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JP3915658B2 - Manufacturing method of electronic parts - Google Patents
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/284Applying non-metallic protective coatings for encapsulating mounted components

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、電池パック等に用いられる過充電防止回路等を有する電子部品及びその製造方法に関し、詳しくは、配線基板の所定の領域に封止材を被覆させてなる電子部品の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、例えば、電池パックには、過充電及び過放電を防止する電子回路が形成された電子部品を内蔵するものがある。この電子部品は、所定の印刷配線パターンが形成された配線基板の一主面上にICチップやCR部品等のチップ部品が実装されている。 このような電池パックに限定されず、様々な電子機器には、配線基板にチップ部品が実装された電子部品を内蔵している。
【0003】
この電子部品は、配線基板に対してチップ部品(チップ抵抗、チップコンデンサー,FET,IC等)を実装した後、この電子部品を封止樹脂で封止し、これをブレードで切断個片化することにより製造される。いわゆる1枚の配線基板から電子部品の多数個取りを可能とし、これにより生産性の向上を図っている。この製造方法は、チップ・オン・ボード(COB)といわれるものであり、小型・軽量化を図ることができる。
【0004】
COB型の電子部品においては、チップ部品や配線等の防水保護等のため、樹脂による封止処理が行なわれていた。 その樹脂封止処理は、作業性や製造コストの面からエポキシ樹脂等の液状樹脂を使用し、所定の領域に形成するためにメタルマスクを用いた印刷方法やディスペンサーを用いた塗布方法で行なわれていた。この樹脂封止処理は、液状樹脂を使用するため、樹脂メタルマスク内に注入された液状樹脂は、メタルマスクを外すと樹脂を硬化するまでの間に流れ広がる。そこで、液状樹脂の流れを止めるために、従来、封止領域又は非封止領域を取囲むように樹脂材料等で堤防状の囲いを形成した後に樹脂の流れを防止していた(例えば、特許文献1参照)。
【0005】
【特許文献1】
特願2001−223302号
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来の樹脂の流れ防止は、単に半田等で形成されたバリア層又は堤防状の層で樹脂の流れを塞き止めるもので、確実に塞き止めるには樹脂がバリア層を乗り越えない高さ(半田の膜厚)又は十分な距離(樹脂塗布位置からバリア層までの距離)が必要とされる。然るに、液状樹脂の流れ防止を確実に行なうためには、半田の厳密な高さ管理が必要であった。また、半田等でのバリア層形成では複雑な形状及び小面積な封止領域を形成することは困難であった。
【0007】
本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、確実に液状樹脂の広がりを止めて樹脂封止領域を規制すると共に複雑な形状及び小面積な封止領域を形成することが可能な電子部品の製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、基板上に配線パターンを形成する工程と、上記配線パターンを覆ってレジスト層を形成する工程と、上記レジスト層上に樹脂封止領域を囲むようにレジストパターンを形成する工程と、チップ部品を実装する工程と、マスク開口部が上記レジストパターンで囲まれた領域内に配置されるように樹脂メタルマスクを設置する工程と、上記樹脂メタルマスクのマスク開口部内に液状樹脂を注入する工程と、上記樹脂メタルマスクを除去する工程と、上記液状樹脂を熱硬化する工程と上記基板を所定間隔で個片化する工程とを有することを特徴とするものである。
【0010】
本発明においては、配線基板の所定の樹脂封止領域を囲むように断面形状が略四角形状な凸部または凹部のエッジ部に生ずる表面張力で液状樹脂の流れを抑えるようにしており、樹脂を塞き止める構造ではないので凸部の高さまたは凹部の深さに依存すること無く、樹脂の広がりが確実に樹脂封止領域内に規制される。また、上記凸部または凹部は、レジストで形成されるのでその断面形状がエッジを有する略四角形状で形成され、複雑な形状にも対応可能となる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を適用した電子部品及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【0012】
図1は、本発明を適用した電子部品の第1の実施例を示すものである。電子部品10は、配線基板1上には例えば銅等の金属材料からなる配線パターン2が形成されており、この配線パターン2を覆ってレジスト層3が形成されている。レジスト層3は、例えばフォトレジスト等からなるものであり、配線パターン2を腐食等から保護するためや所定の位置に半田を盛るためのものである。このレジスト層3は、基板1上に全面に形成されるが、配線パターン2の接続ランド部等、後述のチップ部品等と電気的接続を図る必要がある部分においては、これを露出させるための開口部が形成されている。
【0013】
そして、この配線パターン2と接続される例えばICなどのチップ部品4が実装され、樹脂5によって封止されている。ここで、樹脂5の両端部には、樹脂封止領域を囲むように断面形状が略四角形状なレジストパターンである凸部6が形成されており、樹脂5はこの凸部6のエッジに作用する表面張力よって広がりが抑えられている。
【0014】
図2は、個片化前の配線基板1の平面図を示す。図2において、樹脂5は実線囲われた領域で、凸部6は実線と点線で囲われた領域である。樹脂5は例えば外部端子との接続端子等の非封止領域7が設けられ、この非封止領域7は凸部6によって形成される。この様にレジストパターンである凸部6は、複雑な封止形状に対応可能である。なお、配線基板1は樹脂5を形成後、スクラブラインAに沿ってカッティングされ個片化することで電子部品10を形成する。
【0015】
次に、電子部品10を作製するための製造方法について説明する。図3(a)〜図3(g)は、本発明を適用した樹脂封止プロセスの一例を示すものである。
【0016】
図3(a)〜図3(b)は、配線基板作製プロセスであり、先ず、図3(a)に示すように、基板11上にCuパターンを配線パターン12として形成する。Cuパターンは、例えば銅張り積層基板を用い、表面の銅箔をフォトリソ技術及びエッチングによりパターニングして形成する。配線パターン12形成後、配線パターン2を覆ってレジスト層13をフォトリソ技術等の手法により形成する。これが1回目のレジスト形成である。レジスト層13には、例えばフォトレジストが用いられ、配線パターン12のランド部等に対応して開口部を形成しておく。
【0017】
次に、図3(c)に示すように、2回目のレジスト形成を行う。この2回目のレジスト形成では、樹脂封止領域に対応して、これを囲む枠状のレジストパターンの凸部14を形成する。したがって、この凸部14には、フォトレジストを用い、フォトリソ技術によりパターニングする。あるいは、印刷技術を利用して形成することもできるが、エッジ形状をシャープなものとするためには、フォトリソ技術によってパターニングすることが好ましい。なお、この凸部14は、例えば厚さ30〜50μm程度、幅0.3mm程度に形成する。また、その形状としては、エッジに生ずる表面張力を大きなものとするため、なるべくシャープな形状であることが好ましい。
【0018】
次いで、図3(d)に示すように、チップ部品15を実装する。チップ部品15としては、ベアチップやCR部品等、回路構成に応じて任意のものを実装すればよい。
【0019】
チップ部品15を実装した後、図3(e)に示すように、樹脂メタルマスク16をセットする。この樹脂メタルマスク16は、樹脂をポッティングするためのマスク開口部16aを有しており、このマスク開口部16aが凸部14の内側に入るように配置する。ここで、樹脂メタルマスク16のマスク開口部16aの高さや開口端から凸部14のエッジまでの距離が重要であり、これを樹脂の粘度に応じて適正な値に設定することが好ましい。例えば、マスク開口部16aの開口端から凸部14の外周エッジまでの距離をL、マスク開口部16aのマスク高さをHとし、液状樹脂の粘度がレベル高さで1.4〜1.9mmであるとき、L≧0.6×Hとすることが好ましい。これにより、樹脂の流れによる広がりを確実に抑えることができる。
尚、上記レベル高さとは、セラミック基板上に0.65gの樹脂を滴下し、100℃の温度で1時間保持し熱硬化後の基板表面からの樹脂の高さのことである。
【0020】
次に、図3(f)に示すように、上記樹脂メタルマスク16のマスク開口部16aに液状樹脂17を注入(ポッティング)する。液状樹脂17としては、例えばエポキシ樹脂等を用いる。
【0021】
続いて、図3(g)に示すように、樹脂メタルマスク16を取り除く。これにより、液状樹脂17が流れ出すが、上記レジストパターン14のエッジに働く表面張力により樹脂17の広がりがここで止まる。この状態で樹脂17を熱硬化し、個片化することで、図1に示す電子部品10が完成する。
【0022】
続いて、本発明の第2実施例について説明する。
図4は、第2の実施例である電子部品20を説明するため図である。尚、図4において、第1の実施例の説明で用いた図1乃至図3に示した構成と同一構成については同一符号を付してその説明を省略する。
【0023】
前記した第1の実施例では、レジスト層3上に形成したレジストパターンの凸部6のエッジに作用する表面張力によって、樹脂5の広がりを抑える構成としていた。これに対して本実施例では、レジスト層3に凹部21を設け、この凹部21のエッジに作用する表面張力によって、樹脂5の広がりを抑える構成としたことを特徴とするものである。
【0024】
電子部品20は、配線基板1上に配線パターン2が形成されており、この配線パターン2を覆ってレジスト層3が形成され、そのレジスト層3の所定の位置に凹部21が形成されている。凹部21は、配線パターン2の接続ランド部等やチップ部品4等と電気的接続を図るための開口部と同時にレジスト層3に形成される。
【0025】
そして、配線パターン2と接続される例えばICなどのチップ部品4が実装され、樹脂5によって封止される。ここで、樹脂5の両端部には、樹脂封止領域を囲むように凹部21が形成されており、樹脂5はこの凹部21のエッジに作用する表面張力によって広がりが抑えられている。
【0026】
次に、電子部品20を作製するための製造方法について説明する。図5(a)〜図5(e)は、本発明を適用した樹脂封止プロセスの一例を示すものである。
【0027】
図5(a)〜図5(b)は、配線基板作製プロセスであり、先ず、図5(a)に示すように、基板11上にCuパターンを配線パターン12として形成する。そして、図5(b)に示すように配線パターン12形成後、配線パターン2を覆って例えばフォトレジストからなるレジスト層13をフォトリソ技術等の手法により形成する。レジスト層13には、配線パターン12のランド部等に対応する開口部と樹脂封止領域に対応し、これを囲む枠状の凹部22を形成する。なお、この凹部22は、例えば深さ(フォトレジストの膜厚に相当)2〜3μm程度、幅0.3mm程度に形成する。また、その形状としては、エッジに生ずる表面張力を大きなものとするため、なるべくシャープな形状であることが好ましい。
【0028】
次いで、図5(c)に示すように、チップ部品15を実装する。チップ部品15としては、ベアチップやCR部品等、回路構成に応じて任意のものを実装すればよい。
【0029】
チップ部品15を実装した後、図3(d)に示すように、樹脂メタルマスク16をセットする。この樹脂メタルマスク16は、樹脂をポッティングするためのマスク開口部16aを有しており、このマスク開口部16aが凹部22の内側に入るように配置する。ここで、樹脂メタルマスク16のマスク開口部16aの高さや開口端から凹部22のエッジまでの距離が重要であり、これを樹脂の粘度に応じて適正な値に設定することが好ましい。例えば、マスク開口部16aの開口端から凹部22の内周エッジまでの距離をL、マスク開口部16aのマスク高さをHとし、液状樹脂の粘度がレベル高さで1.4〜1.9mmであるとき、L≧0.6×Hとすることが好ましい。これにより、凹部22のエッジに作用する表面張力によって樹脂の流れによる広がりを確実に抑えることができる。
【0030】
次に、樹脂メタルマスク16のマスク開口部16aに液状樹脂17を注入(ポッティング)する。液状樹脂17としては、例えばエポキシ樹脂等を用いる。
【0031】
続いて、図5(e)に示すように、樹脂メタルマスク16を取り除く。これにより、液状樹脂17が流れ出すが、上述した凹部22のエッジに作用する表面張力により樹脂17の広がりがここで止まる。この状態で樹脂17を熱硬化し、個片化することで、図1に示す電子部品20が完成する。
【発明の効果】
以上の説明からも明らかなように、本発明によれば、確実に樹脂の流れを抑えて樹脂封止領域を規制することができる。狭い範囲に樹脂をポッティングする場合、いかに流れる部分を抑え込むかが重要になるが、本発明は表面張力をうまく活用したものであり、工程的にも容易であり、有効であり効果も大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した第1の実施例の電子部品の一例を示す断面図である。
【図2】本発明を適用した第1の実施例の個片化前の電子部品を示す平面図である。
【図3】本発明を適用した第1の実施例の製造方法の一例を示す断面図であり、(a)は配線パターン形成工程、(b)はレジスト層形成工程、(c)は凸部形成工程、(d)はチップ部品実装工程、(e)は樹脂メタルマスク設置工程、(f)は液状樹脂注入工程、(g)は樹脂メタルマスク除去及び樹脂硬化工程を示す。
【図4】本発明を適用した第2の実施例の電子部品の一例を示す断面図である。
【図5】本発明を適用した第2の実施例の製造方法の一例を示す断面図であり、(a)は配線パターン形成工程、(b)は凹部形成工程、(c)はチップ部品実装工程、(d)は樹脂メタルマスク設置工程、(e)は樹脂メタルマスク除去及び樹脂硬化工程を示す。
【符号の説明】
1,11 基板
2,12 配線パターン
3,13 レジスト層
4,15 チップ部品
5 樹脂
6,14 凸部
16 樹脂メタルマスク
17 液状樹脂
21,22 凹部
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an electronic component having an overcharge prevention circuit used for, for example, a battery pack and the like, and a method for manufacturing the same. About.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, for example, some battery packs include an electronic component in which an electronic circuit for preventing overcharge and overdischarge is formed. In this electronic component, a chip component such as an IC chip or a CR component is mounted on one main surface of a wiring board on which a predetermined printed wiring pattern is formed. Without being limited to such a battery pack, various electronic devices incorporate an electronic component in which a chip component is mounted on a wiring board.
[0003]
In this electronic component, after mounting a chip component (chip resistor, chip capacitor, FET, IC, etc.) on the wiring board, the electronic component is sealed with a sealing resin, and this is cut into pieces by a blade. It is manufactured by. A large number of electronic components can be obtained from a so-called single wiring board, thereby improving productivity. This manufacturing method is called chip-on-board (COB), and can be reduced in size and weight.
[0004]
In a COB type electronic component, a sealing treatment with a resin has been performed for waterproofing protection of chip components and wiring. The resin sealing process uses a liquid resin such as an epoxy resin from the viewpoint of workability and manufacturing cost, and is performed by a printing method using a metal mask or a coating method using a dispenser in order to form in a predetermined region. It was. Since this resin sealing process uses a liquid resin, the liquid resin injected into the resin metal mask flows and spreads until the resin is cured when the metal mask is removed. Therefore, in order to stop the flow of the liquid resin, conventionally, the flow of the resin has been prevented after forming an embankment-shaped enclosure with a resin material or the like so as to surround the sealing region or the non-sealing region (for example, patent Reference 1).
[0005]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Application No. 2001-223302 [0006]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, the conventional prevention of resin flow is to simply block the resin flow with a barrier layer or bank-like layer formed of solder or the like. (A film thickness of the solder) or a sufficient distance (a distance from the resin application position to the barrier layer) is required. However, in order to surely prevent the liquid resin from flowing, it is necessary to strictly control the height of the solder. In addition, it is difficult to form a complicated shape and a small-area sealing region by forming a barrier layer with solder or the like.
[0007]
The present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and reliably suppresses the spread of the liquid resin to regulate the resin sealing region and form a complicated shape and a small area sealing region. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an electronic component that can be used.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above-mentioned object, a step of forming a wiring pattern on the substrate, a step of forming a resist layer covering the wiring pattern, and a resist pattern so as to surround a resin sealing region on the resist layer A step of forming, a step of mounting a chip component, a step of installing a resin metal mask so that the mask opening is disposed in a region surrounded by the resist pattern, and a mask opening of the resin metal mask. The method includes a step of injecting a liquid resin, a step of removing the resin metal mask, a step of thermosetting the liquid resin, and a step of dividing the substrate into individual pieces at a predetermined interval.
[0010]
In the present invention, the flow of the liquid resin is suppressed by the surface tension generated at the convex part or the edge part of the concave part having a substantially square cross section so as to surround a predetermined resin sealing region of the wiring board. Since it is not a structure for blocking, the spread of the resin is surely restricted within the resin sealing region without depending on the height of the convex portion or the depth of the concave portion. Moreover, since the said convex part or recessed part is formed with a resist, the cross-sectional shape is formed in the substantially square shape which has an edge, and it can respond also to a complicated shape.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an electronic component to which the present invention is applied and a manufacturing method thereof will be described in detail with reference to the drawings.
[0012]
FIG. 1 shows a first embodiment of an electronic component to which the present invention is applied. In the electronic component 10, a wiring pattern 2 made of a metal material such as copper is formed on the wiring substrate 1, and a resist layer 3 is formed so as to cover the wiring pattern 2. The resist layer 3 is made of, for example, a photoresist, and is for protecting the wiring pattern 2 from corrosion or the like and for depositing solder at a predetermined position. The resist layer 3 is formed on the entire surface of the substrate 1. However, the resist layer 3 is exposed at portions that need to be electrically connected to chip components and the like described later, such as connection lands of the wiring pattern 2. An opening is formed.
[0013]
A chip component 4 such as an IC connected to the wiring pattern 2 is mounted and sealed with a resin 5. Here, convex portions 6 that are resist patterns having a substantially square cross section are formed at both ends of the resin 5 so as to surround the resin sealing region, and the resin 5 acts on the edges of the convex portions 6. The spread is suppressed by the surface tension.
[0014]
FIG. 2 shows a plan view of the wiring board 1 before separation. In FIG. 2, the resin 5 is a region surrounded by a solid line, and the convex portion 6 is a region surrounded by a solid line and a dotted line. The resin 5 is provided with a non-sealing region 7 such as a connection terminal with an external terminal, and the non-sealing region 7 is formed by the convex portion 6. Thus, the convex part 6 which is a resist pattern can respond to a complicated sealing shape. In addition, after forming the resin 5, the wiring board 1 is cut along the scrub line A and separated into individual pieces to form the electronic component 10.
[0015]
Next, a manufacturing method for manufacturing the electronic component 10 will be described. 3A to 3G show an example of a resin sealing process to which the present invention is applied.
[0016]
3A to 3B show a wiring board manufacturing process. First, as shown in FIG. 3A, a Cu pattern is formed as a wiring pattern 12 on a substrate 11. The Cu pattern is formed, for example, by using a copper-clad laminated substrate and patterning the surface copper foil by photolithography and etching. After the wiring pattern 12 is formed, a resist layer 13 is formed by a technique such as a photolithography technique so as to cover the wiring pattern 2. This is the first resist formation. For example, a photoresist is used for the resist layer 13, and an opening is formed corresponding to the land portion of the wiring pattern 12.
[0017]
Next, as shown in FIG. 3C, a second resist formation is performed. In this second resist formation, a convex portion 14 of a frame-like resist pattern surrounding the resin sealing region is formed. Therefore, the convex portion 14 is patterned by photolithography using a photoresist. Alternatively, it can be formed by using a printing technique, but in order to make the edge shape sharp, it is preferable to perform patterning by a photolithography technique. In addition, this convex part 14 is formed in thickness about 30-50 micrometers and width about 0.3 mm, for example. The shape is preferably as sharp as possible in order to increase the surface tension generated at the edge.
[0018]
Next, as shown in FIG. 3D, the chip component 15 is mounted. Any chip component 15 may be mounted according to the circuit configuration, such as a bare chip or a CR component.
[0019]
After the chip component 15 is mounted, a resin metal mask 16 is set as shown in FIG. The resin metal mask 16 has a mask opening 16 a for potting resin, and is arranged so that the mask opening 16 a enters the inside of the convex portion 14. Here, the height of the mask opening 16a of the resin metal mask 16 and the distance from the opening end to the edge of the convex portion 14 are important, and it is preferable to set this to an appropriate value according to the viscosity of the resin. For example, the distance from the opening end of the mask opening 16a to the outer peripheral edge of the convex portion 14 is L, the mask height of the mask opening 16a is H, and the viscosity of the liquid resin is 1.4 to 1.9 mm in level height. In this case, it is preferable that L ≧ 0.6 × H. Thereby, the spread by the flow of resin can be suppressed reliably.
The level height refers to the height of the resin from the surface of the substrate after 0.65 g of resin is dropped on the ceramic substrate and held at a temperature of 100 ° C. for 1 hour and after thermosetting.
[0020]
Next, as shown in FIG. 3 (f), a liquid resin 17 is injected (potted) into the mask opening 16 a of the resin metal mask 16. As the liquid resin 17, for example, an epoxy resin or the like is used.
[0021]
Subsequently, as shown in FIG. 3G, the resin metal mask 16 is removed. Thereby, the liquid resin 17 flows out, but the spread of the resin 17 stops here due to the surface tension acting on the edge of the resist pattern 14. In this state, the resin 17 is thermally cured and separated into pieces, thereby completing the electronic component 10 shown in FIG.
[0022]
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
FIG. 4 is a diagram for explaining the electronic component 20 according to the second embodiment. In FIG. 4, the same components as those shown in FIGS. 1 to 3 used in the description of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0023]
In the first embodiment described above, the spread of the resin 5 is suppressed by the surface tension acting on the edge of the convex portion 6 of the resist pattern formed on the resist layer 3. On the other hand, the present embodiment is characterized in that the resist layer 3 is provided with the recess 21 and the spread of the resin 5 is suppressed by the surface tension acting on the edge of the recess 21.
[0024]
In the electronic component 20, a wiring pattern 2 is formed on the wiring substrate 1, a resist layer 3 is formed so as to cover the wiring pattern 2, and a recess 21 is formed at a predetermined position of the resist layer 3. The concave portion 21 is formed in the resist layer 3 simultaneously with the opening for electrical connection with the connection land portion of the wiring pattern 2 and the chip component 4.
[0025]
Then, a chip component 4 such as an IC connected to the wiring pattern 2 is mounted and sealed with a resin 5. Here, a concave portion 21 is formed at both ends of the resin 5 so as to surround the resin sealing region, and the spread of the resin 5 is suppressed by the surface tension acting on the edge of the concave portion 21.
[0026]
Next, a manufacturing method for manufacturing the electronic component 20 will be described. Fig.5 (a)-FIG.5 (e) show an example of the resin sealing process to which this invention is applied.
[0027]
5A to 5B show a wiring board manufacturing process. First, as shown in FIG. 5A, a Cu pattern is formed as a wiring pattern 12 on a substrate 11. Then, as shown in FIG. 5B, after the wiring pattern 12 is formed, a resist layer 13 made of, for example, a photoresist covering the wiring pattern 2 is formed by a technique such as a photolithography technique. In the resist layer 13, an opening corresponding to a land portion or the like of the wiring pattern 12 and a frame-shaped concave portion 22 corresponding to and surrounding the resin sealing region are formed. The recess 22 is formed to have a depth (corresponding to the film thickness of the photoresist) of about 2 to 3 μm and a width of about 0.3 mm, for example. The shape is preferably as sharp as possible in order to increase the surface tension generated at the edge.
[0028]
Next, as shown in FIG. 5C, the chip component 15 is mounted. Any chip component 15 may be mounted according to the circuit configuration, such as a bare chip or a CR component.
[0029]
After the chip component 15 is mounted, a resin metal mask 16 is set as shown in FIG. The resin metal mask 16 has a mask opening 16 a for potting resin, and is arranged so that the mask opening 16 a enters the inside of the recess 22. Here, the height of the mask opening 16a of the resin metal mask 16 and the distance from the opening end to the edge of the recess 22 are important, and it is preferable to set this to an appropriate value according to the viscosity of the resin. For example, the distance from the opening end of the mask opening 16a to the inner peripheral edge of the recess 22 is L, the mask height of the mask opening 16a is H, and the viscosity of the liquid resin is 1.4 to 1.9 mm in level height. In this case, it is preferable that L ≧ 0.6 × H. Thereby, the spread due to the flow of the resin can be surely suppressed by the surface tension acting on the edge of the recess 22.
[0030]
Next, a liquid resin 17 is injected (potted) into the mask opening 16 a of the resin metal mask 16. As the liquid resin 17, for example, an epoxy resin or the like is used.
[0031]
Subsequently, as shown in FIG. 5E, the resin metal mask 16 is removed. Thereby, although the liquid resin 17 flows out, the spread of the resin 17 stops here by the surface tension which acts on the edge of the recessed part 22 mentioned above. In this state, the resin 17 is thermally cured and separated into individual pieces, whereby the electronic component 20 shown in FIG. 1 is completed.
【The invention's effect】
As is clear from the above description, according to the present invention, it is possible to reliably suppress the resin flow and regulate the resin sealing region. When potting a resin in a narrow range, it is important how to suppress the flowing part, but the present invention makes good use of surface tension, is easy in process, is effective, and has a large effect. .
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an electronic component of a first embodiment to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a plan view showing an electronic component before singulation according to a first embodiment to which the present invention is applied.
FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views showing an example of the manufacturing method of the first embodiment to which the present invention is applied, where FIG. 3A is a wiring pattern forming step, FIG. 3B is a resist layer forming step, and FIG. (D) shows a chip component mounting process, (e) shows a resin metal mask installation process, (f) shows a liquid resin injection process, and (g) shows a resin metal mask removal and resin curing process.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of an electronic component of a second embodiment to which the present invention is applied.
5A and 5B are cross-sectional views showing an example of a manufacturing method according to a second embodiment to which the present invention is applied, where FIG. 5A is a wiring pattern forming step, FIG. 5B is a concave portion forming step, and FIG. Step (d) shows a resin metal mask installation step, and (e) shows a resin metal mask removal and resin curing step.
[Explanation of symbols]
1, 11 Substrate 2, 12 Wiring pattern 3, 13 Resist layer 4, 15 Chip component 5 Resin 6, 14 Protrusion 16 Resin metal mask 17 Liquid resin 21, 22 Concavity

Claims (2)

基板上に配線パターンを形成する工程と、Forming a wiring pattern on the substrate;
上記配線パターンを覆ってレジスト層を形成する工程と、Forming a resist layer covering the wiring pattern;
上記レジスト層上に樹脂封止領域を囲むようにレジストパターンを形成する工程と、Forming a resist pattern on the resist layer so as to surround the resin sealing region;
チップ部品を実装する工程と、Mounting chip components; and
マスク開口部が上記レジストパターンで囲まれた領域内に配置されるように樹脂メタルマスクを設置する工程と、A step of installing a resin metal mask so that the mask opening is disposed in a region surrounded by the resist pattern;
上記樹脂メタルマスクのマスク開口部内に液状樹脂を注入する工程と、Injecting a liquid resin into the mask opening of the resin metal mask;
上記樹脂メタルマスクを除去する工程と、Removing the resin metal mask;
上記液状樹脂を熱硬化する工程とA step of thermosetting the liquid resin;
上記基板を所定間隔で個片化する工程とDividing the substrate into pieces at predetermined intervals;
を有することを特徴とする電子部品の製造方法。A method for manufacturing an electronic component, comprising:
上記マスク開口部の開口端からレジストパターンの外周エッジまでの距離をLL is the distance from the opening edge of the mask opening to the outer peripheral edge of the resist pattern. 、マスク開口部のマスク高さをHとし、液状樹脂の粘度が所定の粘度であるとき、L≧0.6×Hであることを特徴とする請求項1記載の電子部品の製造方法。2. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein when the mask height of the mask opening is H and the viscosity of the liquid resin is a predetermined viscosity, L ≧ 0.6 × H.
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