JP3757402B2 - Vacuum seal device - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、真空シール装置に係わり、更に詳しくは、真空処理装置まで大気圧から真空度を段階的に上げ、また真空処理装置から大気圧まで真空度を段階的に下げるために真空処理装置の前後に設けられる真空シール装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
鋼板等の帯材を真空下で連続的に処理する装置(例えば連続真空蒸着装置)では、装置の前後に内部を真空に保持するための真空シール装置が用いられる。この真空シール装置は、ピンチロール方式とブライダル方式に大別される。
【0003】
図4(A)は、従来のピンチロール方式の真空シール装置の模式図であり、真空ポンプ4で排気された複数の真空室5と、真空室5の境界部に帯材3と近接して設けられた複数対のシールロール6とからなり、真空ポンプ4の容量をシールロール6と帯板3の隙間から流入する空気量よりも大きくして、真空室5の真空度を保持するようになっている。なおこの図で、1は真空処理装置、2は真空シール装置である。
【0004】
上述した真空シール装置は、いわゆる差動排気真空シール装置であり、隣接した真空室の圧力比は、隙間から流入する空気の流速が音速に達するいわゆる限界圧力比(臨海圧力比ともいう)よりも小さく設定され、従って、隙間の面積×音速よりも大きい容量の真空ポンプを用いることにより、例えば、760torr(大気圧),200torr,50torr,5torr,0.1torrと順次真空度を高めることができる。なお、下流側の真空シール装置も上流側の上述した真空シール装置と同様である。
【0005】
真空処理する帯材の板幅及び板厚は種々に変化するため、真空シール装置は帯材の最大寸法に適合するように位置決めされる。このため、ピンチロール方式の真空シール装置では、特に板幅及び板厚が小さい帯材を処理する場合に、シールロール6と帯材3との隙間が大きくなり、真空度を保持するための真空ポンプ4の容量を予め相当大きくする必要がある問題点があった。また、このため、真空シール装置のランニングコストも大きくなる問題点があった。
【0006】
かかるピンチロール方式の問題点を解決するために創案されたのがブライダル方式の真空シール装置である。図4(B)は従来のブライダル方式の真空シール装置の模式図であり、真空ポンプ4で排気された複数の真空室5と、真空室5の境界部に設けられ帯材3が巻き付けられる複数の円筒形デフレクタロール7と、デフレクタロール7に対向して真空室5の境界部に設けられたシールブロック8と、を備え、真空ポンプ4の容量をデフレクタロール7の隙間から流入する空気量よりも大きくして、真空室5の真空度を保持するようになっている。なおこの図で、9は別のシールブロックであり、デフレクタロール7との隙間が最小限度に設定されている。
【0007】
このブライダル方式も、差動排気真空シール装置の一種であるが、帯材3の板幅及び板厚が種々に変化しても、デフレクタロール7と帯材3は常に密着して隙間がほとんどなく、かつシールブロック8も帯材3に近接するように構成されるため、真空ポンプの容量をピンチロール方式に比較して大幅に小さくでき、ランニングコストも小さい長所を有している。また、このブライダル方式の真空シール装置は、帯材3を上下に蛇行させて通板することから真空室の水平間隔を短くし、装置の全長を短くできる利点がある。なお、シールブロック8を帯材3に近接させる機構として、特開平6−280015号、特開平6−256946号、特開平6−293968号等が既に出願されている。
【0008】
図5は、かかるブライダル方式の真空シール装置を用いた連続真空蒸着装置の一例であり、入側と出側の真空シール装置、予備加熱室、成膜室、等からなり、大気圧下でアンコイラーから巻き戻された鋼板(ストリップ)を入側の真空シール装置で真空中に通し、予備加熱室で予備加熱した後、成膜室で成膜し、成膜後の鋼板を出側の真空シール装置で大気圧中に取り出し、リコイラーで巻き取るようになっている。成膜室では、例えば、電子銃により電子ビームを放射し、磁界で電子ビームの方向を曲げてルツボ内に当て、蒸着材料を加熱・蒸発させ、蒸発金属を鋼板の表面に凝固させて蒸着膜を連続的に成膜することができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、ブライダル方式の真空シール装置は、帯材の板幅及び板厚が種々に変化しても、デフレクタロールと帯材は常に密着して隙間がほとんどなく、かつシールブロックも帯材に近接するように構成されるため、真空ポンプの容量をピンチロール方式に比較して大幅に小さくでき、ランニングコストも小さい長所を有している。
【0010】
しかし、デフレクタロールの表面に帯材が密着して通板するため、帯材が厚い場合に塑性変形をおこしやすい問題点があった。すなわち、帯材の厚さをt、デフレクタロールの直径をDとすると、帯材がデフレクタロールの表面に密着して通板する際に、帯材には、ε=2t/Dの歪が生じ、この歪を塑性変形しない範囲(例えば0.5%以下)にするには、デフレクタロールの直径を大きくする必要があった。この直径は、例えばt=20mmの場合、D=2×20/0.005=8000mm以上となり、真空シール装置の全長及び全高が非常に大きくなる問題点があった。
【0011】
本発明はかかる問題点を解決するために創案されたものである。すなわち、本発明の目的は、帯材が厚い場合でも、塑性変形をおこすことなく帯材が通板でき、小さい真空ポンプ容量で所望の真空度を安定して保持でき、かつ全長及び全高を比較的小さくできる真空シール装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の真空シール装置は、連続した帯材を塑性変形をおこさない曲率半径で案内する複数の円筒形ガイドロールと、ガイドローラ及び帯材を帯材に沿って気密に囲む真空通板路と、各ガイドロールに対向して真空通板路内に配置され、ガイドロールとの間に帯材が通板する隙間を有する複数のシールブロックと、を備え、ガイドローラとシールブロックで分割された真空通板路内をそれぞれ排気することを特徴とする。
【0013】
この構成により、複数の円筒形ガイドロールにより帯材を塑性変形をおこさない曲率半径で案内するので、帯材が厚い場合でも、比較的細いガイドロールで帯材を大きな曲率半径で案内することができ、塑性変形をおこすことなく帯材を通板させることができる。また、ガイドローラとシールブロックで分割された真空通板路内をそれぞれ排気するので、いわゆる差動排気真空シールを行うことができる。また、帯材の板幅及び板厚が種々に変化しても、ガイドロールと帯材は常に密着して隙間がほとんどなく、かつシールブロックも帯材に近接するように構成されるため、小さい真空ポンプ容量で所望の真空度を安定して保持できる。更に、真空通板路はガイドローラ及び帯材を帯材に沿って気密に囲み、複数の真空室が帯材に沿って構成されるので、真空シール装置の全長及び全高を比較的小さくすることができる。
【0014】
本発明の好ましい実施形態によれば、前記塑性変形をおこさない曲率半径は、帯材の板厚の200倍以上である。この構成により、帯材の厚さをt、複数のガイドロールにより案内される帯材の曲率半径をRとすると、帯材の通板の際に、帯材には、ε=t/Rの歪が生じるが、この歪はR≧200tとすることにより、ε≦1/200=0.005となり、歪を0.5%以下に抑え、通常の鋼板の場合に塑性変形を防止することができる。
【0015】
更に、前記シールブロックは、帯材の幅方向に密着して並置された複数のシール片からなり、各シール片は帯材及びガイドロールとの隙間を調整可能に設けられている、ことが好ましい。この構成により、帯材とシールブロックの隙間を調整し、分割された真空通板路間の流入空気を小さく調整することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施形態を図面を参照して説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付して使用する。
図1は、本発明による真空シール装置の全体構成図である。この図において、本発明の真空シール装置10は、複数の円筒形ガイドロール12、真空通板路14、及び複数のシールブロック16を備えている。
【0017】
複数の円筒形ガイドロール12は、連続した帯材3を塑性変形をおこさない曲率半径Rで案内している。この曲率半径Rは、帯材3の板厚tの200倍以上であることが好ましい。この構成により、帯材3の通板の際に、帯材3には、ε=t/Rの歪が生じるが、この歪はR≧200tとすることにより、ε≦1/200=0.005となり、歪を0.5%以下に抑え、通常の鋼板の場合に塑性変形を防止することができる。
【0018】
真空通板路14は、ガイドローラ12及び帯材3を帯材に沿って気密に囲んでいる。また、ガイドローラ12は真空通板路14内に支持され、かつ帯材3を支持しない部分の隙間は最小限(例えば、0.3〜0.5mm)に設定され、ガイドローラ12の帯材3の反対側(支持部)を帯材3に沿って漏れるバイパスガス量を最小にするようになっている。
【0019】
図2は、図1のシール部の断面図である。図1及び図2に示すように、シールブロック16は、各ガイドロール12に対向して真空通板路14内に配置され、ガイドロール12との間に帯材3が通板する隙間を形成している。また、図2に示すように各シールブロック16は、帯材3の幅方向に密着して並置された複数のシール片16aからなり、各シール片16aは帯材3及びガイドロール12との隙間を調整できるように取付られている。この調整は、適当な駆動手段、例えば、送りネジ、直動シリンダ、等により行うことができる。この構成により、帯材3とシールブロック16の隙間を調整し、分割された真空通板路14間の流入空気を小さく調整することができる。また、各シール片16aは、真空通板路14に設けられた凹部に伸縮自在に挿入されており、帯材3に沿って漏れるバイパスガス量を最小にするようになっている。
【0020】
更に、図1に示すように、本発明の真空シール装置10は、複数の真空ポンプ4を備え、ガイドローラ12とシールブロック16(すなわちシール部)で分割された真空通板路14内をそれぞれ排気するようになっている。この構成により、ガイドローラ12とシールブロック16で分割された真空通板路14(真空室)内をそれぞれ排気して、いわゆる差動排気真空シールを行うことができる。
【0021】
図3は、上述した本発明の真空シール装置10を真空処理室1(例えば真空成膜室)の前後に設置した真空処理設備の全体構成図である。この図において、鋼板(帯材3)は、大気→真空→大気(Air to Air)の順序で真空シール装置10と真空処理室1を通板する。以下、図3において上述した本発明の作動を説明する。
【0022】
アンコイラーから巻き出された鋼板(帯材3)は、図示しない前処理ライン(レベラー、シャー、ウェルダー、ルーパー、洗浄槽等)を通過し、上流側の真空シール装置10内に導入される。導入された鋼板3は、複数の円筒形ロールガイド12により真空処理室1(真空チャンバー)へと通板される。この際、自動で隙間調整が可能なシールブロック16を適当に上下させることにより、鋼板3とシールブロック16との隙間を調整し、真空室(シール部とシール部との間)から真空室に流入する空気を最小にする。各真空室の圧力は、例えば順に100,10,1,0.1,0.01,0.001,0.0001torrになり、最終的に真空処理室1で要求される真空度まで減圧する。また、真空シール装置10内で上記ガイドロール12により拘束されて通板される鋼板3は、曲率半径RがR≧200tになっており、鋼板の塑性変形をおこさないようになっている。
【0023】
この構成により、真空シール装置10の全長は、約4Rとなり、例えばt=20mmの場合、D=200×20×4=16000mm(16m)となり、図4(B)において、前述した8m径のデフレクタロール7を使用する場合と比較して1/2〜1/3程度の長さに抑えることができる。
【0024】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更できることは勿論である。例えば、本発明によって形成された真空環境下(真空処理室内)では、真空加熱、真空蒸着、イオプレーティング、CVD等の様々な真空処理を行うことができる。また、真空シール装置の最適構成(真空室の数、真空ポンプの容量、ガイドロールの寸法、数量、鋼板の曲率、等)は、処理する鋼板に応じて種々に変更することができる。
【0025】
【発明の効果】
上述したように、本発明の真空シール装置は、以下の長所を有している。
▲1▼ 薄板は勿論のこと、厚板の場合でもシール部(シールブロックとガイドロールから構成される)でのシール性能(空気の流入を最小にする)が良いため、使用する真空ポンプの容量を小さくでき、設備費、ランニングコストの面で極めて有利である。
▲2▼ 薄板は勿論のこと、厚板の場合でも鋼板の塑性変形がなく通板可能である。
▲3▼ ブライドル方式であるため、直線状に真空室を設けた場合より、ライン長が短くなり、この点でも設備費、ランニングコストが有利である。
【0026】
従って、本発明の真空シール装置は、帯材が厚い場合でも、塑性変形をおこすことなく帯材が通板でき、小さい真空ポンプ容量で所望の真空度を安定して保持でき、かつ全長及び全高を比較的小さくできる、等の優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による真空シール装置の全体構成図である。
【図2】図1のシール部の断面図である。
【図3】本発明の真空シール装置を用いた真空処理設備の全体構成図である。
【図4】従来の真空シール装置の模式図である。
【図5】従来の連続真空蒸着装置の構成図である。
【符号の説明】
1 真空処理装置(真空チャンバー)
2 真空シール装置
3 帯材
4 真空ポンプ
5 真空室
6 シールロール
7 デフレクタロール
8 シールブロック
9 別のシールブロック
10 真空シール装置
12 ガイドロール
14 真空通板路
16 シールブロック
16a シール片[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a vacuum sealing device, and more specifically, in order to stepwise increase the vacuum level from atmospheric pressure to the vacuum processing device, and to decrease the vacuum level stepwise from the vacuum processing device to atmospheric pressure. The present invention relates to a vacuum seal device provided at the front and rear.
[0002]
[Prior art]
In an apparatus (for example, a continuous vacuum vapor deposition apparatus) that continuously processes a strip such as a steel plate under a vacuum, a vacuum seal apparatus is used for maintaining the inside in a vacuum before and after the apparatus. This vacuum sealing device is roughly classified into a pinch roll method and a bridal method.
[0003]
FIG. 4A is a schematic diagram of a conventional pinch roll type vacuum seal device, in which a plurality of
[0004]
The above-described vacuum seal device is a so-called differential exhaust vacuum seal device, and the pressure ratio between adjacent vacuum chambers is higher than the so-called critical pressure ratio (also called the coastal pressure ratio) at which the flow velocity of air flowing in through the gap reaches the sonic velocity. Therefore, by using a vacuum pump that is set to be small and has a capacity larger than the area of the gap × the speed of sound, the degree of vacuum can be sequentially increased to, for example, 760 torr (atmospheric pressure), 200 torr, 50 torr, 5 torr, and 0.1 torr. The downstream side vacuum seal device is the same as the upstream side vacuum seal device described above.
[0005]
Since the plate width and thickness of the strip to be vacuum processed vary variously, the vacuum seal device is positioned to match the maximum size of the strip. For this reason, in the pinch roll type vacuum seal apparatus, particularly when processing a strip having a small plate width and thickness, the gap between the
[0006]
In order to solve the problems of the pinch roll method, a bridal vacuum seal device has been devised. FIG. 4B is a schematic diagram of a conventional bridal type vacuum seal device, in which a plurality of
[0007]
This bridal system is also a kind of differential exhaust vacuum seal device, but the
[0008]
FIG. 5 shows an example of a continuous vacuum vapor deposition apparatus using such a bridal vacuum seal apparatus, which is composed of an inlet side and an outlet side vacuum seal apparatus, a preheating chamber, a film formation chamber, and the like. The steel sheet (strip) that has been unwound from the inside is passed through a vacuum with an inlet side vacuum seal device, preheated in a preheating chamber, and then formed into a film in the film formation chamber. It is taken out to atmospheric pressure with a device and taken up with a recoiler. In the film formation chamber, for example, an electron beam is emitted by an electron gun, the direction of the electron beam is bent by a magnetic field and applied to the crucible, the vapor deposition material is heated and evaporated, and the evaporated metal is solidified on the surface of the steel sheet. Can be continuously formed.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, the bridal vacuum seal device has the deflector roll and the strip always in close contact with each other even if the strip width and thickness of the strip change variously, and there is almost no gap, and the seal block is also a strip. Therefore, the capacity of the vacuum pump can be greatly reduced as compared with the pinch roll method, and the running cost is also low.
[0010]
However, since the strip is in close contact with the surface of the deflector roll, there is a problem that plastic deformation easily occurs when the strip is thick. That is, assuming that the thickness of the strip is t and the diameter of the deflector roll is D, when the strip is in close contact with the surface of the deflector roll, a strain of ε = 2t / D is generated in the strip. In order to make this strain in a range not causing plastic deformation (for example, 0.5% or less), it is necessary to increase the diameter of the deflector roll. For example, when t = 20 mm, the diameter becomes D = 2 × 20 / 0.005 = 8000 mm or more, and there is a problem that the total length and the total height of the vacuum seal device become very large.
[0011]
The present invention has been made to solve such problems. That is, the object of the present invention is to allow the strip to pass through without plastic deformation even when the strip is thick, to stably maintain the desired degree of vacuum with a small vacuum pump capacity, and to compare the overall length and overall height. An object of the present invention is to provide a vacuum seal device that can be made small.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The vacuum sealing device of the present invention includes a plurality of cylindrical guide rolls that guide a continuous strip with a radius of curvature that does not cause plastic deformation, and a vacuum passage plate that hermetically surrounds the guide roller and the strip along the strip. A plurality of seal blocks that are disposed in the vacuum passage plate so as to face each guide roll and have gaps through which the strip material passes between the guide rolls and divided by the guide roller and the seal block. Each of the vacuum passages is evacuated.
[0013]
With this configuration, the strip material is guided by a plurality of cylindrical guide rolls with a radius of curvature that does not cause plastic deformation, so even if the strip material is thick, the strip material can be guided with a relatively thin guide roll with a large curvature radius. The strip can be passed through without plastic deformation. Further, since the inside of the vacuum passage divided by the guide roller and the seal block is exhausted, so-called differential exhaust vacuum sealing can be performed. Moreover, even if the strip width and thickness of the strip are variously changed, the guide roll and the strip are always in close contact, there is almost no gap, and the seal block is also configured to be close to the strip, so it is small. A desired vacuum degree can be stably maintained by the vacuum pump capacity. Furthermore, since the vacuum passage plate airtightly surrounds the guide roller and the strip along the strip, and a plurality of vacuum chambers are formed along the strip, the overall length and the overall height of the vacuum seal device should be relatively small. Can do.
[0014]
According to a preferred embodiment of the present invention, the radius of curvature that does not cause plastic deformation is at least 200 times the thickness of the strip. With this configuration, when the thickness of the strip is t and the radius of curvature of the strip guided by the plurality of guide rolls is R, the strip has ε = t / R when passing the strip. Strain occurs, but by setting R ≧ 200t, this strain becomes ε ≦ 1/200 = 0.005, which suppresses the strain to 0.5% or less and prevents plastic deformation in the case of a normal steel plate. it can.
[0015]
Furthermore, it is preferable that the seal block is composed of a plurality of seal pieces arranged in close contact with each other in the width direction of the strip material, and each seal piece is provided so that a gap between the strip material and the guide roll can be adjusted. . With this configuration, the gap between the strip and the seal block can be adjusted, and the inflow air between the divided vacuum passages can be adjusted to be small.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each drawing, common parts are denoted by the same reference numerals.
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a vacuum seal device according to the present invention. In this figure, the
[0017]
The plurality of cylindrical guide rolls 12 guide the
[0018]
The
[0019]
FIG. 2 is a cross-sectional view of the seal portion of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the
[0020]
Further, as shown in FIG. 1, the
[0021]
FIG. 3 is an overall configuration diagram of vacuum processing equipment in which the above-described
[0022]
The steel plate (strip 3) unwound from the uncoiler passes through a pretreatment line (not shown) (leveler, shear, welder, looper, washing tank, etc.) and is introduced into the upstream side
[0023]
With this configuration, the total length of the
[0024]
In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, Of course, it can change variously in the range which does not deviate from the summary of this invention. For example, in the vacuum environment (vacuum processing chamber) formed by the present invention, various vacuum processes such as vacuum heating, vacuum deposition, ioprating, and CVD can be performed. Moreover, the optimal structure (the number of vacuum chambers, the capacity | capacitance of a vacuum pump, the dimension of a guide roll, the quantity, the curvature of a steel plate, etc.) of a vacuum seal apparatus can be variously changed according to the steel plate to process.
[0025]
【The invention's effect】
As described above, the vacuum seal device of the present invention has the following advantages.
(1) Not only thin plates, but also thick plates have good sealing performance (minimized inflow of air) at the seal part (consisting of a seal block and guide roll), so the capacity of the vacuum pump used This is extremely advantageous in terms of equipment costs and running costs.
{Circle around (2)} In the case of a thick plate as well as a thin plate, the steel plate can be passed without plastic deformation.
{Circle around (3)} Because of the bridle method, the line length is shorter than when a vacuum chamber is provided in a straight line, and in this respect also, the equipment cost and running cost are advantageous.
[0026]
Therefore, the vacuum sealing device of the present invention can pass the strip without causing plastic deformation even when the strip is thick, can stably maintain a desired degree of vacuum with a small vacuum pump capacity, and has a total length and height. Has an excellent effect such as being relatively small.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a vacuum seal device according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the seal portion of FIG.
FIG. 3 is an overall configuration diagram of a vacuum processing facility using the vacuum seal device of the present invention.
FIG. 4 is a schematic view of a conventional vacuum seal device.
FIG. 5 is a configuration diagram of a conventional continuous vacuum deposition apparatus.
[Explanation of symbols]
1 Vacuum processing equipment (vacuum chamber)
2
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