JP3492652B2 - Printing screen 紗 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、写真製版用に好適な
印刷用スクリーン紗に関し、特にプリント配線等の精密
印刷を可能にするものである。
【0002】
【従来の技術】印刷用スクリーン紗として、ステンレス
鋼からなる直径10〜50μmの細い線材を経糸および
緯糸に用いて100〜800メッシュの紗状織物を製織
し、その表裏両面にステンレス鋼をスパッタ蒸着して上
記の経糸および緯糸をステンレス鋼からなるアモルファ
ス構造の厚み10〜1000nmの蒸着膜で被覆したも
のが知られている(特開平8−118835号公報参
照)。この印刷用スクリーン紗は、上記の蒸着膜を有し
ないものに比べ、印刷インキやトナー、捺染糊に対する
濡れ性が優れるため、精密印刷が可能である。
【0003】しかしながら、上記の印刷用スクリーン紗
は、経糸および緯糸の表面がステンレス鋼で形成されて
いて光反射性を有するため、写真製版に際し、紫外線硬
化性樹脂からなる水溶性乳剤を塗布、乾燥して感光層を
形成し、得られたスクリーンの片面に原板マスクを介し
て紫外線を照射し露光したとき、感光層に入った紫外線
の一部が経糸または緯糸の表面で反射し、この反射光が
本来露光の不要な部分の感光層を感光させて硬化し、そ
のため硬化部分の面積が設計よりも広くなり、印刷イン
キ等の通過する孔が狭くなるという問題があった。
【0004】図1は、従来のスクリーン紗10に感光層
11を形成した状態の断面図を示し、スクリーン紗10
は、ステンレス鋼製の経糸10aと緯糸(図示されてい
ない)とで製織され、ステンレス鋼の蒸着膜(図示され
ていない)を有しており、感光層11は前記の紫外線硬
化性樹脂で形成されている。12は原板マスクであり、
透明部12aとシャドー部12bとからなり、この原板
マスク12を感光層11の表面に重ね、紫外線Lを照射
すると、その一部はシャドー部12bによって感光層1
1への入射を遮られるが、残りは透明部12aを経て感
光層11へ入射し、感光、硬化させる。そして、感光層
11に入射した紫外線Lは、更に経糸10aまたは緯糸
に当たって反射するものと、当たらずに感光層11を貫
通するものとに分かれ、当たって反射したものの一部L
aは、シャドー部12bの下の感光層11に入射し、こ
の部分を感光、硬化させる。
【0005】上記の露光が終わると、原板マスク12を
外したスクリーン紗10が感光層11と共に現像に付さ
れ、この処理で感光層11の感光部分を残して非感光部
分が除去され、印刷インキや塗料の通過可能な孔が形成
され、印刷版(スクリーン型)13(図2参照)が得ら
れる。したがって、上記シャドー部12bの下方部分に
入射する紫外線Laが存在しない場合は、図2(a)に
示すように、印刷版13には、シャドー部12bと等し
い形の孔13aが形成されるが、実際には上記シャドー
部12bの下方に入射する紫外線Laが存在するため、
図2(b)に示すように、印刷版13に形成される孔1
3aは、上部がシャドー部12bとほぼ等しく、下部が
狭い台形断面となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、ステンレ
ス鋼線を経糸、緯糸とするスクリーン紗を改良すること
により、写真製版の際にシャドー部下方の感光層に紫外
線が入射するのを防いで感光層に原板マスクと等しい形
の孔を形成し、もって印刷インキ、トナー、捺染糊およ
びペースト等の透過性を向上し、プリント回路等で要求
される精密印刷を可能にするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明に係る印刷用ス
クリーン紗は、ステンレス鋼の細い線材を経糸および緯
糸に用いて製織された紗状織物の少なくとも片面が金属
の酸化物、窒化物もしくは炭化物又はフッ化マグネシウ
ムからなる紫外線用の反射防止膜で被覆されており、こ
の反射防止膜が厚み3〜250nmの物理蒸着膜であ
り、波長250〜450nmの紫外線に対する反射率が
15%以下、透過率が45%以上であることを特徴とす
る。
【0008】この発明に係るスクリーン紗は、写真製版
の際、常法にしたがって紫外線硬化性樹脂からなる感光
層と一体化し、得られたスクリーンの表面、すなわち経
糸および緯糸が反射防止膜で被覆されている側に原板マ
スクを重ねて紫外線を照射し、次いで現像、水洗により
非露光部分を洗い流して印刷版(スクリーン型)とされ
るが、経糸および緯糸を構成するステンレス鋼の細い線
材の少なくとも片面が紫外線用の反射防止膜で被覆され
ているので、紫外線照射の際、反射防止膜からの反射光
が大幅に減少する。
【0009】そして、反射防止膜で被覆されない部分が
あっても、その部分は原板マスクの反対側に位置するの
で、露光用の紫外線が当たることはない。したがって、
原板マスクのシャドー部下方の感光剤に紫外線が入射し
て該部が硬化することはなく、そのため現像、水洗によ
ってシャドー部と同一形状の孔が形成され、原板マスク
と等しい型模様の印刷版(スクリーン型)が得られる。
【0010】上記の反射防止膜は、チタン、亜鉛、ニッ
ケル、クロームおよびケイ素等の金属の酸化物、窒化物
もしくは炭化物又はフッ化マグネシウムで形成される。
この反射防止膜は、特に物理蒸着膜が好ましい。これら
の物理蒸着膜は、経糸および緯糸を構成するステンレス
鋼と共に導電性を有しているので、静電気の帯電による
障害も防ぐことができる。そして、物理蒸着膜であるた
め、耐剥離性に優れる。また、物理蒸着を紗状織物の表
面に向けて施すことにより、蒸着膜が経糸および緯糸の
表面側半周を裏面側へ越えて広く形成される。
【0011】図3は、この発明に係るスクリーン紗15
の断面を示し、ステンレス鋼線からなる経糸16および
緯糸17の表面側にそれぞれ反射防止膜16aおよび1
7aが形成されている。スクリーン紗15の片側(図3
の上方)から物理蒸着法によって前記金属酸化物等の蒸
気を下向きに飛ばした場合は、蒸気が主として経糸16
および緯糸17の上面に付着して上記の金属酸化物等と
ほぼ同じ組成の金属酸化物からなる蒸着膜が形成され、
その厚みを適当に設定することにより反射防止膜16
a、17aを構成するが、金属酸化物が蒸気の形で飛ば
されるため、一部が経糸16、緯糸17の下面側にも回
って付着し、反射防止膜16a、17aが経糸16、緯
糸17の片側半分よりも広い範囲にわたって形成され
る。
【0012】上記反射防止膜を備えた印刷用スクリーン
紗の反射率は、特に波長250〜450nmの紫外線に
対して15%以下であることが好ましく、15%を超え
た場合は、設計通りの製版が困難になる。上記の反射率
を得るためには、前記の物理蒸着を行う際の蒸着時間等
を制御することにより、上記反射防止膜の厚みを3〜2
50nmに設定することが好ましい。また、透過率は、
上記の紫外線に対して45%以上が好ましい。そして、
紫外線として上記波長のものを選択することにより、上
記範囲の紫外線に感光性の紫外線硬化樹脂を使用するこ
とが可能になり、取扱が容易になる。また、上記の反射
防止膜は、単層でもよいが、屈折率を異にする2種以上
の反射防止膜からなる多層構造として反射率を一層小さ
くすることもできる。また、上記の反射防止膜を表裏両
面に形成した場合は、印刷インキ、トナー、捺染糊およ
びペースト等の透過性が一層向上する。
【0013】この発明において、上記の経糸および緯糸
を構成するステンレス鋼は、マルテンサイト系、フェラ
イト系、オーステナイト系等のステンレス鋼であり、特
にオーステナイト系ステンレス鋼の中でモリブデンを添
加したもの(例えば、SUS316)は、耐食性、耐塩
素性および耐酸性等に優れる点で特に好ましい。この発
明では、上記のステンレス鋼からなる細い線材が織物の
経糸および緯糸として使用されるが、その太さは、10
〜50μm、特に15〜30μmが好ましく、10μm
未満では、細過ぎて切断し易く、反対に50μmを超す
と細い線の印刷が著しく困難になる。
【0014】上記スクリーン紗の密度は、100〜80
0メッシュ、特に250〜700メッシュが好ましい。
この密度が100メッシュ未満では細い線からなる精密
な図柄の印刷、捺染が不可能になり、反対に800メッ
シュを超した場合は、製造が困難になる。なお、上記ス
クリーン紗の織り組織は、平組織等の目ずれの生じ難
い、縦横均一な開口面を有する組織が好ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】実施形態1
線径15〜30μmのステンレス鋼線を経糸および緯糸
に用いて250〜700メッシュの平織物を製織し、こ
れを紗状織物(スクリーン紗原反)とし、その表面側に
酸化チタン等の金属酸化物をスパッタ蒸着して経糸およ
び緯糸に厚み3〜250nmの反射防止膜を形成する。
得られたスクリーン紗に紫外線硬化性樹脂からなる水溶
性乳剤を塗布、乾燥して感光層を形成し、その表面(経
糸・緯糸の反射防止膜側)に原板マスクを重ねて紫外線
を照射し、次いで現像、水洗すると、原板マスクと同じ
型模様を備えた印刷版(スクリーン型)が得られる。そ
して、この印刷版は、濡れ性および導電性を兼備してい
るため、印刷時の裏回りも良好で、かつ静電気の帯電に
よる障害もなく、極めて精密な印刷が可能である。
【0016】図4は、スパッタリング装置の一例を示
し、密閉可能なチャンバ20の下部にチタンからなる平
板状のターゲット21が表面を上にして中空のターゲッ
トソース22上に固定され、このターゲットソース22
に通される冷水で上記ターゲット21が下面から冷却さ
れる。このターゲット21の上方左右にアノード23が
水平に設置され、このアノード23およびターゲット2
1間に直流電源Eによって500〜1000Vの直流電
圧が印加される。
【0017】上記アノード23の上方に水冷シリンダ2
4が水平に、かつ回転自在に設置され、その左上方に前
記のステンレス鋼線からなる紗状織物Fの送出し軸25
が、また右上方にスクリーン紗Faの巻取り軸26がそ
れぞれ水平に、かつ回転自在に設置される。そして、送
出し軸25に巻かれた紗状織物Fが引出され、左上部の
ガイドローラ27aを経て上記水冷シリンダ24に巻回
され、右上部のガイドローラ27bを経て巻取り軸26
に巻き取られる。また、チャンバ20に真空ポンプ2
8、アルゴンガス供給用ガスボンベ29aおよび酸素ガ
ス供給用ガスボンベ29bがそれぞれ接続される。
【0018】上記の装置において、送出し軸25、巻取
り軸26および水冷シリンダ24を回転し、紗状織物F
を反時計方向に所定の速度で送りながら水冷シリンダ2
4を冷却し、上記紗状織物Fの表面温度を60℃以下に
維持する。一方、真空ポンプ28を駆動してチャンバ2
0内圧力を1.3×10-3Pa程度に減圧し、次いでアル
ゴンガス供給用ガスボンベ29aからアルゴンガスを導
入してチャンバ20内圧力を6.6×10-2Pa程度に調
整し、続いて酸素ガス供給用ガスボンベ29bから酸素
ガスを導入してチャンバ20内圧力を1.3×10-1Pa
程度に調整し、しかるのち上記のアノード23およびタ
ーゲット21間に500〜1000Vの直流電圧を印加
してターゲット21からチタンを飛び出させ、このチタ
ンを酸素ガスと反応させて酸化チタンとし、この酸化チ
タンを上記紗状織物Fの経糸および緯糸上に付着させ、
経糸および緯糸の半周以上を酸化チタンの蒸着膜で被覆
する。このとき、紗状織物Fの送り速度を調整して蒸着
膜の厚さを3〜250nmに制御して反射防止膜とし、
スクリーン紗Faを得る。
【0019】なお、ターゲット21のチタンに代えて亜
鉛、ニッケル、クローム、ケイ素等を使用した場合は、
亜鉛やニッケル、クローム、ケイ素の酸化物からなる反
射防止膜が得られる。
【0020】実施形態2
上記の実施形態1において、酸素ガスに代えて窒素ガス
を用い、その他は実施形態1と同様にしてチタン、亜
鉛、ニッケル、クローム、ケイ素等の金属を窒素ガスと
反応させ、これによって窒化物からなる反射防止膜を形
成する。
【0021】実施形態3
上記の実施形態1において、酸素ガスに代えてメタンガ
スを用い、その他は実施形態1と同様にしてチタン、亜
鉛、ニッケル、クローム、ケイ素等の金属を、メタンガ
スから分離した炭素ガスと反応させ、これによって炭化
物からなる反射防止膜を形成する。
【0022】実施形態4
上記の実施形態1において、ターゲット21のチタンに
代えてフッ化マグネシウムを使用し、かつ酸素ガス供給
用ガスボンベ29bの使用を止め、アルゴンガスの雰囲
気下でスパッタリングを行うことにより、フッ化マグネ
シウムからなる反射防止膜を形成する。
【0023】実施形態5
上記の実施形態1〜4において、スクリーン紗原反Fに
対する片側からのスパッタリングが終わった後、この原
反Fを裏返しに取付けて2度目のスパッタリングを裏側
から行うことにより、経糸および緯糸の全面に反射防止
膜を形成することができ、この場合は濡れ性が一層向上
する。そして、図5に示すように、チャンバ内に2組の
スパッタリング装置を設置すると、表裏のスパッタリン
グを連続して行うことができる。
【0024】図5において、30は密閉チャンバであ
り、その中央部左右に第1水冷シリンダー31および第
2水冷シリンダー32が並設され、左側の第1水冷シリ
ンダー31が反時計方向に、また右側の第2水冷シリン
ダー32が時計方向にそれぞれ駆動により回転する。
【0025】上記第1水冷シリンダー31の上方に紗状
織物Fの送出し軸33が、また上記第2水冷シリンダー
32の上方にスクリーン紗Fの巻取り軸34がそれぞれ
回転自在に設置される。そして、送出し軸33から引出
された紗状織物Fは、第1ガイドローラ35aを経て第
1水冷シリンダー31に裏面が接するように巻回され、
この第1水冷シリンダー31から第2ガイドローラ35
bを経て離脱し、上方の第3ガイドローラ35c、第4
ガイドローラ35dに導かれて上記巻取り軸34の上を
通り、下方の第5ガイドローラ35eを経て第2水冷シ
リンダー32に表面が接するように巻回され、この第2
水冷シリンダー32から第6ガイドローラ35fを経て
離脱し、スクリーン紗Faとして巻取り軸34に引取ら
れる。
【0026】上記の第1水冷シリンダー31および第2
水冷シリンダー32の下方には、それぞれ左右一対の第
1アノード37および第2アノード38が設置される。
そして、第1アノード37および第2アノード38の下
方にそれぞれ水冷式の第1ターゲットソース39および
第2ターゲットソース40が設置され、これら第1ター
ゲットソース39および第2ターゲットソース40の上
にそれぞれチタンからなる平板状ターゲット31がそれ
ぞれ固定され、第1アノード37と第1ターゲットソー
ス39の間および第2アノード38と第2ターゲットソ
ース40の間にそれぞれ電圧500〜1000Vの直流
電源Eが介設される。
【0027】上記の構造において、送出し軸33、巻取
り軸34および水冷シリンダー31、32を回転し、送
出し軸33から紗状織物Fを所定の速度で送出し、第1
水冷シリンダー31および第2水冷シリンダー32に順
に接触させて巻取り軸34で引取りながら、第1水冷シ
リンダー31では上記の紗状織物Fを裏側から冷却し、
また第2水冷シリンダー32では表側から冷却する。一
方、密閉チャンバ30に接続されている真空ポンプ(図
示されていない)を駆動して密閉チャンバ30の内部圧
力を1.3×10-3Pa程度に減圧し、次いでアルゴンガ
ス供給用ガスボンベ(図示されていない)からアルゴン
ガスを導入して上記密閉チャンバ30の内部圧力を6.
6×10-2Pa程度に調整し、更に酸素ガス供給用ガスボ
ンベ(図示されていない)から酸素ガスを導入してチャ
ンバ30内圧力を1.3×10-1Pa程度に調整する。
【0028】しかるのち上記の第1アノード37・第1
ターゲットソース39間および第2アノード38・第2
ターゲットソース40間にそれぞれ直流電圧を印加して
平板状ターゲット41からチタンを飛び出させ、酸素と
反応させて酸化チタンとし、これを第1水冷シリンダー
31上の紗状織物Fの表面および第2水冷シリンダー3
2上の紗状織物Fの裏面にそれぞれ付着させ、急冷して
アモルファス構造の厚み3〜250nmの反射防止膜を
形成してスクリーン紗Faを得る。
【0029】なお、左右のターゲット41のチタンに代
えて亜鉛、ニッケル、クローム、ケイ素等を使用した場
合は、その酸化物からなる反射防止膜が得られる。ま
た、酸素ガスに代えて窒素ガスを用いた場合は、窒化物
からなる反射防止膜が得られる。また、酸素ガスに代え
てメタンガスを用いた場合は、炭化物からなる反射防止
膜が得られる。また、ターゲット41のチタンに代えて
フッ化マグネシウム使用し、かつ酸素ガスの使用を止
め、アルゴンガスの雰囲気下でスパッタリングを行った
場合は、フッ化マグネシウムからなる反射防止膜が得ら
れる。
【0030】
【実施例】オーステナイト系ステンレス鋼(SUS31
6)からなる線径18μmの線材を経糸および緯糸とす
る500メッシュの平織物を使用し、前記実施形態5の
方法で表裏両面にスパッタリングを行い、実施例1、2
の印刷用スクリーン紗を製造した。また、実施形態5に
おいて、ターゲットにステンレス鋼製を用い、雰囲気ガ
スにアルゴンガスを用いる以外は実施形態5と同様にし
て比較例1のスクリーン紗を製造した。また、上記の線
材からなる平織物をそのまま用いて比較例2のスクリー
ン紗とした。これらのスクリーン紗の特性を下記の表1
に示す。
【0031】
【表1】【0032】上記の実施例1、2および比較例1、2の
スクリーン紗をそれぞれスクリーン枠(サイズ320×
320mm)に張り、感光乳剤を塗布し、その中央部(サ
イズ100×100mm)に原板マスクを密着した。次い
で、波長200〜450nmの紫外線を照射し、現像し
て製版し、UVペースト(ソマール社製「ER−70
B」)、ガラスペースト(奥野製薬社製「ELD−52
0」)および銀ペースト(アサヒ化学社製「LS−50
4HC」)を用いて印刷テストを行い、印刷前と印刷後
の被印刷物(コート紙)の重量を測定し、その差からペ
ーストの塗布量を算出し、この塗布量で印刷性能を比較
した。
【0033】印刷機には小型印刷機(ニューロング精密
工業株式会社製、商品名「LS15GX」)を使用し、
スキージ圧力を3.5kg/cm2 に、押込み量(被印刷物
にスキージゴムの先端を接触させ、この位置を基準にし
て印圧を加えた際のスキージヘッドの下降距離)を0.
3 mm に、オフコンタクト(刷版の印刷面と被印刷物間
のギャップ)を1.0mmに、スキージ硬度を70度に、
スキージ角度を75度に、印刷速度を100mm/秒 に
それぞれ設定した。ただし、実施例1、2および比較例
1、2のそれぞれで10回ずつペースト塗布量を試験
し、その算術平均を算出した。その結果を下記の表2に
示す。
【0034】
【表2】
【0035】上記の表1、2に示すとおり、実施例1、
2は、特に可視光領域に近い波長360nmの紫外線に
対する反射率が小さいため、平均塗布量が大きくなり、
小さい孔や幅の狭いスリットの形成が可能になり、精密
印刷が可能であった。一方、比較例1、2は、反射率が
大きいため、平均塗布量が少なくなり、実施例に比べて
印刷性が劣っていた。
【0036】
【発明の効果】上記のとおり、この発明に係る印刷用ス
クリーン紗は、写真製版に際し、反射防止膜を有しない
ものに比べて再現性に優れ、原板マスクと等しい型模様
の印刷版(スクリーン型)が得られ、かつ濡れ性も良好
であるため、印刷インキ等の透過性が向上し、精密印刷
や精密捺染が可能になる。そして、反射防止膜が物理蒸
着膜であるため耐剥離性に優れ、また反射防止膜の反射
率を限定するものであるから、設計通りの製版が一層容
易になる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printing screen scissors suitable for photoengraving, and in particular, enables precise printing of printed wiring and the like. 2. Description of the Related Art As a printing screen ridge, a 100-800 mesh cocoon-shaped woven fabric is woven using thin wire rods made of stainless steel having a diameter of 10 to 50 μm as warps and wefts. Is known, in which the above warp and weft are coated with a vapor deposition film having an amorphous structure made of stainless steel and having a thickness of 10 to 1000 nm (see JP-A-8-118835). This printing screen wrinkle is superior in wettability with respect to printing ink, toner, and printing paste as compared with the above-described one having no vapor deposition film, and therefore can be printed precisely. However, since the above-mentioned printing screen wrinkles are made of stainless steel with the surface of warp and weft being light-reflective, a water-soluble emulsion made of an ultraviolet curable resin is applied and dried at the time of photoengraving. When one side of the resulting screen is exposed to ultraviolet rays through an original mask and exposed to light, part of the ultraviolet rays that enter the photosensitive layer is reflected on the surface of the warp or weft, and this reflected light However, there is a problem that the photosensitive layer of the portion which does not need to be exposed is exposed to light and cured, so that the area of the cured portion becomes wider than the design and the holes through which printing ink or the like passes become narrow. FIG. 1 is a sectional view showing a state in which a photosensitive layer 11 is formed on a conventional screen 10.
Is woven with stainless steel warp yarns 10a and weft yarns (not shown), has a stainless steel vapor-deposited film (not shown), and the photosensitive layer 11 is made of the above-mentioned UV curable resin. Has been. 12 is an original mask,
When the original mask 12 is superposed on the surface of the photosensitive layer 11 and irradiated with ultraviolet rays L, a part of the photosensitive layer 1 is formed by the shadow portion 12b.
1 is blocked, but the remainder enters the photosensitive layer 11 through the transparent portion 12a, and is exposed and cured. The ultraviolet rays L incident on the photosensitive layer 11 are further divided into those that are reflected upon hitting the warp 10a or the weft and those that pass through the photosensitive layer 11 without being hit.
a enters the photosensitive layer 11 under the shadow portion 12b, and this portion is exposed and cured. When the above exposure is completed, the screen rod 10 with the original mask 12 removed is subjected to development together with the photosensitive layer 11, and this process removes the non-photosensitive portion of the photosensitive layer 11 while leaving the photosensitive portion 11, and printing ink. And a hole through which paint can pass is formed, and a printing plate (screen type) 13 (see FIG. 2) is obtained. Therefore, when there is no ultraviolet light La incident on the lower part of the shadow part 12b, the printing plate 13 is formed with a hole 13a having the same shape as the shadow part 12b as shown in FIG. Actually, there is ultraviolet light La incident below the shadow portion 12b,
As shown in FIG. 2B, the holes 1 formed in the printing plate 13
3a has a trapezoidal cross section in which the upper part is almost equal to the shadow part 12b and the lower part is narrow. In the present invention, ultraviolet rays are incident on the photosensitive layer below the shadow portion during photoengraving by improving the screen ridges using stainless steel wires as warps and wefts. In the photosensitive layer, a hole with the same shape as the original mask is formed, thereby improving the transparency of printing ink, toner, printing paste, paste, etc., and enabling the precise printing required in printed circuits. is there. [0007] A printing screen scissors according to the present invention comprises at least one surface of a scissors-like fabric woven using thin stainless steel wires for warps and wefts. It is coated with an antireflection film for the ultraviolet consisting thing or carbide or magnesium fluoride, this
The antireflection film is a physical vapor deposition film having a thickness of 3 to 250 nm.
The reflectivity for ultraviolet light with a wavelength of 250 to 450 nm is
15% or less, the transmittance is characterized der Rukoto 45% or more. The screen wrinkle according to the present invention is integrated with a photosensitive layer made of an ultraviolet curable resin according to a conventional method at the time of photolithography, and the surface of the obtained screen, that is, warp and weft are coated with an antireflection film. Overlay the original mask on the side that is exposed to ultraviolet rays, then develop and wash away the unexposed areas by washing with water to make a printing plate (screen type), but at least one side of the thin stainless steel wire that constitutes the warp and weft Is coated with an antireflection film for ultraviolet rays, the reflected light from the antireflection film is greatly reduced upon irradiation with ultraviolet rays. Even if there is a portion that is not covered with the antireflection film, the portion is located on the opposite side of the original mask, so that it is not exposed to ultraviolet rays for exposure. Therefore,
The ultraviolet rays are not incident on the photosensitive agent below the shadow portion of the original mask and the portion is not cured, so that a hole having the same shape as the shadow portion is formed by development and washing, and the printing plate having the same pattern as the original mask ( Screen type). The antireflection film is made of an oxide, nitride or carbide, or magnesium fluoride of a metal such as titanium, zinc, nickel, chromium and silicon.
This antireflection film is particularly preferably a physical vapor deposition film. Since these physical vapor deposition films have conductivity together with the stainless steel constituting the warp and the weft, it is possible to prevent troubles caused by electrostatic charging. And since it is a physical vapor deposition film, it is excellent in peeling resistance. Further, by performing physical vapor deposition toward the surface of the cocoon-shaped woven fabric, the vapor deposition film is widely formed across the front side half circumference of the warp and weft to the back side. FIG. 3 shows a screen cage 15 according to the present invention.
The antireflection films 16a and 1 are formed on the surface sides of the warp 16 and the weft 17 made of stainless steel wire, respectively.
7a is formed. One side of screen cage 15 (Fig. 3
When the vapor of the metal oxide or the like is blown downward by physical vapor deposition from above, the vapor is mainly the warp 16
And a deposited film made of a metal oxide having substantially the same composition as the above metal oxide or the like is formed on the upper surface of the weft 17.
By setting the thickness appropriately, the antireflection film 16
Although a metal oxide is blown off in the form of steam, a part of the warp yarn 16 and the weft 17 are attached to the lower surface of the warp yarn 16 and the weft yarn 17 so that the antireflection films 16a and 17a are warped yarn 16 and weft yarn 17 It is formed over a wider range than half of one side. The reflectance of the printing screen provided with the antireflection film is preferably 15% or less, particularly with respect to ultraviolet rays having a wavelength of 250 to 450 nm. Becomes difficult. In order to obtain the above reflectance, the thickness of the antireflection film is set to 3 to 2 by controlling the deposition time and the like when performing the physical vapor deposition.
It is preferable to set to 50 nm. The transmittance is
It is preferably 45% or more with respect to the above ultraviolet rays. And
By selecting one having the above wavelength as the ultraviolet ray, it becomes possible to use a photosensitive ultraviolet curable resin for the ultraviolet ray in the above range, and the handling becomes easy. The antireflection film may be a single layer, but the reflectance can be further reduced as a multilayer structure composed of two or more kinds of antireflection films having different refractive indexes. Further, when the antireflection film is formed on both the front and back surfaces, the permeability of printing ink, toner, printing paste, paste, etc. is further improved. In the present invention, the stainless steel constituting the warp and the weft is a martensitic, ferritic, austenitic or other stainless steel, in particular, austenitic stainless steel to which molybdenum is added (for example, SUS316) is particularly preferable in that it is excellent in corrosion resistance, chlorine resistance, acid resistance, and the like. In this invention, the above thin wire made of stainless steel is used as the warp and weft of the woven fabric.
-50 μm, particularly preferably 15-30 μm, 10 μm
If it is less than 50 μm, it is extremely difficult to print a thin line. The density of the screen ridge is 100-80.
0 mesh, particularly 250-700 mesh is preferred.
If the density is less than 100 mesh, it is impossible to print and print a precise pattern composed of fine lines. On the other hand, if the density exceeds 800 mesh, production becomes difficult. The woven structure of the screen wrinkles is preferably a structure having a uniform vertical and horizontal opening surface that hardly causes misalignment such as a flat structure. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 A 250-700 mesh plain woven fabric is woven using stainless steel wire having a wire diameter of 15-30 μm for warp and weft, and this is woven into a cocoon-like fabric (screen cocoon original fabric). And a metal oxide such as titanium oxide is sputter-deposited on the surface side to form an antireflection film having a thickness of 3 to 250 nm on the warp and weft.
A water-soluble emulsion made of an ultraviolet curable resin is applied to the obtained screen ridge and dried to form a photosensitive layer, and an original mask is superimposed on the surface (warp / weft antireflection film side) to irradiate ultraviolet rays. Next, development and washing with water yield a printing plate (screen mold) having the same pattern as the original mask. Since this printing plate has both wettability and conductivity, the back side at the time of printing is good, and there is no obstacle due to electrostatic charging, and extremely precise printing is possible. FIG. 4 shows an example of a sputtering apparatus, in which a flat plate-like target 21 made of titanium is fixed on a hollow target source 22 with the surface facing upward at a lower portion of a sealable chamber 20.
The target 21 is cooled from the lower surface with the cold water passed through. An anode 23 is horizontally installed on the left and right above the target 21, and the anode 23 and the target 2
A DC voltage of 500 to 1000 V is applied between 1 and DC power source E. Above the anode 23 is a water cooling cylinder 2.
4 is installed horizontally and rotatably, and the feeding shaft 25 of the cocoon-shaped fabric F made of the above-mentioned stainless steel wire is provided at the upper left thereof.
However, the winding shaft 26 of the screen ridge Fa is horizontally and rotatably installed on the upper right. Then, the cocoon-shaped fabric F wound around the delivery shaft 25 is drawn out, wound around the water-cooled cylinder 24 via the upper left guide roller 27a, and then wound around the upper right guide roller 27b.
Rolled up. Further, the vacuum pump 2 is provided in the chamber 20.
8. An argon gas supply gas cylinder 29a and an oxygen gas supply gas cylinder 29b are connected to each other. In the above apparatus, the feeding shaft 25, the winding shaft 26 and the water-cooling cylinder 24 are rotated so that the woven fabric F
Water-cooled cylinder 2 while feeding it counterclockwise at a predetermined speed
4 is cooled, and the surface temperature of the basket-like woven fabric F is maintained at 60 ° C. or lower. On the other hand, the vacuum pump 28 is driven and the chamber 2 is driven.
The internal pressure of the chamber 20 is reduced to about 1.3 × 10 −3 Pa, then argon gas is introduced from the argon gas supply gas cylinder 29a to adjust the internal pressure of the chamber 20 to about 6.6 × 10 −2 Pa, Then, oxygen gas is introduced from the gas cylinder 29b for supplying oxygen gas, and the pressure in the chamber 20 is set to 1.3 × 10 −1 Pa.
After that, a DC voltage of 500 to 1000 V is applied between the anode 23 and the target 21 to cause the titanium to jump out of the target 21, and this titanium is reacted with oxygen gas to form titanium oxide. Is attached on the warp and weft of the above-mentioned saddle-like fabric F,
More than half of the warp and weft are covered with a deposited film of titanium oxide. At this time, the thickness of the vapor-deposited film is controlled to 3 to 250 nm by adjusting the feeding speed of the cocoon-shaped fabric F to obtain an antireflection film,
Get screen 紗 Fa. When zinc, nickel, chrome, silicon or the like is used instead of titanium for the target 21,
An antireflection film made of oxides of zinc, nickel, chrome and silicon can be obtained. Embodiment 2 In Embodiment 1 described above, nitrogen gas is used in place of oxygen gas, and in the same manner as Embodiment 1, other metals such as titanium, zinc, nickel, chromium, silicon are reacted with nitrogen gas. Thus, an antireflection film made of nitride is formed. Embodiment 3 In Embodiment 1 above, methane gas is used in place of oxygen gas, and in the same manner as Embodiment 1, other metals such as titanium, zinc, nickel, chromium, silicon, etc. are separated from methane gas. It reacts with gas, thereby forming an antireflection film made of carbide. Embodiment 4 In Embodiment 1 above, magnesium fluoride is used in place of titanium of the target 21, and the use of the oxygen gas supply gas cylinder 29b is stopped, and sputtering is performed in an argon gas atmosphere. Then, an antireflection film made of magnesium fluoride is formed. Embodiment 5 In the above Embodiments 1 to 4, after the sputtering from the one side of the screen blank F is finished, the original F is attached upside down and the second sputtering is performed from the back side. An antireflection film can be formed on the entire surface of the warp and the weft. In this case, the wettability is further improved. And as shown in FIG. 5, when two sets of sputtering apparatuses are installed in a chamber, front and back sputtering can be performed continuously. In FIG. 5, reference numeral 30 denotes a sealed chamber, in which a first water-cooling cylinder 31 and a second water-cooling cylinder 32 are juxtaposed on the left and right of the center, and the left first water-cooling cylinder 31 is counterclockwise and the right-hand side. The second water-cooled cylinder 32 is rotated clockwise by driving. A feeding shaft 33 for the basket-like fabric F is installed above the first water-cooling cylinder 31 and a winding shaft 34 for the screen basket F is installed above the second water-cooling cylinder 32 so as to be rotatable. And the cocoon-shaped fabric F drawn out from the feed shaft 33 is wound so that the back surface is in contact with the first water-cooled cylinder 31 via the first guide roller 35a,
The first water cooling cylinder 31 to the second guide roller 35
b, and the upper third guide roller 35c, fourth
It is guided to the guide roller 35d, passes over the winding shaft 34, passes through the lower fifth guide roller 35e, and is wound so that the surface is in contact with the second water-cooled cylinder 32.
It is separated from the water-cooled cylinder 32 through the sixth guide roller 35f and taken up by the take-up shaft 34 as a screen rod Fa. The first water-cooled cylinder 31 and the second
Below the water-cooled cylinder 32, a pair of left and right first anodes 37 and second anodes 38 are installed.
Then, a water-cooled first target source 39 and a second target source 40 are installed below the first anode 37 and the second anode 38, respectively, and titanium is respectively formed on the first target source 39 and the second target source 40. A flat plate target 31 is fixed, and a DC power source E having a voltage of 500 to 1000 V is interposed between the first anode 37 and the first target source 39 and between the second anode 38 and the second target source 40, respectively. The In the above structure, the feeding shaft 33, the winding shaft 34, and the water-cooled cylinders 31, 32 are rotated, and the basket-like fabric F is fed from the feeding shaft 33 at a predetermined speed.
While the water cooling cylinder 31 and the second water cooling cylinder 32 are sequentially brought into contact with each other and taken up by the take-up shaft 34, the first water cooling cylinder 31 cools the cocoon-shaped fabric F from the back side,
The second water cooling cylinder 32 cools from the front side. On the other hand, a vacuum pump (not shown) connected to the sealed chamber 30 is driven to reduce the internal pressure of the sealed chamber 30 to about 1.3 × 10 −3 Pa, and then an argon gas supply gas cylinder (not shown) (6) Argon gas is introduced to adjust the internal pressure of the sealed chamber 30 to 6.
The pressure in the chamber 30 is adjusted to about 1.3 × 10 −1 Pa by adjusting the pressure to about 6 × 10 −2 Pa and further introducing oxygen gas from a gas cylinder for oxygen gas supply (not shown). Thereafter, the first anode 37 and the first
Between the target source 39 and the second anode 38 / second
A DC voltage is applied between the target sources 40 to cause titanium to jump out of the flat target 41 and to react with oxygen to form titanium oxide. This is the surface of the woven fabric F on the first water cooling cylinder 31 and the second water cooling. Cylinder 3
2 is attached to the back surface of the upper woven fabric F and rapidly cooled to form an antireflection film having an amorphous structure with a thickness of 3 to 250 nm to obtain a screen ridge Fa. When zinc, nickel, chrome, silicon or the like is used instead of titanium for the left and right targets 41, an antireflection film made of the oxide can be obtained. When nitrogen gas is used instead of oxygen gas, an antireflection film made of nitride can be obtained. Further, when methane gas is used instead of oxygen gas, an antireflection film made of carbide is obtained. Further, when magnesium fluoride is used instead of titanium of the target 41, and the use of oxygen gas is stopped and sputtering is performed in an atmosphere of argon gas, an antireflection film made of magnesium fluoride is obtained. EXAMPLE Austenitic stainless steel (SUS31
6) A plain mesh of 500 mesh with a wire diameter of 18 μm as a warp and a weft is used, and sputtering is performed on both the front and back surfaces by the method of the fifth embodiment.
A screen for printing was manufactured. Further, in the fifth embodiment, a screen basket of Comparative Example 1 was manufactured in the same manner as in the fifth embodiment except that stainless steel was used as the target and argon gas was used as the atmospheric gas. Further, a plain woven fabric made of the above-described wire was used as it was to obtain a screen wrinkle of Comparative Example 2. The characteristics of these screens are shown in Table 1 below.
Shown in [Table 1] The screen cages of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 are each a screen frame (size 320 ×
320 mm), a photosensitive emulsion was applied, and an original mask was adhered to the center (size 100 × 100 mm). Next, ultraviolet rays having a wavelength of 200 to 450 nm were irradiated, developed and subjected to plate making, and UV paste (“ER-70” manufactured by Somare)
B "), glass paste (" ELD-52 "manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.)
0 ") and silver paste (" LS-50 manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd.)
4HC "), a printing test was performed, the weight of the substrate (coated paper) before and after printing was measured, the amount of paste applied was calculated from the difference, and the printing performance was compared with this amount of coating. As the printing machine, a small-sized printing machine (manufactured by Neurong Seimitsu Kogyo Co., Ltd., trade name “LS15GX”) is used.
The squeegee pressure is set to 3.5 kg / cm 2 , and the pressing amount (the squeegee head descending distance when the squeegee rubber tip is brought into contact with the printing material and the printing pressure is applied with reference to this position) is set to 0.
3 mm, off-contact (gap between printing plate surface and substrate) to 1.0 mm, squeegee hardness to 70 degrees,
The squeegee angle was set to 75 degrees and the printing speed was set to 100 mm / second. However, Examples 1 and 2 and Comparative Example
The paste coating amount was tested 10 times for each of 1 and 2 , and the arithmetic average was calculated. The results are shown in Table 2 below. [Table 2] As shown in Tables 1 and 2 above, Example 1,
2 has a low reflectance with respect to ultraviolet rays having a wavelength of 360 nm close to the visible light region in particular, so that the average coating amount increases.
Small holes and narrow slits could be formed, and precision printing was possible. On the other hand, Comparative Examples 1 and 2 had a high reflectance, so the average coating amount was small, and the printability was inferior to the examples. [0036] [Effect of the Invention] As described above, printing screen gauze according to the invention, upon photolithography, excellent reproducibility as compared to having neither <br/> an antireflection film, equal to the original plate mask Since a printing plate (screen type) with a pattern is obtained and wettability is good, the permeability of printing ink and the like is improved, and precision printing and precision printing are possible. The reflection prevention film physical vapor
Excellent peeling resistance since it is a film deposition, and because it is intended to limit the reflectivity of the reflection preventing film, plate-making as designed becomes easier.
【図面の簡単な説明】
【図1】印刷用スクリーンの露光時における断面図であ
る。
【図2】原板マスクと印刷版の関係を示す断面図であ
る。
【図3】実施形態のスクリーン紗の断面図である。
【図4】スパッタリング装置の一例を示す断面図であ
る。
【図5】スパッタリング装置の他の例を示す断面図であ
る。
【符号の説明】
L、La:紫外線
10:スクリーン紗、10a:経糸
11:感光層
12:原板マスク、12a:透明部、12b:シャドー
部
13:印刷版(スクリーン型)、13a:孔
15:実施形態のスクリーン紗
16:経糸
17:緯糸
16a、17a:反射防止膜
F:スクリーン紗原反(紗状織物)
Fa:スクリーン紗
20、30:チャンバ
21、41:ターゲット
22、39、40:ターゲットソース
23、37、38:アノード
24、31、32:水冷シリンダ
25、33:送出し軸
26、34:巻取り軸
27a、27b、35a〜35f:ガイドローラ
28:真空ポンプ
29a、29b:ガスボンベ
E:直流電源BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view of a printing screen during exposure. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the relationship between an original mask and a printing plate. FIG. 3 is a cross-sectional view of the screen bottle according to the embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an example of a sputtering apparatus. FIG. 5 is a cross-sectional view showing another example of the sputtering apparatus. [Explanation of Symbols] L, La: Ultraviolet rays 10: Screen ridge, 10a: Warp 11: Photosensitive layer 12: Original plate mask, 12a: Transparent portion, 12b: Shadow portion 13: Printing plate (screen type), 13a: Hole 15: Screen scissors 16: warp 17: wefts 16a, 17a: antireflection film F: screen curl original fabric (saddle-shaped woven fabric) Fa: screen scissors 20, 30: chamber 21, 41: targets 22, 39, 40: target Sources 23, 37, 38: Anodes 24, 31, 32: Water-cooled cylinders 25, 33: Delivery shafts 26, 34: Winding shafts 27a, 27b, 35a-35f: Guide rollers 28: Vacuum pumps 29a, 29b: Gas cylinders E : DC power supply
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中嶋 英吾 愛知県蒲郡市浜町36番地 株式会社鈴寅 内 (72)発明者 鈴木 敏和 愛知県蒲郡市浜町36番地 株式会社鈴寅 内 (72)発明者 鈴木 隆啓 愛知県蒲郡市浜町36番地 株式会社鈴寅 内 (72)発明者 横溝 徹 東京都日野市豊田2丁目50番地の3 エ ヌ・ビー・シー工業株式会社内 (72)発明者 大高 浩 東京都日野市豊田2丁目50番地の3 エ ヌ・ビー・シー工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平6−219071(JP,A) 特開 平9−123631(JP,A) 特開 平3−236962(JP,A) 特開 平6−1089(JP,A) 実開 昭59−169966(JP,U) 実開 昭62−28567(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41N 1/24 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hideaki Nakajima 36, Hamamachi, Gamagori City, Aichi Prefecture Suzuuchi, Inc. (72) Inventor Toshikazu Suzuki 36, Hamacho, Gamagori, Aichi Prefecture (72) Inventor, Suzuya Takahiro Suzuki 36 Hamamachi, Gamagori-shi, Aichi Pref. Suzuyo, Inc. (72) Inventor Toru Yokomizo 3-50, Toyota, Hino-shi, Tokyo 3 NBC Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Otaka 3N-50, Toyoda, 2-chome, Hino-shi, Tokyo, Japan (56) References JP 6-219071 (JP, A) JP 9-123631 (JP, A) JP JP 3-236962 (JP, A) JP 6-1089 (JP, A) ACT 59-169966 (JP, U) ACT 62-28567 (JP, U) (58) Fields surveyed (Int .Cl. 7 , DB name) B41N 1/24
Claims (1)
糸に用いて製織された紗状織物の少なくとも片面が金属
の酸化物、窒化物もしくは炭化物又はフッ化マグネシウ
ムからなる紫外線の反射防止膜で被覆されており、この
反射防止膜が厚み3〜250nmの物理蒸着膜であり、
波長250〜450nmの紫外線に対する反射率が15
%以下、透過率が45%以上であることを特徴とする印
刷用スクリーン紗。(57) [Claims] [Claim 1] At least one side of a cocoon-shaped woven fabric using a thin stainless steel wire for warp and weft is made of metal oxide, nitride or carbide or magnesium fluoride. made is coated with an antireflection film of the ultraviolet, the
The antireflection film is a physical vapor deposition film having a thickness of 3 to 250 nm,
The reflectivity for ultraviolet light with a wavelength of 250 to 450 nm is 15
% Or less, printing screen gauze transmittance characterized der Rukoto 45% or more.
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