していることが発見された場合は規格外となるた
め、ペリクル８４を剥がして再度露光レチクル８５を洗
浄した後にペリクル８４を貼り付けている。

【００１２】図１０は、従来のペリクルの構成説明図で
あり、（Ａ）は断面を、（Ｂ）は平面を示している。こ
の図において、８４はペリクル、８４₁ は枠、８４₂ は
高分子薄膜、８４₃は接着剤層である。この図に示され
ているように、従来のペリクルは、ペリクル８４の枠８
４₁ の上縁に高分子薄膜８４₂ を貼り渡し、その下縁の
全面に接着剤層８４₃ を平面状に塗布していた。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の露光
装置においては、前記のように、ブラインド８３の開口
の大きさを調節して、光源８１から放射され、コンデン
サレンズ系８２を通過した平行光線がペリクル８４の枠
８４₁ の上縁に貼り渡された高分子薄膜８４₂ の、露光
レチクル８５の露光パターン８５₂ 以外の領域を遮光し
ているため、露光光の照射によるペリクル８４の高分子
薄膜８４₂ の透過率の低下は露光パターン８５₂ が形成
されている部分に限られるため、高分子薄膜８４₂ の透
過率の測定は、露光レチクル８５にペリクル８４を貼り
付た状態で行うことができず、ペリクル８４を露光レチ
クル８５から剥がして透過率測定器によって測定する必
要があり、ペリクル８４の透過率管理が容易ではなかっ
た。

【００１４】また、図１０に示されているように、従来
は、ペリクル８４の枠８４₁ の下縁の全面に接着剤層を
平面状に塗布していたため、溶剤を用いあるいは物理的
にペリクル８４を露光レチクル８５（図９参照）から剥
がすと、露光レチクル８５に接着剤が残ってしまい、露
光レチクル８５を再洗浄することが必要になり、スルー
プットが悪くなるという問題があった。そしてまた、強
い力を用いて物理的にペリクル８４を剥がすと、露光レ
チクル８５に損傷を与える可能性があり、ペリクル８４
を剥がした後にペリクル８４を再使用することができな
くなるといった問題があった。

【００１５】

【００１６】本発明のペリクルは、ペリクル８４の枠８
４₁ の下縁の接着剤層の断面を凸状にし、断面が凸状の
接着剤層の頂部において露光レチクル８５の上に仮接着
した状態で透明レチクル基板８５₁ の上の異物検査を行
い、規格を満たしている場合は、より大きい押圧力を加
えて断面が凸状の接着剤層の段部において本接着して合
格品として出荷し、規格外の場合には、容易にペリクル
８４を剥がすことができ、そのためペリクルの貼り付け
作業を能率化できる手段を提供する。

【００１７】

【００１８】

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明に依る露光レチク
ル用ペリクルに於いては、枠と、枠の上縁に貼り渡され
た高分子薄膜と、枠の下縁の全面に形成された第１の接
着剤層と、該第１の接着剤層の表面から突出する該第１
の接着剤層より狭い面積の第２の接着剤層とからなるこ
とが基本になっている。

【００２０】この場合、段差、傾斜面または曲面によっ
て、露光レチクルに仮に接着するための微小な面積の接
着剤層を有する突出部と、該突出部より後退し、最終的
に接着するためのより広い面積の接着剤層を有する部分
が形成されている構成を採用することができる。

【００２１】また、この場合、露光レチクルの上に仮に
接着するための微小な面積の接着剤層を有する突出部
と、該突出部より後退し、最終的に接着するためのより
広い面積の接着剤層を有する部分が孤立した複数の部分
からなる構成を採用することができる。

【００２２】また、この場合、露光レチクルの上に仮に
接着するための微小な面積の接着剤層を有する突出部
と、該突出部より後退し、最終的に接着するためのより
広い面積の接着剤層を有する部分が連続した線状部分か
らなる構成を採用することができる。

【００２３】また、この場合、突出部の上の露光レチク
ルの上に仮に接着するための接着剤層の接着力を、突出
部より後退した部分の最終的に接着するための接着剤層
の接着力より弱くした構成を採用することができる。

【００２４】そして、また、本発明にかかる露光レチク
ル用ペリクルの貼り付け方法においては、露光レチクル
の上に仮に接着するための微小な面積の接着剤層を有す
る突出部と、該突出部より後退し、最終的に接着するた
めのより広い面積の接着剤層を有する部分を有するペリ
クルを露光レチクル上に貼り付ける際、まず、露光レチ
クルの上に、微小な面積の接着剤層を有する突出部によ
って仮に接着し、その状態で露光レチクルのゴミの付着
状態を検査し、ゴミの付着状態が許容範囲にある場合に
は該突出部より後退し広い面積の接着剤層を有する部分
によって最終的に接着し、ゴミの付着状態が許容範囲に
ない場合には該ペリクルを剥離して露光レチクルを洗浄
し、その後、再度ペリクルを露光レチクル上に貼り付け
る工程を採用した。

【００２５】また、本発明にかかるペリクルの貼り付け
装置においては、露光レチクルを載置し、その上に該露
光レチクルの上に仮に接着するための微小な面積の接着
剤層を有する突出部と、該突出部より後退し、最終的に
接着するためのより広い面積の接着剤層を有する部分を
有するペリクルを載置する基台と、該ペリクルの周辺部
を押圧力を調節して押圧することができる押圧部材と、
該ペリクルを透してその下の露光レチクルの表面のゴミ
の付着状態を検査することができる表面状態検査装置と
を含む構成を採用した。

【００２６】

【００２７】

【作用】 本 発明のペリクルのように、露光レチクルの上
に仮に接着するための微小な面積の接着剤層を有する突
出部と、この突出部より後退し、最終的に接着するため
のより広い面積の接着剤層を有する部分を設けることに
よって、凸状の接着剤層の頂部において露光レチクルの
上に仮接着した状態で透明レチクル基板の上の異物検査
を行い、規格を満たしていない場合は、容易にペリクル
を剥がすことができ、合格の場合は、押圧力を強めて凸
状の接着剤層の段部で露光レチクルの上に本接着するこ
とができるため、ペリクルの貼り付け作業を能率化する
ことができる。

【００２８】

【実施例】以下、本発明の実施例である露光レチクル用
ペリクル及び使用する露光装置を図面を参照しつつ説明
する。

【００２９】図１は本発明で用いた露光装置の概略構成
説明図である。図において、１は光源、２はコンデンサ
レンズ系、３はブラインド、４はペリクル、４₁ は枠、
４₂ は高分子薄膜、５は露光レチクル、５₁ は透明レチ
クル基板、５₂ は露光パターン、６はレチクルステー
ジ、７は縮小投影レンズ系、８はウェーハ、９はウェー
ハステージである。

【００３０】図１に見られる露光装置においては、水銀
ランプ等の光源１から放射される露光光を下方に設けた
コンデンサレンズ系２によって平行光線とし、この平行
光線は、レチクルステージ６に載置された露光パターン
５₂ を有する透明レチクル基板５₁ からなる露光レチク
ル５及びアルミニウム等の金属で形成された枠４₁ の上
縁に高分子薄膜４₂ を貼り渡したペリクル４を貼り付け
たものを透過し、露光パターン５₂ の透明部分を通過し
た露光光を縮小投影レンズ系７によって１／５程度に縮
小して、ＸＹ方向に移動できるウェーハステージ９の上
に載置されたウェーハ８の感光性樹脂の上に投影して露
光パターンを焼き付けるようになっている。

【００３１】そして、露光レチクル５と縮小投影レンズ
系７の間に、例えば、４枚の矩形の遮光性板状体を同一
平面上で枠状に組み合わせて構成されたブラインド３が
形成されており、この４枚の遮光性板状体の位置をスラ
イドすることによって開口の大きさを調節し、光源１か
ら放射され、コンデンサレンズ系２を通過した平行光線
が、ペリクル４の枠４₁ の上縁に貼り渡された高分子薄
膜４₂ と、露光レチクル５の露光パターン５₂ の透明部
分を通過した光の露光パターン５₂ 以外の領域を遮光
し、縮小投影レンズ系７によって１／５程度に縮小し
て、ＸＹ方向に移動できるウェーハステージ９の上に載
置されたウェーハ８の感光性樹脂の上に投影される。

【００３２】図１に示した露光装置においては、コンデ
ンサレンズ系２を通過した平行光線が、ペリクル４の枠
４₁ の上縁に貼り渡された高分子薄膜４₂ の、露光パタ
ーン５₂ 以外の領域にも照射されるため、照射された高
分子薄膜４₂ の全領域の露光光の透過率が低下すること
になる。

【００３３】したがって、従来技術において行われてい
た高分子薄膜４₂ の露光光の透過率を測定するためのペ
リクル４の剥離は必要でなく、ペリクル４の高分子薄膜
４₂と、露光レチクル５の透明レチクル基板５₁ の露光
パターン５₂ に隣接した透明部分を通して、高分子薄膜
４₂ の露光光の透過率を測定することができるため、ウ
ェーハ上にパターンを転写する際の露光光のエネルギー
を容易に管理することができる。

【００３４】図２は本発明で用いた他の露光装置の概略
構成説明図である。図において、１１は光源、１２はコ
ンデンサレンズ系、１３はブラインド、１４はペリク
ル、１４₁ は枠、１４₂ は高分子薄膜、１５は露光レチ
クル、１５₁は透明レチクル基板、１５₂ は露光パター
ン、１６はレチクルステージ、１７は縮小投影レンズ
系、１８はウェーハ、１９はウェーハステージである。

【００３５】図２に見られる露光装置においては、水銀
ランプ等の光源１１から放射される露光光を下方に設け
たコンデンサレンズ系１２によって平行光線とし、この
平行光線をレチクルステージ１６に載置された露光パタ
ーン１５₂ を有する透明レチクル基板１５₁ からなる露
光レチクル１５及びアルミニウム等の金属で形成された
枠１４₁ の上縁に高分子薄膜１４₂ を貼り渡したペリク
ル１４を貼り付けたものを透過させ、露光パターン１５
₂ の透明部分を通過して露光光を縮小投影レンズ系１７
によって１／５程度に縮小して、ＸＹ方向に移動できる
ウェーハステージ１９の上に載置されたウェーハ１８の
感光性樹脂の上に投影して露光パターンを焼き付けるよ
うになっている。

【００３６】そして、縮小投影レンズ系１７とウェーハ
１８の間に、例えば、４枚の矩形の遮光性板状体を同一
平面上で枠状に組み合わせて構成されたブラインド１３
が形成されており、この４枚の遮光性板状体の位置をス
ライドすることによって開口の大きさを調節し、光源１
１から放射され、コンデンサレンズ系１２を通過した平
行光線が、ペリクル１４の枠１４₁ の上縁に貼り渡され
た高分子薄膜１４₂ と、露光レチクル１５の露光パター
ン１５₂ の透明部分を通過し、縮小投影レンズ系１７に
よって縮小した光の露光パターン１５₂ 以外の領域を遮
光し、ＸＹ方向に移動できるウェーハステージ１９の上
に載置されたウェーハ１８の感光性樹脂の上に投影され
る。

【００３７】図２に示した露光装置においては、コンデ
ンサレンズ系１２を通過した平行光線が、ペリクル１４
の枠１４₁ の上縁に貼り渡された高分子薄膜１４₂ の、
露光パターン１５₂ 以外の領域にも照射されるため、照
射された高分子薄膜１４₂ の全領域の露光光の透過率が
低下することになる。

【００３８】したがって、従来技術において行われてい
た高分子薄膜１４₂ の露光光の透過率を測定するための
ペリクル１４の剥離は必要でなく、ペリクル１４の高分
子薄膜１４₂ と、露光レチクル１５の透明レチクル基板
１５₁ の露光パターン１５₂に隣接した透明部分を通し
て、高分子薄膜１４₂ の露光光の透過率を測定すること
ができるため、ウェーハ上にパターンを転写する際の露
光光のエネルギーを容易に管理することができる。

【００３９】図３はペリクルを表す構成説明図であり、
（Ａ）は断面を、（Ｂ）は平面を示している。図におい
て、２４はペリクル、２４₁ は枠、２４₂ は高分子薄
膜、２４₃ は第１の接着剤層、２４₄ は第２の接着剤層
である。

【００４０】この実施例のペリクルにおいては、図に示
されているように、ペリクル２４の枠２４₁ の上縁に高
分子薄膜２４₂ を貼り渡し、その下縁の全面に第１の接
着剤層２４₃ を形成し、その上の中央に厚さが数１０μ
ｍ〜１００μｍ程度の幅が第１の接着剤層２４₃ より狭
い第２の接着剤層２４₄ を形成している。この接着剤と
しては、ウレタンゴムや発泡ポリエチレン等とアクリル
接着剤から形成された物を用いることができる。

【００４１】そして、この第１の接着剤層２４₃ と第２
の接着剤層２４₄ は、枠２４₁ の下縁に連続して形成さ
れている。また、この第１の接着剤層２４₃ と第２の接
着剤層２４₄ を、同一の接着剤によって形成することも
でき、これらの接着剤を異ならせて、第２の接着剤層２
４ ₄ の接着強度を第１の接着剤層２４₃ より弱くするこ
とができる。

【００４２】この実施例のペリクル２４を用いると、
０．１ｋｇ／ｃｍ² 程度の押圧力をかけてペリクル２４
を凸状の第２の接着剤層２４₄ によって露光レチクルの
上に弱い接着力で仮接着し、その状態で透明レチクル基
板の上の異物検査を行い、規格を満たしていない場合
は、ペリクル２４を剥がし、合格の場合は、５ｋｇ／ｃ
ｍ ² 程度に押圧力を強めて凸状の段部になる第１の接着
剤層２４₃ によって露光レチクルの上に最終的に接着す
ることができるため、ペリクルの貼り付け作業を能率化
することができる。

【００４３】図４はペリクルを表す構成説明図であり、
（Ａ）は断面を、（Ｂ）は平面を示している。図におい
て、３４はペリクル、３４₁ は枠、３４₂ は高分子薄
膜、３４₃ は第１の接着剤層、３４₄ は第２の接着剤層
である。

【００４４】この実施例のペリクルにおいては、図に示
されているように、ペリクル３４の枠３４₁ の上縁に高
分子薄膜３４₂ を貼り渡し、その下縁に、中央が高くな
っている傾斜面を有する第１の接着剤層３４₃ を形成
し、その上の中央に幅が狭い第２の接着剤層３４₄ を形
成している。

【００４５】そして、この第１の接着剤層３４₃ と第２
の接着剤層３４₄ は、枠３４₁ の下縁に連続して形成さ
れている。また、この第１の接着剤層３４₃ と第２の接
着剤層３４₄ を、同一の接着剤によって形成することも
でき、これらの接着剤を異ならせて、第２の接着剤層３
４ ₄ の接着強度を第１の接着剤層３４₃ より弱くするこ
とができる。

【００４６】この実施例のペリクル３４を用いると、ペ
リクル３４を第２の接着剤層３４₄によって露光レチク
ルの上に仮接着した状態で透明レチクル基板の上の異物
検査を行い、規格を満たしていない場合は、容易にペリ
クル３４を剥がすことができ、合格の場合は、押圧力を
強めて第１の接着剤層３４₃ によって露光レチクルの上
に最終的に接着することができるため、ペリクルの貼り
付け作業を能率化することができる。この実施例の傾斜
面は、曲面によって代替することもできる。

【００４７】図５はペリクルを表す構成説明図であり、
（Ａ）は断面を、（Ｂ）は平面を示している。図におい
て、４４はペリクル、４４₁ は枠、４４₂ は高分子薄
膜、４４₃ は第１の接着剤層、４４₄ は第２の接着剤層
である。

【００４８】この実施例のペリクルにおいては、図に示
されているように、ペリクル４４の枠４４₁ の上縁に高
分子薄膜４４₂ を貼り渡し、その下縁の全面に第１の接
着剤層４４₃ を形成し、その上の内周に沿って幅が第１
の接着剤層４４₃ より狭い第２の接着剤層４４₄ を形成
している。そして、この第１の接着剤層４４₃ と第２の
接着剤層４４₄ は、枠４４₁ の下縁に連続して形成され
ている。また、この第１の接着剤層４４₃ と第２の接着
剤層４４₄ を、同一の接着剤によって形成することもで
き、これらの接着剤を異ならせて、第２の接着剤層４４
₄ の接着強度を第１の接着剤層４４₃ より弱くすること
ができる。

【００４９】この実施例のペリクル４４を用いると、ペ
リクル４４を凸状の第２の接着剤層４４₄ によって露光
レチクルの上に仮接着した状態で透明レチクル基板の上
の異物検査を行い、規格を満たしていない場合は、容易
にペリクル４４を剥がすことができ、合格の場合は、押
圧力を強めて凸状の段部になる第１の接着剤層４４₃に
よって露光レチクルの上に最終的に接着することができ
るため、ペリクルの貼り付け作業を能率化することがで
きる。この場合、ペリクル４４の枠４４₁ の下縁の外周
に沿って第２の接着剤層４４ ₄ を形成することもでき
る。

【００５０】図６はペリクルを表す構成説明図であり、
（Ａ）は断面を、（Ｂ）は平面を示している。図におい
て、５４はペリクル、５４₁ は枠、５４₂ は高分子薄
膜、５４₃ は第１の接着剤層、５４₄ は第２の接着剤層
である。

【００５１】この実施例のペリクルにおいては、図に示
されているように、ペリクル５４の枠５４₁ の上縁に高
分子薄膜５４₂ を貼り渡し、その下縁に、下縁の内周に
向かって高くなるように傾斜する第１の接着剤層５４₃
と第２の接着剤層５４₄ を形成している。そして、この
第１の接着剤層５４₃ と第２の接着剤層５４₄ は、枠５
４₁ の下縁に連続して形成されている。また、この第１
の接着剤層５４₃ と第２の接着剤層５４₄ は、同一の接
着剤によって形成されることもでき、これらの接着剤を
異ならせて、第２の接着剤層５４₄ の接着強度を第１の
接着剤層５４₃ より弱くすることができる。

【００５２】この実施例のペリクル５４を用いると、ペ
リクル５４を第２の接着剤層５４₄によって露光パター
ンレチクルの上に仮接着した状態で透明レチクル基板の
上の異物検査を行い、規格を満たしていない場合は、容
易にペリクル５４を剥がすことができ、合格の場合は、
押圧力を強めて第１の接着剤層５４₃ によって露光レチ
クルの上に本接着することができるため、ペリクルの貼
り付け作業を能率化することができる。この実施例の傾
斜面は、曲面によって代替することもできる。

【００５３】図７はペリクルを表す構成説明図であり、
（Ａ）は断面を、（Ｂ）は平面を示している。図におい
て、６４はペリクル、６４₁ は枠、６４₂ は高分子薄
膜、６４₃ は第１の接着剤層、６４₄ は第２の接着剤層
である。

【００５４】この実施例のペリクルにおいては、図に示
されているように、ペリクル６４の枠６４₁ の上縁に高
分子薄膜６４₂ を貼り渡し、その下縁の全面に第１の接
着剤層６４₃ を形成し、その上に複数の孤立した第２の
接着剤層６４₄ を形成している。

【００５５】この第１の接着剤層６４₃ と第２の接着剤
層６４₄ を、同一の接着剤によって形成することもで
き、これらの接着剤を異ならせて、第２の接着剤層６４
₄ の接着強度を第１の接着剤層６４₃ より弱くすること
ができる。この実施例は、第３実施例のペリクルにおい
て、第２の接着剤層を孤立化したものに相当するが、第
４実施例、第５実施例、第６実施例のペリクルの第２の
接着剤層を、この実施例と同様に孤立化することもでき
る。

【００５６】この実施例のペリクル６４を用いると、ペ
リクル６４を孤立した凸状の第２の接着剤層６４₄ によ
って露光レチクルの上に仮接着した状態で透明レチクル
基板の上の異物検査を行い、規格を満たしていない場合
は、容易にペリクル６４を剥がすことができ、合格の場
合は、押圧力を強めて第１の接着剤層６４₃ によって露
光レチクルの上に最終的に接着することができるため、
ペリクルの貼り付け作業を能率化することができる。

【００５７】図８はペリクルの貼り付け装置を表す概略
構成説明図である。図において、７１は基台、７２は露
光レチクル、７２₁ は透明レチクル基板、７２₂ は露光
パターン、７３はペリクル、７３₁ は枠、７３₂ は高分
子薄膜、７３₃ は第１の接着剤層、７３₄ は第２の接着
剤層、７４は押圧部材、７５₁ ，７５₂ はカム装置、７
６はレーザ装置、７７は検出装置である。

【００５８】この実施例のペリクルの貼り付け装置にお
いては、基台７１の上に、透明レチクル基板７２₁ 上に
露光パターン７２₂ が形成された露光レチクル７２と、
アルミニウム等で形成された枠７３₁ の上縁に高分子薄
膜７３₂ が貼り渡され、その下縁に第１の接着剤層７３
₃ と、凸状の第２の接着剤層７３₄ が形成されたペリク
ル７３を積層して載置するようになっており、その上
に、透明レチクル基板７２₁ の露光パターン７２₂ に相
当する開口を有する押圧部材７４が配置され、この押圧
部材７４はカム装置７５₁ ，７５₂ によって圧力を調節
して押圧されるようになっている。

【００５９】そして、上方に設けられたレーザ装置７６
から放射されるレーザ光が、押圧部材７４の開口と高分
子薄膜７３₂ を通して、透明レチクル基板７２₁ の上面
を掃引され、透明レチクル基板７２₁ からの反射光を検
出装置７７によって検出されるようにされている。

【００６０】この実施例のペリクルの貼り付け装置を用
いて、露光レチクル７２とペリクル７３を貼り付けると
きは、この図に示すように、基台７１の上に露光レチク
ル７２とペリクル７３を積層し、この積層構造体を、カ
ム装置７５₁ ，７５₂ を予め定められた角度だけ回転し
て、押圧部材７４によって０．１ｋｇ／ｃｍ² の圧力で
押圧して凸状の第２の接着剤層７３₄ によって仮接着
し、この状態で、上方に設けられたレーザ装置７６から
放射されるレーザ光を、押圧部材７４の開口と高分子薄
膜７３₂ を通して、透明レチクル基板７２₁ の上面を掃
引し、透明レチクル基板７２₁ からの反射光を検出装置
７７によって検出することによって、透明レチクル基板
７２₁ 上のゴミの有無を検査し、ゴミ等の異物の付着状
態が許容範囲にある場合は、さらにカム装置７５₁ ，７
５₂ を予め定められた角度だけ回転して、押圧部材７４
によって５ｋｇ／ｃｍ² の圧力で押圧して第１の接着剤
層７３₃ によって最終的に接着する。

【００６１】ゴミ等の異物の付着状態が許容範囲にない
場合は、カム装置７５₁ ，７５₂ を戻して露光レチクル
７２とペリクル７３を取り出し、露光レチクル７２から
ペリクル７３を剥離してそのまま保管し、露光レチクル
７２を洗浄して異物を除去し、乾燥した後に、上記と同
様に、ペリクル７３の仮接着、ゴミの付着状態の検査、
本接着、または、剥離、洗浄を繰り返す。

【００６２】なお、上記のゴミ等の異物の付着状態の検
査は、露光レチクルの上面を対象にしているが、検査装
置の焦点を調節することによってペリクルの高分子膜の
両面を対象して検査し、露光に支障を生じる程度のゴミ
等の異物が付着している場合はペリクルの高分子膜を貼
り変えることもできる。上記のカム装置７５₁ ，７５₂
は適宜の押圧装置に代替することができる。

【００６３】

【発明の効果】本発明によれば、ペリクルの透過率測定
を行う場合、露光レチクルからペリクルを剥がさず、露
光レチクルに貼り付けた状態で透過率を測定することが
でき、そして、露光技術の分野で改善が望まれてきた問
題、即ち、レチクルステージの上側にブラインドが設置
されている場合、ブラインドを構成する遮光板をスライ
ドしてブラインドの開口の大きさを調節する際に摩擦に
よって発生するゴミが露光レチクル上に落下して付着す
るという事故はなくなり、また、ペリクルを仮接着した
露光レチクル上のゴミ等の異物を検査した後、本接着を
行うことができるため、ペリクル貼り付け作業が容易に
なるという作業能率上の効果があり、そして、ペリクル
は再使用できるから、コスト・ダウンに寄与できる。

【００６４】

【図面の簡単な説明】

【図１】露光装置の概略構成説明図である。

【図２】露光装置の概略構成説明図である。

【図３】ペリクルの構成説明図であり、（Ａ）は断面
を、（Ｂ）は平面を示している。

【図４】ペリクルの構成説明図であり、（Ａ）は断面
を、（Ｂ）は平面を示している。

【図５】ペリクルの構成説明図であり、（Ａ）は断面
を、（Ｂ）は平面を示している。

【図６】ペリクルの構成説明図であり、（Ａ）は断面
を、（Ｂ）は平面を示している。

【図７】ペリクルの構成説明図であり、（Ａ）は断面
を、（Ｂ）は平面を示している。

【図８】ペリクルの張り付け装置の概略構成説明図であ
る。

【図９】従来の露光装置の概略構成説明図である。

【図１０】従来のペリクルの構成説明図であり、（Ａ）
は断面を、（Ｂ）は平面を示している。

【符号の説明】

１，１１ 光源 ２，１２ コンデンサレンズ系 ３，１３ ブラインド ４，１４ ペリクル ４₁ ，１４₁ 枠 ４₂ ，１４₂ 高分子薄膜 ５，１５ 露光レチクル ５₁ ，１５₁ 透明レチクル基板 ５₂ ，１５₂ 露光パターン ６，１６ レチクルステージ ７，１７ 縮小投影レンズ系 ８，１８ ウェーハ ９，１９ ウェーハステージ ２４，３４，４４，５４，６４ ペリクル ２４₁ ，３４₁ ，４４₁ ，５４₁ ，６４₁ 枠 ２４₂ ，３４₂ ，４４₂ ，５４₂ ，６４₂ 高分子薄膜 ２４₃ ，３４₃ ，４４₃ ，５４₃ ，６４₃ 第１の接着
剤層 ２４₄ ，３４₄ ，４４₄ ，５４₄ ，６４₄ 第２の接着
剤層 ７１ 基台 ７２ 露光レチクル ７２₁ 透明レチクル基板 ７２₂ 露光パターン ７３ ペリクル ７３₁ 枠 ７３₂ 高分子薄膜 ７３₃ 第１の接着剤層 ７３₄ 第２の接着剤層 ７４ 押圧部材 ７５₁ ，７５₂ カム装置 ７６ レーザ装置 ７７ 検出装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松山 隆義 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 三浦 良一 鹿児島県薩摩郡入来町副田5950番地 株 式会社九州富士通エレクトロニクス内 (56)参考文献 特開 昭62−92959（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−218113（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−5508（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−298245（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−19124（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−104058（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−133061（ＪＰ，Ａ) 実開 平６−36054（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03F 1/14 G03F 7/20 H01L 21/027

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】枠と、 枠の上縁に貼り渡された高分子薄膜と、 枠の下縁の全面に形成された第１の接着剤層と、 該第１の接着剤層の表面から突出する該第１の接着剤層
   より狭い面積の第２の接着剤層とからなること を特徴と
   する露光レチクル用ペリクル。
2. 【請求項２】該第１の接着剤層の中央部または内周部に
   該第２の接着剤層が形成されていることを特徴とする請
   求項１記載の露光レチクル用ペリクル。
3. 【請求項３】中央部または内周部が高くなっている傾斜
   面を有する該第１の接着剤層と 該第１の接着剤層の該中
   央部または該内周部に形成された該第２の接着剤層とを
   特徴とする請求項１記載の露光レチクル用ペリクル。
4. 【請求項４】該第２の接着剤層が孤立した複数の部分か
   らなることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか
   １記載の露光レチクル用ペリクル。
5. 【請求項５】該第２の接着剤層が連続した線状部分から
   なることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１
   記載の露光レチクル用ペリクル。
6. 【請求項６】該第２の接着剤層の接着力を該第１の接着
   剤層の接着力より弱くしたことを特徴とする請求項１乃
   至請求項５の何れか１記載の露光レチクル用ペリクル。
7. 【請求項７】枠と、 枠の上縁に貼り渡された高分子薄膜と、 枠の下縁の全面に形成された第１の接着剤層と、 該第１の接着剤層の表面から突出する該第１の接着剤層
   より狭い面積の第２の接着剤層と をもつペリクルを露光
   レチクル上に貼り付ける際、 まず、露光レチクルの上に該第２の接着剤層によって仮
   に接着し、 その状態で露光レチクルのゴミの付着状態を検査し、 ゴミの付着状態が許容範囲にある場合には該第１の接着
   剤層によって最終的に接着し、 ゴミの付着状態が許容範囲にない場合には該ペリクルを
   剥離して露光レチクルを洗浄し、 その後、再度ペリクルを露光レチクル上に貼り付けるこ
   とを特徴とする露光レチクル用ペリクルの貼り付け方
   法。
8. 【請求項８】露光レチクルを載置し、その上に枠と、枠
   の上縁に貼り渡された高分子薄膜と、枠の下縁の全面に
   形成された第１の接着剤層と、該第１の接着剤層の表面
   から突出する該第１の接着剤層より狭い面積の第２の接
   着剤層とをもつペリクルを載置する基台と、 該ペリクルの周辺部を押圧力を調節して押圧することが
   できる押圧部材と、 該ペリクルを透してその下の露光レチクルの表面におけ
   るゴミの付着状態を検査することができる表面状態検査
   装置とを含んでなることを特徴とする露光レチクル用ペ
   リクルの貼り付け装置。