Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3762057B2 - プラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3762057B2 - プラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置 - Google Patents

プラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3762057B2
JP3762057B2 JP20457997A JP20457997A JP3762057B2 JP 3762057 B2 JP3762057 B2 JP 3762057B2 JP 20457997 A JP20457997 A JP 20457997A JP 20457997 A JP20457997 A JP 20457997A JP 3762057 B2 JP3762057 B2 JP 3762057B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
diffraction grating
plasma etcher
sensor
self
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP20457997A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH1154480A (ja
JPH1154480A5 (ja
Inventor
明嗣 加賀山
進 斉藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Olympus Corp
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Olympus Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd, Olympus Corp filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP20457997A priority Critical patent/JP3762057B2/ja
Publication of JPH1154480A publication Critical patent/JPH1154480A/ja
Publication of JPH1154480A5 publication Critical patent/JPH1154480A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3762057B2 publication Critical patent/JP3762057B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、自己診断機能を有するプラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
プラズマエッチャーは、図8に示すようにチャンバ101内に反応ガスを流しながら半導体ウェハ102を挟み込んだ電極103a、103bに高周波電圧をかけ、ウェハ102上でガスをプラズマ化することにより、効率よく微細パターンのエッチングを行うようにしたものである。
【0003】
そして、現在、プラズマエッチャーのエンドポイント検出で最も注目されているものに、コンタクトホール用のSi O2 膜のエッチング工程がある。
このようなSi O2 膜のエッチングでは、Si 基板上に形成されたSi O2 膜にホットレジストを塗布するとともに、所望するパターンを焼き付け現像したウェハ102をウェハチャックとなる電極103a、103b間にセットする。この場合、電極103aには、ウェハ102上でガスをプラズマ化しやすくするための多数の微細孔104を形成している。そして、この状態から、チャンバ101内にCF4 とAr の混合ガスを流しながら電極103a、103b間に高周波電圧を印加する。すると、レジストが取り除かれた部分のSi O2 に、
CF4 ↑+Si O2 →Si F4 ↑+CO2
の反応が起こり、エッチングが行われる。
【0004】
ここで、問題となるのは、反応時間の制御である。つまり、反応時間は製品の品質を大きく左右する要因となり、反応時間が不足すると、図9に示す破線アのようにSi O2 が除去し切れずに残ってしまい、また、反応時間が長すぎると、点線イのようにレジストのエッチングが進行して、いわゆるオーバエッチの状態になってしまい、これらは、いずれも製品の品質にとって致命的な欠陥になることがあった。
【0005】
そこで、従来、Si O2 の反応によって発生する発生するガス(ここではCO2 )のプラズマ発光強度をモニタしながら反応時間を制御する方法が考えられている。CO2 ガスのスペクトル強度は、反応時間とともに、おおむね図10に示すように変化する。つまり、この時のCO2 ガスのスペクトル強度の変化は、エッチングの開始からその進行とともに、徐々に減少する領域、エッチングの終了近くで急激に落ち込む領域およびオーバエッチの状態まで徐々に弱まっていく領域からなっている。従って、スペクトル強度の変化が急激に生じる時点を目安に反応時間を制御すれば、最適なエッチング状態が得られることになる。
【0006】
このため、従来では、さらに図8に示すようにチャンバ101内のプラズマ光をチャンバ101の側壁に設けられた石英ガラスの窓(ビューポート)105を介して取り出すとともに、図示しない集光レンズより光ファイバ111を介して検出部106に取り込むようにしている。検出部106は、回折格子(光学素子)107と光検出器108を有するもので、検出部106に取り込まれたプラズマ光は、回折格子107の回折により分光し、ここではCO2 ガスのスペクトルを光検出器108で検出し、スペクトル強度の変化が急俊に生じる時点を目安に制御回路109により制御信号を高周波電源110にフィードバックすることにより、反応時間を制御するようにしている。
【0007】
ところで、このような検出部106の光検出器108での検出対象の反応ガスは、CO2 ガスの場合を述べたが、かかる反応ガスは、エッチングの対象により様々なガスが用いられており、このため、光検出器108は、1つの発光スペクトルを検出するだけでなく、各ガスに対応した異なる発光スペクトルを検出する必要がある。そこで、これら異なる発光スペクトルを検出するための回折格子107を含む光学系を、図11に示すように、プラズマ光を入射スリット112を通して回折格子107に入射し、この回折格子107を回動して発光スペクトルの1次光を出射スリット113に出力するように構成している。この場合の1次光の波長λは、下式より
2cos(D/2)sinθ=λ/d …(1)
ここで、D:回折格子107の頂点に対し入射スリット112、出射スリット113がなす角、1/d:格子間隔の逆数、θ:0次光を出射する状態から回折格子107を回転した角度。
で求められる。従って、この角度θを変化させる、つまり、回折格子107の頂点Oを中心に回転させることにより、出射スリット113から出射される発光スペクトルの波長を変化させることが可能になり、様々な波長の光を検出できることになる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このような従来のプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置においては、プラズマエッチャーで同一条件でエッチングをしているにもかかわらず、エンドポイントの検出時間にずれなどを生じることがあり、この原因として次のことが考えられている。
【0009】
(1)まず、駆動系のトラブルが考えられる。つまり、このようなエンドポイント検出装置では、検出する発光スペクトルを変更するため回折格子107を回転させる機構がある。この機構は、モータにより自動化されているため、モータや回折格子107の回転範囲を制限しているリミットセンサの精度の劣化などによる不良が生じると、回折格子107を正しい位置に設定できなくなる。これが原因で、目的とする発光スペクトルの検出ができずに、エンドポイントの検出が全く不能になるか、エンドポイント検出時間にずれを発生することがある。
【0010】
(2)光検出器108の経時劣化による出力変化が考えられる。光検出器108を長期間使用し続けると、劣化により検出感度が変化し出力が低下するようになり、この出力低下によりエンドポイント検出時間にずれを発生することがある。
【0011】
(3)その他の偶発的要因が考えられる。例えば装置に振動が与えられたことで、駆動系に歪みが発生し、モータに大きな負荷が加わり、動かなくなる場合や電装系の何等かのトラブルによりセンサ検出が不安定となり、エンドポイント検出時間にずれを発生することがある。
【0012】
このようにして種々の原因で、エンドポイント検出時間にずれを発生することがあるが、かかるエンドポイント検出時間にずれを生じると、エッチング不良やオーバエッチングが発生し、製品の品質低下を招くという問題がある。
【0013】
実際に上記不都合が発生しても、オペレータには、「エンドポイントが検出できない」または「エンドポイントの時間が明らかにずれている」などの現象しか分からず、どのような原因で、この現象が発生しているのかを特定することに時間がかかっていた。また、エンドポイント検出装置での部品交換などを行っても原因がエッチャー側にあることもあり、この場合は、無駄な作業になるばかりか、生産性の低下の原因にもなっていた。
【0014】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、エンドポイント検出時間のずれ原因を簡単に特定できる自己診断機能を有するプラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、プラズマエッチャーで発生したプラズマ光を回折格子により回折するとともに、該回折された発光スペクトルを光検出手段で検出してエッチング終了時間を検出するプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置において、前記光検出手段により検出される発光スペクトルの光量値と、予め設定されている設定値との比較結果に基づく前記光検出手段の動作の良否、前記回折格子の回折動作にともなうセンサの動作の良否および前記回折格子を回転駆動する駆動手段の動作の良否を判断し、これらの判断結果からエンドポイント検出時間のずれの原因を特定する自己診断手段と、前記自己診断手段により特定されたエンドポイント検出時間のずれの原因を表示する表示手段とを有することを特徴としている。
【0016】
請求項記載の発明は、プラズマエッチャーで発生したプラズマ光を回折格子により回折するとともに、該回折された発光スペクトルを光検出手段で検出してエッチング終了時間を検出するプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置において、前記光検出手段に光が入射しない状態において、前記光検出手段から出力される出力値と、予め設定されている設定値との比較結果に基づく前記光検出手段の動作の良否、前記回折格子の回折動作にともなうセンサの動作の良否および前記回折格子を回転駆動する駆動手段の動作の良否を判断し、これらの判断結果からエンドポイント検出時間のずれの原因を特定する自己診断手段と、前記自己診断手段により特定されたエンドポイント検出時間のずれの原因を表示する表示手段とを有することを特徴としている。
請求項記載の発明は、請求項1又は2記載の発明において、前記センサは、前記回折格子の回転範囲を制限するリミットセンサおよび前記回折格子を回転駆動する駆動手段の回転を検出する回転センサであることを特徴としている。
請求項記載の発明は、プラズマエッチャーで発生したプラズマ光を回折格子により回折するとともに、該回折された発光スペクトルを光検出手段で検出してエッチング終了時間を検出するプラズマエッチャーにおいて、前記光検出手段により検出される発光スペクトルの光量値と、予め設定されている設定値との比較結果に基づく前記光検出手段の動作の良否、前記回折格子の回折動作にともなうセンサの動作の良否および前記回折格子を回転駆動する駆動手段の動作の良否を判断し、これらの判断結果からエンドポイント検出時間のずれの原因を特定する自己診断手段と、前記自己診断手段により特定されたエンドポイント検出時間のずれの原因を表示する表示手段とを有することを特徴としている。
請求項記載の発明は、プラズマエッチャーで発生したプラズマ光を回折格子により回折するとともに、該回折された発光スペクトルを光検出手段で検出してエッチング終了時間を検出するプラズマエッチャーにおいて、前記光検出手段に光が入射しない状態において、前記光検出手段から出力される出力値と、予め設定されている設定値との比較結果に基づく前記光検出手段の動作の良否、前記回折格子の回折動作にともなうセンサの動作の良否および前記回折格子を回転駆動する駆動手段の動作の良否を判断し、これらの判断結果からエンドポイント検出時間のずれの原因を特定する自己診断手段と、前記自己診断手段により特定されたエンドポイント検出時間のずれの原因を表示する表示手段と、を有することを特徴としている。
請求項記載の発明は、請求項4又5記載の発明において、前記センサは、前記回折格子の回転範囲を制限するリミットセンサおよび前記回折格子を回転駆動する駆動手段の回転を検出する回転センサであることを特徴としている。
【0017】
この結果、請求項1記載の発明によれば、光検出手段の動作の良否について定期的に自己診断することができ、光検出手段の劣化によるエンドポイント検出時間のずれの原因を特定することができる。
【0018】
請求項2記載の発明によれば、光検出手段のノイズによる誤動作についても定期的に自己診断することができ、光検出手段の劣化によるエンドポイント検出時間のずれの原因を特定することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に従い説明する。
(第1の実施の形態)
この場合、本発明が適用されるプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置の概略構成は、上述した図8と同様なので、ここでも、同図を援用するものとする。
【0020】
図1は、このようなプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置の検出部の概略構成を示している。図において、201は検出部本体で、この検出部本体201内部には、回折格子107、光検出器108、パルスモータ202、マイクロメータ203、上限リミットセンサ204、下限リミットセンサ205を有している。
【0021】
パルスモータ202の回転軸にベルト206を介してマイクロメータ203を接続している。このマイクロメータ203は、マイクロメータ回転部2031とマイクロメータ直動部2032を有するもので、パルスモータ202により回転されるマイクロメータ回転部2031の回転に応じてマイクロメータ直動部2032を直線方向に移動可能にしている。
【0022】
一方、回折格子107は保持台207で保持され、この保持台207は、回折格子107の頂点Oを紙面に垂直な中心軸を中心に回転可能になっている。回折格子107は、検出部本体201の入射口2011より取り込まれるプラズマ光を回折し、所定の発光スペクトルを光検出器108に入射させるようにしている。
【0023】
回折格子107の保持台207には、サイバー208を設けている。このサイバー208は、ボール209を介してマイクロメータ直動部2032先端にバネ210のバネ力により押し付けられていて、マイクロメータ直動部2032の直線方向の移動力により図示矢印方向に回転され、回折格子107を頂点Oを中心に回転駆動させるようにしている。また、サイバー208の図示矢印方向の回転範囲内に上限リミットセンサ204と下限リミットセンサ205を配置し、これら上限リミットセンサ204または下限リミットセンサ205によりサイバー208に取り付けたシャッタ213を検出することで、回折格子107を頂点Oを中心とした回転範囲を制限するようにしている。
【0024】
パルスモータ202の回転軸には、回転円板211を取り付けている。この回転円板211は、図示しないスリットを形成していて、このスリットを回転センサ212により検出することで、モータ202の回転を検出可能にしている。
【0025】
この回転センサ212と(シャッタ213を上限リミットセンサ204側から移動して)下限リミットセンサ205を同時に検出した位置を原点として後述するCPUによる駆動制御の基準としている。
【0026】
図2は、このように構成した検出部の回路構成を示している。図において、301はCPUで、このCPU301には、CPUバス302を接続している。このCPUバス302には、D/A変換器303を介して電源304を接続し、この電源304に光検出器108を接続している。電源304は、光検出器108用の高電圧を出力するもので、さらにCPU301の制御によりD/A変換器303を介してアナログ信号に変換された指示値により光検出器108に対するゲイン値の調整を可能にしている。光検出器108は、回折格子107を介して入射される発光スペクトルを検出するもので、その出力をA/D変換器305によりデジタル信号に変換され、CPUバス302を介してRAM306に保存するようにしている。
【0027】
CPUバス302には、I/O307を介してパルスモータドライバ308を接続し、このパルスモータドライバ308にパルスモータ202を接続している。パルスモータドライバ308は、所望する波長光を検出するための回折格子107の回転角度の設定に必要なパルスモータ202に対するパルス数またはパルス周期がCPU301より指示されると、この指示に応じたパルスモータ202の駆動電圧を生成し、パルスモータ202を駆動するようにしている。
【0028】
CPUバス302には、I/O310を介して上限リミットセンサ204、下限リミットセンサ205および回転センサ212を接続し、上限リミットセンサ204または下限リミットセンサ205が上述したシヤッタ213を検出すると、この検出出力をI/O310を介してCPU301に伝え、パルスモータ202の回転を停止させるようにしている。また、回転センサ212は、下限リミットセンサ205の検出と同時に、初期化の原点を検出するようにしている。
【0029】
CPUバス302には、I/O311を介して#1ロータリースイッチ312、#2ロータリースイッチ313、#1ディップスイッチ314、#2ディップスイッチ315を接続している。#1ロータリースイッチ312、#2ロータリースイッチ313は、回折格子107を回転させる際の回転量の補正値を設定するもので、I/O311を介してCPU301でのモータ駆動量の演算に用いられる。また、#1ディップスイッチ314、#2ディップスイッチ315は、補正値の符号(+、−)を設定するものである。
【0030】
CPUバス302には、ROM316を接続し、またインターフェース317を介してコントローラ318を接続している。ROM316は、エンドポイント検出を制御する制御ソフト3161を記憶したもので、初期化処理、検出開始処理、波長移動処理などのエンドポイント検出を制御するプログラムをCPU301により実行するようになっている。インターフェース317は、外部のコントローラ318からの所望の波長値の設定、波長の移動、検出開始の命令などを通信するためのものである。コントローラ318は、パーソナルコンピュータからなるもので、自己診断ソフト3191などの各種のソフトウェア319をプログラムしており、このうちの自己診断ソフト3191を起動することで、エンドポイント検出の一連の動作の自己診断を実行するようにしている。
【0031】
次に、コントローラ318で実行される自己診断ソフト3191のフローを説明する。
いま、コントローラ318により自己診断ソフト3191を起動すると、図3乃至図5のフローが順に実行される。
【0032】
まず、図1に示すようにサイバー208に取り付けたシャッタ213を上限リミットセンサ204が検出している状態に設定する。この状態から、図3に示すフローが実行され、まず、ステップ401で、回折格子107を下限リミットセンサ205まで回転させる。この場合、パルスモータ202を駆動し、マイクロメータ203のマイクロメータ回転部2031を回転させ、マイクロメータ直動部2032を直線方向に移動させることで、サイバー208に取り付けたシャッタ213を下限リミットセンサ205が検出するまで回折格子107をその頂点Oを中心に回転させる。そして、ステップ402で、下限リミットセンサ205がシャッタ213を検出したかを判断する。
【0033】
ここで、下限リミットセンサ205がシャッタ213を検出しYESの場合は、ステップ403で、パルスモータ202の回転を停止し、ステップ404で、結果表示として、例えば、図6に示すようにコントローラ318のモニターに、下限リミットセンサ205が正常に動作した旨の自己診断結果701を表示し、次の処理に進む。
【0034】
一方、下限リミットセンサ205がシャッタ213を検出できずNOの場合は、ステップ405で、回折格子107を回転させているサイバー208のシャッタ213の移動量が大き過ぎるかを判断する。この場合、既知の上限リミットセンサ204から下限リミットセンサ205までの移動量を基準に判断する。そして、移動量が少なくNOの場合は、ステップ401に戻り、さらにパルスモータ202を回転させる。また、移動量が大き過ぎYESとなった場合は、ステップ406で、パルスモータ202の回転を停止させ、ステップ407で、結果表示として、コントローラ318のモニターに下限リミットセンサ205が検出できず、下限リミットセンサ205またはモータ駆動が異常である旨の表示を行い、自己診断ソフトの実行を中止する。
【0035】
次に、下限リミットセンサ205がシャッタ213を検出し、下限リミットセンサ205が正常に動作した状態で、図4に示すフローが実行される。まず、ステップ501で、回折格子107を上限リミットセンサ204まで回転させる。この場合、パルスモータ202を駆動し、マイクロメータ203のマイクロメータ回転部2031を回転させ、マイクロメータ直動部2032を直線方向に移動させることで、サイバー208に取り付けたシャッタ213を上限リミットセンサ204が検出するまで回折格子107をその頂点Oを中心に回転させる。そして、ステップ502で、上限リミットセンサ204がシャッタ213を検出したかを判断する。
【0036】
ここで、上限リミットセンサ204がシャッタ213を検出しYESの場合は、ステップ503で、パルスモータ202の回転を停止し、ステップ504で、結果表示として、コントローラ318のモニターに上限リミットセンサ204が正常に動作した旨の表示を行い、次の処理に進む。
【0037】
一方、上限リミットセンサ204がシャッタ213を検出できずNOの場合は、ステップ505で、1回転分回転したかを判断する。この場合、既知であるパルスモータ202の1回転分の移動量を駆動したかで1回転を判断する。
【0038】
ここで、1回転分を回転していて、YESの場合は、ステップ506で、回転センサ212の入力ありかを判断する。この場合、パルスモータ202の回転軸に取り付けた回転円板211のパルスモータ202の1回転ごとに発生する出力の検出の有無で判断する。
【0039】
回転センサ211の検出が無くNOの場合は、ステップ507で、パルスモータ202の回転を停止させ、ステップ508で、結果表示として、例えば、図6に示すようにコントローラ318のモニターに、回転センサ211が検出できず、回転センサ211またはモータ駆動が異常である旨の自己診断結果702を表示し、自己診断ソフトの実行を中止する。また、回転センサ211の検出が有ってYESの場合は、ステップ509で、結果表示として、コントローラ318のモニターに、回転センサ211が正常に動作していることを表示する。
【0040】
そして、ステップ510に進む。このステップ510には、ステップ505で、1回転分を回転しておらずNOの場合も移行している。このステップ510では、回折格子107を回転させているサイバー208のシャッタ213の移動量が大き過ぎるかを判断する。この場合、既知の上限リミットセンサ204から下限リミットセンサ205までの移動量を基準に判断する。そして、移動量が少なくNOの場合は、ステップ501に戻り、さらにパルスモータ202を回転させる。また、移動量が大き過ぎYESとなった場合は、ステップ511で、パルスモータ202の回転を停止させ、ステップ512で、結果表示として、コントローラ318のモニターに上限リミットセンサ204が検出できず、上限リミットセンサ204またはモータ駆動が異常である旨の表示を行い、自己診断ソフトの実行を中止する。
【0041】
次に、上限リミットセンサ204がシャッタ213を検出し、上限リミットセンサ204が正常に動作した状態で、図5に示すフローが実行される。まず、ステップ601で、光源を設定する。この場合、コントローラ318のモニターに表示されるメッセージに応じて、光源として、光検出器108が基準の発光スペクトルを検出可能な水銀ランプなどの既知の入射光を得られるものを設定する。次に、ステップ602で、予め想定してある発光スペクトルの波長と、光検出器108のゲイン値を設定する。この場合、波長設定は、回折格子107の回転角度を予定の発光スペクトル検出に相当する角度に調整し、また、光検出器108のゲイン設定は、光検出器108の電源304にCPU301より所定の指示を与えることで行う。
【0042】
そして、ステップ603で、実際に光検出器108からの出力を取得し、これをCPU301に取り込み、入射されている発光スペクトルの光量値を検出する。そして、ステップ604で、光検出器108より取得した発光スペクトルの光量値が予め規定されている値の誤差範囲にあるかどうか判断する。ここで、規定値内にない場合は、ステップ605で、結果表示として、光検出器108の出力が異常である旨の表示を行い、自己診断ソフトの実行を中止する形で処理を終了する。一方、規定値内にある場合は、ステップ606で、結果表示として、光検出器108の出力が正常である旨の表示を行い、処理を終了する。
【0043】
従って、このようにすれば、エッチャーチャンバー内で既知の発光スペクトルを発生させるか、基準となる発光スペクトルを発生する光源を取り付けることで光を導入し、基準の発光スペクトルを検出可能な既知の入射光を得られる光源を設定し、この状態で光検出器108からの出力値を検出し、この出力値と予め設定された規定値の比較結果から、光検出手段の動作の良否について自己診断することができるので、このような自己診断を定期的に行うことで、光検出手段の劣化によるエンドポイント検出時間のずれの原因を簡単に特定することができる。
【0044】
また、回折格子107の回転にともなう上限リミットセンサ204および下限リミットセンサ205の動作の良否を始め、回折格子107を回転駆動するパルスモータ202および回転センサ211の動作の良否についても自己診断することができるので、このような自己診断を定期的に行うことで、これら各所の劣化によるエンドポイント検出時間のずれの原因も簡単に特定することができる。
【0045】
この結果、これらの自己診断によってエンドポイント検出時間のずれによる誤検出異常を事前に防止できることから、エッチング不良やオーバエッチングの発生など、製品の致命的な欠陥を皆無にでき、また、異常が発生した場合でも、オペレータは表示された結果から原因箇所を容易に特定できることから、速やかに修理などに取り掛かることができ、生産性の低下を阻止することもできる。
(第2の実施の形態)
第1の実施の形態では、基準となる発光スペクトルを出力する光源の設定とともに、波長、ゲインを設定し、これらの条件の下で、光検出器108が正常に所定の出力を得られるかの診断を行っているが、この第2の実施の形態では、光検出器108のノイズを診断する例を示している。
【0046】
この場合、図7に示すフローが実行される。まず、ステップ801で、コントローラ318のモニターに表示されるメッセージに応じて、光検出器108に光が入らないように遮光する。次に、ステップ802で、予め想定してある発光スペクトルの波長と、光検出器108のゲイン値を設定する。この場合、波長設定は、回折格子107の回転角度を予定の発光スペクトル検出に相当する角度に調整し、また、光検出器108のゲイン設定は、光検出器108の電源304にCPU301より所定の指示を与えることで行う。
【0047】
そして、ステップ803で、実際に光検出器108からの出力を取得し、これをCPU301に取り込む。この場合、理想的には、光の入射がなければ、光検出器108の出力値は、零であるはずだが、実際には、ノイズが微妙に発生している。ステップ804で、光検出器108より取得した出力値が予め規定されているしきい値より小さいかを判断する。ここで、光検出器108より取得した出力値、つまりノイズレベルがしきい値以下にある場合は、ステップ805で、結果表示として、光検出器108の出力が正常である旨の表示を行い、処理を終了する。一方、光検出器108からのノイズレベルがしきい値以下でない場合は、ステップ806で、結果表示として、光検出器108の出力が異常である旨の表示を行い、自己診断ソフトの実行を中止する形で処理を終了する。
【0048】
従って、このようにすれば、光検出器108に光が入らないように遮光した状態で、光検出器108からの出力値を検出し、この出力値としきい値の比較結果から、ノイズによる光検出器108の誤動作についても自己診断することができるので、このような自己診断を定期的に行うことで、光検出手段の経時劣化によるエンドポイント検出時間のずれの原因を簡単に特定することができる。
【0049】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、光検出手段の動作の良否やノイズによる誤動作について定期的に自己診断することができ、光検出手段の経時劣化によるエンドポイント検出時間のずれや誤検出の原因を特定することができる。これにより、これらの自己診断によってエンドポイント検出時間のずれに原因するエッチング不良やオーバエッチングの発生など製品の致命的な欠陥を皆無にでき、さらに、オペレータは自己診断結果から原因箇所を容易に特定できるので、速やかに修理などに取り掛かることができ、生産性の低下を阻止することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施の形態に用いられるエンドポイント検出装置の概略構成を示す図。
【図2】 第1の実施の形態に用いられるエンドポイント検出装置の回路構成を示す図。
【図3】 第1の実施の形態の動作を示すフローチャート。
【図4】 第1の実施の形態の動作を示すフローチャート。
【図5】 第1の実施の形態の動作を示すフローチャート。
【図6】 第1の実施の形態の
【図7】 本発明の第2の実施の形態の動作を示すフローチャート。
【図8】 プラズマエッチャーおよびエンドポイント検出装置の概略構成を示す図。
【図9】 プラズマエッチャーでのSi O2 のエッチング状態を示す図。
【図10】 CO2 ガスの発光スペクトル強度と時間の関係を示す図。
【図11】 回折格子を用いた発光スペクトルを取り出す光学系を示す図。
【符号の説明】
101…チャンバ、102…半導体ウェハ、103a、103b…電極、
104…微細孔、105…ビューポート、106…検出部、107…回折格子、
108…光検出器、109…制御回路、110…高周波電源、111…光ファイバ、
201…検出部本体、202…パルスモータ、203…マイクロメータ、
2031…マイクロメータ回転部、2032…マイクロメータ直動部、
204…上限リミットセンサ、205…下限リミットセンサ、206…ベルト、
207…保持台、208…サイバー、209…ボール、210…バネ、211…回転円板、
212…回転センサ、213…シャッタ、301…CPU、302…CPUバス、
303…D/A変換器、304…電源、305…A/D変換器、306…RAM、
307…I/O、308…パルスモータドライバ、310、311…I/O、
312…#1ロータリースイッチ、313…#2ロータリースイッチ、
314…#1ディップスイッチ、315…#2ディップスイッチ、316…ROM、
317…インターフェース、318…コントローラ、319…ソフトウェア、
3191…自己診断ソフト。

Claims (6)

  1. プラズマエッチャーで発生したプラズマ光を回折格子により回折するとともに、該回折された発光スペクトルを光検出手段で検出してエッチング終了時間を検出するプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置において、
    前記光検出手段により検出される発光スペクトルの光量値と、予め設定されている設定値との比較結果に基づく前記光検出手段の動作の良否、前記回折格子の回折動作にともなうセンサの動作の良否および前記回折格子を回転駆動する駆動手段の動作の良否を判断し、これらの判断結果からエンドポイント検出時間のずれの原因を特定する自己診断手段と、
    前記自己診断手段により特定されたエンドポイント検出時間のずれの原因を表示する表示手段と、
    を有することを特徴とするプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置。
  2. プラズマエッチャーで発生したプラズマ光を回折格子により回折するとともに、該回折された発光スペクトルを光検出手段で検出してエッチング終了時間を検出するプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置において、
    前記光検出手段に光が入射しない状態において、前記光検出手段から出力される出力値と、予め設定されている設定値との比較結果に基づく前記光検出手段の動作の良否、前記回折格子の回折動作にともなうセンサの動作の良否および前記回折格子を回転駆動する駆動手段の動作の良否を判断し、これらの判断結果からエンドポイント検出時間のずれの原因を特定する自己診断手段と、
    前記自己診断手段により特定されたエンドポイント検出時間のずれの原因を表示する表示手段と、
    を有することを特徴とするプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置。
  3. 前記センサは、前記回折格子の回転範囲を制限するリミットセンサおよび前記回折格子を回転駆動する駆動手段の回転を検出する回転センサであることを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置。
  4. プラズマエッチャーで発生したプラズマ光を回折格子により回折するとともに、該回折された発光スペクトルを光検出手段で検出してエッチング終了時間を検出するプラズマエッチャーにおいて、
    前記光検出手段により検出される発光スペクトルの光量値と、予め設定されている設定値との比較結果に基づく前記光検出手段の動作の良否、前記回折格子の回折動作にともなうセンサの動作の良否および前記回折格子を回転駆動する駆動手段の動作の良否を判断し、これらの判断結果からエンドポイント検出時間のずれの原因を特定する自己診断手段と、
    前記自己診断手段により特定されたエンドポイント検出時間のずれの原因を表示する表示手段と、
    を有することを特徴とするプラズマエッチャー。
  5. プラズマエッチャーで発生したプラズマ光を回折格子により回折するとともに、該回折された発光スペクトルを光検出手段で検出してエッチング終了時間を検出するプラズマエッチャーにおいて、
    前記光検出手段に光が入射しない状態において、前記光検出手段から出力される出力値と、予め設定されている設定値との比較結果に基づく前記光検出手段の動作の良否、前記回折格子の回折動作にともなうセンサの動作の良否および前記回折格子を回転駆動する駆動手段の動作の良否を判断し、これらの判断結果からエンドポイント検出時間のずれの原因を特定する自己診断手段と、
    前記自己診断手段により特定されたエンドポイント検出時間のずれの原因を表示する表示手段と、
    を有することを特徴とするプラズマエッチャー。
  6. 前記センサは、前記回折格子の回転範囲を制限するリミットセンサおよび前記回折格子を回転駆動する駆動手段の回転を検出する回転センサであることを特徴とする請求項4又は5記載のプラズマエッチャー。
JP20457997A 1997-07-30 1997-07-30 プラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置 Expired - Fee Related JP3762057B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20457997A JP3762057B2 (ja) 1997-07-30 1997-07-30 プラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20457997A JP3762057B2 (ja) 1997-07-30 1997-07-30 プラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPH1154480A JPH1154480A (ja) 1999-02-26
JPH1154480A5 JPH1154480A5 (ja) 2005-05-26
JP3762057B2 true JP3762057B2 (ja) 2006-03-29

Family

ID=16492814

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20457997A Expired - Fee Related JP3762057B2 (ja) 1997-07-30 1997-07-30 プラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3762057B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100578135B1 (ko) 2003-12-19 2006-05-10 삼성전자주식회사 식각 중단점을 결정하는 방법
US9181934B2 (en) * 2012-11-21 2015-11-10 The Boeing Company Rotary switch assembly for ion propulsion system
CN106876236B (zh) * 2015-12-10 2018-11-20 中微半导体设备(上海)有限公司 监测等离子体工艺制程的装置和方法
CN120727597B (zh) * 2025-08-27 2025-11-07 上海车仪田科技有限公司 一种刻蚀终点的图像检测方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH1154480A (ja) 1999-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4289188A (en) Method and apparatus for monitoring etching
TWI470689B (zh) Substrate processing control method and memory media
JP3762057B2 (ja) プラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置
JP2007515804A (ja) プラズマ装備のシーズニング方法及びそのための装備
JP2008229629A (ja) レーザマーカ
US6117348A (en) Real time monitoring of plasma etching process
US7329549B2 (en) Monitoring method of processing state and processing unit
JPH1154480A5 (ja) プラズマエッチャーおよびプラズマエッチャーのエンドポイント検出装置
JP3857813B2 (ja) 半導体製造条件設定方法、及び条件設定方法
JPH1064884A (ja) エッチング装置及びエッチング方法
JP3043129B2 (ja) プラズマエッチャーのエンドポイント検出装置
JPH0562943A (ja) プラズマエツチヤーのエンドポイント検出装置
JPH1150273A (ja) プラズマエッチャーのエンドポイント検出装置
JPH10261625A (ja) プラズマエッチャーの終点検出装置
JP2723857B2 (ja) スパッタターゲットモニタ装置
JP2522803Y2 (ja) ドライエッチング用終点検出装置
JP2557691B2 (ja) 狭帯域発振エキシマレーザ
JP3100192B2 (ja) プラズマエッチャーのエンドポイント検出装置
KR100186306B1 (ko) 동기식 선입선출메모리의 상태신호 발생회로
JPH05251398A (ja) ドライエッチング装置
JPH01302820A (ja) ドライエッチング装置の制御装置
KR100186328B1 (ko) 피아이큐(piq) 습식각 장비의 식각 종료지점 검출 장치
KR200163036Y1 (ko) 반도체 소자의 에칭장치
JP3387532B2 (ja) 圧力スイッチのトリミング方法及びその装置
JP2011029505A (ja) 研磨終点検出方法及び半導体製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040723

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040723

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050512

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050524

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050720

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051108

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051209

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060110

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060112

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100120

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110120

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120120

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120120

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130120

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees