JP3515866B2

JP3515866B2 - 装飾用被覆部材

Info

Publication number: JP3515866B2
Application number: JP31495896A
Authority: JP
Inventors: 暢生吉田; 成生厚主
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 1996-11-26
Filing date: 1996-11-26
Publication date: 2004-04-05
Anticipated expiration: 2016-11-26
Also published as: JPH10158838A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、時計用外装部品、
ネックレス、ピアス、眼鏡フレーム、バッグ用金具、釣
り具などの装飾部材の改良に関する。

【０００２】

【従来技術】従来から、装飾部材としては、貴金属、と
りわけ金色の装飾部材が時計ケース、バンドなどの時計
用外装部品、ネックレス、ピアス、眼鏡フレーム、ハン
ドバッグ等の金具などに使用されている。これら金色装
飾部材としては、一般には、所定の基体の表面に金や金
合金を湿式メッキまたは乾式メッキしたものが多用され
ている。また、これらの金メッキを施す場合には、金メ
ッキの付着力強化のための下地層としてＮｉ等のメッキ
等が施されている。

【０００３】このような表面が金あるいは金合金によっ
て形成された部材は、装飾的効果には優れるものの、金
そのものが軟質金属であるために、装飾部材として使用
した場合に、表面に傷等が生じやすく、次第に装飾性が
損なわれるという問題があった。

【０００４】そこで、表面保護を目的として、金や金合
金の表面にダイヤモンドなどの硬質膜を形成することが
特開昭６２−１８００７１号、特開平１−２４４７０５
号等にて提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開昭６２−１８００７１号や特開平１−２４４７０５号
等に記載された硬質炭素膜は、プラズマＣＶＤ法等によ
って形成された高純度のダイヤモンドからなるものであ
り、このような高純度ダイヤモンド膜は、ダイヤモンド
の結晶成長が顕著であるために、結晶粒子が大きく膜厚
を大きくしないと膜化しえないという問題がある。しか
も表面にダイヤモンド自形による凹凸が存在し表面で乱
反射が生じるために、表面が白色化し下地の金または金
合金の色味が露呈しないという問題があった。また、表
面の凹凸による乱反射は、膜表面を研摩加工することに
より解消し得るものの、ダイヤモンドからなる膜表面を
鏡面研摩加工するのは非常に長時間を要するために生産
性に劣るものであった。

【０００６】また、金メッキなどの下地層としてＮｉメ
ッキ層を施した部材においては、下地のＮｉ成分が汗な
どによって遊離金属として溶出すると、肌との接触部に
皮膚の炎症などのアレルギーを発生する恐れがあった。

【０００７】しかしながら、従来のダイヤモンド膜を保
護膜として形成しても、前述した通り、結晶粒径が大き
いために膜中にボイド等が含まれており、それらのボイ
ドを通じて膜表面に溶出してしまいＮｉの溶出を防止で
きないものであった。

【０００８】また、最近ではＮｉメッキを施すことな
く、金あるいは金合金のメッキを施した材料も開発され
ている（特開平８−１２０４８１号）。しかし、これら
の材料を用いた場合、金の色調が経時変化する等の問題
があった。

【０００９】従って、本発明は、膜厚が薄い場合にも均
一な膜化が可能であり、色味を大きく損ねることなく、
部材からの金属の溶出を防止し得る耐久性および安全性
に優れた装飾用被覆部材を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基体表
面に、Ｎｉメッキを介して金メッキが施された装飾部材
の表面に、ラマン分光スペクトルにおいて１３４０±４
０ｃｍ^−１、１１６０±４０ｃｍ^−１および１５００±
６０ｃｍ^−１にピークが存在し、１１６０±４０ｃｍ
^−１に存在するピークのうち最も強度の強いピーク強度
をＨ_１、１３４０±４０ｃｍ^−１に存在するピークのう
ち最も強度の強いピーク強度をＨ_２、１５００±６０ｃ
ｍ^−１に存在するピークのうち最も強度の強いピーク強
度をＨ_３とした時、Ｈ_１／Ｈ_２で表されるピーク強度比
が０．０２以上であり、且つＨ_２＜Ｈ_３を満足する硬質
炭素膜を０．２〜２μｍの膜厚で被覆することにより上
記目的が達成される。

【００１１】また、表面粗さをＲａで０．２μｍ以下と
することが望ましい。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明における装飾用被覆部材に
おいて、用いられる部材は、その表面が金および／また
は金合金によって形成された部材である。このような金
色部材は、時計用外装部品、ネックレス、ピアス、眼鏡
フレーム、ボタン、ブローチなどの装飾部材として最も
多用されている。この部材は、部材全体が金または金合
金からなるものであっても、金メッキからなるものであ
ってもよい。

【００１３】本発明によれば、このような金または金合
金からなる部材の表面に、ラマン分光スペクトルにおい
て１３４０±４０ｃｍ^-1、１１６０±４０ｃｍ^-1にピー
クが存在し、かつ１１６０±４０ｃｍ^-1に存在するピー
クのうち最も強度の強いピーク強度をＨ₁、１３４０±
４０ｃｍ^-1に存在するピークのうち最も強度の強いピー
ク強度をＨ₂とした時、Ｈ₁／Ｈ₂で表されるピーク強
度比が０．０２以上の硬質炭素膜を形成することが重要
である。

【００１４】一般に知られるダイヤモンド膜は、熱ＣＶ
Ｄ法、マイクロ波ＣＶＤ法などの薄膜形成法によって形
成できることが知られているが、このようなダイヤモン
ド膜は、通常、高純度のダイヤモンドからなり、炭素原
子間がＳＰ³混成で結合された構造からなり、特に、ラ
マン分光スペクトルにおいて１３４０±４０ｃｍ^-1にの
みピークを有するものが多用されている。また、一部に
おいては、ＳＰ²混成で結合されたグラファイト構造の
炭素等を含み、ラマン分光スペクトルにおいて、１５０
０〜１６００ｃｍ^-1付近にブロードなピークを有するダ
イヤモンド膜も知られている。また、このダイヤモンド
膜は、ダイヤモンド結晶粒が大きいことにより、結晶の
自形による成膜後の表面の凹凸が大きく、結晶粒界が存
在し、また薄膜内部にボイドが多量に存在するものであ
り、均一膜化するには、少なくとも１０μｍ以上の膜厚
で形成する必要がある。

【００１５】これに対して、本発明における硬質炭素膜
は、ダイヤモンドを主とするものであるが、ラマン分光
スペクトルにおいて、少なくとも１３４０±４０ｃ
ｍ^-1、１１６０±４０ｃｍ^-1にピークを有するものであ
る。上記ピークのうち、１３４０±４０ｃｍ^-1のピーク
はダイヤモンド結晶のピークを示し、１１６０±４０ｃ
ｍ^-1のピークは、ダイヤモンド前駆体またはポリエン構
造の存在を示すものと考えられ、極めて微細な結晶によ
って形成されることを意味するものと考えられる。従っ
て、本発明における硬質炭素膜は、ダイヤモンド結晶が
極めて微細で平均粒径が１μｍ以下の結晶により構成さ
れ、膜中にはほとんどボイドが存在しない高緻密質な膜
からなる。

【００１６】このように、硬質炭素膜自体が高硬度であ
り非常に緻密質で微細な結晶からなり、しかも膜中にボ
イドが存在しないために、装飾部材として使用時に傷が
つくことがなく、しかも薄い膜厚で均一膜化することが
可能であり、表面が平滑であるために、表面の乱反射等
がなく、部材の金色の色味を大きく損なうことがない。
しかも、成膜時の膜表面が平滑であるために、表面を研
摩加工する必要がないか、必要であっても短時間の研摩
加工で平滑な表面を形成することができる。

【００１７】また、この硬質炭素膜は、緻密質であるた
めに、部材がＮｉメッキ等の下地層を有する場合におい
ても、汗や海水等と接触した場合において、膜中のボイ
ドや結晶粒界を通して基体の局所的な浸食が生じず、優
れた耐食性を有し、部材中のＮｉ等のアレルギー源金属
が溶出するのを防止することができる。

【００１８】さらには、上記硬質炭素膜は、あらゆる形
状の部材表面に対して、部材表面形状に整合した平滑で
緻密な膜面を形成でき、優れた耐食性が要求される部材
表面に高い平滑性をもって形成することができる。

【００１９】本発明における硬質炭素膜のラマン分光ス
ペクトルにおけるピーク強度について具体的に説明す
る。本発明の硬質炭素膜は、図１に示すように、少なく
とも１３４０±４０ｃｍ^-1と１１６０±４０ｃｍ^-1にピ
ークが存在する。１１６０±４０ｃｍ^-1のピーク強度
は、１１００ｃｍ^-1と１７００ｃｍ^-1の位置間で斜線を
引き、これをベースラインとして、１１６０±４０ｃｍ
^-1に存在するピークのうち最も強度の高いピーク強度を
Ｈ₁、１３４０±４０ｃｍ^-1に存在するピークのうち最
も強度の高いピーク強度をＨ₂とした時、Ｈ₁／Ｈ₂で
表されるピーク強度比が０．０２以上、望ましくは、
０．２〜１．０であることが重要である。

【００２０】このピーク強度比が０．０２よりも小さす
ぎると、ダイヤモンド結晶粒子が大きく成長し過ぎ、膜
中にボイドが発生したり膜の表面粗さが大きくなり局所
的な腐食が進行しやすくなる。また、ピーク強度比が大
きすぎるとダイヤモンド結晶の比率が少なくなる結果、
膜強度が低下してしまう場合があるため、上記Ｈ₁／Ｈ
₂で表されるピーク強度比は１．０以下であることが望
ましい。

【００２１】また、ラマン分光スペクトルにおいては、
図１に示すように、１５００±６０ｃｍ^-1にピークを有
し、該領域内のピークのうち最も強度の強いピーク強度
をＨ₃とした時、Ｈ₁＜Ｈ₂＜Ｈ₃の関係を満足するも
のであることも重要である。この１５００±６０ｃｍ^-1
のピークは、ダイヤモンド結晶間に存在する非晶質相を
示すものであり、膜中のボイドに充填されるために、膜
の密度を高めることができ、それによりＮｉの溶出をよ
り効果的に防止することができる。

【００２２】本発明における装飾用被覆部材によれば、
硬質炭素膜が、緻密質であるために、その膜厚の薄い硬
質炭素膜を形成することができ、しかも部材中の金属成
分の溶出を防止することができるが、硬質炭素膜の緻密
性の観点から、硬質炭素膜の密度は３．１ｇ／ｃｍ³以
上であることが望ましい。密度が低い場合は、ダイヤモ
ンド結晶の減少したり、ボイドが多量に含まれているこ
とを意味し、膜の硬度低下が発生したり、Ｎｉの溶出を
防止できない場合がある。

【００２３】なお、本発明の装飾用被覆部材における硬
質炭素膜の厚みは、０．２〜２μｍ、特に０．５〜２μ
ｍであることが必要である。かかる厚みとすることによ
り、部材の色味は、硬質炭素膜自体の黒色成分がわずか
に加味され、暗金色を有するものであるが、硬質炭素膜
の厚みが２μｍを越えると、ほとんど黒色化してしま
い、部材の金色はほとんど消えてしまう。また、この硬
質炭素膜の厚みが０．２μｍより薄いと、膜自体の強度
が低下するために、衝撃が加わった時に容易にクラック
が生じてしまう。

【００２４】また、硬質炭素膜表面の表面粗さは、Ｒａ
で０．２μｍ以下、特に０．１μｍ以下、さらには０．
０５μｍ以下であることが望ましい。これは、表面粗さ
が０．２μｍを越えると表面の乱反射によって白色化し
光沢が失われ装飾性が劣化するためである。

【００２５】また、本発明における装飾用被覆部材によ
れば、金または金合金からなる部材との密着性を高める
上で、但し、金色の色味を損なわない範囲で、基体と硬
質炭素膜との間に、少なくともダイヤモンドと金属炭化
物との複合体からなる中間層を介在させることもでき
る。

【００２６】このような中間層の介在によって硬質炭素
膜と母材との密着強度が向上する理由は次のように考え
られる。原子同士は電子を介在することにより結合され
ているが、一般に、原子間の電子が一方に存在して電気
的な結び付きにより結合しているイオン結合よりも、電
子を双方の原子で共有している共有結合の方が強い結合
力を持つ。ダイヤモンドは炭素の共有結合により構成さ
れているので強い結合力を有している。したがって、ダ
イヤモンドと異種化合物との密着強度を向上させるため
には類似の結合様式である共有結合性の化合物であるこ
とが望ましいと考えられる。またダイヤモンドの成分で
ある炭素を含む化合物の方がより整合性がよいと思われ
る。金属炭化物は数多く存在するがその多くはイオン性
結合を主体としたものである。共有結合性炭化物として
は炭化ケイ素や炭化ホウ素があるが、本発明の装飾用被
覆部材においては炭化ケイ素が最も望ましい。

【００２７】またこのダイヤモンドと、金属炭化物は層
分離して存在しているのではなく、ダイヤモンドの周り
を金属炭化物が取り囲むような構造を呈し、ダイヤモン
ドが島状に分布した構造となるために、いわゆるアンカ
ー効果により密着性が向上する。

【００２８】硬質炭素膜を形成する方法としては、従来
よりダイヤモンド膜を生成する手段として、マイクロ波
や高周波によりプラズマを発生させて所定の基体表面に
炭素膜を形成する、いわゆるプラズマＣＶＤ法あるいは
熱フィラメント法が主流である。しかしながら、プラズ
マＣＶＤ法では、プラズマ発生領域が小さいために、成
膜できる面積が小さく、成膜できる面積が一般に直径２
０ｍｍ程度であり、加工用部材としての応用が限られ
る。また圧力が高すぎるか、もしくはプラズマ密度が低
すぎるために基体が複雑な構造を有する場合や曲面構造
を有する場合、その構造に沿った均一なプラズマが得ら
れず、膜厚分布が不均一になりやすい。一方、熱フィラ
メントＣＶＤ法では、フィラメントが切れやすく、また
膜厚のバラツキを抑制するために基体の形状に合わせて
フィラメントを設置する必要があり、装置が汎用性に欠
けるなどの欠点を有している。しかも、上記プラズマＣ
ＶＤ法や熱ＣＶＤ法で形成されるダイヤモンド膜は、結
晶粒径が大きく、ボイドの多い表面の凹凸のあるダイヤ
モンド膜が生成されやすい。

【００２９】これに対して、本発明によれば、プラズマ
ＣＶＤ法におけるプラズマ発生領域に磁界をかけた、い
わゆる電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）プラズマＣＶ
Ｄ法により、本発明における硬質炭素膜を形成すること
ができる。しかもこのＥＣＲプラズマＣＶＤ法によれ
ば、低圧下（１ｔｏｒｒ以下）で高密度のプラズマを得
ることができるために、プラズマを広い領域に均一に発
生させることができ、通常のプラズマＣＶＤ法に比較し
て約１０倍程度の面積に均一に膜の形成を行うことがで
きる。

【００３０】この方法では、内部に所定の基体が設置さ
れた反応炉内に反応ガスを導入すると同時に２．４５Ｇ
Ｈｚのマイクロ波を導入する。それと同時にこの領域に
対して８７５ガウス以上のレベルの磁界を印加する。こ
れにより電子はサイクロトロン周波数ｆ＝ｅＢ／２πｍ
（但し，ｍ：電子の質量、ｅ：電子の電荷，Ｂ：磁束密
度）にもとづきサイクロトロン運動を起こす。この周波
数がマイクロ波の周波数（２．４５ＧＨｚ）と一致する
と共鳴し、電子はマイクロ波のエネルギーを著しく吸収
して加速され、中性分子に衝突、電離を生じせしめて高
密度のプラズマを生成するようになる。この時の基体の
温度は１５０〜１０００℃、炉内圧力１×１０^-2〜１ｔ
ｏｒｒに設定される。

【００３１】かかる方法によれば、成膜時の基体温度、
炉内圧力および反応ガス濃度を変化させることにより成
膜される硬質炭素膜の成分等が変化する。具体的には、
炉内圧力が高くなるとプラズマの領域が小さくなり、膜
の成長速度が下がるが結晶性は向上する傾向にある。ま
た、反応ガス濃度が高くなると、膜を構成する粒子の大
きさが小さくなり、結晶性が悪くなる傾向にある。これ
らの条件を具体的には後述する実施例に記載されるよう
に適宜制御することにより、前述したラマン分光スペク
トルにおけるＨ₁、Ｈ₂、Ｈ₃を制御することができ
る。

【００３２】上記の成膜方法において、本発明の装飾用
被覆部材を作製する場合、硬質炭素膜の形成にあたって
は原料ガスとして水素と炭素含有ガスを用いる。用いる
炭素含有ガスとしては、例えば、メタン、エタン、プロ
パンなどのアルカン類、エチレン、プロピレンなどのア
ルケン類、アセチレンなどのアルキン類、ベンゼンなど
の芳香族炭化水素類、シクロプロパンなどのシクロパラ
フィン類、シクロペンテンなどのシクロオレフィン類な
どが挙げられる。また一酸化炭素、二酸化炭素、メチル
アルコール、エチルアルコール、アセトンなどの含酸素
炭素化合物、モノ（ジ、トリ）メチルアミン、モノ
（ジ、トリ）エチルアミンなどの含窒素炭素化合物など
も炭素源ガスとして使用することができる。これらは一
種単独で用いることもできるし、二種以上で併用するこ
ともできる。

【００３３】また、前述したようなダイヤモンドと炭化
ケイ素の混合物からなる中間層を形成するには、所望に
よりダイヤモンド核発生処理を行った後、反応ガスとし
て、水素と、炭素含有ガスおよびケイ素含有ガスを導入
する。前記ケイ素含有ガスとしては、四フッ化ケイ素、
四塩化ケイ素、四臭化ケイ素などのハロゲン化物、二酸
化ケイ素などの酸化物の他に、モノ（ジ、トリ、テト
ラ、ペンタ）シラン、モノ（ジ、トリ、テトラ）メチル
シランなどのシラン化合物、トリメチルシラノールなど
のシラノール化合物などが挙げられる。これらは一種単
独で用いることもできるし、二種以上で併用することも
できる。

【００３４】

【実施例】

（実施例）電子サイクロトロン共鳴プラズマＣＶＤ装置
の炉内に、基体としてステンレス板の表面に厚さ２μｍ
のＮｉ合金メッキと、さらにその上に厚さ１μｍの金メ
ッキを施した部材を設置した。

【００３５】そこに、Ｈ₂２９４ｓｃｃｍ、ＣＨ₄６ｓ
ｃｃｍのガスを用いて、ガス濃度２％、母材温度６５０
℃、炉内圧力０．１ｔｏｒｒで１時間処理して、ダイヤ
モンド核を発生させた後、原料ガスとしてＨ₂ガス、Ｃ
Ｈ₄ガスおよびＳｉ（ＣＨ₃）₄ガスを用いて、Ｈ₂ ２９４ｓｃｃｍＣＨ₄ ６ｓｃｃｍＳｉ（ＣＨ₃)₄ ０．３ｓｃｃｍの割合でガス濃度２％、母材温度６５０℃、炉内圧力
０．０５ｔｏｒｒの条件で電子サイクロトロン共鳴プラ
ズマＣＶＤ法により最大２Ｋガウスの強度の磁場を印加
させ、マイクロ波出力３．０ＫＷの条件で３時間成膜し
て容器内面にダイヤモンドと炭化ケイ素が混在した中間
層を形成した。なお、中間層の厚みは、硬質炭素膜全体
厚みの約１／３の厚みに調整した。また、表１中、試料
Ｎo.５については、中間層形成をＨ₂ ３００ｓｃｃｍＳｉ( ＣＨ₃)₄ ０．３ｓｃｃｍのガス比とする以外は前記と全く同様にして、炭化ケイ
素からなる中間層を形成し、同様に評価を行った。

【００３６】次に、中間層の上に、純度９９．９％以上
のＨ₂ガス、ＣＨ₄ガス、ＣＯ₂ガスを用いて、表１、
２に示すガス比、ガス濃度、成膜温度、炉内圧力で成膜
を行い、中間層を含め全体厚みが０．１〜５μｍの硬質
炭素膜を形成した。

【００３７】成膜した硬質炭素膜に対して、膜表面のラ
マン分光スペクトル分析を行い、ラマン分光スペクトル
チャートから１１００ｃｍ^-1と１７００ｃｍ^-1の位置間
で線を引き、これをベースラインとし、１１６０±４０
ｃｍ^-1に存在する最大ピークのピーク強度をＨ₁、１３
４０±４０ｃｍ^-1に存在する最大ピークのピーク強度を
Ｈ₂として、Ｈ₁／Ｈ₂で表される強度比を算出した。
また、１５００±６０ｃｍ^-1の領域内のピークのうち最
も強度の強いピーク強度をＨ₃とし、Ｈ₁、Ｈ₂および
Ｈ₃の大小関係を示した。表１中、試料Ｎo.４と試料Ｎ
o.９についてチャートを図１、図２に示した。なお、ラ
マン分光分析における発振源として、レーザーはＡｒレ
ーザー（発振線４８８．０ｎｍ）を用いた。また、膜単
体を取り出し、ぎ酸タリウム水溶液の比重液を用いた浮
沈法で膜の密度を測定した。さらに、得られた部材に対
して、色味を観察しその結果を表１、２に示した。

【００３８】次に、試料を王水溶液に浸し、４８週間放
置した。放置後の膜面を双眼顕微鏡で観察し腐食の状態
を表１、２に示した。また、ＩＣＰ法により溶液に溶出
したＮｉ金属量を測定し結果を表１、２に示した。

【００３９】また、得られた試料を放置後の表面を双眼
顕微鏡で観察し腐食の状態を表１、２に示した。また、
ＩＣＰ法により溶液に溶出したＮｉ量を測定し、結果を
表１、２に示した。また、膜表面に対してサンドブラス
ト処理を行い耐スクラッチ試験を行った。

【００４０】（比較例１）金メッキまでを施した容器を
用いて、実施例１および実施例２と同様の腐食試験を行
い、その結果を表２中試料Ｎo.１７に示した。

【００４１】（比較例２）母材として実施例１において
用いたものと同じ金メッキしたステンレス板を用い、マ
イクロ波ＣＶＤ法によって、中間層形成を実施例と同じ
ガス比でガス濃度２％、母材温度６５０℃、炉内圧力３
０ｔｏｒｒの条件で４時間成膜した後、さらに表１の試
料Ｎo.９に示す条件で成膜し１μｍの硬質炭素膜を形成
した。これについて、実施例１と同様にして、色味観
察、腐食試験を行い、その結果を表１試料Ｎo.９に示し
た。

【００４２】

【表１】

【００４３】

【表２】

【００４４】表１、表２の結果によれば、Ｈ₁／Ｈ₂が
０．０２よりも低い硬質炭素膜を形成した比較試料Ｎo.
１、２、９、１０は、膜の表面粗さが０．２μｍを越
え、表面は乱反射によって白色化しており金色はほとん
ど消えていた。しかも、王水中に浸した後の膜表面には
腐食によるも思われる１０〜１０００μｍのスポットが
多数観察され、腐食が局所的に進行しており、Ｎｉの溶
出が観察された。また、硬質炭素膜を施していない試料
では、王水に対して２０分でメッキが完全になくなって
しまった。また、Ｈ₂＞Ｈ₃の試料Ｎo.２、１５、１６
は、いずれも腐食がみられ、Ｎｉの溶出が認められた。

【００４５】これに対して、Ｈ₁／Ｈ₂が０．０２以
上、Ｈ₂＜Ｈ₃の厚み０．２〜２μｍの硬質炭素膜を形
成した本発明の試料は、表面粗さが０．１μｍ以下の平
滑な面を有し、密度３．１ｇ／ｃｍ³以上の膜であり、
色味は、暗金色〜濃暗金色を示し、いずれも王水溶液に
対しても金メッキの腐食が認められなかった。また、Ｎ
ｉの溶出は検出限界以下であった。

【００４６】但し、硬質炭素膜の厚みが０．２μｍより
も薄い試料Ｎo.１７では、膜が一部剥離しており、２μ
ｍを越える試料Ｎo.２０では、ほとんど金色が失われ、
黒色化してしまった。

【００４７】また、耐スクラッチ性については、硬質炭
素膜を被覆した試料は、ほとんど傷の発生はなかった
が、膜厚が０．１μｍと薄い試料Ｎo.１７は、膜に一部
に剥離が認められた。また、硬質炭素膜を被覆しなかっ
た試料Ｎo.２１では、多数の傷が認められた。

【００４８】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の装飾用被
覆部材は、微細な結晶からなる緻密で表面が平滑な硬質
炭素膜によって被覆されているために、部材の色味を大
きく損ねることなく、傷等がつきにくく、しかも部材中
にＮｉメッキ等が施された場合においてもＮｉの溶出を
防止することができる。これにより、装飾部材としての
耐久性および安全性を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における硬質炭素膜（表１中、試料Ｎo.
４）のラマン分光スペクトル図である。

【図２】比較例としての硬質炭素膜（表１中、試料Ｎo.
９）のラマン分光スペクトル図である。

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 16/00 - 16/56 C01B 31/00 - 31/36 ＪＣＴＰファイル（ＪＯＩＳ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基体表面に、Ｎｉメッキを介して金メッキ
が施された装飾部材の表面に、ラマン分光スペクトルに
おいて１３４０±４０ｃｍ^−１、１１６０±４０ｃｍ
^−１および１５００±６０ｃｍ^−１にピークが存在し、
１１６０±４０ｃｍ^−１に存在するピークのうち最も強
度の強いピーク強度をＨ_１、１３４０±４０ｃｍ^−１に
存在するピークのうち最も強度の強いピーク強度を
Ｈ_２、１５００±６０ｃｍ^−１に存在するピークのうち
最も強度の強いピーク強度をＨ_３とした時、Ｈ_１／Ｈ_２
で表されるピーク強度比が０．０２以上であり、且つＨ
_２＜Ｈ_３を満足する硬質炭素膜を０．２〜２μｍの膜厚
で被覆したことを特徴とする装飾用被覆部材。
【請求項２】前記硬質炭素膜表面の表面粗さＲａが、
０．２μｍ以下である請求項１記載の装飾用被覆部材。