JP3703530B2 - Hard substrate coater - Google Patents
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0091—Apparatus for coating printed circuits using liquid non-metallic coating compositions
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、ガラス基板を用いた液晶表示板などの製造に用いられ、フォトレジストなどの塗布液を硬基板に薄く均一に塗布するための硬基板塗布装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
液晶板の製造工程の中には、ガラス基板などの硬基板にフォトレジストなどの塗布液を薄く均一な厚さに塗布する工程がある。例えばカラー液晶板の製造においては、透明電極を予め形成したガラス基板に、フォトレジストの機能を有する赤のカラ−モザイク液を均一に塗布した後、露光して赤に対応するカラ−モザイクを硬化させ、余分の液を除去することにより赤のカラーモザイクを形成している。そしてこれと同様な処理を緑、青などの他の色について繰り返している。このようにフォトレジストとなる塗布液を塗布する場合、この液は均一な厚さ(例えば2μ±5%程度)に厳密に管理して薄く塗布する必要がある。この塗布の厚さが不均一であると、光の透過率のむらが生じ、品質の低下を招くことになるからである。
【0003】
従来はこの塗布のためにスピンコータが用いられていた。このスピンコータは回転させた基板の回転中心付近に塗布液を滴下し、この液を遠心力を利用して飛散させることにより塗布するものである。しかしこのスピンコータを用いる方法では基板の交換に手間取り作業能率が悪くなるばかりでなく、飛散して捨てられる液の量が増えることになる。このためコストアップになるという問題があった。
【0004】
そこで水平に配設された上下一対のローラ間に基板を挟んで塗布する装置を用いることが考えられている。この装置は下のローラとなるマイクロロッドバーの下部を塗布液に浸漬し、このマイクロロッドバーとこの上方に位置するニップローラとの間に基板を挟んで送りながら、マイクロロッドバーにより基板の下面に塗布するものである。
【0005】
【従来技術の問題点】
しかしこの方法には、硬基板の前後縁が撓(たわ)んだ時に、塗布厚が不均一になるという問題がある。図8は塗布装置の要部を模式化して示す拡大図、図9は塗布仕上がり状態を説明するための硬基板の平面図である。図8において、符号10は液晶板のカラーフィルタに用いるガラス基板であり、硬基板となるものである。このガラス基板10は例えば幅300〜500mm、長さ400〜600mm、厚さ0.7mmのものである。
【0006】
12は塗布液槽、14はマイクロロッドバーである。マイクロロッドバー14は断面円形のロッドの表面に細い金属線を密着するように巻き付けたものであり、金属線間の溝による毛細管現象を利用して液を塗布するものである。マイクロロッドバー14は塗布液槽12の中に設けたバックアップ材16に載った状態でモータ駆動される。
【0007】
塗布液18はマイクロロッドバー14の下部が十分に浸るようにその液面が一定に管理されている。なおマイクロロッドバーバー14の外径(直径)は約12mmである。20はニップローラであり、マイクロロッドバー14の上方に所定間隙を保ちつつ回転自在に保持されている。
【0008】
ガラス基板10はその左右両縁を搬送ローラに載せた状態で図8の左側から搬送され、その前縁がマイクロロッドバー14とニップローラ20の間に進入する。そしてそれ以後はニップローラ20とマイクロロッドバー14の回転により右側へ一定速度で送られ、その間にマイクロロッドバー14よってガラス基板10の下面に液が塗布されるものである。
【0009】
図8において一点鎖線Aはガラス基板10がマイクロロッドバー14に接触しながら移動する時の下面の移動軌跡であり、以下正規下面位置Aという。ガラス基板10の下面はマイクロロッドバー14とニップローラ20とに挟まれている時には、この正規下面位置Aに載って一定速で移動するから、塗布厚の均一性も良好になる。この図で10Aはこの時のガラス基板10の位置を示す。
【0010】
しかしガラス基板10が前記のように薄い場合には、その前縁がマイクロロッドバーに進入する前に中央部分が下方へ湾曲するように撓む。ガラス基板10はその左右両縁だけを搬送ローラに載せ中央部分を浮かせた状態で搬送されるからである。図8の10Bはこの時のガラス基板10の前縁中央付近の位置を示している。
【0011】
この撓み量a、すなわち前縁中央付近の正規下面位置Aに対する下降量は、ガラス基板10の大きさによっては著しく大きくなる。例えば、厚さ1.1mmのものではこの撓み量は十分小さいが、厚さ0.7mmで、幅×長さが300×400(mm)のものでは約0.8mm、400×500(mm)のものでは約2.4mm、500×600mmのものでは約5.3mmとなる。幅および長さが大きくなるとその重量が増えるため、この撓み量aも急速に増加するものである。
【0012】
ガラス基板10の前縁中央部が下がると、図8に示すようにこの前縁が回転中のマイクロロッドバー14に接触して持ち上げられ、正規下面位置Aに上昇する。この間にガラス基板10の前縁中央付近の下面にはその両側部分よりも多い量の液が溜まることになる。このため図9にBで示す斜線領域の塗布厚が厚くなるという問題があった。
【0013】
また同様にガラス基板10の後縁がマイクロロッドバー14とニップローラ20との間隙から脱出する際にも、この後縁の中央付近が下方へ撓む。このためこの後縁中央付近の最も下降した部分が塗布液槽12の出口側のせき12A(図8)に接触する。この結果、ガラス基板10の後縁中央付近の塗布液が剥ぎ取られて薄くなる。図9のCで示す斜線領域は、この後縁中央付近のせき12Aに接触する領域を示す。なおこのガラス基板10の両側縁には未塗布域D、Eが設けられ、この領域D、Eが搬送ローラに載る。
【0014】
【発明の目的】
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、硬基板の前縁中央付近の塗布厚がその両側より厚くなるのを防ぎ、均一な塗布厚に塗布することができる硬基板塗布装置を提供することを第1の目的とする。またこの発明は硬基板の後縁中央付近が塗布液槽の出口側せきに接触するのを防ぎ均一な塗布厚に塗布できるようにした硬基板塗布装置を提供することを第2の目的とする。
【0015】
【発明の構成】
本発明によれば第1の目的は、下部が塗布液槽に浸漬されたマイクロロッドバーと、このマイクロロッドバーの上方に対向配置されたニップローラとの間に硬基板を挟んで送ることにより、前記硬基板の下面に塗布液を塗布する硬基板塗布装置において、前記マイクロロッドバーの前記硬基板進入側から前記マイクロロッドバー方向に向かって斜上へ伸びその先端は前記硬基板が前記マイクロロッドバーに接触しながら移動する時の下面の移動軌跡より下方に位置して硬基板前縁の撓みを制限する押上げ部材を前記塗布液槽に固定したことを特徴とする硬基板塗布装置、により達成される。
【0016】
ここに押上げ部材は硬基板前縁の幅方向中央付近に1個設けることができるが、複数個設けてもよい。例えば硬基板の幅が広い場合にはその幅方向中央付近だけを押上げ部材で押上げても、その両側が下方へ撓んでしまいその撓み量も大きくなる。このような場合には複数個の押上げ部材を設けるのが望ましい。
【0017】
硬基板を1個の押上げ部材で支持する場合には、硬基板前縁の中央に位置する1個の接触ポイントを先端に持つものとするのが望ましい。この接触ポイントは、前記図8で説明した塗布装置とガラス基板に対しては、マイクロロッドバーの中心より約6mm離れ、また正規下面位置Aより約0.4mm下方に位置させるのがよい。
【0018】
第2の目的は、前記押上げ部材とほぼ同様な他の押上げ部材をマイクロロッドバーの硬基板脱出側に設けることにより達成可能である。この場合硬基板10の下面にはすでに液が塗布されているから、前記図8と同じ条件の下では、接触ポイントは正規下面位置Aよりも約1.0mm下方へ離すのがよい。
【0019】
【実施態様】
図1は本発明の一実施例の全体配置図、図2はその要部の斜視図、図3は同じく一部の分解斜視図、図4は塗布液槽の塗布部中央位置での側断面図、図5は進入側の押上げ部材の平面図(A)と側面図(B)斜視図(C)、図6はガラス基板の進入直前の状態を示す図、図7は進入後の状態を示す図である。
【0020】
これらの図では前記図7と同一部分に同一符号を付したのでその説明は繰り返えさない。図1、2において符号22は搬送ローラであり、ガラス基板10の左右両縁部の下面だけに接触する。搬送ローラ22は図2に示すケース24に収容された駆動機構により駆動され、ガラス基板10を一定速度で搬送する。
【0021】
塗布液槽12は、図2に示すように、基板10の送り方向に直交する方向に長く浅い液溜め部26を持ち、この液溜め部26には給液パイプから新しい液が供給される一方、排液口から塗布液が排出される。この塗布液の液面は図示しない液面センサにより監視され、常に一定に管理される。
【0022】
マイクロロッドバー14はその上部が液から露出するように水平に保持されている。またマイクロロッドバー14の中間部分は図4に示すバックアップ部材16により下方から支持されている。このバックアップ部材16は、摺動性に優れた硬質の合成樹脂で作られ、その上面に長手方向に沿って形成された半円形の溝がマイクロロッドバー16に下方から当接してマイクロロッドバー14のたわみを防止するものである。なおこのバックアップ部材16の高さは、この下方に配列された多数の調整ねじ28により塗布液槽12の下面から微調整可能となっている。
【0023】
マイクロロッドバー14の一端(図1における奥側の端)は塗布液槽12より後方へ突出し、この突出端は着脱自在な継手30(図3)によって電動モータ(図示せず)に接続されている。この電動モータの回転は搬送ローラ22にも伝えられガラス基板10の送り速度が搬送ローラ22の搬送速度と等速になるようにされている。前記ニップローラ20の表面は導電性ゴムで作られ、マイクロロッドバー14との間にガラス基板10を挟んだ状態でガラス基板10に所定の挟圧力を付与するように保持されている。
【0024】
図3、4において32は進入側押上げ部材、34は脱出側押上げ部材である。これらの押上げ部材32、34は、塗布範囲の中央付近にあって、塗布液槽12の液溜め部26の外側に形成された溝36、38に固定されている。すなわち進入側押上げ部材32は図5に示すように、溝36に嵌合する基部32aと、その上面から斜め上方にのびる舌部32bとを持ち、ジュラルミンやステンレスなどで作られている。
【0025】
基部32aには、図4、5に示すように溝36の内面を押圧するボールおよびばねを装填する4個の装填室32cとが形成される一方、上方から調整用ねじ40、40(図5)が螺入されている。この結果基部32aを溝36に係入した時に、ボールが溝32の内面を押圧して基部32aを固定する一方、調整用ねじ40、40により基部32aおよび舌部32bの高さを調節できる。
【0026】
舌部32bの先端は接触ポイント32dである。この接触ポイント32dは図4に示すように、マイクロロッドバー14の中心より基板10の進入側へ約6mm離れ、かつその高さは正規下面位置Aより約0.4mm低く設定される。
【0027】
脱出側押上げ部材34はこの進入側押上げ部材32とほぼ同様な構成であるから、その説明は繰り返えさない。この脱出側押上げ部材34はその基部34aが溝38に固定され、舌部34bがマイクロロッドバー14方向に向って斜上へ伸びている。この舌部34bの先端は接触ポイント34cであり、マイクロロッドバー14の中心から約6mm離れ、かつ正規下面位置Aより約1.0mm下方に位置する。この接触ポイント34cおよび舌部34bの先端付近は、ガラス基板10の塗布液が付着するから液をはじく材料、例えばテフロン(登録商標)でコーティングしておくのが望ましい。
【0028】
次にこの実施例の動作を説明する。搬送ローラ22により図1、2で左側から右側へ送られるガラス基板10は、マイクロロッドバー14とニップローラ20との間に進入する。この時ガラス基板10はその左右両縁部が搬送ローラ22に支持されているから、その幅方向中央付近がガラス基板10自身の重さで下方へ撓む。しかしガラス基板10の前縁中央部は進入側押上げ部材32の舌部32bに接触すると、その下降が制限される。
【0029】
このためガラス基板10の前縁中央部の撓み量は接触ポイント32dにより制限される。図6はこの状態を示している。このように撓み量が制限されたままガラス基板10の前縁はマイクロロッドバー14とニップローラ20との間に進入する。
【0030】
このようにガラス基板10の先端(前縁)がニップローラ20とマイクロロッドバー14との間に挾まれると、ガラス基板10の先端部分は完全に平坦(水平)になる。すなわちガラス基板10は正規下面位置Aに載って送られる。このためガラス基板10の中央付近は接触ポイント32dから0.4mm浮上した状態になる。この結果ガラス基板10が接触ポイント32dと接触するのは、先端縁より6mm以内の範囲に限定される。
【0031】
またガラス基板10の先端縁はその中央付近の撓み量が0.4mmに制限されているから、ガラス基板10の前縁中央付近にできる厚塗り領域B(図9参照)の幅および長さ(ガラス基板10の送り方向の長さ)は極端に小さくなり、実用上均一な塗布厚とすることができる。
【0032】
マイクロロッドバー14の表面にはその回転により液溜め部26の塗布液28が付着しているから、このマイクロロッドバー14の回転に伴いガラス基板10の下面にこの塗布液が塗布されて行く。ここに塗布中には、基板10の進入側とマイクロロッドバー14とで挟まれる角に一定量の塗布液(メニスカス)Rを保持している(図7)。液溜め部26の液面のレベルと、ニップローラ20による挟圧力とは一定に管理されているから、ガラス基板10の下面に塗布される液の厚さは十分に薄くかつ高精度に管理され得る。
【0033】
ガラス基板10がマイクロロッドバー14から離脱する際には、ガラス基板10の後縁中央部が下方へ撓むが、ガラス基板10の後縁は脱出側押上げ部材34の接触ポイント34cに接触してその撓み量が制限される。このためガラス基板10の後縁中央部がマイクロロッドバー14の表面から離れた時に下降する距離が短かくなり、ガラス基板10の後縁中央付近が塗布液槽12のせき12Aに接触することがなくなる。
【0034】
従ってガラス基板10の後縁がせき12Aに接触して塗布液がガラス基板10から剥ぎ取られる領域Cは無くなり、接触ポイント34cとの接触により長さ6mmの1本のスジができるだけである。この接触スジは、この後の工程でガラス基板10の後端部に厚く付着した塗布液を吸引装置により吸引するようにすれば、ほぼ完全に消失する。例えばこの吸引装置がガラス基板10の後縁より約5mm前から厚塗り部分の吸引を行うようにすれば、この接触スジによる影響は実用上問題とならないものとなる。
【0035】
一般にガラス基板10の前縁および後縁にできる厚塗り領域B、Cは、前縁および後縁から10mm以内であれば不都合が無いとされている。従って脱出側の押上げ部材34の接触ポイント34cをマイクロロッドバー14の中心から約6mm離すのが望ましい。
【0036】
以上の実施例では進入側および脱出側の押上げ部材32、34の舌部32b、34bの形状を先端が三角形に尖った形状にしたが、これに代えて図5の(A)に仮想線で示すように矩型としたり、1本のパイプ状としてもよい。
【0037】
なお進入側の押上げ部材32においては舌部32bの先端を針状に尖らせてガラス基板10の前縁中央に位置させておくのが望ましい。この舌部32bがガラス基板10の前縁に当たった時の抵抗がガラス基板10を水平面上で傾けるおそれがなくなるからである。押上げ部材32、34は塗布液槽12に一体に形成してもよいのは勿論である。また塗布液槽12に直接ビス止めしてもよい。
【0038】
【発明の効果】
請求項1の発明は以上のように、硬基板の前縁下方に臨む押上げ部材を設け、硬基板前縁が下方に撓む量を制限するものであるから、硬基板の前縁の厚塗り領域を狭くすることができる。
【0039】
この押上げ部材は硬基板前縁の幅方向中央に1個設けてもよいが、複数個設けてもよい。押上げ部材を1個とする場合は、その接触ポイントを硬基板前縁の中央に接触するように1個設ければ、硬基板前縁がこの押上げ部材に接触した時の抵抗により硬基板が傾くことがない(請求項2)。
【0040】
厚さ約0.7mm、幅約500mmの液晶板カラー用のガラス基板に直径約12mmのマイクロロッドバーを用いて塗布する場合には、この接触ポイントは正規下面位置の0.4mm下方でかつマイクロロッドバーの中心から約6mm離しておくのが望ましい(請求項3)。
【0041】
また請求項4の発明によれば、硬基板の後縁がマイクロロッドバーから離れる時に下方へ撓む量が脱出側押上げ部材により制限される。このため硬基板の後縁中央付近が塗布液槽のせきに接触するのを防ぐことができる。ここに前記と同一条件でガラス基板に塗布する場合には、この脱出側押上げ部材の接触ポイントはマイクロロッドバーから約6mm離し、かつ正規下面位置より約1.0mm低い位置に設定するのがよい(請求項5)。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の全体配置図
【図2】その塗布部の拡大斜視図
【図3】塗布液槽の斜視図
【図4】塗布液槽の中央断面図
【図5】進入側押上げ部材の平面図(A)と、側面図(B)と斜視図(C)
【図6】ガラス基板の進入時を示す図
【図7】ガラス基板の塗布時を示す図
【図8】従来方法の不都合を説明するための塗布部断面図
【図9】塗布厚の不均一性を説明するためのガラス基板の下面図
【符号の説明】
10 ガラス基板(硬基板)
12 塗布液槽
14 マイクロロッドバー
18 ニップローラ
22 搬送ローラ
32 進入側押上げ部材
34 脱出側押上げ部材
32d、34c 接触ポイント
A 正規下面位置
B 前縁側の厚塗り領域
C 後縁側の接触領域[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a hard substrate coating apparatus that is used for manufacturing a liquid crystal display panel or the like using a glass substrate and applies a coating solution such as a photoresist thinly and uniformly on a hard substrate.
[0002]
[Prior art]
In the manufacturing process of the liquid crystal plate, there is a process in which a coating solution such as a photoresist is thinly and uniformly applied to a hard substrate such as a glass substrate. For example, in the manufacture of a color liquid crystal plate, a red color mosaic solution having a photoresist function is uniformly applied to a glass substrate on which a transparent electrode has been previously formed, and then the color mosaic corresponding to red is cured by exposure. And removing the excess liquid to form a red color mosaic. Similar processing is repeated for other colors such as green and blue. Thus, when applying the coating liquid used as a photoresist, this liquid needs to be strictly controlled to a uniform thickness (for example, about 2 μ ± 5%) and applied thinly. This is because if the thickness of the coating is not uniform, unevenness of light transmittance occurs, resulting in deterioration of quality.
[0003]
Conventionally, a spin coater has been used for this coating. In this spin coater, a coating liquid is dropped near the rotation center of a rotated substrate, and the liquid is applied by scattering using a centrifugal force. However, this method using a spin coater not only deteriorates the labor efficiency in replacing the substrate, but also increases the amount of liquid that is scattered and discarded. For this reason, there was a problem that the cost was increased.
[0004]
In view of this, it is considered to use a device for applying the substrate by sandwiching the substrate between a pair of upper and lower rollers arranged horizontally. In this device, the lower part of the micro rod bar, which is the lower roller, is immersed in the coating liquid, and the substrate is sandwiched between the micro rod bar and the nip roller located above the micro rod bar, and then sent to the lower surface of the substrate by the micro rod bar. It is something to apply.
[0005]
[Problems of the prior art]
However, this method has a problem that the coating thickness becomes non-uniform when the front and rear edges of the hard substrate are bent. FIG. 8 is an enlarged view schematically showing a main part of the coating apparatus, and FIG. 9 is a plan view of a hard substrate for explaining a coating finish state. In FIG. 8,
[0006]
12 is a coating liquid tank, and 14 is a microrod bar. The
[0007]
The liquid level of the
[0008]
The
[0009]
In FIG. 8, an alternate long and short dash line A is a movement trajectory of the lower surface when the
[0010]
However, when the
[0011]
The amount of bending a, that is, the amount of descent relative to the normal lower surface position A near the center of the front edge, is remarkably increased depending on the size of the
[0012]
When the front edge central portion of the
[0013]
Similarly, when the rear edge of the
[0014]
OBJECT OF THE INVENTION
The present invention has been made in view of such circumstances, and a hard substrate coating apparatus capable of preventing the coating thickness in the vicinity of the center of the front edge of the hard substrate from becoming thicker than both sides and applying the uniform coating thickness. The first purpose is to provide it. A second object of the present invention is to provide a hard substrate coating apparatus capable of preventing the vicinity of the center of the rear edge of the hard substrate from contacting the cough on the outlet side of the coating liquid tank so that the coating can be applied with a uniform coating thickness. .
[0015]
[Structure of the invention]
According to the present invention, a first object is to send a hard substrate sandwiched between a microrod bar whose lower part is immersed in a coating liquid tank and a nip roller disposed above the microrod bar. In the hard substrate coating apparatus for applying a coating liquid to the lower surface of the hard substrate, the hard substrate extends obliquely from the hard substrate entry side of the micro rod bar toward the micro rod bar, and the tip of the hard substrate is the micro rod. A hard substrate coating apparatus, wherein a push-up member that is positioned below a movement trajectory of the lower surface when moving while contacting a bar and restricts bending of the front edge of the hard substrate is fixed to the coating liquid tank , Is achieved.
[0016]
Here, one push-up member can be provided near the center in the width direction of the front edge of the hard substrate, but a plurality of push-up members may be provided. For example, when the width of the hard substrate is wide, even if only the central part in the width direction is pushed up by the push-up member, both sides of the board are bent downward, and the amount of bending is increased. In such a case, it is desirable to provide a plurality of push-up members.
[0017]
When the hard substrate is supported by one push-up member, it is desirable to have one contact point located at the center of the front edge of the hard substrate at the tip. The contact point is preferably about 6 mm away from the center of the microrod bar and about 0.4 mm below the normal bottom surface position A with respect to the coating apparatus and glass substrate described in FIG.
[0018]
The second object can be achieved by providing another lifting member substantially similar to the lifting member on the hard substrate escape side of the microrod bar. In this case, since the liquid has already been applied to the lower surface of the
[0019]
Embodiment
FIG. 1 is an overall layout view of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of an essential part thereof, FIG. 3 is a partially exploded perspective view of FIG. 4, and FIG. FIG. 5, FIG. 5 is a plan view (A) and a side view (B) perspective view (C) of the push-up member on the entry side, FIG. 6 is a view showing a state immediately before entering the glass substrate, and FIG. FIG.
[0020]
In these drawings, the same parts as those in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated. 1 and 2,
[0021]
As shown in FIG. 2, the
[0022]
The
[0023]
One end (end on the back side in FIG. 1) of the
[0024]
3 and 4, 32 is an entry side push-up member, and 34 is an escape side push-up member. These push-up
[0025]
As shown in FIGS. 4 and 5, the
[0026]
The tip of the
[0027]
The escape-side push-up
[0028]
Next, the operation of this embodiment will be described. The
[0029]
For this reason, the amount of deflection of the central portion of the front edge of the
[0030]
Thus, when the front end (front edge) of the
[0031]
Further, since the amount of deflection near the center of the front edge of the
[0032]
Since the
[0033]
When the
[0034]
Accordingly, there is no region C where the trailing edge of the
[0035]
Generally, the thick coating regions B and C formed on the front edge and the rear edge of the
[0036]
In the above embodiment, the shape of the
[0037]
In the push-up
[0038]
【The invention's effect】
As described above, the invention according to
[0039]
One push-up member may be provided at the center in the width direction of the front edge of the hard substrate, but a plurality of push-up members may be provided. When one push-up member is used, if one contact point is provided so as to be in contact with the center of the front edge of the hard substrate, the hard substrate is caused by the resistance when the front edge of the hard substrate contacts the push-up member. Does not tilt (claim 2).
[0040]
When a microrod bar having a diameter of about 12 mm is applied to a glass substrate for a liquid crystal plate having a thickness of about 0.7 mm and a width of about 500 mm, this contact point is 0.4 mm below the normal bottom surface position and is microscopic. It is desirable to keep about 6 mm away from the center of the rod bar.
[0041]
According to the invention of
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall layout view of an embodiment of the present invention. FIG. 2 is an enlarged perspective view of the coating part. FIG. 3 is a perspective view of a coating liquid tank. Top view (A), side view (B), and perspective view (C) of the entry side push-up member
FIG. 6 is a view showing a glass substrate being entered. FIG. 7 is a view showing a glass substrate being applied. FIG. 8 is a cross-sectional view of a coating portion for explaining the disadvantages of the conventional method. Bottom view of glass substrate to explain the properties [Explanation of symbols]
10 Glass substrate (hard substrate)
12
Claims (5)
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP18768295A JP3703530B2 (en) | 1995-07-03 | 1995-07-03 | Hard substrate coater |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18768295A JP3703530B2 (en) | 1995-07-03 | 1995-07-03 | Hard substrate coater |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH0910646A JPH0910646A (en) | 1997-01-14 |
| JP3703530B2 true JP3703530B2 (en) | 2005-10-05 |
Family
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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-
1995
- 1995-07-03 JP JP18768295A patent/JP3703530B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPH0910646A (en) | 1997-01-14 |
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