JP3467565B2 - 熱放射リフレクターを有する加熱炉 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱放射リフレクター
を有する加熱炉、特に、熱放射リフレクターを有する半
導体基板製造用加熱炉に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図２は従来の半導体基板製造用加熱炉を
示し、１は真空チャンバー、２はその排気口、３はヒー
ター、４はシリコン基板、５は上記シリコン基板４を加
熱するヒーター３の熱効率を向上せしめるため、ヒータ
ーからの熱をヒーター３側或いはシリコン基板４側に反
射するため上記真空チャンバー１内に配置したステンレ
ス等の耐熱性金属板から成る熱放射リフレクターを示
す。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】然しながら、上記従来
の熱放射リフレクター５は例えばステンレスを用いた場
合、その熱膨張率は１１〜１８×１０^-6程度であり、シ
リコン基板４上に金属やセラミックス等の膜を生成する
成膜プロセス中に上記熱膨張によって生じる歪みによっ
てリフレクター５に付着した生成膜が剥離し、これがシ
リコン基板４に付着して不良品を発生する原因となって
いる。

【０００４】また、金属の熱放射リフレクターを使用す
る事によって、シリコン基板４等が金属粒子或いは、金
属イオンによって汚染される場合がある等の欠点があっ
た。

【０００５】本発明はこのような欠点を除くようにした
ものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、加熱炉チャン
バーと、このチャンバー内に配置したヒーターと、この
ヒーターによって加熱される被加熱体と、上記ヒーター
からの熱を被加熱体側に反射するため上記チャンバー内
に配置した熱放射リフレクターとを有する加熱炉におい
て、上記熱放射リフレクターが石英板と、この石英板の
表面に形成した溝と、この溝内に埋め込んだ金属箔と、
上記溝を塞ぐ石英板より成る蓋と、この蓋に形成した不
活性ガスを上記溝内に充填するための管とより成り、上
記溝内に不活性ガスが充填されていることを特徴とす
る。

【０００７】また、本発明は、加熱炉チャンバーと、こ
のチャンバー内に配置したヒーターと、このヒーターに
よって加熱される被加熱体と、上記ヒーターからの熱を
被加熱体側に反射するため上記チャンバー内に配置した
熱放射リフレクターとを有する加熱炉において、上記熱
放射リフレクターが石英板と、この石英板の表面に形成
した溝と、この溝内に埋め込んだ金属箔と、上記溝を塞
ぐ石英板より成る蓋と、この蓋に形成した上記溝内を真
空にするための管とより成り、上記溝内が真空 とされて
いることを特徴とする。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下図面によって本発明の実施例
を説明する。

【０００９】本発明においては、図１に示すように熱放
射リフレクター５を、石英板６と、この石英板６の表面
に形成した溝７と、この溝７内に埋め込んだ任意の厚さ
の金属箔８と、上記溝７を塞ぐ石英板より成る蓋９とに
より構成する。

【００１０】本発明においては、上記蓋９により上記石
英板６の周縁部に上記蓋９を溶接で気密に接着し、上記
溝７を気密に塞ぐと共に、上記溝７内にアルゴンガス等
の不活性ガスを導入するため、上記蓋９に管１０を形成
し、上記管１０により上記石英板６の溝７内に不活性ガ
スを導入したのち管１０を溶融封止する。

【００１１】本発明の他の実施例においては、上記溝７
内に不活性ガスを導入する代りに、上記管１０により上
記石英板６の溝７内の空気を排気し、上記溝７内を真空
とする。

【００１２】上記金属箔８はセパレーターを介して複層
としても良く、その材質は使用温度で溶融しないものと
し、反射率を向上させるために表面を鏡面仕上げとする
のが好ましい。

【００１３】

【発明の効果】上記のように本発明の加熱炉の熱放射リ
フレクターは、ステンレスなどの金属に比べて熱膨張率
が０．５５×１０^-6と小さい石英板で金属箔８を挟み込
んだ構造のため、使用中に歪みを生ずることなく、従っ
て、熱放射リフレクターに付着した生成物が剥がれ落ち
てシリコン基板４に付着することがない。また、シリコ
ン基板４に金属汚染が生じることがないので、これらに
よる不良品が発生しない。また、熱放射リフレクター５
がヒーター３からの熱で高温になると内部の金属箔８が
酸化して反射率が低下するようになるが、上記のように
溝７内に不活性ガスを封入するか、又は溝７を真空とす
ればこれを未然に防ぐことができるようになる等種々の
利益がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の加熱炉の熱放射リフレクターの断面図
である。

【図２】従来の半導体基板製造用加熱炉の断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 真空チャンバー ２ 排気口 ３ ヒーター ４ シリコン基板 ５ 熱放射リフレクター ６ 石英板 ７ 溝 ８ 金属箔 ９ 蓋 １０ 管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平９−148315（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−74923（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−343342（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−78779（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−326593（ＪＰ，Ａ) 特開2000−21890（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−110833（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/205 H01L 21/22 H01L 21/26 H01L 21/31 H01L 21/324

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 加熱炉チャンバーと、このチャンバー内
   に配置したヒーターと、このヒーターによって加熱され
   る被加熱体と、上記ヒーターからの熱を被加熱体側に反
   射するため上記チャンバー内に配置した熱放射リフレク
   ターとを有する加熱炉において、上記熱放射リフレクタ
   ーが石英板と、この石英板の表面に形成した溝と、この
   溝内に埋め込んだ金属箔と、上記溝を塞ぐ石英板より成
   る蓋と、この蓋に形成した不活性ガスを上記溝内に充填
   するための管とより成り、上記溝内に不活性ガスが充填
   されていることを特徴とする熱放射リフレクターを有す
   る加熱炉。
2. 【請求項２】 加熱炉チャンバーと、このチャンバー内
   に配置したヒーターと、このヒーターによって加熱され
   る被加熱体と、上記ヒーターからの熱を被加熱体側に反
   射するため上記チャンバー内に配置した熱放射リフレク
   ターとを有する加熱炉において、上記熱放射リフレクタ
   ーが石英板と、この石英板の表面に形成した溝と、この
   溝内に埋め込んだ金属箔と、上記溝を塞ぐ石英板より成
   る蓋と、この蓋に形成した上記溝内を真空にするための
   管とより成り、上記溝内が真空とされていることを特徴
   とする熱放射リフレクターを有する加熱炉。