Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3404527B2 - Photoelectron measurement method and photoelectron measurement system - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3404527B2 - Photoelectron measurement method and photoelectron measurement system - Google Patents

Photoelectron measurement method and photoelectron measurement system

Info

Publication number
JP3404527B2
JP3404527B2 JP2000153250A JP2000153250A JP3404527B2 JP 3404527 B2 JP3404527 B2 JP 3404527B2 JP 2000153250 A JP2000153250 A JP 2000153250A JP 2000153250 A JP2000153250 A JP 2000153250A JP 3404527 B2 JP3404527 B2 JP 3404527B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoelectron
image
difference
hologram
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2000153250A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2001330571A (en
Inventor
好正 二瓶
真則 尾張
哲夫 坂本
秀司 石井
真二 大森
将 白木
啓博 成松
Original Assignee
東京大学長
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 東京大学長 filed Critical 東京大学長
Priority to JP2000153250A priority Critical patent/JP3404527B2/en
Publication of JP2001330571A publication Critical patent/JP2001330571A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3404527B2 publication Critical patent/JP3404527B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、微細化された電子
デバイスや薄膜材料などの工業材料の結晶構造決定、結
晶性評価、不純物位置の特定、温度変化や化学変化によ
る構造変化の追跡などに有効であり、X線を試料に照射
して放出させた光電子の強度分布パターンを検出し、フ
ーリエ変換を用いて試料の原子像を取得する光電子スペ
クトロホログラフィーを利用した光電子測定方法及び光
電子測定システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the determination of crystal structures of industrial materials such as miniaturized electronic devices and thin film materials, evaluation of crystallinity, identification of impurity positions, and tracking of structural changes due to temperature changes and chemical changes. The present invention relates to a photoelectron measuring method and a photoelectron measuring system using photoelectron spectroholography, which is effective and detects the intensity distribution pattern of photoelectrons emitted by irradiating a sample with X-rays and acquires an atomic image of the sample by using Fourier transform. .

【0002】[0002]

【従来の技術】光電子分光法と物質3次元構造の記録技
術であるホログラフィー法とを一体化した、原子レベル
での構造イメージング手法として、光電子スペクトロホ
ログラフィーが知られている。光電子スペクトロホログ
ラフィーについては、例えば、J.J.Barto
n,”Photoelectron Holograp
hy”,Phys.Rev.Lett.61,1356
(1988)で説明されている。この内容の概念を図4
を参照して説明する。試料にX線を照射し励起され放出
させられた光電子のうち、この試料の特定元素の所定の
内殻準位に由来するものの光電子強度を、試料から張っ
た所定立体角の全体でエネルギー分析器を用いて検出す
ることにより、この立体角に関する光電子強度分布パタ
ーンが得られる。この強度分布パターンは、光電子放出
原子から直接分析器に到達したものと周囲の原子に散乱
されてから到達したものとの干渉により生じるので、夫
々をホログラフィーにおける参照波及び物体波と見なす
と、原子レベルでのホログラフィーが可能である。強度
分布パターンを規格化したホログラム像をフーリエ変換
して原子像を取得することができる。
2. Description of the Related Art Photoelectron spectroscopy holography is known as a structure imaging method at the atomic level, which is a combination of photoelectron spectroscopy and holography, which is a technique for recording a three-dimensional structure of a material. For photoelectron spectroholography, see, for example, J. J. Barto
n, "Photoelectron Holograp
hy ", Phys. Rev. Lett. 61, 1356.
(1988). Figure 4 shows the concept of this content.
Will be described with reference to. Among the photoelectrons excited and emitted by irradiating the sample with X-rays, the photoelectron intensity of the photoelectron intensity derived from the predetermined core level of the specific element of this sample is analyzed by the energy analyzer over the entire solid angle extended from the sample. The photoelectron intensity distribution pattern relating to this solid angle can be obtained by detecting using the. This intensity distribution pattern is caused by the interference between the photoelectron-emitted atoms that directly reach the analyzer and those that are scattered after being scattered by the surrounding atoms, so if we regard each as a reference wave and an object wave in holography, Holography at the level is possible. An atomic image can be obtained by Fourier-transforming a hologram image in which the intensity distribution pattern is standardized.

【0003】また、光電子スペクトロホログラフィーを
利用して光電子測定を実行した例は、例えば、L.T.
Terminello,J.J.Barton,and
D.A.Lapiano−Smith,”Holog
raphic Imaging of Atoms U
sing Multiple−Wave−Number
Electron Angular Distrib
ution Patterns”,Phys.Rev.
Lett.70,599(1993)で説明されてい
る。図5を参照して、この測定を実行した例を説明す
る。尚、ここにおいて、図5は、この測定を実行するの
に用いた測定システムを示す概略図である。この測定シ
ステムは、シンクロトロン放射光を利用して多波長のX
線を放射する多波長X線源11と、このX線源11から
出射されたX線を分光して所定のX線を取り出すX線分
光系12とを有する。このX線分光系12から取り出さ
れた、所定の第1の波長を有するX線は、試料13に照
射され、このX線により励起された光電子を放出させ
る。エネルギー分析器14を用いることにより、この光
電子を照射スポットから張った所定立体角にわたって検
出する走査が実行され、光電子強度分布パターンを規格
化した第1のホログラム像が取得される。同様にして、
異なる所定の第2ないし第9の波長を夫々有する8つの
X線に対応した第2ないし第9のホログラム像が夫々取
得される。これら第1ないし第9のホログラム像は夫々
フーリエ変換されて、第1ないし第9の原子像が夫々取
得される。これら第1ないし第9の原子像は位相を考慮
して重ね合わされ、試料の原子像が取得される。
An example of performing photoelectron measurement using photoelectron spectroholography is described in, for example, L.W. T.
Terminello, J .; J. Barton, and
D. A. Lapiano-Smith, "Holog
radical Imaging of Atoms U
Sing Multiple-Wave-Number
Electron Angular Distrib
Motion Patterns ", Phys. Rev.
Lett. 70, 599 (1993). An example of executing this measurement will be described with reference to FIG. In addition, here, FIG. 5 is a schematic diagram showing a measurement system used for performing this measurement. This measurement system uses synchrotron radiation to generate multi-wavelength X-rays.
It has a multi-wavelength X-ray source 11 that radiates rays, and an X-ray spectroscopic system 12 that disperses the X-rays emitted from the X-ray source 11 and extracts predetermined X-rays. The X-ray having a predetermined first wavelength extracted from the X-ray spectroscopic system 12 is applied to the sample 13 to emit photoelectrons excited by the X-ray. By using the energy analyzer 14, scanning for detecting the photoelectrons over a predetermined solid angle extending from the irradiation spot is executed, and the first hologram image in which the photoelectron intensity distribution pattern is standardized is acquired. Similarly,
Second to ninth hologram images corresponding to eight X-rays respectively having different predetermined second to ninth wavelengths are acquired. The first to ninth hologram images are respectively Fourier transformed to obtain the first to ninth atomic images, respectively. These first to ninth atomic images are superposed in consideration of the phase, and an atomic image of the sample is acquired.

【0004】また、散乱異方性に由来する原子像の歪み
に対する補正効果が比較的大きい光電子測定は、例え
ば、B.P.Tonner,Z.−L.Han,G.
R.Harp,and D.K.Saldin,Phy
s.Rev.B43,14423(1991)で説明さ
れている。これは、SWIFT(Scatrered−
Wave−Included FT)と呼ばれる手法を
用いている。
Further, photoelectron measurement, which has a relatively large correction effect on the distortion of an atomic image due to scattering anisotropy, is described in B. P. Toner, Z. -L. Han, G .;
R. Harp, and D.H. K. Saldin, Phy
s. Rev. B43, 14423 (1991). This is SWIFT (Scatredred-
A method called Wave-Included FT) is used.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】Phys.Rev.L
ett.70,599(1993)で説明されている図
5の測定システムは、9つのホログラム像を夫々取得す
るため非常に多くのデータが必要であるので、測定時間
が長い。さらに、測定時間が長いので、例えば、試料の
清浄表面への炭化物、水もしくは水素等の汚れの付着、
超伝導体での酸素抜け、及び、X線照射によるフッ化カ
ルシウムから酸化カルシウムへの変化等、データの信頼
性を損ねるような測定中の試料の劣化が大きい。
Problems to be Solved by the Invention Phys. Rev. L
ett. The measurement system of FIG. 5 described in 70, 599 (1993) requires a large amount of data in order to acquire each of the nine hologram images, so that the measurement time is long. Furthermore, since the measurement time is long, for example, adhesion of stains such as charcoal, water or hydrogen on the clean surface of the sample,
Oxygen loss in the superconductor and the change of calcium fluoride to calcium oxide due to X-ray irradiation greatly deteriorate the sample during measurement, which impairs the reliability of data.

【0006】また、図5の測定システムは、前方散乱に
関係するような、電子散乱の異方性に由来する原子像の
歪みに対する補正効果が小さいので、原子位置の誤差が
大きい。また、Phys.Rev.B43,14423
(1991)の光電子測定は、電子散乱の異方性に由来
する原子像の歪みに対する補正に際して、構造が未知で
ある試料に適応することができない。
Further, the measuring system of FIG. 5 has a small correction effect on the distortion of the atomic image due to the anisotropy of electron scattering, which is related to forward scattering, so that the error of the atomic position is large. In addition, Phys. Rev. B43, 14423
The photoelectron measurement of (1991) cannot be applied to a sample having an unknown structure when correcting the distortion of an atomic image due to the anisotropy of electron scattering.

【0007】また、図5の測定システムは、シンクロト
ロン放射光を利用する多波長X線源を有しているので、
システムの規模が非常に大きく、このシステムに係わる
装置の開発費用が非常に高い。この結果、一般にシンク
ロトロン放射光施設は公的な共同利用実験施設として建
設される場合が多い。この場合、各実験者に許される実
験時間が制限されたり、工業材料開発過程における秘匿
性が損なわれたりする。また、図5の測定システムに
は、X線源から出射されたX線を分光して所定のX線を
取り出すX線分光系が必要である。
Further, since the measurement system of FIG. 5 has a multi-wavelength X-ray source utilizing synchrotron radiation,
The scale of the system is very large, and the development cost of the device related to this system is very high. As a result, in general, the synchrotron radiation facility is often constructed as a public shared-use experimental facility. In this case, the experiment time allowed for each experimenter is limited, and the confidentiality in the industrial material development process is impaired. Further, the measurement system of FIG. 5 requires an X-ray spectroscopic system that disperses the X-rays emitted from the X-ray source and extracts predetermined X-rays.

【0008】従って、本発明の目的は、測定時間を短く
することができ、かつ、電子散乱の異方性に由来する原
子像の歪みに対する補正効果を大きくすることにより原
子位置の誤差を小さくすることができ、かつ、特別な施
設を使用する必要がない、光電子測定方法及び光電子測
定システムを提供することである。
Therefore, the object of the present invention is to shorten the measurement time and to reduce the error in the atomic position by increasing the correction effect for the distortion of the atomic image due to the anisotropy of electron scattering. It is possible to provide a photoelectron measuring method and a photoelectron measuring system which can be performed and does not need to use a special facility.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の請求項1に係わる光電子測定方法は、波長
の異なる2つのX線を試料の照射スポットに同時照射し
て、これら2つのX線により夫々励起されたエネルギー
の異なる2つの光電子をこの照射スポットから夫々放出
させて、これら2つの光電子の光電子スペクトルをこの
照射スポットから張った所定立体角にわたって同時検出
する走査を実行して、光電子スペクトル検出値を取得
し、この光電子スペクトル検出値に基づいて、前記2つ
の光電子に対応した2つのホログラム像を夫々演算し、
これら2つのホログラム像の差をとって差分ホログラム
像を演算し、この差分ホログラム像をフーリエ変換して
原子像を演算する、ことを特徴としている。
In order to achieve the above-mentioned object, the photoelectron measuring method according to claim 1 of the present invention is such that two X-rays having different wavelengths are simultaneously irradiated to an irradiation spot of a sample, Two photoelectrons with different energies respectively excited by two X-rays are emitted from this irradiation spot, and a photoelectron spectrum of these two photoelectrons is simultaneously detected over a predetermined solid angle extending from this irradiation spot. , Obtaining a photoelectron spectrum detection value, and calculating two hologram images corresponding to the two photoelectrons based on the photoelectron spectrum detection value,
The difference between these two hologram images is calculated to calculate a difference hologram image, and the difference hologram image is Fourier-transformed to calculate an atomic image.

【0010】試料に同時照射された波長の異なる2つの
X線により放出された、エネルギーの異なる2つの光電
子を同時検出することにより、光電子を同時検出する走
査を1回だけ実行して原子像を取得することができる。
また、ホログラム像を2つだけ用いることにより、処理
するデータの数を小さくすることができる。従って、測
定時間を短くすることができる。さらに、測定時間を短
くすることができるので、試料の経時変化などの試料の
劣化を小さくすることができる。
By simultaneously detecting two photoelectrons having different energies, which are emitted by two X-rays having different wavelengths, which are simultaneously irradiated to the sample, the scanning for simultaneously detecting the photoelectrons is executed only once, and an atomic image is obtained. Can be obtained.
Moreover, the number of data to be processed can be reduced by using only two hologram images. Therefore, the measurement time can be shortened. Furthermore, since the measurement time can be shortened, deterioration of the sample such as aging of the sample can be reduced.

【0011】また、前記2つのX線のエネルギーの差が
小さい場合、2つのホログラム像の差をとって差分ホロ
グラム像を取得する工程において、電子の散乱因子の異
方性が相殺されるので、差分ホログラム像から得られる
原子像の歪みに対する補正効果を大きくすることができ
る。また、2つの光電子の光電子スペクトルを、この照
射スポットから張った所定立体角にわたって同時検出す
ることにより、一方の光電子のエネルギーが検出される
方向と、もう一方の光電子の方向との差を小さくするこ
とができ、この結果、差分ホログラム像のこの方向の差
に係わる誤差を小さくすることができる。従って、原子
位置の誤差を小さくすることができる。
When the difference in energy between the two X-rays is small, the anisotropy of the electron scattering factor is canceled in the step of obtaining the difference hologram image by taking the difference between the two hologram images. The effect of correcting the distortion of the atomic image obtained from the difference hologram image can be increased. Further, by simultaneously detecting the photoelectron spectra of two photoelectrons over a predetermined solid angle extending from this irradiation spot, the difference between the direction in which the energy of one photoelectron is detected and the direction of the other photoelectron is reduced. As a result, the error relating to the difference in this direction of the difference hologram image can be reduced. Therefore, the error in the atomic position can be reduced.

【0012】波長の異なる2つのX線のみを用いること
により、システムの規模を小さくすることができる。従
って、特別な施設を使用する必要がない。
The system scale can be reduced by using only two X-rays having different wavelengths. Therefore, it is not necessary to use a special facility.

【0013】本発明の請求項2に係わる光電子測定シス
テムは、試料を支持する試料支持器と、この試料支持器
から所定間隔をおいて配設され、前記試料の照射スポッ
トに波長の異なる2つのX線を同時照射して、これら2
つのX線により夫々励起されたエネルギーの異なる2つ
の光電子をこの照射スポットから夫々放出させるための
X線源と、前記試料支持器から所定間隔をおいて配設さ
れたエネルギー分析器を有し、前記試料支持器及びこの
エネルギー分析器は、これらのうち少なくとも一方は回
動して、前記2つの光電子の光電子スペクトルを前記照
射スポットから張った所定立体角にわたって同時検出す
る走査を実行して、光電子スペクトル検出値を出力する
ための手段と、このエネルギー分析器の光電子スペクト
ル検出値に基づいて、前記2つの光電子に対応した2つ
のホログラム像を夫々取得するホログラム像取得手段
と、これら2つのホログラム像の差をとった値を差分ホ
ログラム像とする差分ホログラム像取得手段と、この差
分ホログラム像をフーリエ変換した値を原子像とする原
子像取得手段と、を有することを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a photoelectron measuring system, which comprises a sample support for supporting a sample and two samples having different wavelengths at irradiation spots of the sample which are arranged at a predetermined distance from the sample support. Simultaneous irradiation with X-rays
An X-ray source for emitting two photoelectrons having different energies respectively excited by two X-rays from the irradiation spot, and an energy analyzer arranged at a predetermined distance from the sample support, At least one of the sample support and the energy analyzer is rotated to perform scanning for simultaneously detecting the photoelectron spectra of the two photoelectrons over a predetermined solid angle extending from the irradiation spot, so that the photoelectrons are detected. Means for outputting spectrum detection values, hologram image acquisition means for respectively acquiring two hologram images corresponding to the two photoelectrons based on the photoelectron spectrum detection values of the energy analyzer, and these two hologram images Difference hologram image acquisition means for obtaining the difference hologram image as a difference hologram image, and this difference hologram image Is characterized by having the atomic image acquisition means for the Fourier transform value with atomic images, the.

【0014】この光電子測定システムは本発明の請求項
1に係わる光電子測定方法と実質的に同様の作用と効果
を有する。
This photoelectron measuring system has substantially the same operation and effect as the photoelectron measuring method according to claim 1 of the present invention.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下添付の図面中の図1ないし図
3を参照して、本発明の実施の形態を説明する。尚、こ
こにおいて、図1は、本発明の実施の形態の構成を示す
概略図である。X線が照射され光電子を放出する試料は
試料支持器1により支持される。試料のX線を照射され
測定される側には、所定の方向に所定距離をおいて、比
較的近い異なる2つの波長を有するX線X1,X2を同
方向に同時放射可能なX線源2が配設されている。試料
の同じ側には、これを中心としたほぼ球殻上で回動可能
に、エネルギー分析器3が配設されている。エネルギー
分析器3は、処理部4に接続されている。処理部4は、
エネルギー分析器3の出力信号が入力されるホログラム
像取得手段5と、取得手段5に後続する差分ホログラム
像取得手段6と、さらに取得手段6に後続する原子像取
得手段7とからなる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 3 in the accompanying drawings. Here, FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of the embodiment of the present invention. The sample which is irradiated with X-rays and emits photoelectrons is supported by the sample support 1. An X-ray source 2 capable of simultaneously radiating X-rays X1 and X2 having two different wavelengths relatively close to each other at a predetermined distance in a predetermined direction on the side of the sample which is irradiated with the X-rays and measured in the same direction. Is provided. On the same side of the sample, an energy analyzer 3 is arranged so as to be rotatable about a spherical shell centered on the same side. The energy analyzer 3 is connected to the processing unit 4. The processing unit 4
It comprises a hologram image acquisition means 5 to which the output signal of the energy analyzer 3 is input, a differential hologram image acquisition means 6 following the acquisition means 5, and an atomic image acquisition means 7 further following the acquisition means 6.

【0016】以下に上記X線源2を具体的に説明する。
X線源2は、加速電子が衝突しX線が放射する金属ター
ゲット(対陰極)を有する。この対陰極は1種類の元素
からなる金属で形成されている。加速電子が対陰極に衝
突すると、この元素の複数の固有X線が夫々同時に放射
する。これらのX線のうち、隣接した比較的近い2つの
波長を夫々有しているX線(例えば、Kα線とKβ線)
が、X線X1,X2として夫々同時放射する。表1の
(A)は、同一元素の隣接する固有X線の例を示してい
る。
The X-ray source 2 will be specifically described below.
The X-ray source 2 has a metal target (anticathode) which accelerated electrons collide with and emit X-rays. This anticathode is formed of a metal composed of one element. When the accelerated electrons strike the anticathode, a plurality of characteristic X-rays of this element are simultaneously emitted. Of these X-rays, X-rays each having two adjacent and relatively close wavelengths (for example, Kα ray and Kβ ray)
However, they are simultaneously radiated as X-rays X1 and X2, respectively. Table 1 (A) shows an example of adjacent characteristic X-rays of the same element.

【0017】[0017]

【表1】 [Table 1]

【0018】例えば、互いのエネルギーの差が43eV
と比較的近い、MgKα(1254eV)のX線X1
と、MgKβ(1297eV)のX線X2とを同時放射
するX線源は、Mgからなる金属で形成されている対陰
極を有する。
For example, the energy difference between them is 43 eV.
X-ray X1 of MgKα (1254 eV), which is relatively close to
And an X-ray X2 of MgKβ (1297 eV) at the same time have an anticathode formed of a metal made of Mg.

【0019】また、X線源2の第1の変形例は、異なる
2つの元素からなる金属が夫々異なる場所に蒸着されて
形成されている対陰極を有しているものである。加速電
子は2つの金属に夫々衝突し、これら2つの金属から複
数の固有X線が夫々放射する。表1の(B)は、異種元
素の近接する固有X線の例を示している。これらの固有
X線のうち、隣接した比較的近い2つの波長を夫々有し
たX線(例えば、エネルギーの差が233eVであるM
gKα(1254eV)とAlKα(1487eV))
が、X線X1,X2として夫々同時放射される。さら
に、X線源2の第2の変形例は、異なる2つの元素から
なる合金により形成された対陰極を有しているものであ
る。このように構成されたX線源を用いてもまた、比較
的近い2つの波長を夫々有したX線が夫々同時放射され
る。
The first modification of the X-ray source 2 has an anticathode formed by depositing metals composed of two different elements at different positions. The accelerated electrons collide with two metals, respectively, and a plurality of characteristic X-rays are emitted from these two metals, respectively. Table 1 (B) shows an example of adjacent characteristic X-rays of different elements. Among these characteristic X-rays, X-rays each having two adjacent and relatively close wavelengths (for example, M having an energy difference of 233 eV).
gKα (1254eV) and AlKα (1487eV))
However, they are simultaneously emitted as X-rays X1 and X2. Furthermore, the second modification of the X-ray source 2 has an anticathode formed of an alloy composed of two different elements. Even when the X-ray source configured as described above is used, X-rays having two wavelengths relatively close to each other are simultaneously emitted.

【0020】X線源2としては、市販の固定対陰極型と
回転対陰極型とが使用され得る。例えば、理学電機の卓
上型回転対陰極X線発生装置UltraX18や、Va
cuum GeneratorsのX線光電子分光法用
X線源XR3シリーズなどがそのまま、もしくは、改良
して使用され得る。
As the X-ray source 2, commercially available fixed anticathode type and rotating anticathode type can be used. For example, Rigaku Denki's tabletop rotating anticathode X-ray generator UltraX18, Va
The X-ray source XR3 series for X-ray photoelectron spectroscopy of cum Generators can be used as it is or after improvement.

【0021】エネルギー分析器3としては、市販の静電
半球型、角度エネルギー同時検出用トロイダル型などが
使用され得る。例えば、ULVAC−PHIのX線光電
子分光分析装置Quantumシリーズ、島津製作所の
X線光電子分析装置ESCA−3400、日本電子の光
電子分光装置JPS−9010シリーズもしくは、Va
cuum Generatorsの高性能X線電子分光
装置ESCALAB250などが使用され得る。
As the energy analyzer 3, a commercially available electrostatic hemisphere type, toroidal type for simultaneous detection of angular energy or the like can be used. For example, ULVAC-PHI X-ray photoelectron spectroscopy analyzer Quantum series, Shimadzu X-ray photoelectron analyzer ESCA-3400, JEOL photoelectron spectroscopy device JPS-9010 series, or Va.
A high performance X-ray electron spectroscope ESCALAB250 from cum Generators or the like may be used.

【0022】以下に上記構成のシステムを使用して光電
子測定方法を説明する。X線源2により同時放射させた
X線X1,X2を、試料支持器1により支持させた試料
の照射スポットに夫々同時照射する。照射スポットから
はX線X1により励起された光電子E1が放出される。
光電子E1の光電子スペクトル(光電子のエネルギーに
対する光電子の強度)は、複数のピークを有する。これ
は、X線X1により、試料の複数の内殻準位に夫々由来
する複数の光電子が夫々励起され放出されるためであ
る。同様に、X線X2により励起された光電子E2が、
光電子E1と同時に放出される。照射スポットからエネ
ルギー分析器3の光電子入射口に張った立体角に放出さ
れた光電子E1,E2は、エネルギー分析器3の光電子
入射口に同時に入射する。エネルギー分析器3は、同時
に入射した光電子E1,E2をエネルギーについて同時
に選別し、夫々のエネルギーに対する強度を検出する。
即ち、光電子E1,E2の強度を一体的に含んでいる光
電子スペクトルを同時検出する。この光電子スペクトル
は、光電子E1のうち試料の特定元素の所定の内殻準位
に由来する光電子ES1に対応する波形と、光電子E2
のうち光電子E1の場合と同じ内殻準位に由来する光電
子ES2に対応する波形とを一体的に含んでおり、図中
で、夫々Y1,Y2として示されている。光電子ES
1,ES2のエネルギーの差は、X線X1,X2のエネ
ルギーの差に等しく、比較的小さい。エネルギー分析器
3が照射スポットを中心として回動することにより、こ
の照射スポットから張った所定立体角の全体でこの一部
分につき一回ずつ順次光電子スペクトルを同時検出す
る。この同時検出に際して、所定立体角の全体を1回走
査する。エネルギー分析器3は、各立体角の光電子スペ
クトルに応じた光電子スペクトル検出値を出力し、この
検出値は、エネルギー分析器3から試料の原子像を取得
するための処理部4に入力される。
A photoelectron measuring method using the system having the above configuration will be described below. The X-rays X1 and X2 simultaneously emitted by the X-ray source 2 are simultaneously applied to the irradiation spots of the sample supported by the sample support 1, respectively. The photoelectron E1 excited by the X-ray X1 is emitted from the irradiation spot.
The photoelectron spectrum of the photoelectron E1 (the intensity of the photoelectron with respect to the energy of the photoelectron) has a plurality of peaks. This is because the X-ray X1 excites and emits a plurality of photoelectrons respectively derived from a plurality of core levels of the sample. Similarly, the photoelectron E2 excited by the X-ray X2 is
It is emitted at the same time as the photoelectron E1. The photoelectrons E1 and E2 emitted from the irradiation spot to the photoelectron entrance opening of the energy analyzer 3 in a solid angle are simultaneously entered into the photoelectron entrance opening of the energy analyzer 3. The energy analyzer 3 simultaneously selects the photoelectrons E1 and E2 that are simultaneously incident for energy, and detects the intensities for the respective energies.
That is, the photoelectron spectra that integrally include the intensities of the photoelectrons E1 and E2 are simultaneously detected. This photoelectron spectrum has a waveform corresponding to photoelectron ES1 derived from a predetermined core level of a specific element of the sample among photoelectrons E1, and photoelectron E2.
Among them, the waveform corresponding to the photoelectron ES2 derived from the same core level as that of the photoelectron E1 is integrally included, and is shown as Y1 and Y2 in the figure, respectively. Photoelectron ES
The difference in energy between 1 and ES2 is equal to the difference in energy between X-rays X1 and X2 and is relatively small. By rotating the energy analyzer 3 around the irradiation spot, the photoelectron spectrum is simultaneously detected once for each part of the entire predetermined solid angle extending from the irradiation spot. Upon this simultaneous detection, the entire predetermined solid angle is scanned once. The energy analyzer 3 outputs a photoelectron spectrum detection value corresponding to the photoelectron spectrum of each solid angle, and this detection value is input to the processing unit 4 for acquiring the atomic image of the sample from the energy analyzer 3.

【0023】図2は、本発明の実施の形態の処理部4の
処理手順を示すフローチャートである。図2に従ってス
テップ1を説明する。処理部4に入力された検出値は、
図1のホログラム像取得手段5に入力される。取得手段
5は、検出値の各立体角の光電子スペクトルから光電子
ES1に対応する波形を分離し、この波形に基づいて光
電子強度を取得する。さらに、この立体角にわたる光電
子強度に基づいて、光電子ES1の光電子強度分布パタ
ーン(立体角に関する光電子の強度の分布)を規格化し
た光電子ES1のホログラム像χ1を取得する。同様に
して、光電子ES2のホログラム像χ2を取得する。
FIG. 2 is a flow chart showing a processing procedure of the processing unit 4 according to the embodiment of the present invention. Step 1 will be described with reference to FIG. The detection value input to the processing unit 4 is
It is input to the hologram image acquisition means 5 in FIG. The acquisition unit 5 separates the waveform corresponding to the photoelectron ES1 from the photoelectron spectrum of each solid angle of the detected value, and acquires the photoelectron intensity based on this waveform. Further, based on the photoelectron intensity over this solid angle, the photoelectron intensity distribution pattern of the photoelectron ES1 (distribution of photoelectron intensity with respect to the solid angle) is standardized to obtain the hologram image χ1 of the photoelectron ES1. Similarly, the hologram image χ2 of the photoelectron ES2 is acquired.

【0024】ほぼ単色である光電子ES1,ES2の波
数ベクトルを夫々ベクトルk1,k2として、ホログラ
ム像χ1,χ2は夫々ベクトルk1,ベクトルk2の関
数である。ベクトルk1の方向は、照射スポットから延
びる、光電子ES1が放出され検出された方向であり、
照射スポットから描いた全てのベクトルk1を含む最小
の錐の立体角(ベクトルk1の全立体角)は、上述のよ
うに走査された所定立体角の全体に等しい。ベクトルk
2の方向についても同様であり、ベクトルk1の全立体
角は、ベクトルk2の全立体角に等しい。また、ベクト
ルk1の大きさとベクトルk2の大きさとは、夫々一定
であり、これらは相互に比較的近い値である。
The holograms χ1 and χ2 are functions of the vector k1 and the vector k2, respectively, where the wave number vectors of the photoelectrons ES1 and ES2, which are almost monochromatic, are set to the vectors k1 and k2, respectively. The direction of the vector k1 is the direction in which the photoelectron ES1 is emitted and detected, which extends from the irradiation spot,
The solid angle of the smallest cone including all the vectors k1 drawn from the irradiation spot (the total solid angle of the vector k1) is equal to the entire predetermined solid angle scanned as described above. Vector k
The same applies to the two directions, and the total solid angle of the vector k1 is equal to the total solid angle of the vector k2. Further, the magnitude of the vector k1 and the magnitude of the vector k2 are constant, and these values are relatively close to each other.

【0025】次に、ステップ2を説明する。ホログラム
像χ1,χ2は、差分ホログラム像取得手段6に入力さ
れる。取得手段6は、ベクトルk1とベクトルk2との
方向がほぼ等しいホログラム像χ1,χ2について、 Δχ=χ1−χ2 に従って差分ホログラム像Δχを計算する。この方向、
及び、ベクトルk1の大きさとベクトルk2の大きさと
の平均に等しい大きさを有する波数ベクトルをベクトル
kとする。ベクトルkの大きさは、一定である。さら
に、Δχを、ベクトルkの関数として定義する。この計
算は、ベクトルk1,ベクトルk2の全立体角、即ち、
ベクトルkの全立体角(照射スポットから描いた全ての
ベクトルkを含む最小の錐の立体角)にわたって実行さ
れる。
Next, step 2 will be described. The hologram images χ1 and χ2 are input to the difference hologram image acquisition means 6. The acquisition unit 6 calculates the difference hologram image Δχ according to Δχ = χ1-χ2 for hologram images χ1 and χ2 in which the directions of the vector k1 and the vector k2 are substantially the same. This direction,
Also, a wave number vector having a magnitude equal to the average of the magnitudes of the vector k1 and the vector k2 is defined as a vector k. The magnitude of the vector k is constant. Further, Δχ is defined as a function of the vector k. This calculation is performed by calculating all solid angles of the vectors k1 and k2, that is,
Performed over the entire solid angle of vector k (the smallest cone solid angle that includes all vectors k drawn from the illuminated spot).

【0026】ホログラム像χ1,χ2は、電子散乱の異
方性を有するので、ホログラム像χ1,χ2から得られ
る原子像にはその散乱異方性に由来する歪みが生じる。
S.Omori,T.Kozakai and Y.N
iheiらの”EPITAXIAL GROWTH O
F SrF ON Ge(111)−c(2×8)A
S STUDIED BY PHOTOELECTRO
N DIFFRACTION AND HOLOGRA
PHY”,Surface Reviewand Le
tters,6,1085(1999)で説明されてい
るように、ホログラム像χ1,χ2の差をとることによ
り、電子の散乱因子の異方性が相殺された差分ホログラ
ム像Δχが得られる。従って、差分ホログラム像Δχか
ら得られた原子像では電子散乱の異方性に由来する歪み
が補正される。
Since the hologram images χ1 and χ2 have electron scattering anisotropy, the atomic images obtained from the hologram images χ1 and χ2 are distorted due to the scattering anisotropy.
S. Omori, T .; Kozakai and Y.K. N
ihei et al.'s "EPITAXIAL GROWTH O"
F SrF 2 ON Ge (111) -c (2 × 8) A
S STUDED BY PHOTOELECTRO
N DIFFRACTION AND HOLOGRA
PHY ", Surface Review and Le
As described in Tters, 6, 1085 (1999), by taking the difference between the hologram images χ1 and χ2, a difference hologram image Δχ in which the anisotropy of the electron scattering factor is canceled is obtained. Therefore, in the atomic image obtained from the difference hologram image Δχ, the distortion due to the anisotropy of electron scattering is corrected.

【0027】次に、ステップ3を説明する。差分ホログ
ラム像Δχは、原子像取得手段7に入力される。取得手
段7は、差分ホログラム像Δχのフーリエ積分
Next, step 3 will be described. The difference hologram image Δχ is input to the atomic image acquisition means 7. The acquisition means 7 is a Fourier integral of the difference hologram image Δχ.

【数1】 [Equation 1]

【0028】に従って、左辺で示されている原子像を取
得する。原子像は引数として、試料の測定の対称とする
空間の実空間ベクトルを有する。原子像は、引数として
有する実空間ベクトル上の原子の存在確率に比例する値
である。このフーリエ積分は、大きさ一定であるベクト
ルkの全立体角について実行される。
In accordance with, the atomic image shown on the left side is acquired. The atomic image has, as an argument, the real space vector of the space that is the symmetry of the measurement of the sample. The atomic image is a value that is proportional to the existence probability of an atom on the real space vector that has it as an argument. This Fourier integration is performed for all solid angles of the vector k that are constant in size.

【0029】図3を参照して、Phys.Rev.Le
tt.70,599(1993)に従って取得した原子
像と本実施の形態に従って取得した原子像とを比較す
る。ここにおいて、図3の(A)は、従来の例の原子像
のディスプレイ上に表示した中間調画像、図3の(B)
は、本実施の形態の原子像のディスプレイ上に表示した
中間調画像である。両方の原子像は、測定を想定した量
子力学的シミュレーションにより取得された共通の2つ
のホログラム像に基づいて夫々取得される。ここでは、
ホログラム像は、ゲルマニウム結晶試料に対して球面波
多重散乱理論により計算される。原子像は、Ge(00
1)面の第2近接面についてのものである。試料に照射
する第1のX線をAlKα(1487eV)、第2のX
線をMgKα(1254eV)に対応して、シミュレー
ションにより第1及び第2のホログラム像が夫々取得さ
れる。図3の(A)は、第1及び第2のホログラム像を
夫々フーリエ変換して取得された2つの原子像を、位相
を考慮して重ね合わせることにより取得された。図3の
(B)は、第1及び第2のホログラム像の差分を計算
し、これをフーリエ変換することにより取得された。図
3は、Ge(001)面の第2近接面に沿った3次元再
生像のスライスであり、明るい部分が原子位置に対応す
る。図3の(A)の従来の例の原子像の画像では、ノイ
ズが非常に多く、実際には原子が無い位置に強いゴース
トピークが生じている。また、逆に正しい位置には明瞭
なピークが見られない。これは電子散乱の異方性に由来
するものであると思われる。一方、図3の(B)の本実
施の形態の原子像の画像では正方形をなす4個の明瞭な
ピークが正しい原子位置に見られる。これは電子散乱の
異方性に由来する原子像の歪みに対する補正が効果的に
機能したものと思われる。
Referring to FIG. 3, Phys. Rev. Le
tt. 70, 599 (1993) and the atomic image acquired according to the present embodiment are compared. Here, (A) of FIG. 3 is a halftone image displayed on the display of the atomic image of the conventional example, and (B) of FIG.
Is a halftone image displayed on the atomic image display of the present embodiment. Both atomic images are respectively acquired based on two common hologram images acquired by quantum mechanical simulation assuming the measurement. here,
The hologram image is calculated by the spherical wave multiple scattering theory for a germanium crystal sample. The atomic image is Ge (00
1) The second proximity surface of the surface. The first X-ray that irradiates the sample is AlKα (1487 eV) and the second X-ray.
The first and second hologram images are respectively acquired by simulation with the line corresponding to MgKα (1254 eV). FIG. 3A is obtained by superposing two atomic images obtained by Fourier transforming the first and second hologram images, respectively, in consideration of the phase. FIG. 3B is obtained by calculating the difference between the first and second hologram images and performing Fourier transform on the difference. FIG. 3 is a slice of the three-dimensional reproduction image along the second proximity surface of the Ge (001) plane, and the bright portion corresponds to the atomic position. In the image of the atom image of the conventional example of FIG. 3A, noise is extremely large, and a strong ghost peak actually occurs at a position where there are no atoms. On the contrary, no clear peak is seen at the correct position. This is probably due to the anisotropy of electron scattering. On the other hand, in the image of the atomic image of this embodiment in FIG. 3B, four clear peaks forming a square are seen at correct atomic positions. It seems that the correction for the distortion of the atomic image due to the anisotropy of electron scattering worked effectively.

【0030】本実施の形態に従って、ゲルマニウム結晶
試料の原子像を取得する場合、2つのX線のエネルギー
の差は、約1eVないし約250eV、好ましくは、約
5eVないし約50eVである。
When acquiring an atomic image of a germanium crystal sample according to the present embodiment, the energy difference between two X-rays is about 1 eV to about 250 eV, preferably about 5 eV to about 50 eV.

【0031】以上詳述した如く構成されている本発明の
実施の形態においては、上述の原子像の比較から、差分
ホログラム像を取得するステップ2と原子像を取得する
ステップ3とを用いることにより、電子散乱の異方性に
由来する原子像の歪みに対する補正の効果を大きくする
ことができる。従って、原子像の画像の原子位置の誤差
を小さくすることができる。
In the embodiment of the present invention configured as described above in detail, the step 2 for obtaining the difference hologram image and the step 3 for obtaining the atomic image are used by comparing the above-mentioned atomic images. , The effect of correction for the distortion of the atomic image due to the anisotropy of electron scattering can be increased. Therefore, the error of the atomic position of the image of the atomic image can be reduced.

【0032】また、処理部4は、光電子スペクトル検出
値のみを入力されることにより、測定される試料の構造
等についての情報の取得を不要とすることができる。従
って、電子散乱の異方性に由来する原子像の歪みに対す
る補正に際して、構造が未知である試料に適応すること
ができる。
Further, by inputting only the photoelectron spectrum detection value, the processing unit 4 can eliminate the need to acquire information on the structure of the sample to be measured. Therefore, when correcting the distortion of the atomic image due to the anisotropy of electron scattering, it is possible to apply to a sample whose structure is unknown.

【0033】また、2つのX線のみを放射するX線源2
は、対陰極を有しているような構成であり、X線源2と
して、例えば、市販のX線管がそのまま、もしくは、改
良して使用されることにより、シンクロトロン放射光の
利用を不要とすることができる。従って、システムの規
模を小さくすることができる。また、コストを低くする
ことができる。また、実験室程度の空間で測定すること
ができるので、実験時間の制限を緩和することができ、
また、工業材料開発の過程における秘匿性を高くするこ
とができる。また、シンクロトロン放射光の利用に際し
て必要なX線分光系を不要とすることができる。
An X-ray source 2 which emits only two X-rays
Is a structure having an anticathode, and as the X-ray source 2, for example, a commercially available X-ray tube is used as it is or after improvement, so that the use of synchrotron radiation is unnecessary. Can be Therefore, the scale of the system can be reduced. Also, the cost can be reduced. In addition, since it is possible to measure in a laboratory space, it is possible to relax the limit of the experiment time,
In addition, confidentiality in the process of industrial material development can be increased. Further, the X-ray spectroscopic system necessary for utilizing the synchrotron radiation can be eliminated.

【0034】本実施の形態で、エネルギー分析器が回動
することにより、走査を実行しているけれども、本発明
はこれに限定されるものではなく、例えば、試料支持器
1が回動してもよい。また、試料支持器1とエネルギー
分析器3とが相互に連動してもよい。
In the present embodiment, the energy analyzer rotates to perform scanning, but the present invention is not limited to this. For example, the sample support 1 rotates to rotate. Good. Further, the sample support 1 and the energy analyzer 3 may be interlocked with each other.

【0035】また、本実施の形態で、同時照射と同時検
出とを行いつつ所定立体角にわたって走査を1回実行す
るけれども、本発明はこれに限定されるものではなく、
複数回実行してもよい。
In the present embodiment, scanning is performed once over a predetermined solid angle while performing simultaneous irradiation and simultaneous detection, but the present invention is not limited to this.
It may be executed multiple times.

【0036】尚、本発明は上述した実施の形態に限定さ
れるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内にお
いて種々の変形や応用が可能であることは勿論である。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and it goes without saying that various modifications and applications can be made without departing from the spirit of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明の実施の形態の構成を示す概略
図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】図2は、本発明の実施の形態の処理部の処理手
順を示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart showing a processing procedure of a processing unit according to the embodiment of the present invention.

【図3】図3の(A)は、従来の例に従って取得した原
子像のディスプレイ上に表示した中間調画像、図3の
(B)は、本発明の実施の形態に従って取得した原子像
のディスプレイ上に表示した中間調画像である。
FIG. 3 (A) is a halftone image displayed on a display of an atomic image acquired according to a conventional example, and FIG. 3 (B) is an atomic image acquired according to an embodiment of the present invention. It is a halftone image displayed on the display.

【図4】図4は、光電子スペクトロホログラフィーを示
す概念図である。
FIG. 4 is a conceptual diagram showing photoelectron spectroholography.

【図5】図5は、従来の例における測定システムを示す
概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a measurement system in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 試料支持器 2 X線源 3 エネルギー分析器 5 ホログラム像取得手段 6 差分ホログラム像取得手段 7 原子像取得手段 1 Sample support 2 X-ray source 3 Energy analyzer 5 Hologram image acquisition means 6 Difference hologram image acquisition means 7 Atomic image acquisition means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大森 真二 千葉県船橋市宮本6−32−10 (72)発明者 白木 将 東京都目黒区東山1−27−26 シャレー 東山102 (72)発明者 成松 啓博 東京都文京区白山1−35−5 ストーク ハイツ白山202 (56)参考文献 特開 平7−110311(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 23/225 - 23/227 JICSTファイル(JOIS)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shinji Omori 6-32-10 Miyamoto, Funabashi-shi, Chiba (72) Inventor Masashi Shiraki 1-27-26 Higashiyama, Meguro-ku, Tokyo 102 (72) Inventor Hirohiro Narimatsu 1-35-5 Hakusan, Bunkyo-ku, Tokyo 202 Stoke Heights Hakusan 202 (56) Reference JP-A-7-110311 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G01N 23 / 225-23/227 JISC file (JOIS)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 波長の異なる2つのX線を試料の照射ス
ポットに同時照射して、これら2つのX線により夫々励
起されたエネルギーの異なる2つの光電子をこの照射ス
ポットから夫々放出させて、これら2つの光電子の光電
子スペクトルをこの照射スポットから張った所定立体角
にわたって同時検出する走査を実行して、光電子スペク
トル検出値を取得し、 この光電子スペクトル検出値に基づいて、前記2つの光
電子に対応した2つのホログラム像を夫々演算し、 これら2つのホログラム像の差をとって差分ホログラム
像を演算し、 この差分ホログラム像をフーリエ変換して原子像を演算
する、 ことを特徴とする、光電子測定方法。
1. An irradiation spot of a sample is simultaneously irradiated with two X-rays having different wavelengths, and two photoelectrons having different energies excited by these two X-rays are emitted from the irradiation spot, respectively. Scanning for simultaneously detecting the photoelectron spectra of two photoelectrons over a predetermined solid angle extending from this irradiation spot is performed to obtain a photoelectron spectrum detection value. Based on the photoelectron spectrum detection value, the two photoelectron spectra corresponding to the two photoelectrons are obtained. A photoelectron measuring method, characterized in that two hologram images are respectively calculated, a difference hologram image is calculated by taking a difference between these two hologram images, and the difference hologram image is Fourier-transformed to calculate an atomic image. .
【請求項2】 試料を支持する試料支持器と、 この試料支持器から所定間隔をおいて配設され、前記試
料の照射スポットに波長の異なる2つのX線を同時照射
して、これら2つのX線により夫々励起されたエネルギ
ーの異なる2つの光電子をこの照射スポットから夫々放
出させるためのX線源と、 前記試料支持器から所定間隔をおいて配設されたエネル
ギー分析器を有し、前記試料支持器及びこのエネルギー
分析器は、これらのうち少なくとも一方は回動して、前
記2つの光電子の光電子スペクトルを前記照射スポット
から張った所定立体角にわたって同時検出する走査を実
行して、光電子スペクトル検出値を出力するための手段
と、 このエネルギー分析器の光電子スペクトル検出値に基づ
いて、前記2つの光電子に対応した2つのホログラム像
を夫々取得するホログラム像取得手段と、 これら2つのホログラム像の差をとった値を差分ホログ
ラム像とする差分ホログラム像取得手段と、 この差分ホログラム像をフーリエ変換した値を原子像と
する原子像取得手段と、を有することを特徴とする、光
電子測定システム。
2. A sample support for supporting a sample, and a sample support provided at a predetermined interval from the sample support, the irradiation spots of the sample being simultaneously irradiated with two X-rays having different wavelengths, and these two An X-ray source for respectively emitting two photoelectrons having different energies excited by X-rays from the irradiation spot, and an energy analyzer arranged at a predetermined distance from the sample support, At least one of them is rotated in the sample support and the energy analyzer to perform scanning for simultaneously detecting the photoelectron spectra of the two photoelectrons over a predetermined solid angle extending from the irradiation spot to obtain a photoelectron spectrum. Means for outputting a detected value, and two hologra corresponding to the two photoelectrons, based on the detected value of the photoelectron spectrum of the energy analyzer. Hologram image acquiring means for acquiring each of the two hologram images, a difference hologram image acquiring means for taking a value obtained by taking the difference between these two hologram images as a difference hologram image, and a value obtained by Fourier-transforming this difference hologram image as an atomic image. A photoelectron measuring system, comprising: an atomic image acquisition means.
JP2000153250A 2000-05-24 2000-05-24 Photoelectron measurement method and photoelectron measurement system Expired - Lifetime JP3404527B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000153250A JP3404527B2 (en) 2000-05-24 2000-05-24 Photoelectron measurement method and photoelectron measurement system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000153250A JP3404527B2 (en) 2000-05-24 2000-05-24 Photoelectron measurement method and photoelectron measurement system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001330571A JP2001330571A (en) 2001-11-30
JP3404527B2 true JP3404527B2 (en) 2003-05-12

Family

ID=18658547

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000153250A Expired - Lifetime JP3404527B2 (en) 2000-05-24 2000-05-24 Photoelectron measurement method and photoelectron measurement system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3404527B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2077449A4 (en) 2006-10-13 2011-11-23 Univ Tohoku INVERSE X-RAY PHOTOELECTRONIC HOLOGRAPHIC DEVICE AND MEASURING METHOD THEREOF
CN112146967A (en) * 2019-06-28 2020-12-29 Fei 公司 System and method for preparing and delivering biological samples for charged particle analysis

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001330571A (en) 2001-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7130370B2 (en) Method and apparatus for producing an image of the internal structure of an object
Flynn et al. Experimental comparison of noise and resolution for and storage phosphor radiography systems
JP2007203066A (en) X-ray device focus-detector device X-ray optical transmission grating
JP2007529738A (en) Beam hardening correction and attenuation correction of coherent scattering CT
US7903860B2 (en) Method and device for segmenting at least one substance in an x-ray image
WO1992012527A1 (en) Method of three-dimensional atomic imaging
JP2002039976A (en) Correction method of measurement data of electron beam micro analyzer
JP2007508559A (en) Fan beam coherent scattering computed tomography
JP7410982B2 (en) Determination of one or more properties of light within an optical system
US12474283B2 (en) System and method for mapping chemical elements in a sample
JP3404527B2 (en) Photoelectron measurement method and photoelectron measurement system
Skorikov et al. Analysis of 3D elemental distribution in nanomaterials: Towards higher throughput and dose efficiency
JP2000046759A (en) X-ray inspection method and X-ray inspection apparatus
JP3950619B2 (en) Surface analysis data display method in surface analyzer using electron beam
JP4145690B2 (en) X-ray spectroscopic microscopic analysis method and photoelectric conversion X-ray microscope apparatus
JPH06160314A (en) Surface analysis method and its equipment
EP2299468A1 (en) Methods and systems for using phase plates
US20250044244A1 (en) Observation apparatus and observation method
Olumorin Investigation of Size Specific Fe2O3 Nanoparticles: Towards Single Nanoparticle Resolved Spectro-Ptychography
CN113795752A (en) Particle beam experimental data analysis device
Takahashi et al. Element-specific hard x-ray diffraction microscopy
US20240288595A1 (en) Method and system for high photon energies imaging
US20040062452A1 (en) Method, apparatus and program for restoring phase information
JP4261125B2 (en) Phase information restoration method, phase information restoration device, and phase information restoration program
JPH08261959A (en) Electron microscope and atomic species identification method using the same

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3404527

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S631 Written request for registration of reclamation of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term