JP3412936B2 - θ−θスキャン型Ｘ線装置 - Google Patents
θ−θスキャン型Ｘ線装置Info
- Publication number
- JP3412936B2 JP3412936B2 JP31403594A JP31403594A JP3412936B2 JP 3412936 B2 JP3412936 B2 JP 3412936B2 JP 31403594 A JP31403594 A JP 31403594A JP 31403594 A JP31403594 A JP 31403594A JP 3412936 B2 JP3412936 B2 JP 3412936B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- sample
- scan
- counter
- floor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料にＸ線を照射して
その試料で反射、回折又は散乱するＸ線を検出してその
試料の特性を判定するＸ線装置に関する。特に、試料に
対してＸ線源及びＸ線カウンタの両方を回転移動させる
タイプのＸ線装置に関する。
その試料で反射、回折又は散乱するＸ線を検出してその
試料の特性を判定するＸ線装置に関する。特に、試料に
対してＸ線源及びＸ線カウンタの両方を回転移動させる
タイプのＸ線装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線を用いて試料の特性を判定するとい
う分析方法は、種々の分野で広く用いられている。そし
て、この分析方法において用いられるＸ線装置には、Ｘ
線カメラ装置、θ−２θスキャン型Ｘ線装置、θ−θス
キャン型Ｘ線装置、その他種々の形式のものがある。こ
こでＸ線カメラ装置というのは、例えば、固定配置した
試料にＸ線を照射してその試料で回折したＸ線でＸ線フ
ィルムを露光してそのＸ線フィルム上に試料の特性に対
応したＸ線回折像を得るようにした装置である。
う分析方法は、種々の分野で広く用いられている。そし
て、この分析方法において用いられるＸ線装置には、Ｘ
線カメラ装置、θ−２θスキャン型Ｘ線装置、θ−θス
キャン型Ｘ線装置、その他種々の形式のものがある。こ
こでＸ線カメラ装置というのは、例えば、固定配置した
試料にＸ線を照射してその試料で回折したＸ線でＸ線フ
ィルムを露光してそのＸ線フィルム上に試料の特性に対
応したＸ線回折像を得るようにした装置である。
【０００３】また、θ−２θスキャン型Ｘ線装置という
のは、例えば、試料を一定の角速度で連続的又は間欠的
に回転（いわゆる、θ回転）させ、同時にＸ線カウンタ
を試料を中心として上記θ回転の２倍の角速度でθ回転
と同じ方向へ回転（いわゆる、２θ回転）させながら、
試料にＸ線を照射し、その試料で反射、回折又は散乱す
るＸ線をＸ線カウンタによって検出してＸ線強度を演算
するようにした装置である。このθ−２θスキャン型Ｘ
線装置では、通常、Ｘ線源は位置不動に固定設置され
る。
のは、例えば、試料を一定の角速度で連続的又は間欠的
に回転（いわゆる、θ回転）させ、同時にＸ線カウンタ
を試料を中心として上記θ回転の２倍の角速度でθ回転
と同じ方向へ回転（いわゆる、２θ回転）させながら、
試料にＸ線を照射し、その試料で反射、回折又は散乱す
るＸ線をＸ線カウンタによって検出してＸ線強度を演算
するようにした装置である。このθ−２θスキャン型Ｘ
線装置では、通常、Ｘ線源は位置不動に固定設置され
る。
【０００４】また、θ−θスキャン型Ｘ線装置というの
は、例えば、試料を位置不動に固定配置し、Ｘ線源を試
料を中心として一定の角速度で連続的又は間欠的に回転
（いわゆる、Ｘ線源θ回転）させ、同時にＸ線カウンタ
をＸ線源のθ回転に等しい角速度で反対方向へ回転（い
わゆる、カウンタθ回転）させながら、Ｘ線源から放射
されるＸ線を試料に照射し、その試料で反射、回折又は
散乱するＸ線をＸ線カウンタによって検出してＸ線強度
を演算するようにした装置である。このθ−θスキャン
型Ｘ線装置では、試料をθ回転させないで済むので、動
かすことのできない試料、例えば液体等を測定対象とす
る場合に適している。
は、例えば、試料を位置不動に固定配置し、Ｘ線源を試
料を中心として一定の角速度で連続的又は間欠的に回転
（いわゆる、Ｘ線源θ回転）させ、同時にＸ線カウンタ
をＸ線源のθ回転に等しい角速度で反対方向へ回転（い
わゆる、カウンタθ回転）させながら、Ｘ線源から放射
されるＸ線を試料に照射し、その試料で反射、回折又は
散乱するＸ線をＸ線カウンタによって検出してＸ線強度
を演算するようにした装置である。このθ−θスキャン
型Ｘ線装置では、試料をθ回転させないで済むので、動
かすことのできない試料、例えば液体等を測定対象とす
る場合に適している。
【０００５】今、上記のような各種のＸ線装置のうち、
θ−θスキャン型Ｘ線装置を用いて液体試料に対してＸ
線反射率測定を行う場合を考える。このＸ線反射率測定
というのは、試料に低角度からＸ線を照射し、その試料
で反射するＸ線をＸ線カウンタによって検出して反射Ｘ
線の強度を測定するようにした測定方法である。ここに
いう低角度というのは、通常、試料面に対する反射角度
（θ）が１゜以下の角度範囲のことである。このＸ線反
射率測定では測定結果として、例えば図７に示すような
Ｘ線強度変化曲線Ｋが得られる。例えば、この変化曲線
Ｋに現れる周期Ｔの長さを測定することにより、液体試
料としての水の表面に形成された油膜の厚さ等を判定で
きる。
θ−θスキャン型Ｘ線装置を用いて液体試料に対してＸ
線反射率測定を行う場合を考える。このＸ線反射率測定
というのは、試料に低角度からＸ線を照射し、その試料
で反射するＸ線をＸ線カウンタによって検出して反射Ｘ
線の強度を測定するようにした測定方法である。ここに
いう低角度というのは、通常、試料面に対する反射角度
（θ）が１゜以下の角度範囲のことである。このＸ線反
射率測定では測定結果として、例えば図７に示すような
Ｘ線強度変化曲線Ｋが得られる。例えば、この変化曲線
Ｋに現れる周期Ｔの長さを測定することにより、液体試
料としての水の表面に形成された油膜の厚さ等を判定で
きる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、θ−θ
スキャン型Ｘ線装置を用いて行われる従来のＸ線反射率
測定においては、試料のθ回転及びＸ線カウンタのθ回
転に起因する振動が液体試料に伝達して液体試料の表面
が波立って、それがＸ線強度変化曲線Ｋにギザギザの振
動波形として現れ、その結果、測定精度が低下するとい
う問題があった。Ｘ線源から強度の強いＸ線を発生させ
ようとする場合には、回転するロータターゲットを対陰
極として用いることが多いが、この場合には、ロータタ
ーゲットの回転に起因する振動が液体試料に伝達して、
精度測定がより一層低下することが考えられる。
スキャン型Ｘ線装置を用いて行われる従来のＸ線反射率
測定においては、試料のθ回転及びＸ線カウンタのθ回
転に起因する振動が液体試料に伝達して液体試料の表面
が波立って、それがＸ線強度変化曲線Ｋにギザギザの振
動波形として現れ、その結果、測定精度が低下するとい
う問題があった。Ｘ線源から強度の強いＸ線を発生させ
ようとする場合には、回転するロータターゲットを対陰
極として用いることが多いが、この場合には、ロータタ
ーゲットの回転に起因する振動が液体試料に伝達して、
精度測定がより一層低下することが考えられる。
【０００７】本発明は、上記の問題点を解消するために
なされたものであって、試料に伝わる振動を軽減して、
特に液体試料に関するＸ線反射率測定を高精度に行うこ
とができるようにすることを目的とする。
なされたものであって、試料に伝わる振動を軽減して、
特に液体試料に関するＸ線反射率測定を高精度に行うこ
とができるようにすることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線装置は、試料を載せる試料支持台
と、試料支持台上の試料を中心として回転移動するＸ線
源と、試料支持台上の試料を中心として回転移動するＸ
線カウンタとを有するθ−θスキャン型Ｘ線装置におい
て、Ｘ線源及びＸ線カウンタを支持するゴニオフレーム
と、試料を支持する試料支持台とを床上に別個独立に設
置したことを特徴とする。ゴニオフレーム及び試料支持
台は、床に直接設置することも可能であるが、望ましく
は、ゴニオフレームと床との間及び試料支持台と床との
間の少なくとも一方に、セラミクス系複合材等といった
振動減衰部材を介在させる。このセラミクス系複合材と
しては、例えばアルミニウムを焼き固めた材料や、コン
クリート等が考えられる。
め、本発明に係るＸ線装置は、試料を載せる試料支持台
と、試料支持台上の試料を中心として回転移動するＸ線
源と、試料支持台上の試料を中心として回転移動するＸ
線カウンタとを有するθ−θスキャン型Ｘ線装置におい
て、Ｘ線源及びＸ線カウンタを支持するゴニオフレーム
と、試料を支持する試料支持台とを床上に別個独立に設
置したことを特徴とする。ゴニオフレーム及び試料支持
台は、床に直接設置することも可能であるが、望ましく
は、ゴニオフレームと床との間及び試料支持台と床との
間の少なくとも一方に、セラミクス系複合材等といった
振動減衰部材を介在させる。このセラミクス系複合材と
しては、例えばアルミニウムを焼き固めた材料や、コン
クリート等が考えられる。
【０００９】ゴニオフレーム及び試料支持台を載せる床
には、特別な工夫を施す必要もないが、望ましくは、そ
の床内に試料支持台を包囲するように溝を設ける。こう
すれば、試料への振動の伝達がより一層軽減できる。ま
た、その溝の中に砂、砂利、砕石又はそれらの混合物を
充填することにより、振動の伝達をさらに軽減できる。
には、特別な工夫を施す必要もないが、望ましくは、そ
の床内に試料支持台を包囲するように溝を設ける。こう
すれば、試料への振動の伝達がより一層軽減できる。ま
た、その溝の中に砂、砂利、砕石又はそれらの混合物を
充填することにより、振動の伝達をさらに軽減できる。
【００１０】本発明は、液体試料を測定対象とするＸ線
反射率測定に適用する場合に特に有利である。液体試料
を測定対象とするＸ線反射率測定では、試料支持台上に
液体試料が支持され、さらに、Ｘ線源から放射されたＸ
線がその液体試料の液面に対して低角度方向、例えば反
射角度２θが２゜程度よりも小さくなるような角度方向
からその液体試料へ入射する。
反射率測定に適用する場合に特に有利である。液体試料
を測定対象とするＸ線反射率測定では、試料支持台上に
液体試料が支持され、さらに、Ｘ線源から放射されたＸ
線がその液体試料の液面に対して低角度方向、例えば反
射角度２θが２゜程度よりも小さくなるような角度方向
からその液体試料へ入射する。
【００１１】
【作用】本発明に係るθ−θスキャン型Ｘ線装置では、
Ｘ線源が試料を中心としてθ回転し、同時に、Ｘ線カウ
ンタが試料を中心としてＸ線源と反対方向にθ回転す
る。このようにＸ線源及びＸ線カウンタの両方が互いに
逆方向にθ回転する間、Ｘ線源から放射されたＸ線が試
料へ入射し、その試料で反射、回折又は散乱したＸ線が
Ｘ線カウンタによってカウントされる。試料を支持する
試料支持台は、Ｘ線源及びＸ線カウンタを支持するゴニ
オフレームに対して別個独立状態で床上に設置されるの
で、Ｘ線源及びＸ線カウンタのθ回転に起因して振動が
発生しても、その振動は試料へはほとんど伝わらない。
よって、液体試料等のような振動を嫌う試料に対して従
来方法より高精度な測定を行うことが可能となる。
Ｘ線源が試料を中心としてθ回転し、同時に、Ｘ線カウ
ンタが試料を中心としてＸ線源と反対方向にθ回転す
る。このようにＸ線源及びＸ線カウンタの両方が互いに
逆方向にθ回転する間、Ｘ線源から放射されたＸ線が試
料へ入射し、その試料で反射、回折又は散乱したＸ線が
Ｘ線カウンタによってカウントされる。試料を支持する
試料支持台は、Ｘ線源及びＸ線カウンタを支持するゴニ
オフレームに対して別個独立状態で床上に設置されるの
で、Ｘ線源及びＸ線カウンタのθ回転に起因して振動が
発生しても、その振動は試料へはほとんど伝わらない。
よって、液体試料等のような振動を嫌う試料に対して従
来方法より高精度な測定を行うことが可能となる。
【００１２】
【実施例】図１は、本発明に係るθ−θスキャン型Ｘ線
装置の一実施例を示している。このＸ線装置は、２本の
支持脚１０によって床１１上に載せられたゴニオフレー
ム５と、そのゴニオフレーム５の手前側側面に取り付け
られていて試料軸線ωを中心として回転可能なＸ線源ア
ーム２と、同じくゴニオフレーム５の側面に取り付けら
れていて試料軸線ωを中心として回転可能なカウンタア
ーム４とを有している。試料軸線ωというのは、測定対
象となる試料の表面と一致するようにゴニオフレーム５
の側面上に仮想に設定される軸線である。
装置の一実施例を示している。このＸ線装置は、２本の
支持脚１０によって床１１上に載せられたゴニオフレー
ム５と、そのゴニオフレーム５の手前側側面に取り付け
られていて試料軸線ωを中心として回転可能なＸ線源ア
ーム２と、同じくゴニオフレーム５の側面に取り付けら
れていて試料軸線ωを中心として回転可能なカウンタア
ーム４とを有している。試料軸線ωというのは、測定対
象となる試料の表面と一致するようにゴニオフレーム５
の側面上に仮想に設定される軸線である。
【００１３】Ｘ線源アーム２の側面には、Ｘ線源Ｓを内
蔵したＸ線管１及び入射光学ユニット８が設けられる。
この入射光学ユニット８の中には、Ｘ線源Ｓから放射さ
れるＸ線の発散を制限するＸ線発散規制スリットや、必
要に応じて設けられるモノクロメータ等が収容される。
一方、カウンタアーム４の側面には、Ｘ線カウンタ３及
び受光光学ユニット３０が設けられる。この受光光学ユ
ニット３０の中には、不要な散乱Ｘ線がＸ線カウンタ３
に入るのを防止する受光スリット９や、必要に応じて設
けられるモノクロメータ等が収容されている。Ｘ線カウ
ンタ３は、取り込んだＸ線を検知して電気信号として出
力し、その出力信号は測定演算部１９へ送られる。測定
演算部１９は、送られた信号に基づいてＸ線強度を演算
する。この演算結果は、プリンタ２０によってハードコ
ピーされたり、ＣＲＴ２１に映像として表示される。
蔵したＸ線管１及び入射光学ユニット８が設けられる。
この入射光学ユニット８の中には、Ｘ線源Ｓから放射さ
れるＸ線の発散を制限するＸ線発散規制スリットや、必
要に応じて設けられるモノクロメータ等が収容される。
一方、カウンタアーム４の側面には、Ｘ線カウンタ３及
び受光光学ユニット３０が設けられる。この受光光学ユ
ニット３０の中には、不要な散乱Ｘ線がＸ線カウンタ３
に入るのを防止する受光スリット９や、必要に応じて設
けられるモノクロメータ等が収容されている。Ｘ線カウ
ンタ３は、取り込んだＸ線を検知して電気信号として出
力し、その出力信号は測定演算部１９へ送られる。測定
演算部１９は、送られた信号に基づいてＸ線強度を演算
する。この演算結果は、プリンタ２０によってハードコ
ピーされたり、ＣＲＴ２１に映像として表示される。
【００１４】Ｘ線源Ｓは、例えば図２に示すように、回
転軸線Ｌ１を中心として高速回転するターゲット１５
と、そのターゲットに対向して配置されたフィラメント
１６とによって構成されている。通電によってフィラメ
ント１６から発生した熱電子がターゲット１５のフォー
カス領域Ｆに高速度で衝突することにより、そのフォー
カス領域ＦからＸ線が発生する。
転軸線Ｌ１を中心として高速回転するターゲット１５
と、そのターゲットに対向して配置されたフィラメント
１６とによって構成されている。通電によってフィラメ
ント１６から発生した熱電子がターゲット１５のフォー
カス領域Ｆに高速度で衝突することにより、そのフォー
カス領域ＦからＸ線が発生する。
【００１５】図１に戻って、Ｘ線源アーム２は、θs 回
転駆動装置６によって駆動されて試料軸線ωを中心とし
て回転する。また、カウンタアーム４は、θd 回転駆動
装置７によって駆動されて試料軸線ωを中心として回転
する。θs 回転駆動装置６及びθd 回転駆動装置７は、
例えば、各アーム２，４の回転中心軸に連結されるウオ
ームホイールと、そのウオームホイールに噛み合うと共
にパルスモータ又はその他のモータによって駆動されて
回転するウオームとによって構成される。
転駆動装置６によって駆動されて試料軸線ωを中心とし
て回転する。また、カウンタアーム４は、θd 回転駆動
装置７によって駆動されて試料軸線ωを中心として回転
する。θs 回転駆動装置６及びθd 回転駆動装置７は、
例えば、各アーム２，４の回転中心軸に連結されるウオ
ームホイールと、そのウオームホイールに噛み合うと共
にパルスモータ又はその他のモータによって駆動されて
回転するウオームとによって構成される。
【００１６】ゴニオフレーム５の手前側には、ゴニオフ
レーム用の支持脚１０，１０とは別個独立に支持脚１２
が設置され、その支持脚１２の上に試料支持台１３が設
けられ、その試料支持台１３の上に試料容器１４が載せ
られ、そしてその試料容器１４の中に測定対象である液
体試料Ｓa が収容される。図３に示すように、液体試料
Ｓa は表面張力の影響により試料容器１４からわずかに
飛び出した状態となる。試料支持台１３は、試料昇降駆
動装置１７によって駆動されて図の上下方向へ昇降移動
できるようになっている。試料昇降駆動装置１７は、例
えば、試料支持台１３と一体な直線ラックと、その直線
ラックに噛み合うと共にパルスモータによって駆動され
て回転する歯車とによって構成される。
レーム用の支持脚１０，１０とは別個独立に支持脚１２
が設置され、その支持脚１２の上に試料支持台１３が設
けられ、その試料支持台１３の上に試料容器１４が載せ
られ、そしてその試料容器１４の中に測定対象である液
体試料Ｓa が収容される。図３に示すように、液体試料
Ｓa は表面張力の影響により試料容器１４からわずかに
飛び出した状態となる。試料支持台１３は、試料昇降駆
動装置１７によって駆動されて図の上下方向へ昇降移動
できるようになっている。試料昇降駆動装置１７は、例
えば、試料支持台１３と一体な直線ラックと、その直線
ラックに噛み合うと共にパルスモータによって駆動され
て回転する歯車とによって構成される。
【００１７】θs 回転駆動装置６、θd 回転駆動装置７
及び試料昇降駆動装置１７は、ゴニオ制御部１８によっ
て動作制御される。
及び試料昇降駆動装置１７は、ゴニオ制御部１８によっ
て動作制御される。
【００１８】以下、上記の構成より成るθ−θスキャン
型Ｘ線装置の動作について説明する。まず、試料昇降駆
動装置１７によって試料容器１４を昇降移動することに
より、液体試料Ｓa の表面を正確に試料軸線ωに合わせ
る。また、Ｘ線源アーム２の回転角度θs をθs ＝０゜
にセットし、さらにカウンタアーム４の回転角度θdを
θd ＝０゜にセットする。これにより、Ｘ線源アーム２
とカウンタアーム４は角度１８０゜、すなわち一直線状
態にセットされる。
型Ｘ線装置の動作について説明する。まず、試料昇降駆
動装置１７によって試料容器１４を昇降移動することに
より、液体試料Ｓa の表面を正確に試料軸線ωに合わせ
る。また、Ｘ線源アーム２の回転角度θs をθs ＝０゜
にセットし、さらにカウンタアーム４の回転角度θdを
θd ＝０゜にセットする。これにより、Ｘ線源アーム２
とカウンタアーム４は角度１８０゜、すなわち一直線状
態にセットされる。
【００１９】その後、θs 回転駆動装置６によってＸ線
源アーム２を間欠的又は連続的に正時計方向へ回転（い
わゆるθs 回転）させ、同時にθd 回転駆動装置７によ
ってカウンタアーム４を間欠的又は連続的に反時計方向
へ回転（いわゆるθd 回転）させる。このときの各アー
ム２，４の回転は、正確にθs ＝θd が維持された状態
で行われる。Ｘ線源Ｓがθs 回転し、同時にＸ線カウン
タ３がθd 回転する間、Ｘ線源Ｓから放射されたＸ線が
低角度方向から液体試料Ｓa へ入射する。ここにいう低
角度とは、液体試料Ｓa に入射させたＸ線をその表面で
全反射させることができる程度の角度のことであり、具
体的には図３において、Ｘ線反射角度２θが２゜程度以
下である狭い角度範囲内の角度である。
源アーム２を間欠的又は連続的に正時計方向へ回転（い
わゆるθs 回転）させ、同時にθd 回転駆動装置７によ
ってカウンタアーム４を間欠的又は連続的に反時計方向
へ回転（いわゆるθd 回転）させる。このときの各アー
ム２，４の回転は、正確にθs ＝θd が維持された状態
で行われる。Ｘ線源Ｓがθs 回転し、同時にＸ線カウン
タ３がθd 回転する間、Ｘ線源Ｓから放射されたＸ線が
低角度方向から液体試料Ｓa へ入射する。ここにいう低
角度とは、液体試料Ｓa に入射させたＸ線をその表面で
全反射させることができる程度の角度のことであり、具
体的には図３において、Ｘ線反射角度２θが２゜程度以
下である狭い角度範囲内の角度である。
【００２０】低角度で試料Ｓa に入射したＸ線は、試料
Ｓa の表面で反射し、その反射Ｘ線がＸ線カウンタ３に
よってカウントされ、さらに測定演算部１９によって反
射Ｘ線の強度が演算される。この演算の結果、例えば図
７に示すような、個々のＸ線反射角度（２θ）に対する
反射Ｘ線強度の変化の様子がグラフとして表示される。
このグラフから液体試料Ｓa に関する種々の特性、例え
ば表面層の膜厚等が判定される。ところで本実施例のＸ
線装置では、Ｘ線管１内におけるロータターゲット１５
（図２）の高速回転、Ｘ線源アーム２のθs 回転及びカ
ウンタアーム４のθd 回転等に起因してゴニオフレーム
５に振動が発生する。しかしながら本実施例では、試料
用の支持脚１２がゴニオフレーム用の支持脚１０とは別
個独立して床１１上に設置されているので、ゴニオフレ
ーム５の振動は液体試料Ｓa にほとんど伝達されず、液
体試料Ｓa の表面がほとんど波立たない。よって、信頼
性の高い反射率測定を行うことができる。
Ｓa の表面で反射し、その反射Ｘ線がＸ線カウンタ３に
よってカウントされ、さらに測定演算部１９によって反
射Ｘ線の強度が演算される。この演算の結果、例えば図
７に示すような、個々のＸ線反射角度（２θ）に対する
反射Ｘ線強度の変化の様子がグラフとして表示される。
このグラフから液体試料Ｓa に関する種々の特性、例え
ば表面層の膜厚等が判定される。ところで本実施例のＸ
線装置では、Ｘ線管１内におけるロータターゲット１５
（図２）の高速回転、Ｘ線源アーム２のθs 回転及びカ
ウンタアーム４のθd 回転等に起因してゴニオフレーム
５に振動が発生する。しかしながら本実施例では、試料
用の支持脚１２がゴニオフレーム用の支持脚１０とは別
個独立して床１１上に設置されているので、ゴニオフレ
ーム５の振動は液体試料Ｓa にほとんど伝達されず、液
体試料Ｓa の表面がほとんど波立たない。よって、信頼
性の高い反射率測定を行うことができる。
【００２１】図４は、本発明に係るθ−θスキャン型Ｘ
線装置の第２実施例を示している。この実施例が図１に
示したＸ線装置と異なる点は、ゴニオフレーム用の支持
脚１０と床１１の間及び試料用の支持脚１２と床１１と
の間に振動減衰部材としてコンクリート２２を介在させ
たことである。このコンクリートの存在により、試料Ｓ
a への振動の伝達がさらに軽減される。なお、振動減衰
部材としては、コンクリート以外の他のセラミクス系複
合材、例えばアルミニウムを焼いて固めた材料等を用い
ることができ、また、振動を軽減できるセラミクス系複
合材以外の各種材料を用いることもできる。
線装置の第２実施例を示している。この実施例が図１に
示したＸ線装置と異なる点は、ゴニオフレーム用の支持
脚１０と床１１の間及び試料用の支持脚１２と床１１と
の間に振動減衰部材としてコンクリート２２を介在させ
たことである。このコンクリートの存在により、試料Ｓ
a への振動の伝達がさらに軽減される。なお、振動減衰
部材としては、コンクリート以外の他のセラミクス系複
合材、例えばアルミニウムを焼いて固めた材料等を用い
ることができ、また、振動を軽減できるセラミクス系複
合材以外の各種材料を用いることもできる。
【００２２】図５は、本発明に係るθ−θスキャン型Ｘ
線装置の第３実施例を示している。この実施例が図１に
示したＸ線装置と異なる点は、試料支持台１３を載せた
支持脚１２とゴニオフレーム５を載せた支持脚１０との
間の床１１内に、試料支持台用の支持脚１２を包囲する
ように環状の溝２３を設けたことである。この環状溝２
３の存在により、試料Ｓa への振動の伝達がさらに軽減
される。なお、溝２３は必ずしも環状に形成しなくても
良く、例えば、支持脚１２を包囲する四隅部分に４個の
溝を不連続状態で設けることもできる。
線装置の第３実施例を示している。この実施例が図１に
示したＸ線装置と異なる点は、試料支持台１３を載せた
支持脚１２とゴニオフレーム５を載せた支持脚１０との
間の床１１内に、試料支持台用の支持脚１２を包囲する
ように環状の溝２３を設けたことである。この環状溝２
３の存在により、試料Ｓa への振動の伝達がさらに軽減
される。なお、溝２３は必ずしも環状に形成しなくても
良く、例えば、支持脚１２を包囲する四隅部分に４個の
溝を不連続状態で設けることもできる。
【００２３】図６は、図５に示した実施例の改変例であ
る。具体的には、環状溝２３の内部に砂、砂利、砕石又
はそれらの混合物２４を充填したことである。この砂等
の存在により、試料Ｓa への振動の伝達がさらに軽減さ
れる。
る。具体的には、環状溝２３の内部に砂、砂利、砕石又
はそれらの混合物２４を充填したことである。この砂等
の存在により、試料Ｓa への振動の伝達がさらに軽減さ
れる。
【００２４】以上、好ましい実施例を挙げて本発明を説
明したが、本発明はそれらの実施例に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改変
できる。
明したが、本発明はそれらの実施例に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改変
できる。
【００２５】
【発明の効果】請求項１記載のθ−θスキャン型Ｘ線装
置によれば、Ｘ線源及びＸ線カウンタを支持するゴニオ
フレームと、試料を載せる試料支持台とを床上に別個独
立に設置したので、Ｘ線測定の間、試料に伝わる振動が
軽減されて試料が安定に保持され、よって、極めて安定
した再現性の高い測定結果を得ることができる。特に、
液体のような振動に影響されやすいものを測定対象とし
てＸ線反射率測定を行う場合、すなわち低角度方向から
試料にＸ線を照射する場合には、測定結果に関する信頼
性及び再現性が著しく向上する。
置によれば、Ｘ線源及びＸ線カウンタを支持するゴニオ
フレームと、試料を載せる試料支持台とを床上に別個独
立に設置したので、Ｘ線測定の間、試料に伝わる振動が
軽減されて試料が安定に保持され、よって、極めて安定
した再現性の高い測定結果を得ることができる。特に、
液体のような振動に影響されやすいものを測定対象とし
てＸ線反射率測定を行う場合、すなわち低角度方向から
試料にＸ線を照射する場合には、測定結果に関する信頼
性及び再現性が著しく向上する。
【００２６】請求項２から請求項５記載のθ−θスキャ
ン型Ｘ線装置によれば、ゴニオメータからの試料へ伝わ
る振動をより一層軽減できる。
ン型Ｘ線装置によれば、ゴニオメータからの試料へ伝わ
る振動をより一層軽減できる。
【００２７】
【図１】本発明に係るθ−θスキャン型Ｘ線装置の一実
施例の機械的構成及び電気制御系の両方を示す図であ
る。
施例の機械的構成及び電気制御系の両方を示す図であ
る。
【図２】図１に示すＸ線装置に用いられるＸ線源の一例
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図３】図１に示すＸ線装置の要部を拡大して示す図で
ある。
ある。
【図４】本発明に係るθ−θスキャン型Ｘ線装置の第２
実施例を示す正面図である。
実施例を示す正面図である。
【図５】本発明に係るθ−θスキャン型Ｘ線装置の第３
実施例を示す正面図である。
実施例を示す正面図である。
【図６】本発明に係るθ−θスキャン型Ｘ線装置の第４
実施例を示す正面図である。
実施例を示す正面図である。
【図７】図１に示すＸ線装置による測定結果、特に液体
試料に関するＸ線反射率測定の結果を示すグラフであ
る。
試料に関するＸ線反射率測定の結果を示すグラフであ
る。
１ Ｘ線管
２ Ｘ線源アーム
３ Ｘ線カウンタ
４ カウンタアーム
５ ゴニオフレーム
８ 入射光学ユニット
９ 受光スリット
１０ ゴニオフレーム用支持脚
１１ 床
１２ 試料用支持脚
１３ 試料支持台
１４ 試料容器
２２ コンクリート（振動減衰部材）
２３ 環状溝
２４ 砂、砂利、砕石又はそれらの混合物
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01N 23/207
Claims (6)
- 【請求項１】 試料を載せる試料支持台と、試料支持台
上の試料を中心として回転移動するＸ線源と、試料支持
台上の試料を中心として回転移動するＸ線カウンタとを
有するθ−θスキャン型Ｘ線装置において、 Ｘ線源及びＸ線カウンタを支持するゴニオフレームと、
上記試料支持台とを床上に別個独立に設置したことを特
徴とするθ−θスキャン型Ｘ線装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のθ−θスキャン型Ｘ線装
置において、床とゴニオフレームとの間及び床と試料支
持台との間の少なくとも一方に振動減衰部材を介在させ
たことを特徴とするとするθ−θスキャン型Ｘ線装置。 - 【請求項３】 請求項２記載のθ−θスキャン型Ｘ線装
置において、振動減衰部材はセラミクス系複合材である
ことを特徴とするとするθ−θスキャン型Ｘ線装置。 - 【請求項４】 請求項１記載のθ−θスキャン型Ｘ線装
置において、上記床内に試料支持台を包囲するように溝
を設けたことを特徴とするθ−θスキャン型Ｘ線装置。 - 【請求項５】 請求項４記載のθ−θスキャン型Ｘ線装
置において、溝内に砂、砂利、砕石又はそれらの混合物
を充填したことを特徴とするθ−θスキャン型Ｘ線装
置。 - 【請求項６】 請求項１記載のθ−θスキャン型Ｘ線装
置において、試料支持台上に液体試料が支持され、さら
に、Ｘ線源から放射されたＸ線がその液体試料へその液
体試料の液面に対して低角度方向からも入射することを
特徴とするθ−θスキャン型Ｘ線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31403594A JP3412936B2 (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | θ−θスキャン型Ｘ線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31403594A JP3412936B2 (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | θ−θスキャン型Ｘ線装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08145917A JPH08145917A (ja) | 1996-06-07 |
| JP3412936B2 true JP3412936B2 (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=18048435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31403594A Expired - Fee Related JP3412936B2 (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | θ−θスキャン型Ｘ線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3412936B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4502097B2 (ja) * | 2000-10-31 | 2010-07-14 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線回折装置 |
| CN108956649A (zh) * | 2018-10-09 | 2018-12-07 | 北京环境特性研究所 | 双圆弧支臂剪叉式反射率测量装置 |
-
1994
- 1994-11-24 JP JP31403594A patent/JP3412936B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08145917A (ja) | 1996-06-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH036407A (ja) | 外周形状測定装置 | |
| JP2541012B2 (ja) | 超音波スペクトラム顕微鏡 | |
| JP3390030B2 (ja) | Ｘ線解析装置 | |
| US8000444B2 (en) | Vertical/horizontal small angle X-ray scattering apparatus and method for measuring small angle X-ray scattering | |
| JP3412936B2 (ja) | θ−θスキャン型Ｘ線装置 | |
| US4763512A (en) | Rheometer | |
| US5878106A (en) | X-ray diffractometer | |
| JP3709664B2 (ja) | 結晶軸の傾き角度測定方法 | |
| JPH0333653A (ja) | アコースティックマイクロスコープ表面検査装置及び方法 | |
| JPH08166361A (ja) | θ−θスキャン型Ｘ線装置及びそのＸ線装置のためのゴニオ初期位置設定方法 | |
| JP3659553B2 (ja) | Ｘ線装置 | |
| JPH0915392A (ja) | Ｘ線解析装置 | |
| JPS6117007A (ja) | コンクリート製造装置の組立方法 | |
| JPH0622240Y2 (ja) | 携帯用ｘ線回折装置 | |
| JP3856500B2 (ja) | Ｘ線薄膜膜厚解析方法及び解析装置 | |
| JPH01153908A (ja) | 三次元測定機 | |
| JP5007517B2 (ja) | 放射線回折装置及び放射線回折法 | |
| JPH05283963A (ja) | 水晶片のカット面検査方法および検査装置 | |
| JPH05296946A (ja) | Ｘ線回折装置 | |
| JP3516028B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析方法および装置 | |
| JPH06137966A (ja) | 小型ｘ線応力装置 | |
| JP2003254917A (ja) | Ｘ線測定装置 | |
| JP2001336992A (ja) | Ｘ線応力測定方法及びｘ線応力測定装置 | |
| JPH08233784A (ja) | 光学式振動検出装置 | |
| JP3168754B2 (ja) | 超音波センサの焦点調整方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090328 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090328 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100328 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100328 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120328 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130328 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130328 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140328 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |