JP3408293B2 - くぼみ状欠陥を低減化したホログラム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ホログラム作製（複製
を含む）時に混入する異物によるくぼみ状欠陥を低減化
するようにしたホログラムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ホログラム原版と感光材料とを密着さ
せ、レーザ光を照射して原版からの回折光と入射光とを
感光材料中で干渉させ、原版のホログラム像を感光材料
中に記録することにより、ホログラム原版を複製するこ
とが行われている。この場合、裏面反射成分による像の
乱れを防止するために、原版と感光材料間に屈折率がほ
ぼ等しい光学密着液を介在させ、密着性を良くして裏面
反射を防止してホログラム像を複製するようにしてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ガラスと感
光材料フィルムの間に介在させる光学密着液は流動性、
振動等により均一な厚みになりにくく、特に密着液の量
が多い場合には、塗布してから流動がおさまって安定す
るまでに時間がかかる場合もあり、ホログラムの作製に
支障をきたすという問題があった。また、ホログラムの
作製または複製を、たとえクリーンルーム内でおこなっ
たとしても、作業員の入室や物資の搬入時に外部から持
ち込まれてフィルムやガラスに付着した、１０μｍ径程
度の異物（塵埃）を完璧に除去することは不可能であ
る。このような異物がフィルムを浮き上がらせ、異物を
中心とした光学密着液の流動によりホログラムが記録で
きない部分が発生したり、異物によってフィルムが圧迫
されることにより作製または複製されたホログラムの再
生像に数百μｍ〜数ｍｍ径程度のくぼみがあるように見
える箇所（くぼみ状欠陥）が多数発生するという問題が
あった。

【０００４】本発明は、異物の混入によってもくぼみ状
欠陥の発生が低減化され、目視上では再生像に欠陥の認
められないホログラムを提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、感光材料フィ
ルムを光学密着液を介して、無反射コートされたガラス
に密着させるか、或いはＮＤ（Ｎｅｕｔｒａｌ Ｄｅｎ
ｓｉｔｙ）ガラスあるいは無反射コートされたＮＤガラ
スに密着させた被記録部に、二光束に分割したレーザ光
を照射することにより作製されるホログラムであって、
無反射コートガラスまたはＮＤガラスあるいは無反射コ
ートされたＮＤガラスのフィルムに接する側またはフィ
ルムのガラスに接する面に、弾性の高いポリマーを主成
分とするクッション層が設けられ、混入する異物がクッ
ション層に埋め込まれてフィルムの圧迫によるくぼみ状
欠陥の発生が低減化されたことを特徴とする。

【０００６】また本発明は、支持体に支持された原版ホ
ログラムの上面に保護ガラスが接着された原版部と、複
製用感光性材料フィルムを光学密着液を介して無反射コ
ートされたガラスに密着させるか、或いはＮＤガラスあ
るいは無反射コートされたＮＤガラスに密着させ、また
は光学密着液を介して無反射コートガラスに密着したＮ
Ｄガラスに密着させた被複製部とを密着させ、レーザー
光照射により複製用材料フィルムに記録される複製ホロ
グラムであって、原版保護ガラスの被複製部側又は複製
用材料フィルムの原版側に、弾性の高いポリマーを主成
分とするクッション層が設けられ、複製時に混入する異
物がクッション層に埋め込まれてフィルムの圧迫による
くぼみ状の欠陥の発生が低減化されたことを特徴とす
る。

【０００７】

【作用】本発明のホログラムは、無反射コート付きガラ
ス或いはＮＤガラス或いは原版保護ガラスの感光材料フ
ィルムに接する側、または感光材料フィルムの該ガラス
に接する側にクッション層を設けることにより、ガラス
とフィルムの間に異物が混入してもこれをクッション層
内部に抱き込み、光学密着液の流動や、異物が圧迫する
ことによる感光材料フィルムの浮き上がりが防止され、
光学顕微鏡によっては記録された異物の痕跡が観察され
るものの、目視上では再生像に欠陥は認められない。

【０００８】

【実施例】図１は可撓性を持たせた無反射（ＡＲ）コー
ト付きＮＤガラスを用いた場合を示している。ＡＲコー
ト付きＮＤガラス１上に光学密着液２を介して原版支持
ガラス３を密着させ、支持ガラス３で原版フィルム４を
支持し、さらに光学接着剤５で原版保護ガラス６を接着
して原版部を形成する。この原版部にクッション層１
６、光学密着液７を介在させて複製用感光材料フィルム
８、光学密着液９、クッション層１５、ＡＲコート付き
ＮＤガラス１３を重ねて被複製部を形成する。このよう
に、本発明は、ＡＲコート付きＮＤガラス１３の内面側
に粘着性のクッション層１５、および原版保護ガラス６
の光学密着液側にクッション層１６を設けたものであ
り、クッション層１５、１６としては写真用のゼラチ
ン、半導体に使用するカゼイン、粘着性の高分子材料等
を用い、このクッション層により光学密着液に対して均
一に力が作用して光学密着液を均一かつ薄くするととも
に、ゴミが混入してもこれを内部に抱き込み、密着液の
流動や異物によるフィルムの浮き上がりを防止し、複製
を支障なく行うことができる。なお、クッション層１５
の代わりに感光材料フィルム上面に、またクッション層
１６の代わりに感光材料フィルム下面に同様のクッショ
ン層を設けるようにしても同様の効果が得られる。

【０００９】クッション層としては以下のように各種の
ものが使用可能である。クッション層がバインダーポリ
マー、あるいは可塑剤を含むバインダーポリマーからな
るポリマー層についてバインダーポリマーとしては天然
高分子では蛋白質である、アルブミン、グルブリン、カ
ゼイン、コラーゲン、ゼラチン、エラスチン、ケラチ
ン、フィブロイン等、多糖類である、寒天（アガロー
ス、アガロペクチン）、アルギン酸、キチン、キトサ
ン、セルロース、デンプン、リグニン等、天然ゴム等が
挙げられる。

【００１０】これらのうち特に好ましいものとしては、
光学特性と塗膜性の優れるカゼイン、ゼラチン、天然ゴ
ムが挙げられる。

【００１１】合成高分子としてはアクリレート−スチレ
ン−アクリロニトリル（ＡＡＳ）共重合体、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）共重合体、塩
素化ポリエチレン−アクリロニトリル−スチレン（ＡＣ
Ｓ）共重合体、アクリル酸エステル共重合体、オレフィ
ン−ビニルアルコール共重合体、アルキド樹脂、アミノ
樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂、酢酸セルロー
ス（ＣＡ）、酪酢酸セルロース（ＣＡＢ）、エチルセル
ロース（ＥＣ）、ヒドロキシエチルセルロース、カルボ
キシメチル化セルロース、塩素化ポリエーテル、クマロ
ン樹脂、塩素化ポリエチレン、アリル樹脂、エチレン−
α−オレフィン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合
体（ＥＶＡ）、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレ
ン−酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、エポキシ樹脂、
フラン樹脂、フッ素樹脂、アイオノマー、ケトン樹脂、
メタクリレート−ブタジエン−スチレン（ＭＢＳ）共重
合体、メタクリル−スチレン共重合体、ニトリル樹脂、
オキシベンゾイルポリエステル、石油樹脂、フェノール
樹脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリアリレート、ポリアリルスルホン、ポリプタジ
エン、熱硬化性ポリブタジエン、ポリブチレン、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテ
ルスルホン、ポリエチレン、水架橋性ポリエチレン、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミノビ
スマレイミド、メタクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリメチ
ルペンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシ
ド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンスルホ
ン、ポリスルホン、ポリスチレン、スチレン−アクリロ
ニトリル（ＳＡＮ）共重合体、スチレン共重合体、ブタ
ジエン−スチレン共重合体、ポリウレタン、酢酸ビニル
系樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコー
ル、ポリ塩化ビニル、アクリル変成ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、シリコーン、キシレン樹脂、ウレタ
ンアクリレート系樹脂等が挙げられる。

【００１２】本発明において、代表的に使用し得るポリ
マーとその屈折率、ガラス転移温度を以下に示す。 ポリマー ｎ Ｔ_g （Ｋ°） ──────────────────────────────────── ポリビニリデンフルオライド 1.42 233 ポリジメチルシリレン（ポリジメチルシロキサン） 1.43 146 ポリオキシプロピレン 1.4495 198 ポリビニルイソブチルエーテル 1.4507 254 ポリビニルエチルエーテル 1.4540 230 ポリオキシエチレン 1.4563 232 ポリビニルブチルエーテル 1.4563 218 ポリビニルペンチルエーテル 1.4581 207 ポリビニルヘキシルエーテル 1.4591 199 ポリ（４−メチル−１−ペンテン） 1.459 -1.465 302 セルロースアセテートブチレート 1.46 -1.49 322-388 ポリビニルオクチルエーテル 1.4613 194 ポリ（ビニル２−エチルヘキシルエーテル） 1.4626 207 ポリビニルデシルエーテル 1.4628 211 ポリ（２−メトキシエチルアクリレート） 1.463 223 ポリブチルアクリレート 1.4631 251 ポリ（ｔ−ブチルメタクリレート） 1.4638 333 ポリ（３−エトキシプロピルアクリレート） 1.465 218 ポリビニルプロピオネート 1.4665 283 ポリビニルアセテート 1.4665 305 ポリビニルメチルエーテル 1.467 242 ポリエチルアクリレート 1.4685 249 エチレン−ビニルアセテート共重合体 1.47 -1.50 （８０％−２０％ビニルアセテート） セルロースプロピオネート 1.47 -1.49 400 セルローストリアセテート 1.47 -1.48 322-751 ポリビニルメチルエーテル（アイソタクティック） 1.4700 242 ポリ（３−メトキシプロピルアクリレート） 1.471 198 ポリ（２−エトキシエチルアクリレート） 1.471 223 ポリメチルアクリレート 1.472 -1.480 283 ポリイソプロピルメタクリレート 1.4728 354 ポリ（１−デセン） 1.4730 232 ポリプロピレン（アタクティック，密度0.8575ｇ／ｃｍ³ ） 1.4735 260 ポリ（ビニルｓｅｃ−ブチルエーテル）（アイソタクティック） 1.4740 254 ポリドデシルメタクリレート 1.4740 208 ポリオキシエチレンオキシスクシノイル 1.4744 244 （ポリエチレンスクシネート） ポリテトラデシルメタクリレート 1.4746 201-264 エチレン−プロピレン共重合体（ＥＰＲ−ゴム） 1.4748-1.48 140-260 ポリヘキサデシルメタクリレート 1.4750 288 ポリビニルフォルメート 1.4757 310 ポリイソブチルメタクリレート 1.477 333 エチルセルロース 1.479 316 ポリビニルアセタール 1.48 -1.50 305 セルロースアセテート 1.48 -1.50 322-751 セルローストリプロピオネート 1.48 -1.49 400 ポリオキシメチレン 1.48 232 ポリビニルブチラール 1.48 -1.49 322 ポリ（ｎ−ヘキシルメタクリレート） 1.4813 268 ポリ（ｎ−ブチルメタクリレート） 1.483 293 ポリ（ｎ−プロピルメタクリレート） 1.484 308 ポリエチルメタクリレート 1.485 338 ポリ（１，１−ジエチルプロピルメタクリレート） 1.4889 268 ポリメチルメタクリレート 1.4893 378 ポリ（２−デシル−１，３−ブタジエン） 1.4899 220 ポリビニルアルコール 1.49 -1.53 358 ポリエチルグリコレートメタクリレート 1.4903 328 メチルセルロース（低粘度） 1.497 423 ポリウレタン 1.5 -1.6 200-400 ポリ（１，２−ブタジエン） 1.5000 269 ポリビニルフォルマール 1.50 セルロースニトレート 1.50 -1.514 326 ポリ（２−ヘプチル−１，３−ブタジエン） 1.5000 190 ポリ（２−イソプロピル−１，３ブタジエン） 1.5028 221 ポリプロピレン（密度0.9075ｇ／ｃｍ³ ） 1.5030 260 ポリイソブテン 1.505 -1.51 200 ポリボルニルメタクリレート 1.5059 383 ポリ（２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン） 1.5060 293 ポリエチレングリコールジメタクリレート 1.5063 ポリシクロヘキシルメタクリレート 1.5066 356 グッタペルカ（β） 1.509 215 ポリオキシエチレン（高分子量） 1.51 -1.54 232 ポリエチレン（密度0.914 ｇ／ｃｍ³ ） 1.51 148 ポリ（２−ヒドロキシエチルメタクリレート） 1.5119 328 ポリブテン（アイソタクティック） 1.5125 249 グッタペルカ（α） 1.514 215 ポリ（１，３−ブタジエン） 1.5154 269 ポリ（２−クロロエチルメタクリレート） 1.517 365 ポリ（２−ジエチルアミノエチルメタクリレート） 1.5174 289 天然ゴム 1.519 -1.52 200 ポリアクリロニトリル 1.52 ポリメタクリロニトリル 1.52 ポリイソプレン 1.521 200 ポリアクリックアシド 1.527 379 ポリ（１−ビニル−２−ピロリドン） 1.53 327 セルロース 1.54 243-443 ポリビニルクロライド 1.54 -1.55 354 ポリ（２−ブロモエチルメタクリレート） 1.5426 325 ポリ（Ｎ−アリルメタクリルアミド） 1.5476 433 ポリイソプロピルメタクリレート 1.552 354 ポリ（ｐ−イソプロピルスチレン） 1.554 360 ポリクロロプレン 1.554 -1.558 253 ポリベンジルメタクリレート 1.5680 327 ポリフェニルメタクリレート 1.5706 383 ポリ（オキシ−２，６−ジメチルフェニレン） 1.575 482 ポリオキシエチレンオキシテレフタロイル（アモルファス） 1.5750 342 ポリビニルベンゾエート 1.5775 344 ポリ（４−メトキシ−２−メチルスチレン） 1.5868 358 ポリ（ｏ−メチルスチレン） 1.5874 409 ポリスチレン 1.59 -1.592 373 ポリ（ｏ−メトキシスチレン） 1.5932 348 ポリ（ｐ−メトキシスチレン） 1.5967 362 ポリビニリデンクロライド 1.60 -1.63 255 ポリ（ｏ−クロロスチレン） 1.6098 392 ポリ（２，６−ジクロロスチレン） 1.6248 440 ポリビニルナフタレン 1.6818 432 ポリビニルカルバゾール 1.683 423,481 これらのうち特に好ましいものとして、比較的Ｔｇが低
くクッション性が高い、ポリ酢酸ビニル、ポリブタジエ
ン、ポリビニルブチラール、ウレタンアクリレト系樹脂
等が挙げられる。

【００１３】可塑剤としては多価アルコールであるエチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン等フ
タル酸エステル系可塑剤であるフタル酸ジメチル（ＤＭ
Ｐ）、フタル酸ジエチル（ＤＥＰ）、フタル酸ジブチル
（ＤＢＰ）、フタル酸ヘプチルノニル（ＨＮＰ）、フタ
ル酸ジ−２−エチルヘキシル（ＤＯＰ）、フタル酸ジ−
ｎ−オクチル（ＤＮＯＰ）、フタル酸ジ−ｉ−オクチル
（ＤＣａｐＰ）、フタル酸（７９アルキル）（Ｄ７９
Ｐ）、フタル酸ジ−ｉ−デシル（ＤＩＤＰ）、フタル酸
ジトリデシル（ＤＴＤＰ）、フタル酸ジシクロヘキシル
（ＤＣＨＰ）、フタル酸ブチルベンジル（ＢＤＰ）、エ
チルフタリルエチルグリコレート（ＥＰＥＧ）、ブチル
フタリルブチルグリコレート（ＢＰＢＧ）等 脂肪属二塩基エステル系可塑剤である。

【００１４】アジピン酸ジ−２−エチルヘキシル（ＤＯ
Ａ）、アジピン酸ジ（メチルシクロヘキシル）、アジピ
ン酸ジイソデシル（ＤＩＤＡ）、アゼライン酸ジ−ｎ−
ヘキシル（ＤＮＨＺ）、アゼライン酸ジ−２−エチルヘ
キシル（ＤＯＺ）、セバシン酸ジブチル（ＤＢＳ）、セ
バシン酸ジ−２−エチルヘキシル（ＤＯＳ）等 クエン酸系エステル可塑剤である。

【００１５】クエン酸トリエチル（ＴＥＣ）、クエン酸
トリブチル（ＴＢＣ）、アセチルクエン酸トリエチル
（ＡＴＥＣ）、アセチルクエン酸トリブチル（ＡＴＢ
Ｃ）等 エポキシ系可塑剤としてはエポキシ化大豆油（ＥＳＯ）
等 リン酸エステル系可塑剤としてはリン酸トリブチル（Ｔ
ＢＰ）、リン酸トリフェニル（ＴＰＰ）、リン酸トリク
レジル（ＹＣＰ）、リン酸トリプロピレングリコール等 が挙げられる。

【００１６】クッション層の膜厚は、１〜１０００μ
ｍ、好ましくは２０〜１００μｍである。薄すぎるとク
ッション性が低く、厚すぎると光学的特性（ヘイズ、透
過率等）に悪影響を及ぼす。

【００１７】バインダー中に含まれる可塑剤の量は、０
〜８０％であり、好ましくは１０〜５０％である。少な
すぎると可塑性への効果が低く、多すぎると塗膜強度が
低下してしまう。

【００１８】クッション層が粘着剤からなるポリマー層
については粘着ポリマー層は、ガラス基板上に溶液形態
のものを塗布して作製する方法と、フィルム形態のもの
を張り合わせる方法が考えられ、いずれも本発明に使用
しうる。

【００１９】溶液塗布方法 溶剤型の粘着剤を、溶剤等に溶解された状態で塗工、乾
燥して使用する方法で、ゴム系、アクリル系、シリコー
ン系の粘着剤がある。

【００２０】ゴム系としては、天然ゴム、スチレン−ブ
タジエンゴム、ポリイソブチレンゴム、イソプレンゴム
等 アクリル系としては、２−エチルヘキシルアクリレート
を主モノマーとする共重合体ポリマー等 シリコーン系としては、ゴム状シロキサン、樹脂状シロ
キサンを主成分とするシリコーンポリマー等である。

【００２１】塗工溶剤としては、トルエン、トリクレ
ン、ノルマルヘキサン、酢酸エチル、トルエン、メチル
エチルケトン等が使用される。

【００２２】エマルジョン型の接着剤、ホットメルト型
の接着剤も使用できる。

【００２３】フィルムの貼り合わせ方法 上記の粘着剤が支持フィルム状に形成されている、市販
のフィルム形態の両面粘着剤が使用することができる。
この両面粘着剤は、図２（ａ）に示すように、粘着剤み
のであるものが好ましい。図２（ａ）においては粘着層
の両面に保護フィルム２２が貼付されている。また、図
２（ｂ）に示すように、支持フィルム２０の両面に粘着
層２１を貼付したものである場合は、偏光がない或いは
ほとんどないポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のフィ
ルムである必要がある。支持フィルムがＰＥＴのように
偏光がある場合は複製品に縞状のムラ等が発生してしま
う。

【００２４】上記ポリマー以外にも、電離放射線硬化型
材料を用いることができる。電離放射線硬化型材料とし
ては、電子線硬化型樹脂及び紫外線硬化型樹脂が有用で
あり、電子線硬化性樹脂と紫外線硬化性樹脂とは、後者
が光重合開始剤と増感剤を含有することを除いて、成分
的に同様なものであり、一般的には、皮膜形成成分とし
てその構造中にラジカル重合性の活性基を有するポリマ
ー、オリゴマー、モノマーを主成分とするもので、粘度
では、２０００ｃｐｓ以下であることが望ましい。この
ようなポリマー、オリゴマーとして、ウレタンアクリレ
ートやポリエステルアクリレートのような市販品から容
易に入手可能なものが本発明に適用可能である。モノマ
ーとしては、市販のアクリル酸又はメタクリル酸誘導体
等の電離放射線硬化型モノマーが本発明に適用可能であ
る。上記の硬化樹脂を紫外線硬化性樹脂とするために
は、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、
ベンゾフェノン、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α
−アミノキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサ
ルファイド、チオキサントン類や、光増感剤として、ｎ
−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチル
ホスフィン等を混合して用いることができる。

【００２５】電離放射線照射方法としては、従来の技術
がそのまま適用でき、例えば電子線照射の場合は、コッ
クロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶
縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型
等の各種電子線加速機から放出される５０〜１，０００
ＫｅＶ、好ましくは、１００〜３００ＫｅＶのエネルギ
ーを有する電子線を、０．１〜１００Ｍｒａｄ．、好ま
しくは、１〜１０Ｍｒａｄ．照射すことにより硬化させ
ることができ、また、紫外線照射の場合は、超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等の光源から発せられる紫外線を、
０．１〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ² 、好ましくは、１０
〜１，０００ｍＪ／ｃｍ² 照射することにより硬化させ
ることができる。

【００２６】図３により本発明の複製装置を説明する。
図３に示すように、複製用感光材料フィルム２１を供給
ローラ２２から送り出し、巻き取りローラ２３により巻
き取るようにする。原版層２６は上下動する支持台２４
に載置されており、密着液滴下装置２５により密着液が
滴下され、支持台２４を上昇させることにより複製用感
光材料フィルム２１と密着させる。余分な液はローラ２
７でしごいて取り除くようにする。次いで記録フィルム
２１の上に密着液滴下装置２８により密着液を滴下し、
ＡＲコートされたＮＤ層２９と密着させる。またこの時
もローラ等で余分の液をしごき出すようにするととも
に、押圧装置３２により押しつけて密着させる。この
時、ＮＤ層の厚みが厚く、ローラでしごけない時はその
厚みを０．１〜１．５ｍｍにし、また材質を光学的に複
屈折がなく、かつ屈折率の等しくなるような高分子材料
を用いることにより、可撓性をもたせ、余分な液をしご
き出せるようにする。また、ＡＲコートされたＮＤ層２
９にクッション層を設けることにより、密着液の振動は
露光複製中おさえることができる。

【００２７】こうして形成された複製系に原版層と共役
となるようなレーザ光３０を入射させ、露光複製を行
う。複製が終わるとＡＲコートされたＮＤ層が取り外さ
れ、記録フィルム２１は原版層を加工させることにより
複製系から分離される。分離された記録フィルム１２は
付着した密着液を取り除くために乾燥室３１に入って乾
燥される。乾燥されたフィルムは巻き取りローラ２３に
回収される。これらは一連の動作として動き、連続的に
複製が行われる。これらの露光部と乾燥部を複数取り付
けることにより生産性を上げることも可能である。

【００２８】クッション層を用いずに複製したホログラ
ムのくぼみ状欠陥中心部分を光学顕微鏡（ＯＬＹＭＰＵ
Ｓ社製ＭＨＬ１００型）を用い、落射照明、暗視野観察
法により倍率５０〜２００倍で観察すると、異物自体
（＜約１０μｍ）が、あるいは異物によって局所的に圧
迫を受けた被複製フィルムの異物近傍部分の歪み（数１
０〜約２００μｍ径のクレータ状暗部）が、ホログラフ
ィックに記録されていることがわかる。また、クッショ
ン層ー５を用いて複製したホログラムのくぼみ状欠陥の
みとめられない箇所を同じ方法によって観察すると、同
様の異物自体、あるいは異物によるクッション層表層の
歪みが記録されている。図４はこのようにして観察され
た異物自体の再生像の写真（倍率２００、フィルム：Ｆ
ＵＪＩ ＦＰー３０００Ｂ ＳＵＰＥＲ、ＩＳＯ３２０
０、露光時間１２．２５秒）、図５はフィルムの異物に
よりクッション層が歪んだ部分の再生像の写真（倍率２
００、フィルム同上、露光時間１３．３７秒）である。
クッション層を用いずに複製を行うと、このような異物
が被複製フィルムを圧迫し、再生像に数百μｍ〜数ｍｍ
径程度のくぽみ状欠陥が発生するが、クッション層を用
いると、たとえ異物が存在してもそれがクッション層に
埋め込まれてフィルムを圧迫することがなく、くぼみ状
欠陥の発生を防止することができる。ただし、クッショ
ン層を用いて複製したホログラムでは、目視上くぼみ状
欠陥のない部分に、図４、図５に示したごとく、光学顕
微鏡観察によってみとめられるように、微視的には異物
の痕跡が記録される。

【００２９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、無反射
コート付ガラス或いはＮＤガラス或いは原版保護ガラス
の感光材料フィルムに接する側、または感光材料フィル
ムの該ガラスに接する側に、弾性の高いポリマーを主成
分とするクッション層を設けることにより、ガラスとフ
ィルムの間に異物が混入してもこれをクッション内部に
抱き込み、光学密着液の流動や異物が圧迫することによ
る感光材料フィルムの浮き上がりが防止され、光学顕微
鏡によって確認できるような微視的な異物の痕跡は記録
されているが、目視上は再生像に欠陥のないホログラム
が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のホログラムを得るための複製方法の
１例を説明する図である。

【図２】 フィルム貼り合わせ方法を説明する図であ
る。

【図３】 複製装置を説明する図である。

【図４】 異物自体が記録された像を示す写真である。

【図５】 異物の圧迫によるフィルムの歪みが記録され
た像を示す写真である。

【符号の説明】

１…ＡＲコート付きＮＤガラス、２…光学密着液、３…
原版支持ガラス、４…原版フィルム、５…光学接着剤、
６…原版保護ガラス、７…光学密着液、８…複製用感光
材料フィルム、９…光学密着液、１３…ＡＲコート付き
ＮＤガラス、１５，１６…クッション。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 感光材料フィルムを光学密着液を介し
   て、無反射コートされたガラス、ＮＤガラス、無反射コ
   ートされたＮＤガラスのいずれかに密着させた被記録部
   に、 二光束に分割したレーザ光を照射することにより作製さ
   れるホログラムであって、無反射コートされたガラス、ＮＤガラス、無反射コート
   されたＮＤガラスのいずれかと感光材料フィルム層間
   に、 弾性の高いポリマーを主成分とするクッション層が
   設けられ、 混入する異物がクッション層に埋め込まれて、フィルム
   が圧迫されることによるくぼみ状欠陥の発生が低減化さ
   れたことを特徴とするくぼみ状欠陥を低減化したホログ
   ラム。
2. 【請求項２】 支持体に支持された原版ホログラムの上
   面に原版保護ガラスが接着された原版部と、 複製用感光材料フィルムを光学密着液を介して、無反射
   コートされたガラス、ＮＤガラス、無反射コートされた
   ＮＤガラスのいずれかと密着させるか、または光学密着
   液を介して無反射コートガラスに密着したＮＤガラスに
   密着させた被複製部とを密着させ、 レーザー光照射により複製用感光材料フィルムに記録さ
   れる複製ホログラムであって、原版保護ガラスと複製用感光材料フィルムの間に 、弾性
   の高いポリマーを主成分とするクッション層が設けら
   れ、 複製時に混入する異物がクッション層に埋め込まれて、
   フィルムが圧迫されることによるくぼみ状の欠陥の発生
   が低減化されたことを特徴とするくぼみ状欠陥を低減化
   したホログラム。