JP3850585B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、パッケージのリード端子に寄生するインダクタンス、ボンディングワイヤに寄生するインダクタンスを、回路を構成する素子として利用した半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】
UHF 帯以上の高周波信号を扱う集積回路では、リード端子の寄生インダクタンス、ボンディングワイヤの寄生インダクタンスを共振回路等の回路の構成素子として積極的に利用することがある。
【0003】
このように、リード端子とボンディングワイヤの寄生インダクタンスを利用する場合に、パッケージの一方の側辺に配置された1本ないしは複数本のリード端子とボンディングワイヤが用いられていた。この場合に、寄生インダクタンスの値にはパッケージの組み立てに起因するばらつきが生じていた。半導体集積回路の組み立て工程において、ペレットをフレームにマウントする際に機械的な精度により所望のマウントポイントに対してX方向、Y方向あるいは回転方向にマウントズレが生じる場合があった。また、ペレットとフレームとの間でボンディングワイヤを接続する際にボンディングポイントにズレが生じる場合があった。これにより、寄生インダクタンスとなるボンディングワイヤの長さや、リード端子の寄生インダクタンス成分となる長さにズレが生じ、寄生インダクタンスの値をばらつかせていた。この寄生インダクタンスのばらつきの増減は、寄生インダクタンスとして利用するリード端子やボンディングワイヤがパッケージの一方の側辺に配置されていたため、増加する方向あるいは減少する方向の一方向となっていた。
【0004】
例えば、2本のリード端子とボンディングワイヤにおいて、1本のリード端子の寄生インダクタンスを一律L1、1本のボンディングワイヤの寄生インダクタンスを一律L2とし、ボンディングワイヤの寄生インダクタンスL2の増減の係数を
α(0<α≦1)とすると、2本のリード端子とボンディングワイヤの寄生インダクタンスを合わせた合成インダクタンスLは、以下に示す式で表される。
【0005】
【数1】
L=((L1+L2)+(±α*L2))*((L1+L2)+(±α*L2))/(2*((L1+L2)+(±α*L2)))
=((L1+L2)+(±α*L2))/2
=(L1+L2)/2±(α*L2)/2 ……式(1)
上式から、合成インダクタンスLには、±(α*L2)/2のズレが生じすることになる。
【0006】
このインダクタンス成分のズレは共振周波数の変動幅を大きくし、信号の周波数がより高くなると、共振周波数のズレ等により製品の歩留まりが急激に低下するおそれがあった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
以上説明したように、リード端子、ボンディングワイヤの寄生インダクタンスを回路の構成素子として利用した従来の半導体集積回路にあっては、寄生インダクタンスとして利用するリード端子、ボンディングワイヤは、半導体集積回路のパッケージの一方の側辺に配置されたリード端子ならびにボンディングワイヤを用いていた。このため、寄生インダクタンスの値には、パッケージの組み立てに起因したばらつきが生じるといった不具合を招いていた。
【0008】
そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、回路構成素子として利用されるリード端子、ボンディングワイヤの寄生インダクタンスのばらつきを抑制し得る半導体集積回路を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、課題を解決する第1の手段は、ボンディングワイヤの寄生インダクタンスを、高周波信号を取り扱う半導体集積回路の回路構成素子として使用した半導体集積回路において、前記ボンディングワイヤは、パッケージの対向する側辺に配置されて並列接続された複数のボンディングワイヤからなることを特徴とする。
【0010】
第2の手段は、ボンディングワイヤの寄生インダクタンスと該ボンディングワイヤに接続されたパッケージのリード端子の寄生インダクタンスを、高周波信号を取り扱う半導体集積回路の回路構成素子として使用した半導体集積回路において、前記ボンディングワイヤと該ボンディングワイヤに接続された前記リード端子は、パッケージの対向する側辺に配置されて並列接続された複数のボンディングワイヤとリード端子からなることを特徴とする。
【0011】
第3の手段は、前記第1又は第2の手段において、前記ボンディングワイヤ、又は前記ボンディングワイヤと該ボンディングワイヤに接続された前記リード端子は、偶数本であることを特徴とする。
【0012】
第4の手段は、前記第1,2又は3の手段において、前記ボンディングワイヤの寄生インダクタンス、又は前記ボンディングワイヤと該ボンディングワイヤに接続された前記リード端子の寄生インダクタンスは、共振回路を構成してなることを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いてこの発明の実施形態を説明する。
【0014】
図1はこの発明の一実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す図である。
【0015】
図1において、この実施形態の半導体集積回路は、この発明をリードレスの半導体集積回路に適用して、ボンディングワイヤの寄生インダクタンスを回路、例えば直列共振回路のインダクタンスとして利用したものである。リードレスのパッケージ1に実装されたペレット2には、ペレット2の内部の回路構成素子としてFET(電界効果トランジスタ)3とこのFET3に接続された容量(Cx)4が形成され、この容量4はペレット2の対向する側辺に配置形成された一対の電極パッド5にそれぞれ接続され、それぞれの電極パッド5には対応するボンディングワイヤ6の一端が接続され、それぞれのボンディングワイヤ6の他端はパッケージの対応する電極7に接続されている。このような構成において、ペレット内部の回路構成素子のFET3と容量4に対して、一対のボンディングワイヤ6の寄生インダクタンスが並列接続されて直列共振回路が構成されており、この共振回路の等価回路は図2に示すように表される。
【0016】
このような実施形態においては、共振回路を構成する寄生インダクタンスとなる一対のボンディングワイヤ6はペレット2の対向する側辺に分割して配置されているので、ペレットをマウントする組み立て工程時のペレットのX方向、Y方向、回転方向の位置ズレに対して、ボンディングワイヤ6の長さ、すなわちボンディングワイヤの寄生インダクタンスの値の増減方向は相反することになる。したがって、一対のボンディングワイヤ6の寄生インダクタンスを合成した合成インダクタンスのズレは従来に比べて抑制され、寄生インダクタンスのばらつきを抑えることができる。この結果、共振回路の共振周波数の変動幅も従来に比べて低減することができる。
【0017】
図3はこの発明の他の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す図である。
【0018】
図3において、この実施形態の特徴とするところは、この発明をリード端子付きの半導体集積回路に適用して、ボンディングワイヤの寄生インダクタンスとリード端子の寄生インダクタンスを回路、例えば直列共振回路のインダクタンスとして利用したものであり、図1に示す構成に比べて、それぞれのボンディングワイヤ6の他端がパッケージ1の対応するリード端子8に接続されて、図4の等価回路に示すように共振回路を構成したことにある。
【0019】
このような実施形態において、従来の技術の欄で説明したと同様にして合成インダクタンスを求めると、以下に示す式で表される。
【0020】
【数2】
L=((L1+L2)+αL2)*((L1+L2)-α*L2)/(((L1+L2)+α*L2)+((L1+L2)-α*L2))
=((L1+L2)2-(α*L2)2)/(2*(L1+L2))
=((L1+L2)/2-(α*L2)2)/(2*(L1+L2)) ……式(2)
上式から、合成インダクタンスのズレは、-(α*L2)2)/(2*(L1+L2))に抑えることができ、前述した式(1)のズレに比べて低減することが可能となる。
【0021】
例えば、2組のリード端子の寄生インダクタンスとボンディングワイヤの寄生インダクタンスとMIM キャパシタを用いた共振回路の組み立てばらつきによる共振周波数(fo=1/(2π√(LC))の変動幅を、前述した式(1)で表される合成インダクタンスLと、上記実施形態の式(2)で表される合成インダクタンスLを参照して比較する。ここで、MIMキャパシタのキャパシタンスを0.5(pF)、リード端子の寄生インダクタンス、ボンディングワイヤの寄生インダクタンスをそれぞれ0.6(nH)、.8(nH)(この値はSSOP-8パッケージで一般的に使用されている値である)、係数αを0.3とする。このよう場合に、従来の式(1)で表される合成インダクタンスLを用いると、最小(fomin)、最大(fomax)の共振周波数は以下に示すように算出され、所望の共振周波数に対するズレは、以下に示すように8.8%程度となる。
【0022】
【数3】
fo(所望周波数)=1/(2*π*√(((L1+L2)/2)*C))=8.51GHz
fomax(最大周波数)=1/(2*π*√((((L1+L2)-α*L2)/2)*C))=9.35GHz
fomin(最小周波数)=1/(2*π*√((((L1+L2)+α*L2)/2)*C))=7.86GHz
周波数誤差=(fomax-fomin)/2/fo*100=8.8%
これに対して、上記実施形態においては、式(2)で表される合成インダクタンスLを用いると、最小(fomin)、最大(fomax)の共振周波数は以下に示すように算出され、所望の共振周波数に対するズレは、以下に示すように1.5%程度となる。
【0023】
【数4】
fo(所望周波数)=1/(2*π*√(((L1+L2)/2)*C))=8.51GHz
fomax(最大周波数)=1/(2*π*√(((L1+L2)/2-(α*L2)2/(2*(L1+L2)))*C))=8.64
GHzfomin(最小周波数)=1/(2*π*√(((L1+L2)/2)*C))=8.51GHz
周波数誤差=(fomax-fomin)/fo*100=1.5%
このように、上記実施形態においては、リード端子とボンディングワイヤの寄生インダクタンスを合わせた合成インダクタンスのばらつきを抑制して、共振周波数の変動幅を従来に比べて大幅に抑制することが可能となる。
【0024】
図5はこの発明の他の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す図である。
【0025】
図5において、この実施形態の特徴とするところは、図1に示す実施形態に比べて、更にもう一対のボンディングワイヤ9の寄生インダクタンスを利用したことにあり、それぞれのボンディングワイヤ9の一端はペレット2の対応する電極10に接続され、それぞれのボンディングワイヤ9の他端はパッケージ1の対応する電極11に接続され、共振回路は図6の等価回路に示すように構成され、他の構成は図1と同様である。
【0026】
このような実施形態においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
【0027】
なお、この発明は、上記実施形態に限定されることはなく、寄生インダクタンスとして利用するボンディングワイヤ、リード端子の数、寄生インダクタンスを利用する回路構成、ペレットの実装形態に制約を与えるものではない。
【0028】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、パッケージの対向する側辺に配置されて並列接続された複数のボンディングワイヤ又は複数のボンディングワイヤとリード端子の寄生インダクタンスを利用するようにしたので、半導体集積回路の組み立てに起因する寄生インダクタンスのばらつきを抑制することができる。この結果、共振周波数の変動幅を抑制することが可能となり、製品の歩留まりの低下を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す図である。
【図2】図1の共振回路の等価回路を示す図である。
【図3】この発明の他の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す図である。
【図4】図3の共振回路の等価回路を示す図である。
【図5】この発明の他の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す図である。
【図6】図5の共振回路の等価回路を示す図である。
【符号の説明】
1 パッケージ
2 ペレット
3 FET
4 容量
5,10 電極パッド
6,9 ボンディングワイヤ
7,11 パッケージの電極
8 リード端子[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit using an inductance parasitic to a lead terminal of a package and an inductance parasitic to a bonding wire as elements constituting the circuit.
[0002]
[Prior art]
In integrated circuits that handle high-frequency signals in the UHF band or higher, the parasitic inductance of lead terminals and the parasitic inductance of bonding wires may be actively used as components of circuits such as resonant circuits.
[0003]
As described above, when using the parasitic inductance of the lead terminal and the bonding wire, one or a plurality of lead terminals and bonding wires arranged on one side of the package are used. In this case, the parasitic inductance value varies due to the assembly of the package. In the assembly process of the semiconductor integrated circuit, when the pellet is mounted on the frame, there is a case where the mounting deviation occurs in the X direction, the Y direction, or the rotation direction with respect to a desired mounting point due to mechanical accuracy. Further, when bonding wires are connected between the pellet and the frame, there is a case where the bonding point is displaced. As a result, the length of the bonding wire serving as the parasitic inductance and the length serving as the parasitic inductance component of the lead terminal are shifted, thereby varying the value of the parasitic inductance. The increase or decrease in the variation of the parasitic inductance is one direction of increasing or decreasing because the lead terminals and bonding wires used as the parasitic inductance are arranged on one side of the package.
[0004]
For example, in two lead terminals and bonding wires, the parasitic inductance of one lead terminal is uniformly L1, the parasitic inductance of one bonding wire is uniformly L2, and the coefficient of increase or decrease of the parasitic inductance L2 of the bonding wire is α ( When 0 <α ≦ 1), the combined inductance L obtained by combining the parasitic inductances of the two lead terminals and the bonding wire is expressed by the following equation.
[0005]
[Expression 1]
L = ((L1 + L2) + (± α * L2)) * ((L1 + L2) + (± α * L2)) / (2 * ((L1 + L2) + (± α * L2)))
= ((L1 + L2) + (± α * L2)) / 2
= (L1 + L2) / 2 ± (α * L2) / 2 ...... Equation (1)
From the above equation, a deviation of ± (α * L2) / 2 occurs in the combined inductance L.
[0006]
This deviation of the inductance component increases the fluctuation range of the resonance frequency, and if the signal frequency becomes higher, there is a possibility that the yield of the product is drastically reduced due to the deviation of the resonance frequency.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, in the conventional semiconductor integrated circuit using the parasitic inductance of the lead terminal and the bonding wire as a circuit component, the lead terminal and the bonding wire used as the parasitic inductance are used for the package of the semiconductor integrated circuit. Lead terminals and bonding wires arranged on one side were used. For this reason, there has been a problem that the parasitic inductance value varies due to assembly of the package.
[0008]
Accordingly, the present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of suppressing variations in parasitic inductance of lead terminals and bonding wires used as circuit constituent elements. There is.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a first means for solving the problem is a semiconductor integrated circuit in which the parasitic inductance of the bonding wire is used as a circuit component of a semiconductor integrated circuit that handles a high-frequency signal. It is characterized by comprising a plurality of bonding wires arranged in parallel on opposite sides and connected in parallel.
[0010]
The second means is a semiconductor integrated circuit in which the parasitic inductance of the bonding wire and the parasitic inductance of the lead terminal of the package connected to the bonding wire are used as a circuit component of a semiconductor integrated circuit that handles high frequency signals. And the lead terminal connected to the bonding wire comprises a plurality of bonding wires and lead terminals arranged on opposite sides of the package and connected in parallel.
[0011]
A third means is characterized in that, in the first or second means, the bonding wires or the bonding wires and the lead terminals connected to the bonding wires are an even number.
[0012]
According to a fourth means, in the first, second, or third means, the parasitic inductance of the bonding wire, or the parasitic inductance of the bonding wire and the lead terminal connected to the bonding wire constitutes a resonance circuit. It is characterized by becoming.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0014]
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.
[0015]
In FIG. 1, the semiconductor integrated circuit of this embodiment is one in which the present invention is applied to a leadless semiconductor integrated circuit and the parasitic inductance of the bonding wire is used as an inductance of a circuit, for example, a series resonant circuit. In the
[0016]
In such an embodiment, since the pair of
[0017]
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to another embodiment of the present invention.
[0018]
In FIG. 3, this embodiment is characterized in that the present invention is applied to a semiconductor integrated circuit with a lead terminal, and the parasitic inductance of the bonding wire and the parasitic inductance of the lead terminal are used as the inductance of a circuit, for example, a series resonance circuit. Compared with the configuration shown in FIG. 1, the other end of each
[0019]
In such an embodiment, when the combined inductance is obtained in the same manner as described in the section of the prior art, it is expressed by the following equation.
[0020]
[Expression 2]
L = ((L1 + L2) + αL2) * ((L1 + L2) -α * L2) / (((L1 + L2) + α * L2) + ((L1 + L2) -α * L2))
= ((L1 + L2) 2- (α * L2) 2 ) / (2 * (L1 + L2))
= ((L1 + L2) / 2- (α * L2) 2 ) / (2 * (L1 + L2)) ...... Equation (2)
From the above equation, the deviation of the combined inductance can be suppressed to-(α * L2) 2 ) / (2 * (L1 + L2)), which can be reduced compared to the deviation of equation (1) described above. It becomes.
[0021]
For example, the fluctuation width of the resonance frequency (fo = 1 / (2π√ (LC)) due to the assembly variation of the resonance circuit using the parasitic inductance of the two pairs of lead terminals, the parasitic inductance of the bonding wire, and the MIM capacitor is expressed by the above formula. The composite inductance L represented by (1) is compared with the composite inductance L represented by formula (2) in the above embodiment, where the capacitance of the MIM capacitor is 0.5 (pF) and the lead terminal The parasitic inductance and the parasitic inductance of the bonding wire are 0.6 (nH) and .8 (nH) (this value is generally used in the SSOP-8 package), and the coefficient α is 0.3. In this case, using the combined inductance L represented by the conventional equation (1), the minimum (fomin) and maximum (fomax) resonance frequencies are calculated as shown below, and the deviation from the desired resonance frequency is as follows. As shown in the order of 8.8%.
[0022]
[Equation 3]
fo (desired frequency) = 1 / (2 * π * √ (((L1 + L2) / 2) * C)) = 8.51GHz
fomax (maximum frequency) = 1 / (2 * π * √ ((((L1 + L2) -α * L2) / 2) * C)) = 9.35GHz
fomin (minimum frequency) = 1 / (2 * π * √ ((((L1 + L2) + α * L2) / 2) * C)) = 7.86GHz
Frequency error = (fomax-fomin) /2/fo*100=8.8%
On the other hand, in the above embodiment, when the combined inductance L represented by the expression (2) is used, the minimum (fomin) and maximum (fomax) resonance frequencies are calculated as follows, and the desired resonance is obtained. The deviation from the frequency is about 1.5% as shown below.
[0023]
[Expression 4]
fo (desired frequency) = 1 / (2 * π * √ (((L1 + L2) / 2) * C)) = 8.51GHz
fomax (maximum frequency) = 1 / (2 * π * √ (((L1 + L2) / 2- (α * L2) 2 /(2*(L1+L2)))*C))=8.64
GHzfomin (minimum frequency) = 1 / (2 * π * √ (((L1 + L2) / 2) * C)) = 8.51GHz
Frequency error = (fomax-fomin) /fo*100=1.5%
As described above, in the above-described embodiment, it is possible to suppress the variation of the combined inductance that combines the parasitic inductances of the lead terminal and the bonding wire, and to greatly suppress the fluctuation range of the resonance frequency compared to the conventional case.
[0024]
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to another embodiment of the present invention.
[0025]
In FIG. 5, this embodiment is characterized in that the parasitic inductance of another pair of bonding wires 9 is used as compared with the embodiment shown in FIG. 1, and one end of each bonding wire 9 is a pellet. 2, the other end of each bonding wire 9 is connected to the corresponding
[0026]
In such an embodiment, the same effect as that of the above embodiment can be obtained.
[0027]
The present invention is not limited to the above embodiment, and does not limit the bonding wires used as parasitic inductance, the number of lead terminals, the circuit configuration using parasitic inductance, and the pellet mounting form.
[0028]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a plurality of bonding wires arranged on opposite sides of a package and connected in parallel or a parasitic inductance of a plurality of bonding wires and a lead terminal are used. Variations in parasitic inductance due to the assembly of the integrated circuit can be suppressed. As a result, it is possible to suppress the fluctuation range of the resonance frequency, and it is possible to suppress a decrease in product yield.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing an equivalent circuit of the resonance circuit of FIG. 1;
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to another embodiment of the present invention.
4 is a diagram showing an equivalent circuit of the resonance circuit of FIG. 3. FIG.
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to another embodiment of the present invention.
6 is a diagram showing an equivalent circuit of the resonance circuit of FIG. 5. FIG.
[Explanation of symbols]
1
4
Claims (4)
前記ボンディングワイヤは、パッケージの対向する側辺に配置されて並列接続された複数のボンディングワイヤからなる
ことを特徴とする半導体集積回路。In a semiconductor integrated circuit that uses the parasitic inductance of a bonding wire as a circuit component of a semiconductor integrated circuit that handles high-frequency signals,
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the bonding wire includes a plurality of bonding wires arranged on opposite sides of the package and connected in parallel.
前記ボンディングワイヤと該ボンディングワイヤに接続された前記リード端子は、パッケージの対向する側辺に配置されて並列接続された複数のボンディングワイヤとリード端子からなる
ことを特徴とする半導体集積回路。In a semiconductor integrated circuit in which a parasitic inductance of a bonding wire and a parasitic inductance of a lead terminal of a package connected to the bonding wire are used as a circuit component of a semiconductor integrated circuit that handles high-frequency signals.
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the bonding wire and the lead terminal connected to the bonding wire include a plurality of bonding wires and lead terminals arranged in parallel on opposite sides of the package.
ことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体集積回路。3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the bonding wire, or the bonding wire and the lead terminal connected to the bonding wire are an even number.
ことを特徴とする請求項1,2又は3記載の半導体集積回路。4. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the parasitic inductance of the bonding wire or the parasitic inductance of the bonding wire and the lead terminal connected to the bonding wire constitutes a resonance circuit. circuit.
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