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JP3843767B2 - 抵抗体ペーストの製造方法及び厚膜抵抗体の製造方法 - Google Patents
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抵抗体ペーストの製造方法及び厚膜抵抗体の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、抵抗体ペーストの製造方法及び厚膜抵抗体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
抵抗体ペーストは、一般に、抵抗値を調整するため及び結合性を与えるためのガラス材料と、導電性材料と、ビヒクルとから主として構成されており、これを基板上に印刷した後、焼成することによって厚膜抵抗体が形成される。
【0003】
従来より、多くの抵抗体ペーストは、ガラス材料として酸化鉛系のガラスを、導電性材料として酸化ルテニウム又はこの酸化ルテニウム及び鉛の化合物をそれぞれ用いており、従って鉛を含有したペーストとなっている。
【0004】
こにように鉛を含有した抵抗体ペーストを使用することは、環境汚染の観点から望ましくないため、鉛フリーの厚膜抵抗体ペーストについて研究がなされており、提案がなされている(特開平8−243342号公報)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このように導電性材料及びガラス材料を鉛フリーで構成した抵抗体ペーストは、シート抵抗値として1MΩ/□以上となる高抵抗値を有するものを製造し難いという問題を有している。このため、導電性材料とガラス材料との混合比を調整する、及び/又は金属酸化物等の添加物を多種、かつ多量に添加して抵抗値の増加を図ることが行われるが、充分に満足できる値まで抵抗値を上げることは難しかった。また、一般的に用いられている金属酸化物添加剤は、多種、多量に調整剤を用いるので均一に混合することが難しく、その結果、製造が困難であり、また、製品によって特性にばらつきの生じる可能性があった。
【0006】
従って本発明の目的は、多種、多量の金属酸化物を添加しなくとも極めて高い抵抗値が得られる、鉛フリーの抵抗体ペーストの製造方法及び厚膜抵抗体の製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、ガラス組成物に、導電性を与えるための金属元素を含む第1の導電性材料をあらかじめ溶解させてガラス材料を得る工程と、ガラス材料と、上述の金属元素を含む第2の導電性材料と、ビヒクルとを混練する工程とを備えており、ガラス組成物及び第1及び第2の導電性材料は鉛を含まない抵抗体ペーストの製造方法、及びガラス組成物の一部分量に、導電性を与えるための金属元素を含む第1の導電性材料をあらかじめ溶解させてガラス材料を得る工程と、ガラス材料と、ガラス組成物の残りの分量と、上述の金属元素を含む第2の導電性材料と、ビヒクルとを混練する工程とを備えており、ガラス組成物及び第1及び第2の導電性材料は鉛を含まない抵抗体ペーストの製造方法、並びにこれらの方法によって製造した抵抗体ペーストを所望の形状にパターニングし、焼き付ける厚膜抵抗体の製造方法が提供される。
【0008】
鉛フリーのガラス組成物及び導電性材料を用いる場合であっても、導電性を与えるための金属元素を含む導電性材料をガラス組成物にあらかじめ溶解してガラス材料を形成することによって、導電性材料の分散状態が変わり劇的に高い抵抗値を得ることができる。即ち、導電性を与えるための金属元素を含む導電性材料をあらかじめガラス中に入れてその金属元素を飽和させておくことにより、後の工程において同じ金属元素を含む導電性材料を混練してもその金属元素を含む化合物がガラス中に析出しないことから極めて高い抵抗値が得られるのである。このように、金属酸化剤を多種多量の添加しなくても充分に高い抵抗値を得ることができるので、製造が容易となりかつ製品毎に電気的特性がばらついて不安定となるような不都合が生じない。
【0009】
あらかじめ溶解される第1の導電性材料の分量が、ガラス材料中にこの金属元素を含む化合物が析出する限界量以下の量であることが望ましい。
【0010】
第1の導電性材料及び第2の導電性材料が、導電性を与えるための金属元素を共通に含む互いに異なる組成物であるか、又は同一の組成物であることも好ましい。
【0011】
ガラス組成物が、B及びSiOの1種以上を主成分とするガラス組成物であることが好ましい。
【0012】
ガラス組成物が、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化リン、酸化銅、酸化バナジウム、酸化亜鉛、酸化マンガン及び酸化ビスマスの1種以上を含有していることも好ましい。
【0013】
第1又は第2の導電性材料が、RuO又はRuの複合酸化物であることが好ましい。この場合、Ruの複合酸化物が、CaRuO、SrRuO、BaRuO又はBiRuであってもよい。
【0014】
第1又は第2の導電性材料が、Pd−Ag合金、TaN、TaN、LaB、WC、MoSi、TaSi、SnO又はTaであることも好ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施形態においては、抵抗体ペーストは、鉛を含まないガラスフリットによるガラス組成物と、鉛を含まない導電粒子による導電性材料と、これらを媒体中に分散させるビヒクルとから生成される。
【0016】
ガラスフリットは、鉛フリーであれば特にその組成に制限はないが、B及びSiOの1種以上を主成分とするガラスであることが好ましい。
【0017】
このガラスは、珪酸ガラス、硼珪酸ガラス、珪酸カルシウムガラス、硼酸カルシウムガラス、硼珪酸カルシウムガラス、珪酸ストロンチウムガラス、硼酸ストロンチウムガラス、硼珪酸ストロンチウムガラス、珪酸バリウムガラス、硼酸バリウムガラス、硼珪酸バリウムガラス、珪酸マグネシウムガラス、硼酸マグネシウムガラス、硼珪酸マグネシウムガラス、珪酸リチウムガラス、硼酸リチウムガラス、硼珪酸リチウムガラス、珪酸ナトリウムガラス、硼酸ナトリウムガラス、硼珪酸ナトリウムガラス、珪酸カリウムガラス、硼酸カリウムガラス、硼珪酸カリウムガラス、珪酸リンガラス、硼酸リンガラス、硼珪酸リンガラス、珪酸銅ガラス、硼酸銅ガラス、硼珪酸銅ガラス、珪酸バナジウムガラス、硼酸バナジウムガラス、硼珪酸バナジウムガラス、珪酸亜鉛ガラス、硼酸亜鉛ガラス、硼珪酸亜鉛ガラス、珪酸マンガンガラス、硼酸マンガンガラス、硼珪酸マンガンガラス、珪酸ビスマスガラス、硼酸ビスマスガラス又は硼珪酸ビスマスガラスである。また、これらガラスを混合して使用しても良い。
【0018】
この組成のガラスフリットは、焼成前は非晶質であり、焼成によって結晶化しても良い。
【0019】
このガラスフリットの平均粒径は、特に制限はないが、スクリーン印刷性を考慮すれば、約5μm以下が好ましい。
【0020】
導電粒子は、導電性を与えるための金属元素を含みかつ鉛フリーであれば特にその組成に制限はない。例えば、RuO、CaRuO、SrRuO、BaRuO、BiRu、Pd−Ag合金、TaN、TaN、LaB、WC、MoSi、TaSi、SnO又はTaや他の導電性化合物、若しくは各種合金を用いることができる。特に、RuO及びRuの複合酸化物の1種以上を主成分とするものが好ましい。
【0021】
導電粒子の平均粒径は、0.05〜1.0μm程度であることがペースト中での粒子の分散を良好にして抵抗体ペーストの流動性を良好にする点及びノイズ特性の点で望ましい。
【0022】
ビヒクルとしては、エチルセルロース、ポリビニルブチラール、メタクリル樹脂、ブチルメタアクリレート等のバインダと、ターピネオール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、アセテート、トルエン、アルコール、キシレン等の溶剤とが用いられるが、その他各種の分散剤、活性剤、可塑剤等が用途に応じて適宜選択される。
【0023】
また、必要に応じて遷移金属群の元素からなる酸化物、典型金属群の元素からなる酸化物等の各種金属酸化物をTCR調整剤又はその他の目的で添加しても良い。
【0024】
抵抗体ペーストは、導電性を与えるための金属元素を含む前述のごとき組成の導電粒子、即ち第1の導電性材料粉末を作成し、その第1の導電性材料粉末を前述のごとき組成のガラス粉末に混合して溶解し、再びガラス化してガラス粉末とし、このガラス粉末と、同じ金属元素を含む第2の導電性材料粉末とビヒクルとを混合及び混練して得られる。ガラス中に溶解させる第1の導電性材料粉末の分量は、この導電性を与えるための金属元素が飽和するだけの分量とし、ガラス材料としてできあがった時点で析出するほど多くは入れない。第1及び第2の導電性材料粉末の総分量は、ガラス材料の分量と共に所定の組成となるように調整される。
【0025】
第1の導電性材料及び第2の導電性材料が、同一の導電性材料であっても良いが、導電性を与えるための金属元素を共通に含む互いに異なる導電性材料であっても良い。
【0026】
第1の導電性材料粉末を溶解させたガラス粉末と溶解させてないガラス粉末を混合したガラス粉末と第2の導電性材料粉末とビヒクルとを混合及び混練して抵抗体ペーストを作成しても良い。また、ガラス中に溶解させる第1の導電性材料粉末は、上述したように既存のガラス粉末に加えて溶解させても良いが、ガラス粉末を作成時にB、SiO等の酸化物を混合する際に加えて溶解させても良い。
【0027】
基板上に厚膜抵抗体を形成するには、その基板上に抵抗体ペーストをスクリーン印刷し、850℃程度の温度で焼成すれば良い。基板は、アルミナ基板、AlN基板、その他の単層基板、複合基板であっても良いし、多層基板であっても良い。厚膜抵抗体は、多層基板の外部のみならず内部に形成しても良い。
【0028】
このように、導電性を与えるための金属元素を含む第1の導電性材料粉末をガラス粉末に混合して溶解し、再びガラス化したものと、同じ金属元素を含む第2の導電性材料粉末と、ビヒクルとを混練して得ているため、鉛フリーの抵抗体ペーストであっても、抵抗値が劇的に高くなる。このように、金属酸化剤を添加しなくとも充分高い抵抗値を得ることができるので、製造が容易でありかつ電気的特性に製品毎のばらつきがなくなり安定する。
【0029】
【実施例】
以下具体的な実施例により本発明をより詳細に説明する。
【0030】
第1の導電性材料を溶解させたガラス材料と第1の導電性材料を溶解させてないガラス材料とをそれぞれ用いて抵抗体ペースト試料をそれぞれ作成し、これらをアルミナ基板上に焼き付けて厚膜抵抗体を作成してシート抵抗値を測定した。
【0031】
ガラス組成物としては硼珪酸亜鉛ガラスを使用し、第1の導電性材料としては導電性を与えるための金属元素Ruを含むRuOを、第2の導電性材料としては同じく導電性を与えるための金属元素Ruを含むCaRuO又はSrRuOをそれぞれ用いた。
【0032】
第2の導電性材料の作成
CaRuOとなるように所定量のCaCO粉末又はCa(OH)粉末とRuO粉末とを秤量し、ボールミルで混合して乾燥した。この混合によって得られた粉末を、5℃/minの速度で1200℃まで昇温しその温度を5時間保持した後に5℃/minの速度で室温(25℃)まで冷却することによって、CaRuO化合物の粉末を得た。SrRuOについても同様な方法で、SrRuO化合物の粉末を得た。
【0033】
ガラス組成物の作成
ZnO、B、SiOの粉末を所定量秤量し、ボールミルで混合して乾燥した。この混合によって得られた粉末を、5℃/minの速度で1200℃まで昇温しその温度を1時間保持した後に水中投下することによって急冷し、ガラス化した。得られたガラス化物をボールミルで粉砕し、ガラス粉末を得た。
【0034】
第1の導電性材料を溶解したガラス材料の作成
上述のごとく形成したガラス組成物とRuOとを所定量秤量し、ボールミルで混合して乾燥した。得られた粉末を、5℃/minの速度で1400℃まで昇温しその温度を1時間保持した後に水中投下することによって急冷し、ガラス化した。得られたガラス化物をボールミルで粉砕し、ガラス粉末を得た。
【0035】
抵抗体ペーストの作成
上述のごとく作成したCaRuO又はSrRuO化合物の粉末と、第1の導電性材料を溶解したガラス粉末と、樹脂がエチルセルロース、溶剤がターピネオールでなる有機ビヒクルとを各組成となるように秤量し、3本ロールミルで混練することにより、抵抗体ペーストを得た。
【0036】
厚膜抵抗体の作成及び抵抗値測定
96%純度のアルミナ基板上に、Ag−Pd導体ペーストを所定形状にスクリーン印刷して乾燥させた。Ag−Pd導体ペーストにおけるAgは85重量%、Pdは15重量%であった。このアルミナ基板を、ベルト炉に入れ、投入から排出まで1時間のパターンで焼き付けした。焼き付け温度は850℃、その温度の保持時間は10分とした。
【0037】
このようにして導体が形成されたアルミナ基板上に前述のごとく作成した抵抗体ペーストを所定形状にスクリーン印刷して乾燥させた。次いで、導体焼付けと同じ条件で抵抗体ペーストを焼き付け、厚膜抵抗体を得た。
【0038】
この厚膜抵抗体の抵抗値を測定した。その測定結果を表1に示す。なお、表1の各試料における試料数は24である。
【0039】
【表1】
Figure 0003843767
【0040】
表1において、試料1〜6は第2の導電性材料としてCaRuOを用いた場合、試料7〜9は第2の導電性材料としてSrRuOを用いた場合であり、試料1〜4、7及び8はガラス材料中に第1の導電性材料をあらかじめ溶解しない従来の製造方法によるもの、試料5、6及び9はガラス材料中に第1の導電性材料をあらかじめ溶解した本発明の製造方法によるものである。
【0041】
第2の導電性材料としてCaRuOを用いた場合、従来技術の試料1〜4に比して、本発明による試料5及び6は31〜52MΩという劇的に高い抵抗値を有している。しかも、抵抗値のばらつきを表すCV値(標準偏差/平均値)が19〜21と従来技術による試料の1/3と非常に小さい。なお、試料3は本発明のものより抵抗値が1桁低く、しかもばらつきが非常に大きい。
【0042】
第2の導電性材料としてSrRuOを用いた場合、従来技術の試料7に比して、本発明による試料9は30MΩという劇的に高い抵抗値を有している。しかも、抵抗値のばらつきを表すCV値(標準偏差/平均値)が25と小さい。なお、試料8は金属酸化物を多量に入れることによりかなり高い抵抗値を示しているが、ばらつきが極めて大きい。
【0043】
このように、鉛フリーの抵抗体ペーストであっても、導電性を与えるための金属元素を含む第1の導電性材料をガラス組成物にあらかじめ溶解してガラス材料を形成することによって、第1及び第2の導電性材料とガラス材料との比率を調整しなくても、また、金属酸化物等の添加物を多種、かつ多量に添加しなくても、特性のばらつきを抑えつつ極めて高い抵抗値を得られることが分かった。
【0044】
以上述べた実施形態及び実施例は全て本発明を例示的に示すものであって限定的に示すものではなく、本発明は他の種々の変形態様及び変更態様で実施することができる。従って本発明の範囲は特許請求の範囲及びその均等範囲によってのみ規定されるものである。
【0045】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように本発明によれば、鉛フリーのガラス組成物及び導電性材料を用いる場合であっても、導電性を与えるための金属元素を含む導電性材料をガラス組成物にあらかじめ溶解してガラス材料を形成することによって、導電性材料の分散状態が変わり劇的に高い抵抗値を得ることができる。即ち、導電性を与えるための金属元素を含む導電性材料をあらかじめガラス中に入れてその金属元素を飽和させておくことにより、後の工程において同じ金属元素を含む導電性材料を混練してもその金属元素を含む化合物がガラス中に析出しないことから極めて高い抵抗値が得られるのである。このように、金属酸化剤を多種多量の添加しなくても充分に高い抵抗値を得ることができるので、製造が容易となりかつ製品毎に電気的特性がばらついて不安定となるような不都合が生じない。

Claims (11)

  1. ガラス組成物に、導電性を与えるための金属元素を含む第1の導電性材料をあらかじめ溶解させてガラス材料を得る工程と、
    前記ガラス材料と、前記金属元素を含む第2の導電性材料と、ビヒクルとを混練する工程とを備えており、
    前記ガラス組成物及び前記第1及び第2の導電性材料は鉛を含まないことを特徴とする抵抗体ペーストの製造方法。
  2. ガラス組成物の一部分量に、導電性を与えるための金属元素を含む第1の導電性材料をあらかじめ溶解させてガラス材料を得る工程と、
    前記ガラス材料と、前記ガラス組成物の残りの分量と、前記金属元素を含む第2の導電性材料と、ビヒクルとを混練する工程とを備えており、
    前記ガラス組成物及び前記第1及び第2の導電性材料は鉛を含まないことを特徴とする抵抗体ペーストの製造方法。
  3. あらかじめ溶解される前記第1の導電性材料の分量が、前記ガラス材料中に前記金属元素を含む化合物が析出する限界量以下の量であることを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。
  4. 前記第1の導電性材料及び前記第2の導電性材料が、導電性を与えるための前記金属元素を共通に含む互いに異なる組成物であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の製造方法。
  5. 前記第1の導電性材料及び前記第2の導電性材料が、同一の組成物であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の製造方法。
  6. 前記ガラス組成物が、B及びSiOの1種以上を主成分とするガラス組成物であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の製造方法。
  7. 前記ガラス組成物が、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化リン、酸化銅、酸化バナジウム、酸化亜鉛、酸化マンガン及び酸化ビスマスの1種以上を含有していることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の製造方法。
  8. 前記第1又は第2の導電性材料が、RuO又はRuの複合酸化物であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の製造方法。
  9. 前記Ruの複合酸化物が、CaRuO、SrRuO、BaRuO又はBiRuであることを特徴とする請求項8に記載の製造方法。
  10. 前記第1又は第2の導電性材料が、Pd−Ag合金、TaN、TaN、LaB、WC、MoSi、TaSi、SnO又はTaであることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の製造方法。
  11. 請求項1から10のいずれか1項に記載の方法によって製造した抵抗体ペーストを所望の形状にパターニングし、焼き付けることを特徴とする厚膜抵抗体の製造方法。
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JP3630144B2 (ja) * 2002-02-28 2005-03-16 小島化学薬品株式会社 抵抗器
JP3579836B2 (ja) * 2002-02-28 2004-10-20 小島化学薬品株式会社 固定抵抗器
EP1480233A4 (en) * 2002-02-28 2009-01-14 Kojima Chemicals Co Ltd RESISTANCE
JP5115949B2 (ja) * 2006-12-27 2013-01-09 国立大学法人 名古屋工業大学 導電材料および抵抗体用ペースト
DE602008001156D1 (de) * 2008-03-28 2010-06-17 Braun Gmbh Heizelement mit Temperatursensor
KR101166709B1 (ko) 2010-10-27 2012-07-19 (주) 케이엠씨 테크놀러지 저항체용 페이스트 조성물 제조방법, 이를 이용한 후막 저항체 및 그 제조방법
JP2018014211A (ja) * 2016-07-20 2018-01-25 住友金属鉱山株式会社 抵抗ペースト及び該抵抗ペーストから作製される抵抗体
JP6931455B2 (ja) 2017-02-17 2021-09-08 住友金属鉱山株式会社 抵抗体用組成物及びこれを含んだ抵抗体ペーストとそれを用いた厚膜抵抗体
CN107197544A (zh) * 2017-05-03 2017-09-22 陶志斌 无机非金属远红外石墨电阻膜、其制备方法和应用
JP7251068B2 (ja) 2018-07-31 2023-04-04 住友金属鉱山株式会社 厚膜抵抗体用組成物、厚膜抵抗体用ペースト、及び厚膜抵抗体

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