JP3904627B2 - Substrate transfer control method - Google Patents
Substrate transfer control method Download PDFInfo
- Publication number
- JP3904627B2 JP3904627B2 JP7316496A JP7316496A JP3904627B2 JP 3904627 B2 JP3904627 B2 JP 3904627B2 JP 7316496 A JP7316496 A JP 7316496A JP 7316496 A JP7316496 A JP 7316496A JP 3904627 B2 JP3904627 B2 JP 3904627B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transfer
- stop
- stop instruction
- process module
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板に成膜処理等の所定の処理を行う半導体製造装置において、搬送装置により基板の搬送処理を行わせる基板搬送制御方法に関し、特に、搬送装置の動作を停止させる際の制御に関する。
【0002】
【従来の技術】
LCDのガラス基板や半導体ウエーハ等の基板に成膜処理等の所定の処理を行う半導体製造装置においては、ロボットアーム等の搬送装置により基板をプロセスモジュール等へ搬送処理することが行われている。この搬送処理においては、制御手順を記述したプログラムに従って制御装置により搬送装置の動作を制御し、予め設定した手順に従って自動的に搬送処理を行わせている。
【0003】
このような基板搬送制御方法を実施する半導体製造装置の一例を図3を参照して説明する。
この半導体製造装置は、基板に所定の処理をするプロセスモジュール1、2と、基板を搬送する搬送装置3と、搬送装置3を収容するトランスファモジュール4と、搬送装置3による基板の搬送処理を制御する制御装置9と、搬送装置3が基板を把握しているか否かを検出する基板センサ6と、基板の位置を管理する基板管理手段7と、基板搬送処理の停止を指示する搬送停止手段8と、を備えている。
【0004】
この半導体製造装置の制御装置9によって行われる基板搬送処理の制御をプロセスモジュール1からプロセスモジュール2に基板を搬送する場合を例にとって、図4(a)を参照して説明する。
まず、搬送装置3を所定の待機位置から搬送元のプロセスモジュール1の方向へ旋回させた後(ステップS20)、プロセスモジュール1に基板を搬出する準備を行わせる(ステップS21)。そして、搬送装置3を伸張してプロセスモジュール1に入室させて搬送対象の基板を把握させた後、搬送装置3を収縮させてプロセスモジュール1から退室させる(ステップS22)。搬送装置3がプロセスモジュール1から退出されると基板センサ6が搬送装置3に基板が把握されていることを検出し、基板管理手段7の基板の位置情報をトランスファモジュール4に変更する(ステップS23)。
【0005】
そして、搬送装置を搬送先のプロセスモジュール2の方向へ旋回させた後(ステップS24)、プロセスモジュール2に基板の搬入準備を行わせる(ステップS25)。そして、搬送装置3を伸張させてプロセスモジュール2に入室させて把握している基板を移載させた後、搬送装置3を収縮させてプロセスモジュール2から退室させる(ステップS26)。搬送装置3がプロセスモジュール2から退室されると基板センサ6が搬送装置3に基板が把握されてないことを検出し、基板管理手段7の基板位置情報をプロセスモジュール2に変更する(ステップ27)。そして、次の搬送処理に備え搬送装置3をトランスファモジュール4の所定の待機位置へ旋回移動させる(ステップ28)。
【0006】
ここで上記した搬送処理中に、当該半導体製造装置を含む生産プロセス等において障害が生じた場合には、障害の発生を搬送停止手段8が検知して制御装置9に搬送処理を停止させる指示を行う。この停止指示を受け取った制御装置9は、図4(b)に示す割込処理を行い、搬送処理(ステップS20〜S28)のいずれの処理の実行途中であっても制御手段9は搬送装置3を停止させることを含めた全ての処理を停止する(ステップS29)。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記した従来の基板搬送制御方法においては、搬送停止手段8から停止指示があると強制的に搬送処理を停止するため、搬送装置3はその場で動作を停止することとなる。このため、例えば、プロセスモジュールへの入退室処理の途中に停止指示があった場合には、成膜処理等を行って高温の状態にあるプロセスモジュール内に搬送装置3が残留したままになり、搬送装置3が破損してしまう等といった事態が生じていた。
【0008】
また、例えばステップS26に示す搬入動作が終了し、次のステップS27に示す基板の検出及び位置情報の変更処理が終了する前に停止指示があった場合には、基板の位置管理を行う前に機能が停止してしまう。このため、基板はプロセスモジュール2に位置しているにも係わらず、基板管理手段7が管理する基板位置はトランスファモジュール4となってまい、実際の基板位置と、基板管理手段7が管理している基板の位置とにずれを生じてしまっていた。このように、基板位置のずれを生ずると、装置内での基板の位置を特定することが困難であり、装置内の基板を取り除くといった復旧処理に長時間を要し、半導体製造装置の稼働効率の低下をもたらす事態も生じていた。
【0009】
本発明は、上記従来の事情に鑑みなされたもので、搬送装置の破損を防止し、また、基板の位置を確実に管理することのできる基板搬送制御方法を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、請求項1にかかる基板搬送制御方法は、搬送装置にプロセスモジュールへの入退室動作を行わせて、当該プロセスモジュールに対する基板の搬送を行う基板搬送制御方法において、入退室動作の処理の未終了の時期に前記搬送装置の動作を停止させる停止指示があった場合には当該搬送装置の入退室動作の処理が終了した後に、該停止指示に基づいて搬送装置の動作を停止させることを特徴とする。
ここで、停止指示は本発明の基板搬送制御方法を実施する半導体製造装置を含む生産プロセス等において障害が発生した場合に行われる。
【0011】
上記した請求項1に係る基板搬送制御方法では、搬送装置によるプロセスモジュールへの入退室動作の処理途中に搬送装置の動作を停止させる停止指示があった場合には、該停止指示を一時保留して、搬送装置の入退室動作が終了した後に、該停止指示に基づいて搬送装置の動作を停止させることにより、プロセスモジュール内に搬送装置が残留することを防ぐ。
【0012】
また、請求項2に係る基板搬送制御方法は、搬送装置により基板を搬送させるとともに、当該搬送装置が基板を把握しているか否かを検出して基板位置を管理する搬送処理を行う基板搬送制御方法において、搬送装置による搬送処理の終了後の基板位置管理処理が未終了の時期に、搬送処理を停止させる停止指示があった場合には当該管理処理が終了した後に、該停止指示に基づいて搬送処理を停止させることを特徴とする。
【0013】
上記した請求項2に係る基板搬送制御方法では、搬送装置による基板の搬送処理の終了後で、基板の位置情報の管理処理が終了していないときに、搬送処理を停止させる停止指示があった場合には、該停止指示を一時保留して、当該管理処理によって基板の位置情報が実際の基板の位置に変更された後に、該停止指示に基づいて搬送処理を停止させることにより、基板の位置情報が実際の基板位置と一致する。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の基板搬送制御方法を実施する半導体製造装置の一例を図1を参照して説明する。
この半導体製造装置は、基板に所定の処理を施すプロセスモジュール1、2と、基板を搬送する搬送装置3と、搬送装置3を収容するトランスファモジュール4と、搬送装置3による搬送処理を制御する制御装置5と、搬送装置3が基板を把握しているか否かを検出する基板センサ6と、基板の位置情報を管理する基板管理手段7と、基板搬送処理を停止を指示する搬送停止手段8と、を備えている。
【0015】
プロセスモジュール1、2は、基板に成膜処理等の所定のプロセス処理を施すモジュールであり、処理対象の基板を載置する基板載置手段(図示せず)を備えている。
搬送装置3は、例えばロボットアームで構成されており、装置全体の向きを変える旋回動作を行う旋回部3aと、伸張動作及び収縮動作を行う伸縮部3bと、基板を保持する基板把握部3cと、を備え、各部は制御装置5の制御によって動作する。
【0016】
制御装置5は、搬送処理の制御手順としてのプログラムを保持する手順保持手段5aと、制御手順に従って搬送処理の制御を行う処理手段5bと、搬送停止手段8からの搬送処理停止指示を一時的に格納する停止指示保持手段5cと、を備えている。
手順保持手段5aに格納されている一連の搬送処理手順には、搬送元から搬送先へ基板を搬送させる手順及び基板搬送処理を停止させる手順が設定されている。 この搬送処理の停止手順には、搬送装置3によるプロセスモジュールへの入退室動作の処理途中には搬送装置3を停止させず入退室動作の終了後に搬送装置3を停止させる手順と、基板を搬送して基板の位置が変化した後において基板管理手段7による基板位置の管理処理の途中には停止指示に基づく停止動作を行わずに当該管理処理終了後に行わせる手順とが含まれている。
【0017】
処理手段5bは、手順保持手段5aに保持されている制御手順に従って、搬送装置3に対する搬送動作制御と、プロセスモジュール1、2が行う基板の移載準備処理の制御と、基板センサ6が行う基板検出の制御と、基板管理手段7が行う基板管理処理の制御と、を行い、また、停止指示に基づく停止指示フラグが停止保持手段5cに設定されているか否かを検出する処理も行う。
【0018】
停止保持手段5cは、搬送停止手段8からの搬送処理の停止指示を検知して、搬送停止指示フラグを設定し、搬送処理が終わるまで当該フラグを維持する。
なお、この停止指示は、例えば、当該半導体製造装置を含む生産ラインにおいて、何らかの障害が発生した場合に搬送停止手段8から出力され、当該半導体製造装置の動作を停止させるものである。
そして、この制御装置5では、処理手段5bは手順保持手段5aが保持する制御手順にしたがって搬送装置3に搬送動作をさせるとともに、停止保持手段5cに設定される搬送停止フラグに基づいて搬送装置3の動作停止及び半導体製造装置全体の動作停止を実行する。
【0019】
基板センサ6は、搬送装置3が基板を把握しているか否かを検出する装置であり、例えば、基板把握部3cが基板を把握しているか否かを検出する光学的センサによって構成されている。
基板管理手段7は、搬送装置3の動作情報及び基板センサ6の検出結果に基づいて基板が半導体装置内のどの位置にあるのかを管理しており、例えば管理している基板の位置情報をディスプレイ装置等の表示手段(図示せず)に表示出力することによって、半導体製造装置の管理者に基板の位置情報を提供する。
【0020】
次に、上記した半導体製造装置の搬送処理をプロセスモジュール1からプロセスモジュール2へ基板を搬送する処理を例にとって、図2を参照して説明する。搬送処理は、手順保持手段5aの制御手順に基づいて処理手段5bが制御を以下のように行い、停止処理を行うための停止指示フラグを所定の時期に繰り返し確認処理する。
【0021】
まず、旋回部3aによって搬送装置3を所定の待機位置から基板の搬送元のプロセスモジュール1の方向へと旋回させた後に(ステップS1)、停止保持手段5cに停止指示のフラグが設定されているか否かを確認する(ステップS2)。
停止指示のフラグが設定されていない場合には、モジュールの扉を開く等といった移載準備を行わせた後に(ステップS3)、停止保持手段5cに停止指示フラグが設定されているか否かを再度確認する(ステップS4)。停止指示のフラグが設定されていない場合には、伸縮部3bを伸張させて搬送装置3を搬送元プロセスモジュールに入室させて、基板が保持できる位置に基板把握部3cを移動させ、更に、基板把握部3cに基板を把握させて、伸縮部3bを収縮させて搬送装置3を搬送元モジュールから退室させる(ステップS5)。そして、基板センサ6による基板検出に基づいて基板管理手段7の基板の位置情報をプロセスモジュール1からトランスファモジュール4へと変更した後(ステップS6)、停止保持手段5cに停止指示のフラグが設定されているか否かを確認する(ステップS7)。
【0022】
停止指示のフラグが設定されていない場合には、旋回部3aによって搬送装置3を搬送先のプロセスモジュール2の方向へと旋回させ(ステップS8)、停止保持手段5cにフラグが設定されているか否かを確認する(ステップS9)。停止指示のフラグが設定されていない場合には、プロセスモジュール2に基板を搬入する準備を行わせた後に(ステップS10)、停止保持手段5cにフラグが設定されているか否かを確認する(ステップS11)。停止指示のフラグが設定されていない場合には、伸縮部3bを伸張させて搬送装置3を搬送先プロセスモジュール2に入室させて基板把握部3cを基板を載置する位置にし、基板把握部3cに基板を載置させた後に、伸縮部3bを収縮させて搬送装置3を搬送先プロセスモジュール2から退室させる(ステップS12)。
【0023】
そして、基板センサ6による基板検出に基づいて基板管理手段7の基板位置情報をトランスファモジュール4からプロセスモジュール2へ変更させた後(ステップS13)、停止保持手段5cにフラグが設定されているかを確認する(ステップS14)。停止指示のフラグが設定されていない場合には、旋回部3aによって搬送装置3をトランスファモジュール4の所定の待機位置へと旋回させて一連の搬送処理を終了する(ステップS15)。
【0024】
ここで、上記した搬送処理中に半導体製造装置を含む生産プロセス等において障害が発生した場合には、搬送停止手段8が障害の発生を検知して、停止保持手段5cに搬送処理の停止の指示を行う。この指示を受けると停止保持手段5cは搬送停止指示フラグを設定し(ステップS16)、処理手段5bにより搬送処理が停止されるまで当該フラグを設定したままにする(ステップS17)。
そして、手順保持手段5aに保持されている手順に従って処理手段5bが停止保持手段5cに停止指示フラグが設定されていることを確認すると(ステップS2、S4、S7、S9、S11、S14)、処理手段5bは当該半導体製造装置を停止させて全ての処理を終了させる。
【0025】
このように、手順保持手段5aに設定された手順に従って停止指示フラグの確認を行い、この確認の時点において停止指示が確認された場合にだけ処理手段5bが搬送処理の停止を行っている。このために、ステップS5及びS7、ステップS12及びS14による処理のように、停止指示がなされても、搬送装置3がプロセスモジュールへの入退室動作を行っている途中には搬送装置3がその動作を停止することなく、搬送装置3がプロセスモジュールから退室した後に、搬送装置3の動作が停止する。したがって、搬送装置3がプロセスモジュール内に残留することが防ぐことができ、搬送装置3の破損等を防止することができる。また、ステップS6及びS7、ステップS13及びS14による処理のように、停止指示がなされても、基板の位置が変更されているが基板管理手段7の基板の位置情報の管理が終了していない時には搬送処理を停止することなく、当該の管理処理が終了した後に、搬送処理を停止する。したがって、基板管理手段7の管理している基板位置と実際の基板位置とがずれを生ずることがない。
【0026】
なお、上記した本発明の実施例では、搬送停止手段8は障害の発生を検知したときに搬送処理の停止を指示するように構成したが、半導体製造装置の管理者の指示によって、搬送停止手段8に搬送処理の停止を指示させる構成にしてもよい。
また、搬送装置3は上記した構成に限らず、基板の搬送処理においてプロセスモジュールへの入退室動作を行う構成であれば本発明を適用することができる。
【0027】
なお、上記した本発明の実施例では、入退室動作処理(ステップS5、S12)及び基板位置管理処理(ステップS6、S13)の後に搬送処理停止処理(ステップS7、S14)を行ったが、本発明では、いずれか一方の処理の後に搬送処理停止処理を行うようにしてもよく、この場合にあっても、それぞれの作用効果を奏することができる。ただし、上記実施例のように両方を併用する方が実用上好ましい。
【0028】
また、上記した実施例ではプロセスモジュールを複数備えていたが、少なくとも一つのプロセスモジュールを備え、そのプロセスモジュールへの入退室動作処理の後に搬送処理停止処理を行うようにすれば、搬送装置をプロセスモジュール内に残留させることを防ぐことができる。
【0029】
また、上記した実施例ではプロセスモジュールを備えていたが、プロセスモジュールを備えずとも、基板の搬送を行い、その搬送にともなっての基板の位置の管理を行う構成であれば、本発明が適用でき、基板位置の情報と実際の基板の位置とを一致させることができる。
【0030】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1に係る基板搬送制御方法によると、搬送装置によるプロセスモジュールへの入退室動作が未終了の時期に搬送動作の停止指示があった場合には、入退室動作処理の終了後に搬送装置の動作を停止させるようにしたため、搬送装置がプロセスモジュール内に残留することを防ぐことができ、搬送装置の破損を防止することができる。
また、請求項2に係る基板搬送制御方法によると、基板の搬送動作の処理後で基板の位置管理処理が未終了の時期に搬送処理の停止指示があった場合には、基板位置の管理処理の終了後に搬送処理を停止させるようにしたため、基板の位置が変更したときには基板管理情報の基板位置も変更されて、実際の基板位置と管理している基板情報の基板位置とが一致する。このため、基板情報に基づいて装置内部の基板位置を容易に把握することができるため、復旧のために行われる基板を取り出す作業等にかかる時間を短縮することができ、半導体製造装置の稼働効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の基板搬送制御方法を実施する半導体製造装置の構成図である。
【図2】 実施例の制御装置が行う制御の流れを示した図である。
【図3】 従来例の基板搬送制御方法を実施する半導体製造装置の構成図である。
【図4】 従来例の制御装置が行う制御の流れを示した図である。
【符号の説明】
1、2・・プロセスモジュール、 3・・搬送装置、
4・・トランスファモジュール、 5・・制御装置、
5a・・手順保持手段、 5b・・処理手段、
5c・・停止保持手段、 6・・基板センサ、
7・・基板管理手段、 8・・搬送停止手段、[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate transfer control method for performing transfer processing of a substrate by a transfer device in a semiconductor manufacturing apparatus that performs a predetermined process such as a film forming process on a substrate, and more particularly to control when stopping the operation of the transfer device. .
[0002]
[Prior art]
In a semiconductor manufacturing apparatus that performs a predetermined process such as a film forming process on a substrate such as an LCD glass substrate or a semiconductor wafer, the substrate is transferred to a process module or the like by a transfer device such as a robot arm. In this carrying process, the operation of the carrying device is controlled by the control device in accordance with a program describing the control procedure, and the carrying process is automatically performed according to a preset procedure.
[0003]
An example of a semiconductor manufacturing apparatus that implements such a substrate transfer control method will be described with reference to FIG.
The semiconductor manufacturing apparatus controls
[0004]
The control of the substrate transfer process performed by the
First, after the
[0005]
Then, after the transfer apparatus is turned in the direction of the
[0006]
Here, when a failure occurs in the production process including the semiconductor manufacturing apparatus during the above-described transfer process, the transfer stop unit 8 detects the occurrence of the failure and instructs the
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
In the above-described conventional substrate transfer control method, the transfer process is forcibly stopped when there is a stop instruction from the transfer stop means 8, so that the
[0008]
Further, for example, when a stop instruction is given before the carry-in operation shown in step S26 is finished and the substrate detection and position information changing process shown in the next step S27 is finished, before the substrate position management is performed. The function stops. Therefore, although the substrate is located in the
[0009]
The present invention has been made in view of the above-described conventional circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate transfer control method that can prevent the transfer device from being damaged and can reliably manage the position of the substrate.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above-described object, a substrate transfer control method according to
Here, the stop instruction is given when a failure occurs in a production process including a semiconductor manufacturing apparatus that implements the substrate transfer control method of the present invention.
[0011]
In the substrate transfer control method according to
[0012]
According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate transport control method for transporting a substrate by a transport device and performing transport processing for detecting whether the transport device grasps the substrate and managing a substrate position. In the method, if there is a stop instruction to stop the transfer process when the substrate position management process after the transfer process by the transfer apparatus is not completed, the management process is ended, and then based on the stop instruction. The conveyance process is stopped.
[0013]
In the substrate transfer control method according to
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An example of a semiconductor manufacturing apparatus that implements the substrate transfer control method of the present invention will be described with reference to FIG.
The semiconductor manufacturing apparatus includes
[0015]
The
The
[0016]
The control device 5 temporarily receives a procedure holding means 5a for holding a program as a control procedure for the transport process, a processing means 5b for controlling the transport process according to the control procedure, and a transport process stop instruction from the transport stop means 8. Stop instruction holding means 5c for storing.
In a series of transfer processing procedures stored in the procedure holding means 5a, a procedure for transferring the substrate from the transfer source to the transfer destination and a procedure for stopping the substrate transfer process are set. The transfer processing stop procedure includes a procedure for stopping the
[0017]
The
[0018]
The
This stop instruction is output from the transport stop means 8 when, for example, some trouble occurs in the production line including the semiconductor manufacturing apparatus, and stops the operation of the semiconductor manufacturing apparatus.
In this control device 5, the processing means 5 b causes the
[0019]
The
The substrate management means 7 manages the position of the substrate in the semiconductor device based on the operation information of the
[0020]
Next, the transfer process of the semiconductor manufacturing apparatus described above will be described with reference to FIG. In the transfer process, the
[0021]
First, after turning the
If the stop instruction flag is not set, after preparing for transfer such as opening the module door (step S3), it is again determined whether the stop instruction flag is set in the stop holding means 5c. Confirm (step S4). When the stop instruction flag is not set, the expansion /
[0022]
If the stop instruction flag is not set, the
[0023]
Then, after changing the board position information of the board management means 7 from the
[0024]
Here, when a failure occurs in the production process including the semiconductor manufacturing apparatus during the above-described transfer process, the transfer stop unit 8 detects the occurrence of the failure and instructs the
When the processing means 5b confirms that the stop instruction flag is set in the stop holding means 5c according to the procedure held in the procedure holding means 5a (steps S2, S4, S7, S9, S11, S14), the processing The
[0025]
As described above, the stop instruction flag is confirmed according to the procedure set in the procedure holding means 5a, and the processing means 5b stops the conveyance process only when the stop instruction is confirmed at the time of the confirmation. For this reason, even if a stop instruction is given as in the processes in steps S5 and S7 and steps S12 and S14, the
[0026]
In the above-described embodiment of the present invention, the transport stop unit 8 is configured to instruct the stop of the transport process when the occurrence of the failure is detected. However, the transport stop unit 8 is instructed by the administrator of the semiconductor manufacturing apparatus. 8 may be configured to instruct the stop of the conveyance process.
Further, the
[0027]
In the embodiment of the present invention described above, the transfer process stop process (steps S7 and S14) is performed after the entrance / exit operation process (steps S5 and S12) and the substrate position management process (steps S6 and S13). In the invention, the conveyance process stop process may be performed after one of the processes, and even in this case, the respective effects can be achieved. However, it is practically preferable to use both in combination as in the above embodiment.
[0028]
In the above-described embodiment, a plurality of process modules are provided. However, if at least one process module is provided and the transfer process stop process is performed after the entry / exit operation process to the process module, the transfer apparatus is processed. It can be prevented from remaining in the module.
[0029]
Further, in the above-described embodiment, the process module is provided. However, the present invention is applicable to any configuration in which the substrate is transported and the position of the substrate is managed as it is transported without the process module. It is possible to match the information on the substrate position with the actual position of the substrate.
[0030]
【The invention's effect】
As described above, according to the substrate transfer control method according to
According to the substrate transfer control method according to
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor manufacturing apparatus that implements a substrate transfer control method of the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating a flow of control performed by the control device according to the embodiment.
FIG. 3 is a configuration diagram of a semiconductor manufacturing apparatus that implements a conventional substrate transfer control method;
FIG. 4 is a diagram illustrating a flow of control performed by a conventional control device.
[Explanation of symbols]
1, 2, ... Process module, 3 .... Transfer device,
4. Transfer module 5. Control device
5a ... Procedure holding means, 5b ... Processing means,
5c .. Stop holding means, 6 .. Board sensor,
7 .... Board management means, 8 .... Transfer stop means,
Claims (4)
前記プロセスモジュールにおいて障害が発生し、当該プロセスモジュールへの入退室動作の処理が未終了の時期に前記搬送装置の動作を停止させる停止指示があった場合には当該搬送装置の入退室動作の処理が終了した後に、該停止指示に基づいて搬送装置の動作を停止させることを特徴とする基板搬送制御方法。In the substrate transfer control method for transferring the substrate to the process module by causing the transfer device to enter and exit the process module,
When a failure occurs in the process module and there is a stop instruction to stop the operation of the transfer apparatus when the process of the entry / exit operation to the process module is not completed, the process of the entry / exit operation of the transfer apparatus A substrate transfer control method, comprising: stopping the operation of the transfer device based on the stop instruction after the completion of the step.
前記プロセスモジュールにおいて障害が発生し、前記搬送装置による搬送処理の終了後の基板位置管理処理が未終了の時期に、搬送処理を停止させる停止指示があった場合には当該管理処理が終了した後に、該停止指示に基づいて搬送処理を停止させることを特徴とする基板搬送制御方法。In the substrate transport control method for transporting the substrate to the process module by the transport device, detecting whether the transport device grasps the substrate and managing the substrate position,
When a failure occurs in the process module and a stop instruction for stopping the transfer process is given at a time when the substrate position management process after the transfer process by the transfer device is not completed, the management process ends. A substrate transfer control method, wherein transfer processing is stopped based on the stop instruction.
前記プロセスモジュールにおいて障害が発生し、当該プロセスモジュールへの入退室動作の処理が未終了の時期に前記搬送装置の動作を停止させる停止指示があった場合には当該搬送装置の入退室動作の処理が終了した後に、該停止指示に基づいて搬送装置の動作を停止させることを特徴とする半導体製造装置。 When a failure occurs in the process module and there is a stop instruction to stop the operation of the transfer apparatus when the process of the entry / exit operation to the process module is not completed, the process of the entry / exit operation of the transfer apparatus After the process is completed, the operation of the transfer device is stopped based on the stop instruction.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7316496A JP3904627B2 (en) | 1996-03-04 | 1996-03-04 | Substrate transfer control method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7316496A JP3904627B2 (en) | 1996-03-04 | 1996-03-04 | Substrate transfer control method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09246346A JPH09246346A (en) | 1997-09-19 |
| JP3904627B2 true JP3904627B2 (en) | 2007-04-11 |
Family
ID=13510258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7316496A Expired - Fee Related JP3904627B2 (en) | 1996-03-04 | 1996-03-04 | Substrate transfer control method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3904627B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4669544B2 (en) * | 2008-11-28 | 2011-04-13 | 株式会社日立国際電気 | Substrate detection method, substrate detection method in semiconductor manufacturing apparatus, semiconductor manufacturing apparatus, and substrate recovery method in semiconductor manufacturing apparatus |
| JP2011091415A (en) * | 2010-12-02 | 2011-05-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Substrate detecting method, substrate detecting method in semiconductor manufacturing apparatus, semiconductor manufacturing apparatus, and substrate collecting method in the semiconductor manufacturing apparatus |
-
1996
- 1996-03-04 JP JP7316496A patent/JP3904627B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09246346A (en) | 1997-09-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4760919B2 (en) | Coating and developing equipment | |
| US20030147643A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate transferring method | |
| JP2002362737A (en) | Mask transfer device, mask transfer system and mask transfer method | |
| TWI384579B (en) | Substrate processing device | |
| JP3904627B2 (en) | Substrate transfer control method | |
| JP3055522B2 (en) | Automatic guided vehicle abnormality processing control method | |
| JPS5978538A (en) | Die bonder | |
| JP3620830B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate recovery method in substrate processing apparatus | |
| JP2001126976A (en) | Substrate processing apparatus and its maintenance method | |
| US20030003774A1 (en) | Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate carrying method | |
| JP3200952B2 (en) | Multi-reactor type process equipment controller | |
| JP4001559B2 (en) | Inline connection setting method and apparatus | |
| JP2572380B2 (en) | LSI inspection handling system | |
| JP3441322B2 (en) | Substrate processing apparatus and method | |
| JPH10308429A (en) | Automatic conveyance system using trackless moving robot | |
| JPH0329317A (en) | Arrangement apparatus for semiconductor wafer | |
| JP4056284B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| JPH06216216A (en) | Automatic transferring apparatus and automatic transferring method for article by use of same | |
| JP3638242B2 (en) | Substrate processing equipment | |
| JPH05190529A (en) | Substrate carrier control device of substrate processor | |
| JPH09159981A (en) | Film forming device | |
| JPH09260261A (en) | Lithography equipment | |
| JP2824135B2 (en) | Conveyed object management system | |
| TWI296261B (en) | Method and system for operating a semiconductor factory | |
| JPH03256681A (en) | Control method for robot |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060726 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060808 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061006 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070109 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070110 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100119 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120119 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120119 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130119 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130119 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140119 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |