JP3407241B2 - オゾン製造設備の運転方法 - Google Patents
オゾン製造設備の運転方法Info
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- JP3407241B2 JP3407241B2 JP17192196A JP17192196A JP3407241B2 JP 3407241 B2 JP3407241 B2 JP 3407241B2 JP 17192196 A JP17192196 A JP 17192196A JP 17192196 A JP17192196 A JP 17192196A JP 3407241 B2 JP3407241 B2 JP 3407241B2
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- ozone
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/10—Preparation of ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/10—Preparation of ozone
- C01B13/11—Preparation of ozone by electric discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2201/00—Preparation of ozone by electrical discharge
- C01B2201/90—Control of the process
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- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Paper (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は上下水処理、パルプ
漂白などに用いるオゾンを生成する、オゾナイザーを有
するオゾン製造設備の運転方法に関する。
漂白などに用いるオゾンを生成する、オゾナイザーを有
するオゾン製造設備の運転方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図６は従来のオゾン製造設備の構成図で
ある。酸素製造設備２で製造した原料ガス１１（主成分
は酸素）をオゾナイザー３に供給し、オゾナイザー３で
生成したオゾン１２を図示してないオゾン処理設備（例
えば下水処理やパルプ漂白）に供給する。オゾン濃度は
オゾン濃度計４でモニターし、オゾン生成量はオゾナイ
ザーに供給する酸素流量（酸素流量計６によりモニター
している）にオゾン濃度を乗じて計算する。
ある。酸素製造設備２で製造した原料ガス１１（主成分
は酸素）をオゾナイザー３に供給し、オゾナイザー３で
生成したオゾン１２を図示してないオゾン処理設備（例
えば下水処理やパルプ漂白）に供給する。オゾン濃度は
オゾン濃度計４でモニターし、オゾン生成量はオゾナイ
ザーに供給する酸素流量（酸素流量計６によりモニター
している）にオゾン濃度を乗じて計算する。
【０００３】図７は酸素製造設備の１例であるＰＳＡ
(Pressure Swing Adsorption) 式酸素製造設備の構成
図である。大気中の空気を空気送風機３２で加圧し、バ
ルブ３５と３７を開いて（バルブ３５ａと３７ａを閉
じ）一方の吸着塔３１へ送る。吸着塔３１の中には吸着
剤が充填されており、空気中の水分、炭酸ガス、窒素が
選択的に吸着除去され、吸着されにくい酸素（原料ガス
１１）がそのまま通過した後、コンプレッサー３４で所
望の圧力まで加圧されてオゾナイザー３に供給される。
吸着が進み、水分、炭酸ガス、窒素が除去されなくなっ
たらバルブ３５と３７を閉じ、他のバルブ３５ａと３７
ａを開いて、吸着塔３１から吸着塔３１ａに交換する。
同時にバルブ３６を開いて吸着塔３１を真空ポンプ３３
で真空に引くと、吸着されていた水分、炭酸ガス、窒素
が排出され、吸着剤は再生される。このように吸着塔を
交互に使用することによって、連続的に酸素を製造する
ことができる。
(Pressure Swing Adsorption) 式酸素製造設備の構成
図である。大気中の空気を空気送風機３２で加圧し、バ
ルブ３５と３７を開いて（バルブ３５ａと３７ａを閉
じ）一方の吸着塔３１へ送る。吸着塔３１の中には吸着
剤が充填されており、空気中の水分、炭酸ガス、窒素が
選択的に吸着除去され、吸着されにくい酸素（原料ガス
１１）がそのまま通過した後、コンプレッサー３４で所
望の圧力まで加圧されてオゾナイザー３に供給される。
吸着が進み、水分、炭酸ガス、窒素が除去されなくなっ
たらバルブ３５と３７を閉じ、他のバルブ３５ａと３７
ａを開いて、吸着塔３１から吸着塔３１ａに交換する。
同時にバルブ３６を開いて吸着塔３１を真空ポンプ３３
で真空に引くと、吸着されていた水分、炭酸ガス、窒素
が排出され、吸着剤は再生される。このように吸着塔を
交互に使用することによって、連続的に酸素を製造する
ことができる。
【０００４】図８は酸素製造設備における製造酸素流量
に対する酸素濃度のグラフである。酸素濃度は酸素流量
と吸着剤の量で決まり、酸素流量を増すほど濃度は低く
なる。例えば、最高濃度９５％のときの酸素流量を１と
すると、相対流量１．５倍では酸素濃度は６０％まで低
下する。図９は二重管型オゾナイザーを模式的に示し、
（ａ）は同心軸に平行方向の断面図であり、（ｂ）は同
心軸に垂直方向の断面図である。この二重管型オゾナイ
ザーは円筒形のステンレス鋼製の筐体１０１を有し、筐
体１０１の内部に、円筒形のステンレス鋼製の接地電極
１０２が同心状に配置され、接地電極１０２の内面には
誘電体層１０３としてガラスが密着されており、接地電
極１０２と誘電体層１０３の両端部は筐体１０１に固定
されている。さらにこのオゾン生成管の中心部は、円筒
形のステンレス鋼製の高圧電極１０４が、誘電体層１０
３の表面と放電空間１０５を隔てて同心状に配置されて
おり、その一部に取り付けた電源接続部は筐体１０１の
外部まで延び、ブッシング１０６を通して高周波電源１
０７を経て筐体１０１の一端に接続される。高電圧電極
１０４の両端は矢印で示した冷却水１０８を流すため
に、オゾン生成管には絶縁チューブ１０９を被せた細管
を設け、これが筐体１０１から突き出ている。また、冷
却水１０８は筐体１０１の一部からも流通させ接地電極
１０２を冷却する。
に対する酸素濃度のグラフである。酸素濃度は酸素流量
と吸着剤の量で決まり、酸素流量を増すほど濃度は低く
なる。例えば、最高濃度９５％のときの酸素流量を１と
すると、相対流量１．５倍では酸素濃度は６０％まで低
下する。図９は二重管型オゾナイザーを模式的に示し、
（ａ）は同心軸に平行方向の断面図であり、（ｂ）は同
心軸に垂直方向の断面図である。この二重管型オゾナイ
ザーは円筒形のステンレス鋼製の筐体１０１を有し、筐
体１０１の内部に、円筒形のステンレス鋼製の接地電極
１０２が同心状に配置され、接地電極１０２の内面には
誘電体層１０３としてガラスが密着されており、接地電
極１０２と誘電体層１０３の両端部は筐体１０１に固定
されている。さらにこのオゾン生成管の中心部は、円筒
形のステンレス鋼製の高圧電極１０４が、誘電体層１０
３の表面と放電空間１０５を隔てて同心状に配置されて
おり、その一部に取り付けた電源接続部は筐体１０１の
外部まで延び、ブッシング１０６を通して高周波電源１
０７を経て筐体１０１の一端に接続される。高電圧電極
１０４の両端は矢印で示した冷却水１０８を流すため
に、オゾン生成管には絶縁チューブ１０９を被せた細管
を設け、これが筐体１０１から突き出ている。また、冷
却水１０８は筐体１０１の一部からも流通させ接地電極
１０２を冷却する。
【０００５】このような構成の二重管型オゾナイザーの
放電空間１０５の一端から、上記の酸素製造設備で製造
した原料ガス１１を供給し、放電空間１０５の他端に設
けた排気バルブ１１０を調節して、例えば絶対圧力１．
６気圧として、高周波電源１０７により接地電極１０２
と高電圧電極１０４の間に交流電圧を印加すると、無声
放電が生じてオゾン１２を生成することができる。生成
したオゾン１２の濃度は、オゾン濃度計４でモニターす
る。実際のオゾナイザー設備では電極が数百本並んでい
るが、基本的な構成は同じである。
放電空間１０５の一端から、上記の酸素製造設備で製造
した原料ガス１１を供給し、放電空間１０５の他端に設
けた排気バルブ１１０を調節して、例えば絶対圧力１．
６気圧として、高周波電源１０７により接地電極１０２
と高電圧電極１０４の間に交流電圧を印加すると、無声
放電が生じてオゾン１２を生成することができる。生成
したオゾン１２の濃度は、オゾン濃度計４でモニターす
る。実際のオゾナイザー設備では電極が数百本並んでい
るが、基本的な構成は同じである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のオゾン製造設備
においては、以下の問題点があった。オゾンを大量に生
成しようとすると、原料である酸素も大量に必要とな
り、酸素製造設備が大規模かつ高額となる。酸素製造設
備の能力限界まで酸素流量を増すと、製造される酸素の
濃度は低下し、それにつれてオゾン濃度も低下する。
においては、以下の問題点があった。オゾンを大量に生
成しようとすると、原料である酸素も大量に必要とな
り、酸素製造設備が大規模かつ高額となる。酸素製造設
備の能力限界まで酸素流量を増すと、製造される酸素の
濃度は低下し、それにつれてオゾン濃度も低下する。
【０００７】オゾン製造設備で生成されるオゾンの濃度
は１００〜２００ｇ／ｍ3 の高濃度であって、下水処理
やパルプ漂白等に適用可能であるが、上水処理に使用す
るためには２０ｇ／ｍ3 前後まで濃度を下げなければな
らない。上記の問題点に鑑み、本発明の目的は、大量の
オゾンを生成でき、常時最高濃度またはそれ以下の任意
のオゾン濃度のオゾン含有ガスを供給でき、しかも設備
の規模が小さいオゾン製造設備の運転方法を提供するこ
とにある。
は１００〜２００ｇ／ｍ3 の高濃度であって、下水処理
やパルプ漂白等に適用可能であるが、上水処理に使用す
るためには２０ｇ／ｍ3 前後まで濃度を下げなければな
らない。上記の問題点に鑑み、本発明の目的は、大量の
オゾンを生成でき、常時最高濃度またはそれ以下の任意
のオゾン濃度のオゾン含有ガスを供給でき、しかも設備
の規模が小さいオゾン製造設備の運転方法を提供するこ
とにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、原料ガス供給源である酸素製造設備と、オゾナイ
ザーと、オゾン濃度計とを有し、酸素製造設備から供給
される原料ガスをオゾナイザーでオゾン化してオゾン含
有ガスを製造し、またオゾン濃度計でオゾン含有ガスの
オゾン濃度をモニターするオゾン製造設備の運転方法に
おいて、原料ガス供給源として液体酸素設備とその供給
酸素流量をモニターする酸素流量計が付加され、酸素消
費量が酸素製造設備の製造能力以内のときは酸素製造設
備のみから原料ガスを供給し、酸素消費量が酸素製造設
備の製造能力を越えるときは酸素製造設備と液体酸素設
備から原料ガスをオゾナイザーに供給することとする。
めに、原料ガス供給源である酸素製造設備と、オゾナイ
ザーと、オゾン濃度計とを有し、酸素製造設備から供給
される原料ガスをオゾナイザーでオゾン化してオゾン含
有ガスを製造し、またオゾン濃度計でオゾン含有ガスの
オゾン濃度をモニターするオゾン製造設備の運転方法に
おいて、原料ガス供給源として液体酸素設備とその供給
酸素流量をモニターする酸素流量計が付加され、酸素消
費量が酸素製造設備の製造能力以内のときは酸素製造設
備のみから原料ガスを供給し、酸素消費量が酸素製造設
備の製造能力を越えるときは酸素製造設備と液体酸素設
備から原料ガスをオゾナイザーに供給することとする。
【０００９】前記運転方法は、酸素製造設備のみで原料
ガスを供給する場合に、原料ガスの酸素濃度を９５±５
％とすることである。
ガスを供給する場合に、原料ガスの酸素濃度を９５±５
％とすることである。
【００１０】あるいは、酸素製造設備と液体酸素設備の
両方から原料ガスを供給する場合に、原料ガスの酸素濃
度を９５±５％とすることである。
両方から原料ガスを供給する場合に、原料ガスの酸素濃
度を９５±５％とすることである。
【００１１】
【発明の実施の形態】実施例１
図１は本発明に係る運転方法を実施するオゾン製造設備
のシステム構成図である。酸素供給源として従来の酸素
製造設備２の他に液体酸素設備１を有し、液体酸素設備
１から供給される純酸素を酸素流量計６とバルブ７を介
して酸素製造設備２からの配管に合流させる。また合流
後の配管に酸素濃度計５を付加し、オゾナイザー３に供
給する酸素の濃度をモニターする。液体酸素設備１は、
大型のデュワー瓶とエバポレーターからなり、デュワー
瓶に貯蔵された液体酸素から蒸発する酸素をエバポレー
ターで圧力調節して供給する設備であり、液体酸素は別
途、例えば、タンクロリーにより搬入する。
のシステム構成図である。酸素供給源として従来の酸素
製造設備２の他に液体酸素設備１を有し、液体酸素設備
１から供給される純酸素を酸素流量計６とバルブ７を介
して酸素製造設備２からの配管に合流させる。また合流
後の配管に酸素濃度計５を付加し、オゾナイザー３に供
給する酸素の濃度をモニターする。液体酸素設備１は、
大型のデュワー瓶とエバポレーターからなり、デュワー
瓶に貯蔵された液体酸素から蒸発する酸素をエバポレー
ターで圧力調節して供給する設備であり、液体酸素は別
途、例えば、タンクロリーにより搬入する。
【００１２】酸素消費量が酸素製造設備２の製造能力以
内のときには、バルブ７を閉じて酸素製造設備２だけで
酸素を供給し、酸素消費量が酸素製造設備２の製造能力
を越えるときには、バルブ７を開いて液体酸素設備１か
ら不足分をオゾナイザー３に供給することができる。次
に、オゾナイザーの特性を説明してから、本発明の効果
を説明する。図２はオゾナイザーにおける原料ガスの酸
素濃度に対するオゾン濃度の相対値のグラフである。酸
素濃度２０％は原料ガスとして空気を用いた場合であ
り、酸素濃度１００％は原料ガスとして純酸素を用いた
場合である。その他に、酸素濃度が８０、９０および９
５％の窒素との混合ガスを原料ガスとした実験を行った
結果も示してある。
内のときには、バルブ７を閉じて酸素製造設備２だけで
酸素を供給し、酸素消費量が酸素製造設備２の製造能力
を越えるときには、バルブ７を開いて液体酸素設備１か
ら不足分をオゾナイザー３に供給することができる。次
に、オゾナイザーの特性を説明してから、本発明の効果
を説明する。図２はオゾナイザーにおける原料ガスの酸
素濃度に対するオゾン濃度の相対値のグラフである。酸
素濃度２０％は原料ガスとして空気を用いた場合であ
り、酸素濃度１００％は原料ガスとして純酸素を用いた
場合である。その他に、酸素濃度が８０、９０および９
５％の窒素との混合ガスを原料ガスとした実験を行った
結果も示してある。
【００１３】図２から、酸素濃度が大きいほどオゾン濃
度は増加し、９５％近傍にピークが存在するので、オゾ
ナイザーに供給する原料ガスの酸素濃度を９５±５％に
すると、効率よくオゾンを生成できることが判る。酸素
製造設備の酸素供給能力が必要酸素流量以上であるとき
は、酸素製造設備のみを用いて、酸素濃度計で酸素濃度
をモニターしながら酸素流量を調節し、酸素濃度を９５
±５％に維持することができる。
度は増加し、９５％近傍にピークが存在するので、オゾ
ナイザーに供給する原料ガスの酸素濃度を９５±５％に
すると、効率よくオゾンを生成できることが判る。酸素
製造設備の酸素供給能力が必要酸素流量以上であるとき
は、酸素製造設備のみを用いて、酸素濃度計で酸素濃度
をモニターしながら酸素流量を調節し、酸素濃度を９５
±５％に維持することができる。
【００１４】しかし、従来技術の項で述べたように、酸
素製造設備で酸素流量をその能力限界まで生成させる
と、酸素濃度は低下する。この状態では、本発明のオゾ
ン製造設備では、液体酸素設備から純度１００％の酸素
を供給、混合させて、純度を９５±５％に調節すること
ができる。例えば、酸素流量Ｑ、濃度ｙ％の酸素に、純
度１００％の酸素を流量ｘ・Ｑだけ混合すれば、そのと
きの酸素濃度ｚ％は１００・（ｙ・Ｑ＋ｘ・Ｑ）／（Ｑ
＋ｘ・Ｑ）％となる。ｚ＞９５となるようなｘを求めれ
ばよい。図３は本発明に係るオゾン製造設備における酸
素混合比に対する酸素濃度の関係を示すグラフである。
例として、ｙ＝６０のとき、ｘ＝１、２、３．．．を代
入した点をプロットしてある。
素製造設備で酸素流量をその能力限界まで生成させる
と、酸素濃度は低下する。この状態では、本発明のオゾ
ン製造設備では、液体酸素設備から純度１００％の酸素
を供給、混合させて、純度を９５±５％に調節すること
ができる。例えば、酸素流量Ｑ、濃度ｙ％の酸素に、純
度１００％の酸素を流量ｘ・Ｑだけ混合すれば、そのと
きの酸素濃度ｚ％は１００・（ｙ・Ｑ＋ｘ・Ｑ）／（Ｑ
＋ｘ・Ｑ）％となる。ｚ＞９５となるようなｘを求めれ
ばよい。図３は本発明に係るオゾン製造設備における酸
素混合比に対する酸素濃度の関係を示すグラフである。
例として、ｙ＝６０のとき、ｘ＝１、２、３．．．を代
入した点をプロットしてある。
【００１５】グラフより、ｘ＞３とすれば、酸素濃度を
９５±５％にすることができることが判る。酸素製造設
備で製造する酸素濃度を必ずしも６０％にする必要はな
く、中間の濃度であってもよく、考え方は同じである。
このようにして、一時的な酸素製造設備の一時的な酸素
供給量の不足を解除できる。 実施例２ 図４は本発明に係る他のオゾン製造設備のシステム構成
図である。酸素製造設備２から排出される窒素１３の一
部を希釈ガスとして用い、オゾナイザー３で生成された
オゾンに混合し、所望のオゾン濃度のガス１４を得るこ
とができる。
９５±５％にすることができることが判る。酸素製造設
備で製造する酸素濃度を必ずしも６０％にする必要はな
く、中間の濃度であってもよく、考え方は同じである。
このようにして、一時的な酸素製造設備の一時的な酸素
供給量の不足を解除できる。 実施例２ 図４は本発明に係る他のオゾン製造設備のシステム構成
図である。酸素製造設備２から排出される窒素１３の一
部を希釈ガスとして用い、オゾナイザー３で生成された
オゾンに混合し、所望のオゾン濃度のガス１４を得るこ
とができる。
【００１６】窒素１３を窒素流量計８でモニターしなが
らバルブ７で流量調節して、例えば、オゾナイザー３で
生成されるオゾン濃度が２００ｇ／ｍ3 とすれば、流量
比９の窒素を混合してオゾン濃度を２０ｇ／ｍ3 とする
ことができた。 実施例３ 図５は本発明に係る運転方法を実施する別のオゾン製造
設備のシステム構成図である。ファン１０で大気を加圧
して、オゾナイザー３で生成されたオゾンに混合し、空
気流量計９とバルブ７で流量を調節して所望のオゾン濃
度のガス１４を得る。実施例２との相違点は、希釈ガス
を空気に換えたことである。
らバルブ７で流量調節して、例えば、オゾナイザー３で
生成されるオゾン濃度が２００ｇ／ｍ3 とすれば、流量
比９の窒素を混合してオゾン濃度を２０ｇ／ｍ3 とする
ことができた。 実施例３ 図５は本発明に係る運転方法を実施する別のオゾン製造
設備のシステム構成図である。ファン１０で大気を加圧
して、オゾナイザー３で生成されたオゾンに混合し、空
気流量計９とバルブ７で流量を調節して所望のオゾン濃
度のガス１４を得る。実施例２との相違点は、希釈ガス
を空気に換えたことである。
【００１７】
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、原料ガス供給源として
酸素製造設備と、オゾナイザーと、オゾン濃度計とを有
し、酸素製造設備から供給される原料ガスをオゾナイザ
ーでオゾン化してオゾン含有ガスを製造し、またオゾン
濃度計でオゾン含有ガスのオゾン濃度をモニターするオ
ゾン製造設備の運転方法において、原料ガス供給源とし
て液体酸素設備とその供給酸素流量をモニターする酸素
流量計が付加され、酸素消費量が酸素製造設備の製造能
力以内のときは酸素製造設備のみから原料ガスを供給
し、酸素消費量が酸素製造設備の製造能力を越えるとき
は酸素製造設備と液体酸素設備から原料ガスをオゾナイ
ザーに供給するので、年間を通して酸素消費量が変動し
ても、安定して酸素を供給でき、高いオゾン濃度を維持
できる。また酸素製造設備の容量を年間最大消費量に合
わせる必要がなくなり、設備コストを削減できる。
酸素製造設備と、オゾナイザーと、オゾン濃度計とを有
し、酸素製造設備から供給される原料ガスをオゾナイザ
ーでオゾン化してオゾン含有ガスを製造し、またオゾン
濃度計でオゾン含有ガスのオゾン濃度をモニターするオ
ゾン製造設備の運転方法において、原料ガス供給源とし
て液体酸素設備とその供給酸素流量をモニターする酸素
流量計が付加され、酸素消費量が酸素製造設備の製造能
力以内のときは酸素製造設備のみから原料ガスを供給
し、酸素消費量が酸素製造設備の製造能力を越えるとき
は酸素製造設備と液体酸素設備から原料ガスをオゾナイ
ザーに供給するので、年間を通して酸素消費量が変動し
ても、安定して酸素を供給でき、高いオゾン濃度を維持
できる。また酸素製造設備の容量を年間最大消費量に合
わせる必要がなくなり、設備コストを削減できる。
【図１】本発明に係る運転方法を実施するオゾン製造設
備のシステム構成図
備のシステム構成図
【図２】オゾナイザーにおける原料ガスの酸素濃度に対
するオゾン濃度の相対値のグラフ
するオゾン濃度の相対値のグラフ
【図３】本発明に係るオゾン製造設備における酸素混合
比に対する酸素濃度の関係を示すグラフ
比に対する酸素濃度の関係を示すグラフ
【図４】本発明に係る運転方法を実施する他のオゾン製
造設備のシステム構成図
造設備のシステム構成図
【図５】本発明に係る運転方法を実施する別のオゾン製
造設備のシステム構成図
造設備のシステム構成図
【図６】従来のオゾン製造設備の構成図
【図７】酸素製造設備の１例であるＰＳＡ (Pressure S
wing Adsorption) 式酸素製造設備の構成図
wing Adsorption) 式酸素製造設備の構成図
【図８】酸素製造設備における製造酸素流量に対する酸
素濃度のグラフ
素濃度のグラフ
【図９】二重管型オゾナイザーを模式的に示し、（ａ）
は同心軸に平行方向の断面図、（ｂ）は同心軸に垂直方
向の断面図
は同心軸に平行方向の断面図、（ｂ）は同心軸に垂直方
向の断面図
１ 液体酸素設備
２ 酸素製造設備
３ オゾナイザー
４ オゾン濃度計
５ 酸素濃度計
６ 酸素流量計
７ バルブ
８ 窒素流量計
９ 空気流量計
１０ コンプレサー
１１ 原料ガス
１２ オゾン
１３ 排出窒素
１４ 窒素
１５ 空気
３１ 吸着塔
３１ａ 吸着塔
３２ 空気送風機
３３ 真空ポンプ
３４ コンプレッサー
３５ バルブ
３５ａ バルブ
３６ バルブ
３６ａ バルブ
３７ バルブ
３７ａ バルブ
１０１ 筐体
１０２ 接地電極
１０３ 誘電体層
１０４ 高圧電極
１０５ 放電空間
１０６ ブッシング
１０７ 高周波電源
１０８ 冷却水
１０９ 絶縁チューブ
１１０ 排気バルブ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平６−92608（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−329401（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−277708（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−252503（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C01B 13/11
Claims (3)
- 【請求項１】原料ガス供給源である酸素製造設備と、オ
ゾナイザーと、オゾン濃度計とを有し、酸素製造設備か
ら供給される原料ガスをオゾナイザーでオゾン化してオ
ゾン含有ガスを製造し、またオゾン濃度計でオゾン含有
ガスのオゾン濃度をモニターするオゾン製造設備の運転
方法において、原料ガス供給源として液体酸素設備とそ
の供給酸素流量をモニターする酸素流量計が付加され、
酸素消費量が酸素製造設備の製造能力以内のときは酸素
製造設備のみから原料ガスを供給し、酸素消費量が酸素
製造設備の製造能力を越えるときは酸素製造設備と液体
酸素設備から原料ガスをオゾナイザーに供給することを
特徴とするオゾン製造設備の運転方法。 - 【請求項２】酸素製造設備のみで原料ガスを供給する場
合に、原料ガスの酸素濃度を９５±５％とすることを特
徴とする請求項１に記載のオゾン製造設備の運転方法。 - 【請求項３】酸素製造設備と液体酸素設備の両方から原
料ガスを供給する場合に、原料ガスの酸素濃度を９５±
５％とすることを特徴とする請求項１に記載のオゾン製
造設備の運転方法。
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