JP4029440B2 - 側鎖型ラジカル重合性化合物及びそれを用いた液晶デバイス - Google Patents
側鎖型ラジカル重合性化合物及びそれを用いた液晶デバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JP4029440B2 JP4029440B2 JP18369397A JP18369397A JP4029440B2 JP 4029440 B2 JP4029440 B2 JP 4029440B2 JP 18369397 A JP18369397 A JP 18369397A JP 18369397 A JP18369397 A JP 18369397A JP 4029440 B2 JP4029440 B2 JP 4029440B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- acid
- polymerizable compound
- side chain
- crystal device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、大面積になし得る液晶デバイスに関するものであって、更に詳しくは、視野の遮断、開放及び明かりもしくは照明光の透過制限、遮断、透過を電気的又は熱的に操作でき、建築物の窓や、ショーウィンドウなどで視野遮断のスクリーンや、採光コントロールのカーテンに利用や、文字や図形を表示し、高速応答性を以って電気的に表示を切り換えることによって、広告板や装飾表示板や、時計、コンピューター末端の表示装置、プロジェクションの表示装置として利用される液晶デバイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
偏光板及び配向処理を必要とせず、明るくコントラストの良い大型で廉価な液晶デバイスとして、特表昭５８−５０１６３１号公報等には、液晶のカプセル化によりポリマー中に液晶を分散させて、フィルム化したものを調光層に用いた液晶デバイスが開示され、また、特開平１−１９８７２５号公報には、液晶材料の連続層中に三次元網目状の透明性高分子物質を介在させたものを調光層に用いた液晶デバイスが開示されている。これらの中でも、後者の液晶デバイスは、しきい値電圧を示し、駆動電圧を低電圧化できることことから、大型で廉価な表示材料として注目されている。
【０００３】
しかしながら、後者の液晶デバイスは、その駆動電圧が低電圧であるといえども、その駆動しうる電圧の範囲は１０〜３０Ｖであり、汎用の液晶表示装置駆動用のＩＣドライバーを使用するには極めて困難であった。
【０００４】
この問題点を解決するために、特開平６−３２７６１号公報には、三次元網目状の透明性高分子物質として、一般式（IV）
【０００５】
【化４】
【０００６】
（式中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立的に脂肪族基、脂環族基、芳香族基、複素環基又はそれらの置換体を表わし、Ｒ8は−Ｈ又は−ＣＨ3を表わし、Ｘは−Ｏ−又は−ＣＯＯ−を表わし、Ｙは−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は環を形成していても良い−Ｎ−を表わし、ｎは２〜４の整数を表わす。）
で表わされる側鎖型重合性化合物を含有する重合性組成物からなる重合物を用いた液晶デバイスが提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平６−３２７６１号公報に記載の液晶デバイスは、低電圧駆動が可能であったが、まだ十分でなく、たま、低温域において電気光学特性が悪化するという問題点があった。
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、十分な低電圧駆動性を有し、高コントラストで、低温域における電気光学特性が改善された液晶デバイスを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決するために、液晶デバイスの調光層に使用する重合性組成物について鋭意検討した結果、調光層の透明性高分子物質として、特定の構造を有する側鎖型ラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成を重合してなる高分子物質を用いた液晶デバイスが、低電圧駆動、高急峻性、高コントラストを示し、かつ、温度による特性変化が小さいことを見い出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
即ち、本発明は上記課題を解決するために、（１）一般式（Ｉ）
【００１１】
【化５】
【００１２】
（式中、Ｒ1 は−ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−を表わし、Ｒ 2 は、炭素原子数４〜２０の直鎖状及び／又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ 3 は脂肪族基を表し、Ｒ4及びＲ5は−Ｈ又は−ＣＨ3 を表わし、Ｘは −ＣＨ2−、エーテル結合、又はエステル結合を表わし、Ｙはエーテル結合又はエステル結合を表わし、ｎは２〜４の整数を表わし、ｐ及びｑは０又は１を表わす。）で表わされる側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００１３】
（２）一般式（II）
【００１４】
【化６】
【００１５】
（式中、Ｒ1 は−ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−を表わし、Ｒ 2 は、炭素原子数４〜２０の直鎖状及び／又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ 3 は脂肪族基を表し、Ｒ4及びＲ5は−Ｈ又は−ＣＨ3 を表わし、Ｘは −ＣＨ2−、エーテル結合、又はエステル結合を表わし、Ｙはエーテル結合又はエステル結合を表わし、ｎは２〜４の整数を表わす。）で表わされる一般式（Ｉ）におけるｐ＝０及びｑ＝１である上記（１）記載の側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００１６】
（３）一般式（III）
【００１７】
【化７】
【００１８】
（式中、Ｒ1 は−ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−を表わし、Ｒ 2 は、炭素原子数４〜２０の直鎖状及び／又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ 3 は脂肪族基を表し、Ｒ4及びＲ5は−Ｈ又は−ＣＨ3 を表わし、Ｘは −ＣＨ2−、エーテル結合、又はエステル結合を表わし、Ｙはエーテル結合又はエステル結合を表わし、ｎは２〜４の整数を表わす。）で表わされる一般式（Ｉ）におけるｐ＝１及びｑ＝０である上記（１）記載の側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００１９】
（４）エポキシ基を有する化合物と（メタ）アクリロイル基を有するカルボン酸から成るエポキシアクリレートと、カルボン酸又はカルボン酸クロライドとの反応生成物である上記（１）、（２）又は（３）記載の側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００２０】
（５）Ｒ2 が炭素原子数４〜２０の飽和アルキル基である上記（１）、（２）、（３）又は（４）記載の側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００２１】
（６）電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板と、これらの基板間に支持された、液晶材料（Ｂ）及び透明性高分子物質からなる調光層で構成する液晶デバイスにおいて、透明性高分子物質が、
一般式（Ｉ’）
（式中、Ｒ 1 は−ＣＨ 2 −又は−ＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＯＯＣＨ 2 −を表わし、Ｒ 2 及びＲ 3 は各々独立的に脂肪族基、環状脂肪族基、芳香族基又はそれらの置換体を表わし、Ｒ 4 及びＲ 5 は−Ｈ又は−ＣＨ 3 を表わし、Ｘは −ＣＨ 2 −、エーテル結合、又はエステル結合を表わし、Ｙはエーテル結合又はエステル結合を表わし、ｎは２〜４の整数を表わし、ｐ及びｑは０又は１を表わす。）で表わされる側鎖型ラジカル重合性化合物を含有する重合性組成物を重合してなる高分子物質である液晶デバイス。
【００２２】
（７）液晶材料の連続層中に３次元網目状の透明性高分子から成る調光層を有する上記（６）記載の液晶デバイス、
を提供する。
【００２３】
【発明の実施の形態】
本発明の一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、ｐ及びｑの値によって製造方法が異なるので、ｐ及びｑの値が異なる化合物を表わす一般式（II）及び一般式（III）で表わされる化合物に大別して、その製造方法を説明する。
【００２４】
（１）一般式（Ｉ）においてｐ＝０及びｑ＝１である一般式（II）の化合物
一般式（II）で表わされる側鎖型重合性化合物は、例えば、多価エポキシ基を有する化合物（ａ）と、エポキシ基と反応し得る活性水素を有するラジカル重合性化合物（ｂ）とを反応させ、更に、生成した水酸基と、水酸基と反応し得る基を有する化合物（ｃ）とを反応させることにより容易に合成することができるが、具体的には、以下の通りである。
【００２５】
（１−１）Ｘがエーテル結合で、Ｙがエステル結合である場合
ネオペンチルグリコージグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル等の多価グリシジルエーテル化合物（ａ−１）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）をグリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃の条件下で反応させることによって、水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。この反応においては、反応温度が１２０℃以上となるとアクリル基が重合してしまう恐れがあるので、できるだけ低温で行なうことが好ましい。
【００２６】
次に、この水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．２当量のカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸などのモノカルボン酸（ｃ−１）及びこれらの酸塩化物（ｃ−２）を反応させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造する。この反応において、カルボン酸（ｃ−１）を使用する場合は、水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．２当量のカルボン酸及びジシクロヘキシルカルボジイミドを加え、ジメチルアミノピリジンを触媒として、無水トルエン下、室温で１昼夜反応させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。この反応は公知であり高い収率が得られる。この反応に関する参考文献としては、ビー・ネイセス（B.Neises）、ダブリュー・ステイグリッヒ（W.Steglich）による「アンゲワァンデテ・ケミー・インターナショナル・エディション・イン・イングリッシュ（Angewandte Chemie International Edition in English）第17巻第522頁（1978年）、 丹羽、小川、山田による「テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Lett.） 第30巻第4985頁（1989年）等が挙げられる。一方、酸塩化物（ｃ−２）を使用する場合は、水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．１当量の酸塩化物及び１．１当量のトリエチルアミンを加え、無水イソプロピルエーテル下で４時間環流させることにより側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００２７】
（１−２）Ｘがエステル結合で、Ｙがエステル結合である場合
長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル（商品名ＩＰＳ−２２Ｇ、岡村製油社製）、ダイマー酸ジグリシジルエステル、セバシン酸ジグリシジルエステル等の多価グリシジルエステル化合物（ａ−２）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）を、グリシジル基１当量に対して１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィンやＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃の条件下で反応させて水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。次に、水酸基を有するラジカル重合性化合物を上記（１−１）と同様にして、カルボン酸（ｃ−１）及びカルボン酸塩化物（ｃ−２）と反応させることにより側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００２８】
（１−３）Ｘがエーテル結合で、Ｙがエーテル結合である場合
上記（１−１）と同様に、多価グリシジルエーテル化合物（ａ−１）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）をグリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃の条件下で反応させることによって、水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。
【００２９】
次に、この水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．５当量の塩化ドデシル、塩化ラウリル、塩化オクチル等の塩化アルキル（ｃ−３）及び水酸基含有ラジカル重合性化合物の水酸基と同当量の水酸化ナトリウムを加え、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイドを触媒として、無水トルエン下でオイルバスで６０℃に保ちながら４時間反応させることによって側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３０】
（１−４）Ｘが−ＣＨ2−で、Ｙがエステル結合である場合
上記（１−１）において、多価グリシジルエーテル化合物（ａ−１）に代えて、１，２，３，４−ジエポキシブタン、１，２，７，８−ジエポキシオクタン等のエポキシ化合物（ａ−３）を用いる以外は上記（１−１）と同様にして側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３１】
（１−５）Ｘが−ＣＨ2−で、Ｙがエーテル結合である場合
上記（１−３）において、多価グリシジルエーテル化合物（ａ−１）に代えて、１，２，３，４−ジエポキシブタン、１，２，７，８−ジエポキシオクタン等のエポキシ化合物（ａ−３）を用いる以外は上記（１−３）と同様にして側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３２】
（２）一般式（Ｉ）においてｐ＝１及びｑ＝０である一般式（III）の化合物
一般式（III）で表わされる側鎖型ラジカル重合性化合物は、モノエポキシ基を有する化合物（ａ′）と、エポキシ基と反応し得る活性水素を有するラジカル重合性化合物（ｂ）とを反応させ、更に、生成した水酸基と、水酸基と反応し得る基を１分子中に２以上有する化合物（ｃ′）とを反応させることにより容易に製造することができるが、具体的には、以下の通りである。
【００３３】
（２−１）Ｘがエステル結合でＹがエーテル結合である場合
ブチルグリシジルエーテル、セチルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル等のモノグリシジルエーテル化合物（ａ−４）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）を、グリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃で反応させて、水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。
【００３４】
次に、この水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．２当量のセバシン酸、アジピン酸、テレフタル酸、ダイマー酸等の多価カルボン酸（ｃ−４）及びこれらの酸塩化物（ｃ−５）を反応させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。カルボン酸を使用する場合、水酸基を有するラジカル重合性化合物に水酸基１当量に対して１．２当量のカルボン酸及びジシクロヘキシルカルボジイミドを加え、ジメチルアミノピリジンを触媒として、無水トルエン下、室温で１昼夜反応させる。この反応は公知であり、高い収率が得られる。また、酸塩化物を使用する場合、水酸基を有するラジカル重合性化合物に、水酸基１当量に対して１．１当量の酸塩化物及び１．１当量のトリエチルアミンを加え、無水イソプロピルエーテル下で４時間環流させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３５】
（２−２）Ｘがエステル結合で、Ｙがエステル結合である場合
ラウリル酸グルシジルエステル、シクロヘキサンカルボン酸グリシジルエステル、ミリスチル酸グリシジルエステル等のモノグリシジルエステル化合物（ａ−５）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）を、グリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃の条件下で反応させて水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。
【００３６】
次に、水酸基を有するラジカル重合性化合物を、上記（２−１）と同様にして、カルボン酸（ｃ−４）又はカルボン酸塩化物（ｃ−５）と反応させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３７】
（２−３）Ｘがエーテル結合で、Ｙがエーテル結合である場合
上記（２−１）と同様にして、モノグリシジルエーテル化合物（ａ−４）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）を、グリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃で反応させて、水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。反応温度が１２０℃よりも高くなると、アクリル基が重合してしまう恐れがあるので、この反応は、できるだけ低温で行なうことが好ましい。
【００３８】
次に、水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．５当量の１，４−ジクロロブタン、１，６−ジクロロヘキサン等の塩化化合物（ｃ−６）及び水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基と同当量の水酸化ナトリウムを加え、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイドを触媒として、無水トルエン下でオイルバスで６０℃に保ちながら４時間反応させることによって、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３９】
（２−４）Ｘがエステル基で、Ｙが−ＣＨ2−である場合
上記（２−１）において、モノグリシジルエーテル化合物（ａ−４）に代えて、１，２−エポキシヘキサン、１，２−エポキシデカン、長鎖アルキル基のエポキシ化合物（商品名ＡＯＥＸ２４、ＡＯＥＸ６８、ダイセル化学社製）等のエポキシ化合物（ａ−６）を用いる以外は、上記（２−１）と同様にして側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００４０】
（２−５）Ｘがエステル基で、Ｙが−ＣＨ2−である場合
上記（２−３）において、モノグリシジルエーテル化合物（ａ−４）に代えて、１，２−エポキシヘキサン、１，２−エポキシデカン、長鎖アルキル基のエポキシ化合物（商品名ＡＯＥＸ２４、ＡＯＥＸ６８、ダイセル化学社製）等のエポキシ化合物（ａ−６）を用いる以外は、上記（２−３）と同様にして側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００４１】
上記反応において使用する多価エポキシ基を有する化合物（ａ）としては、上記の他に、（メチル）エピクロルヒドリンと多価アルコール及び多価フェノールとの反応により製造することができ、あるいは不飽和基を有する化合物を過酸化水素、過酢酸、メタクロロ過安息香酸等で酸化することにより製造することができる。より具体的には、（メチル）エピクロルヒドリンと、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ及びそのエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド変性物などとから合成されるエピビス型のエポキシ樹脂；フェノール、ビフェノールなどと、（メチル）エピクロルヒドリンとの反応物；テレフタル酸、イソフタル酸、ピロメリット酸の芳香族（メチル）グリシジルエステル化合物などが挙げることができる。また、（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロピレングリコール、（ポリ）ブチレングリコール、（ポリ）テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコールなどのグリコール類、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオールなどの脂肪族多価アルコールと、（メチル）エピクロルヒドリンとの反応生成物であるグリシジルエーテル化合物；アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、長鎖二塩基酸などの多価カルボン酸の脂肪族（メチル）グリシジルエステル化合物；１，２，７，８−ジエポキシオクタン、３、９ージビニルスピロ（ｍ−ジオキサン）ジエポキシドなどが挙げられる。
【００４２】
また、上記反応において使用する水酸基と反応しうる基を有する化合物（ｃ）としては、ハロゲン化物、カルボン酸、カルボン酸塩化物等が挙げられる。具体的な化合物としては、ギ酸、酢酸、酪酸、カプリル酸、カプロン酸、ラウリル酸、ステアリン酸、シクロヘキサンカルボン酸、ミリスチル酸、イソステアリン酸、パルミチン酸、２−エチルヘキサン酸、２−デシルドデカン酸、２−ドデシルテトラデカン酸、３−ペンチルオクタン酸、３−ヘプチルデカン酸、３−ノニルドデカン酸、安息香酸、ｐ−トルイル酸、α−フェニル酪酸等のカルボン酸及びこれらの酸塩化物、ミリスチルクロライド、ラウリルクロライド、ステアリルクロライド等のハロゲン化物が挙げられる。
【００４３】
上記反応において使用するモノエポキシ基を有する化合物（ａ′）としては、例えば、カプリル酸、ミリスチル酸、ラウリル酸、ステアリル酸、イソステアリル酸等の脂肪族カルボン酸の（メチル）グリシジルエステル；安息香酸等の芳香族カルボン酸の（メチル）グリシジルエステル；ブチル（メチル）クリシジルエーテル、セチル（メチル）グリシジルエーテル、ステアリル（メチル）グリシジルエーテル、モルホリノ（メチル）グリシジルエーテル、２−エチルヘキシル（メチル）グリシジルエーテル、フェニル（メチル）グリシジルエーテル等のグルシジルエーテル；長鎖アルキル基のエポキシ化合物である「ＡＯＥＸ２４」、「ＡＯＥＸ６８」（ダイセル化学社製）などが挙げられる。
【００４４】
上記反応において使用する水酸基と反応し得る基を１分子中に２以上有する化合物（ｃ′）としては、例えば、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、ピロメリット酸、マレイン酸、長鎖二塩基酸、ダイマー酸及びこれらの酸塩化物等が挙げられる。
【００４５】
本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物は、上記の方法で合成することができるが、低駆動電圧や高散乱性などの光学特性の点からより好ましくは、側鎖Ｒ2が炭素原子数４〜２０の直鎖状及び分岐状のアルキル基である２官能体の（メタ）アクリルエステルモノマーがより好ましい。
【００４６】
本発明の液晶デバイスは、透明性高分子物質と液晶材料からなる調光層を有する。液晶デバイスの調光層は、該透明性高分子物質が、液晶材料中に粒子状、繊維状に分散するものでも良く、また、液晶材料を透明性高分子物質中に液滴状に分散させたものでも良いが、液晶材料の連続層中に三次元網目状構造の透明性高分子物質を形成したものが好ましい。これらの種類の調光層を有する液晶デバイスは、調光層形成材料となる液晶及びラジカル重合性組成物（Ａ）の種類及びその比率、更に重合条件等により作り分けることが可能である。
【００４７】
本発明の液晶デバイスは、例えば、電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板の間に、本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成物（Ａ）及び液晶材料（Ｂ）を含有する調光層形成材料を挟持した後、調光層形成材料に熱又は活性エネルギー線を照射することによって、ラジカル重合性組成物（Ａ）を重合させ、液晶材料（Ｂ）及び透明性高分子物質からなる調光層を形成させることによって製造することができる。
【００４８】
透明性高分子物質は、堅固なものに限らず、目的に応じ得る限り、可撓性、柔軟性、弾性を有するものであっても良い。
【００４９】
ラジカル重合性組成物（Ａ）を重合して形成される透明性高分子物質は、本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物のみでも十分であるが、より低い駆動電圧を得る目的で、その他のラジカル重合性化合物と併用しても良い。そのようなラジカル重合性化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メチルカルビトール（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、モルホリノエチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、３，３−ジメチロールペンタンジ（メタ）アクリレート、３，３−ジメチロールヘプタンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のアクリルエステルモノマーやＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、等のアクリルアミド化合物が挙げられる。
【００５０】
液晶材料（Ｂ）は、単一の液晶性化合物や、２種以上の液晶性化合物や液晶性化合物以外の物質も含んだ混合物であっても良く、通常この技術分野で液晶材料として認識されるものであれば良く、そのうちの正の誘電率異方性を有するものが好ましい。用いられる液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が好ましく、特にネマチック液晶が好ましい。また、その性能を改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチック液晶、カイラルスメクチック液晶等、カイラル化合物等が適宜含まれていても良い。
【００５１】
液晶材料（Ｂ）は、以下に示した化合物群より構成される配合組成物であり、液晶材料の特性、即ち、等方性液体と液晶の相転移温度、融点、粘度、複屈折率、誘電異方性（Δε）を考慮し、又は重合性組成物等との溶解性等を調節するこを目的として適宜選択、配合して用いることができる。
【００５２】
液晶材料（Ｂ）としては、安息香酸エステル系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン酸系、ビフェニルシクロヘキサン酸系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、トラン系、アルケニル系、フルオロ系等の各種液晶化合物が用いられる。
【００５３】
そのような液晶化合物としては、例えば、４−置換安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸４’−置換ビフェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置換シクロヘキシルエステル、４−置換４”−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル４’−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル）−５−置換ピリミジン等が挙げられる。
【００５４】
調光層中の液晶材料（Ｂ）の含有量は、５０〜９９重量％の範囲が好ましく、６０〜９０重量％の範囲が特に好ましい。
【００５５】
ラジカル重合性組成物（Ａ）の重合手段としては、熱、紫外線などの活性エネルギー線が挙げられる。熱重合による場合は、重合開始剤（Ｃ）として熱重合開始剤（Ｃ１）が必要であり、熱重合開始剤（Ｃ１）としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、１，１−ジ（ターシャリーブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４’−ジ（ターシャリーブチルパーオキシ）バレレート、ジクミルパーオキサイドの如き過酸化物類；７−アゾビスイソブチルニトリルの如きアゾ化合物類；テトラメチルチウラムジスルフィド等が挙げられる。
【００５６】
また、活性エネルギー線を用いて重合させる場合は、製造工程が容易であるので好ましい。活性エネルギー線として紫外線を用いる場合には、重合開始剤（Ｃ）として光重合開始剤（Ｃ２）をラジカル重合性組成物（Ａ）中に添加することが通常必要である。光重合開始剤（Ｃ２）としては、分子内結合開裂型と分子内水素引き抜き型の２種に大別できる。前者の例としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン系；ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系；ベンジル、メチルフェニルグリオキシエステル等があげられる。一方、後者の例としては、ベンゾフェノン、ο−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４，４′−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系；ミヒラーケトン、４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系；１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノン、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノンなどが挙げられる。
【００５７】
重合開始剤（Ｃ）の添加量は、ラジカル重合性組成物（Ａ）の０．０１〜１０重量％の範囲が好ましく、１〜５重量％の範囲が特に好ましい。ラジカル重合性組成物（Ａ）に紫外線を照射する場合、上記の光重合開始剤（Ｃ２）の添加だけでも硬化するが、硬化性をより向上させるために、光増感剤（Ｄ）を併用することが好ましい。光増感剤（Ｄ）としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のアミン類が挙げられる。光増感剤（Ｄ）の配合量は、ラジカル重合性組成物中０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％である。
【００５８】
また、ラジカル重合性組成物（Ａ）には、上記以外に酸化防止剤、紫外線吸収剤、非反応性のオリゴマーや無機充填剤、有機充填剤、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、可塑剤、シランカップリング剤等を添加しても良い。
【００５９】
本発明で使用する基板は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属であってもよく、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチックフィルムの如きものであったもよい。そして、基板は２枚が対向して適当な間隔を隔て得るものである。その少なくとも一方は透明性を有し、それらの２枚の間に挟持される調光層を、外界視覚できるものでなければならない。ただし、完全な透明性を必須とするものではない。もし、デバイスの一方の側から他方の側へ通過する光に対して作用させる目的で、この液晶デバイスが使用される場合は、２枚の基板は、共に適当な透明性を持つ。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜な電極がその全面又は部分的に配置されてもよい。ただし、プラスチックの如き柔軟性を有する材料には、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定したうえで本発明の液晶デバイスに用いることができる。
【００６０】
２枚の基板間には、液晶材料（Ｂ）及び透明性高分子物質から成る調光層が介在されるが、２枚の基板間には、通常、周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介在させるのが望ましい。
【００６１】
スペーサーとしては、例えば、プラスチックビーズ、シリカビーズ、アルミナ等種々の液晶セル用のものを用いることができる。
【００６２】
本発明の液晶デバイスの調光層の厚さは、５〜１００ミクロンの範囲がこのましく、より好ましくは、６〜５０ミクロンの範囲が良い。
【００６３】
また、調光層は、低電圧駆動性、高速応答性等の面から、液晶材料の連続層中に透明性高分子物質が三次元網目状構造を形成してなるものが好ましい。液晶ドロプレットの大きさ、あるいは三次元網目構造の平均網目の大きさは、０．２〜５ミクロンの範囲が好ましく、０．５〜３ミクロンの範囲が特に好ましい。
【００６４】
液晶材料の連続層と該連続層中に均一な三次元網目状構造を有する透明性高分子物質を含有する調光層を基板上に形成する方法としては、例えば、
（１）ラジカル重合性組成物（Ａ）、液晶材料（Ｂ）及び必要に応じて重合開始剤（Ｃ）からなる調光層形成材料の均一溶液を、電極層を有する二枚の基板間に挟持させ、これに活性エネルギー線を照射するか、熱的に重合させて、三次元網目状の透明性高分子物質を含有する層を形成する。
（２）一方の基板の電極層上にスピンコーター、バーコーター、アプリケーター等のコーターを使用して調光層形成材料の均一溶液を塗布し、次いで他方の基板を重ねてもよく、これに活性エネルギー線を照射するか、又は熱的に重合硬化させて、三次元網目状の透明性高分子物質を含有する層を形成する。
【００６５】
本発明で用いる活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線、可視光線、マイクロ波、高周波等をいうが、ラジカル性活性種を生成させうるならば、いかなるエネルギー種でもかまわない。紫外線を発生するものとしては、例えば超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀ーキセノンランプ、ショートアーク灯、等が挙げられ、ラジカル性活性種を発生させる化合物の吸収波長を考慮して選択すればよい。
【００６６】
特に、紫外線による光重合法は、好適である。また、調光層形成材料の等方性液体状態を保持しながら紫外線を照射することは、均一な調光層を形成する上で好ましい。
【００６７】
さらに、光照射方法としては、時間的、平面的に均一に照射することは基盤間に介在するラジカル重合性組成物（Ａ）に瞬間的に強い光を照射して重合を進行させ、これによって網目の大きさを均一にする上で効果的である。すなわち、適切な強度でパルス状に紫外線を照射することにより、均一な三次元網目構造を有する透明性高分子物質を液晶層中に形成することができ、その結果、得られた液晶デバイスは、明確なしきい値電圧と急峻性を有するものとなり、時分割駆動が可能となる。
【００６８】
本発明の液晶デバイスは、調光層中に占める液晶材料の比率が高く、連続層を形成している場合には、低駆動電圧であり、電圧印加時の透明性が高い。
【００６９】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例の範囲に限定されるものではない。なお、以下の実施例において「％」及び「部」は夫々「重量％」及び「重量部」を表わし、評価特性の記号、意味及び内容を下記の表１に示した。
【００７０】
【表１】
【００７１】
また、紫外線の照度は、ウシオ電機社製の受光器「ＵＶＤ−３６５ＰＤ」付きユニメータＵＩＴ−１０１」を用いて測定した。
まず、本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物の合成例を示す。
【００７２】
＜実施例１＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールエポキシアクリレート（日本化薬株式会社製の商品名「Ｒ−１６７」、水酸基価２６８．７ＫＯＨmg／ｇ）２１ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用い５℃に保った。次に、塩化ｎ−オクタノイル１６．３ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させ反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去して得られた濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【００７３】
【化８】
【００７４】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１）１５ｇを得た。なお、移動相には、トルエン／酢酸エチルの混合液を用い、トルエン／酢酸エチルの体積分率が９：１のときの薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【００７５】
〈物性値〉
1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.43(2H)、6.12(2H)、5.84(2H)、5.24(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
3.58(4H)、3.46(4H)、2.32(4H)、1.63(4H)、1.59(4H)、1.3〜1.25(20H)、
0.87(6H)
【００７６】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、71.63、
70.56、69.99、68.95、63.1、62.7、34.3、31.9、29.6〜29.0、25.8、
24.9、22.6、14.1
【００７７】
赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1643〜1620、1173、807.5
【００７８】
元素分析：Ｃ＝64.22％（65.20％）、Ｈ＝9.31％（9.26％）、（）内は理論値
【００７９】
＜実施例２＞
実施例１において、塩化ｎ−オクタノイル１６．３ｇに代えて、塩化ラウロイル２１．８（０．１モル）を用いた以外は、実施例１と同様にして、式
【００８０】
【化９】
【００８１】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−２）２０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．５であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【００８２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.10(2H)、5.86(2H)、5.24(2H)、4.34(2H)、4.26(2H)、
3.51(4H)、3.45(4H)、2.31(4H)、1.64(4H)、1.60(4H)、1.3〜1.24(36H)、
0.87(6H)
【００８３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.6、173.3、165.5、165.3、131.3、131.1、128.1、128.1、70.63、
70.56、70.05、68.85、63.1、63.1、34.3、31.9、29.6〜29.0、25.8、
24.9、22.6、14.6
【００８４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1652〜1620、1176、807.9
元素分析：Ｃ＝68.01％（68.26％）、Ｈ＝10.22％（10.09）
【００８５】
＜実施例３＞
実施例１において、塩化ｎ−オクタノイル１６．３ｇに代えて、塩化ステアロイル３０．３（０．１モル）を用いた以外は、実施例１と同様にして、式
【００８６】
【化１０】
【００８７】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−３）２２ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．５であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【００８８】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.43(2H)、6.19(2H)、5.89(2H)、5.30(2H)、4.39(2H)、4.26(2H)、
3.58(4H)、3.50(4H)、2.39(4H)、1.61(4H)、1.61(4H)、1.45〜1.25(60H)、
0.87(6H)
【００８９】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.9、173.7、165.8、165.6、131.9、131.7、128.2、128.1、78.63、
90.56、69.99、68.95、63.7、62.7、34.3、31.9、30.6〜29.2、25.8、
24.9、22.7、14.6
【００９０】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2935、2864、1747、1652〜1625、1175、807.8
【００９１】
元素分析：Ｃ＝71.32％（71.54％）、Ｈ＝10.96％（10.81）
【００９２】
＜実施例４＞
実施例１において、塩化ｎ−オクタノイル１６．３ｇに代えて、塩化ベンゾイル１０．５（０．１モル）を用いた以外は、実施例１と同様にして、淡黄色液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−４）１１ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．３であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【００９３】
【化１１】
【００９４】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：8.15(4H)7.45(4H)、7.30(2H)、6.45(2H)、6.22(2H)、5.96(2H)、5.34(2H)、
4.32(2H)、4.28(2H)、3.59(4H)、3.50(4H)、1.63(4H)、1.28(4H)
【００９５】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：168.9、168.6、165.9、165.6、133.8、131.5、131.3、130.9、128.9、
128.2、128.0、71.93、70.66、70.0、68.95、63.1、62.7、29.8、25.8、
24.9
【００９６】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2929、2842、1742、1643〜1620、1605、1589、1173、807.4
【００９７】
元素分析：Ｃ＝59.12％（59.82％）、Ｈ＝6.58％（6.52）
【００９８】
＜実施例５＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスに、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル（日本油脂社製の商品名「エピオールＴＭＰ−１００」）１００ｇ（０．３３モル）、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度を保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。反応混合液を、５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．５、水酸基価２９４の淡褐色透明液状生成物を得た。
【００９９】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物２６．０ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、トリエチルアミン２０．０ｇ（０．２０モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化ｎ−オクタノイル２４．５ｇ（０．１５モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させて反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１００】
【化１２】
【０１０１】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−５）３３ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１０２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.44(3H)、6.20(3H)、5.89(3H)、5.29(3H)、4.38(3H)、4.29(3H)、
3.58(6H)、3.48(6H)、2.34(6H)、1.60(6H)、1.35〜1.25(26H)、0.89(12H)
【０１０３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.6、173.4、165.7、165.4、131.5、131.3、128.6、128.4、71.68、
70.53、69.99、68.95、63.1、62.7、41.4、34.5、31.4、29.6〜29.0、
25.8、24.9、22.8、14.6
【０１０４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2920、2852、1745、1650〜1622、1180、807.1
【０１０５】
元素分析：Ｃ＝64.20％（64.30％）、Ｈ＝9.03％（8.92）
【０１０６】
＜実施例６＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールエポキシアクリレート（日本化薬株式会社製の商品名「Ｒ−１６７」、水酸基価２６８．７ＫＯＨmg／ｇ）２１ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、シクロヘキサンカルボン酸１２．８ｇ（０．１モル）、テトラヒドロフラン５００ml及び４−ジメチルアミノピリジン６．０ｇを触媒として加え、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１０モル）のテトラヒドロフラン５０ml溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、室温で２４時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、析出したジシクロヘキシル尿素を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１０７】
【化１３】
【０１０８】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−６）３５ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．３であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１０９】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.44(2H)、6.11(2H)、5.86(2H)、5.26(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
3.60(4H)、3.48(4H)、2.42(2H)、1.65(4H)、1.62(8H)、
1.42〜1.35(12H)、1.31(4H)
【０１１０】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.5、173.2、165.9、165.6、131.53、131.3、128.4、128.3、71.63、
70.56、69.99、68.95、63.1、62.7、42.4、、34.9、29.6〜29.0、25.8、
24.9、22.6
【０１１１】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2930、2861、1744、1652〜1622、1176、807.5
【０１１２】
元素分析：Ｃ＝64.42％（64.76％）、Ｈ＝8.53％（8.41）
＜実施例７＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、２塩基酸のエポキシアクリレート（岡村製油株式会社製の商品名「ＩＰＳ−２２ＧＡ」、水酸基価１７５．２ＫＯＨmg／ｇ）３２ｇ、ｐ−メトキシフェノール３０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化ラウロイル２１．９ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させて反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１１３】
【化１４】
【０１１４】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−７）２０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１１５】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.50(2H)、6.19(2H)、5.91(2H)、5.41(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
4.21(4H)、2.35(4H)、2.34(4H)、1.60(4H)、1.59(4H)、1.57(2H)、
1.4〜1.21(56H)、0.87(12H)
【０１１６】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、162.5、131.3、131.2、128.2、128.1、
69.9、68.5、63.1、63.0、62.7、34.3、33.6、33.1、31.9、29.6〜29.0、
25.8、24.9、22.6、14.8、14.1
【０１１７】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2926、2854、1743、1649〜1625、1172、807.9
【０１１８】
元素分析：Ｃ＝70.8.％（70.2％）、Ｈ＝10.54％（10.47）
【０１１９】
＜実施例８＞
実施例７において、塩化ラウロイル２１．９ｇに代えて、塩化イソステアロイル３０．３（０．１モル）を用いた以外は、実施例７と同様にして、式
【０１２０】
【化１５】
【０１２１】
で表わされる淡黄色液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−８）２０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１２２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.51(2H)、6.19(2H)、5.90(2H)、5.42(2H)、4.33(2H)、4.27(2H)、
4.20(4H)、2.73(2H)、2.34(4H)、1.69(4H)、1.59(4H)、1.57(2H)、
1.55(4H)、1.35〜1.21(36H)、0.89〜0.86(48H)
【０１２３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.7、173.5、165.7、165.3、162.5、131.5、131.2、128.2、128.1、
69.9、68.5、63.1、63.0、62.7、41.4、40.5、34.3、33.6、33.0、31.9、
29.6〜29.2、26.0〜24.9、22.6、14.8〜14.3
【０１２４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2853、1743、1651〜1626、1172、807.5
【０１２５】
元素分析：Ｃ＝73.1％（73.7％）、Ｈ＝10.15％（10.08）
【０１２６】
＜実施例９＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、２塩基酸のエポキシアクリレート（岡村製油株式会社製の商品名「ＩＰＳ−２２ＧＡ」、水酸基価１７５．２ＫＯＨmg／ｇ）３２ｇ、ｐ−メトキシフェノール３０mg、４−ジメチルアミノピリジン３．１ｇ、３−ノニルドデカン酸３２．７ｇ（０．１モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１モル）のテトラヒドロフラン１００ml溶液を２時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、室温で２４時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、析出したジシクロヘキシル尿素を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１２７】
【化１６】
【０１２８】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−９）３５ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１２９】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.51(2H)、6.20(2H)、5.94(2H)、5.42(2H)、4.33(2H)、4.26(2H)、
4.22(4H)、2.35(4H)、2.34(4H)、1.81(2H)、1.60(4H)、1.60(4H)、
1.57(2H)、1.5〜1.22(88H)、0.88(18H)
【０１３０】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、162.5、131.3、131.2、128.2、128.1、
69.9、68.5、63.1、63.0、62.7、41.2、34.3、33.6、33.1、31.9、
29.9〜29.0、25.8〜24.9、22.6、14.8、14.5
【０１３１】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2926、2856、1743、1653〜1625、1172、807.5
【０１３２】
元素分析：Ｃ＝73.0％（73.46％）、Ｈ＝11.21％（11.11）
【０１３３】
＜実施例１０＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル４６２．５ｇ（１モル）、アクリル酸１８０ｇ（２．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１８０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．６１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度を保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．６、水酸基価１７５０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１３４】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物３０ｇ、ｐ−メトキシフェノール１０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化オクタノイル１６．３ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させて反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１３５】
【化１７】
【０１３６】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１０）１９ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．３であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１３７】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：7.23(4H)、7.15(4H)、6.99(4H)、6.88(4H)、6.82(4H)、6.45(2H)、
6.18(2H)、5.88(2H)、5.26(2H)、4.33(2H)、4.26(2H)、4.12(4H)、
2.34(4H)、1.78(6H)、1.59(4H)、1.25(16H)、0.87(6H)
【０１３８】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1643〜1620、1605、1587、1173、807.5
元素分析：Ｃ＝69.97％（70.02％）、Ｈ＝5.82％（5.70）
【０１３９】
＜実施例１１＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、１，２，７，８−ジエポキシオクタン１４２ｇ（１モル）、アクリル酸１８０ｇ（２．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１８０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．６１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温させ、同温度を保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価０．５、水酸基価３７０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１４０】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物１５ｇ、ｐ−メトキシフェノール１０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化ラウロイル２１．９ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させて反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１４１】
【化１８】
【０１４２】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１１）１５ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１４３】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.11(2H)、5.86(2H)、5.16(2H)、4.35(2H)、4.27(2H)、
2.34(4H)、1.72(4H)、1.59(4H)、1.32〜1.25(36H)、0.89(6H)
【０１４４】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、70.56、
68.95、63.1、62.7、34.3、32.6、31.9、29.6〜29.0、25.8、24.9、
22.6、14.1
【０１４５】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2927、2858、1742、1651〜1625、807.5
【０１４６】
元素分析：Ｃ＝73.2％（73.8％）、Ｈ＝10.89％（10.67）
【０１４７】
＜実施例１２＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、１，２，７，８−ジエポキシオクタン７１ｇ（１モル）、アクリル酸ダイマー（東亜合成株式会社製の商品名「Ｍ５６００」）（２．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１８０mg、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．６１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．０、水酸基価２５０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１４８】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに上記液状生成物２２．５ｇ、ｐ−メトキシフェノール１０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化ラウロイル２１．９ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。以後の操作は、実施例１１と同様にして、式
【０１４９】
【化１９】
【０１５０】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１２）２０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．３であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１５１】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.11(2H)、5.86(2H)、5.21(2H)、4.41(4H)、4.37(2H)、
4.29(2H)、2.46(4H)、2.34(4H)、1.72(4H)、1.59(4H)、1.32〜1.25(36H)、
0.88(6H)
【０１５２】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、162.0、131.3、131.2、128.2、128.1、
70.56、68.95、64.2、63.1、62.7、35.2、34.3、32.6、31.9、29.6〜29.0、
25.8、24.9、22.6、14.1
【０１５３】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2927、2858、1748、1651〜1625、807.5
【０１５４】
元素分析：Ｃ＝66.11％（66.52％）、Ｈ＝9.42％（9.31）
【０１５５】
＜実施例１３＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、β−エピクロルヒドリン変性ビスフェノールＡ（大日本インキ化学工業株式会社の商品名「エピクロンＨＭ−８１」）１８５ｇ、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価０．７、水酸基価２０４の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１５６】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物２７．５ｇ、ｐ−メトキシフェノール１０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用い５℃に保った。次に、塩化ベンゾイル１０．５ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。以後の操作は、実施例１１と同様にして、式
【０１５７】
【化２０】
【０１５８】
で表わされる淡黄色液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１３）２２ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１５９】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：8.51(4H)、7.43(4H)、7.30(2H)、7.23(4H)、6.88(4H)、6.82(4H)、
6.45(2H)、6.19(2H)、5.88(2H)、4.33(2H)、4.28(2H)、4.12(4H)、
1.78(6H)、1.24(2H)、0.87(6H)
【０１６０】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1643〜1620、1606、1587、1180、808.0
【０１６１】
元素分析：Ｃ＝71.21％（71.12％）、Ｈ＝5.70％（5.77）
【０１６２】
＜実施例１４＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、エピクロルヒドリン変性水添ビスフェノールＡ（新日本理化社製の商品名「リカレジンＨＢＥ−１００」）１８２ｇ、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．０、水酸基価２４０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１６３】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物２３．０ｇ、塩化ラウリル２０．４ｇ（０．１モル）、触媒としてテトラーｎ−ブチルアンモニウムブロマイド０．３ｇ、トルエン３００ml仕込、室温で撹拌した。次に、水酸化ナトリウム４．０ｇ（０．１モル）を加え、６０℃で２４時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、反応混合液を純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去して、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１６４】
【化２１】
【０１６５】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１４）２４ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエーテル化されていることを確認した。
【０１６６】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.44(2H)、6.14(2H)、5.86(2H)、5.24(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
3.64(4H)、3.60(2H)、3.58(4H)、1.63(4H)、1.59(8H)、1.53(2H)、
1.35〜1.22(44H)、0.89(12H)
【０１６７】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：165.8、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、78.2、71.63、70.56、
69.99、68.2、63.1、62.7、34.1、31.9、29.6〜29.0、25.8、24.9、22.6、
14.1、14.0
【０１６８】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2927、2856、1744、1643〜1620、1175、807.7
【０１６９】
元素分析：Ｃ＝73.22％（73.57％）、Ｈ＝11.13％（11.05）
【０１７０】
＜実施例１５＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、１，２，７，８−ジエポキシオクタン１４２ｇ（１モル）、アクリル酸１８０ｇ（２．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１８０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．６１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価０．５、水酸基価３７０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１７１】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物１５．０ｇ、塩化ラウリル２０．４ｇ（０．１モル）、触媒としてテトラーｎ−ブチルアンモニウムブロマイド０．３ｇ、トルエン３００mlを仕込み、室温で撹拌した。次に、水酸化ナトリウム４．０ｇ（０．１モル）を加え、６０℃で２４時間撹拌し、反応を完結させた。反応終了後、反応混合液を純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去して、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１７２】
【化２２】
【０１７３】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１５）１０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．５であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエーテル化されていることを確認した。
【０１７４】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.12(2H)、5.86(2H)、4.35(2H)、4.27(2H)、3.62(2H)、
3.43(4H)、1.60(4H)、1.55(4H)、1.34〜1.25(40H)、0.87(6H)
【０１７５】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：165.6、165.4、131.2、131.0、128.2、128.1、70.56、70.40、70.38、
68.95、63.1、62.7、34.3、32.6、32.2、31.9、29.6〜29.0、25.8、24.9、
22.6、14.1
【０１７６】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2927、2858、1742、1651〜1625、1176、807.5
【０１７７】
元素分析：Ｃ＝75.35％（75.41％）、Ｈ＝7.80％（7.85）
【０１７８】
＜実施例１６＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、ラウリン酸グリシジルエステル２５７ｇ（１．０モル）、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価０．８の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１７９】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物３３．０ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、４−ジメチルアミノピリジン３．１ｇ、セバシン酸１０．１ｇ（０．０５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１モル）のテトラヒドロフラン１００ml溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、室温で２４時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、析出したジシクロヘキシル尿素を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１８０】
【化２３】
【０１８１】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１６）２８ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１８２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.43(2H)、6.12(2H)、5.86(2H)、5.11(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
4.22(4H)、2.36(4H)、2.32(4H)、1.59(8H)、1.34〜1.25(38H)、0.85(6H)
【０１８３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、171.5、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、
70.56、69.99、68.95、63.1、62.7、62.3、35.4、34.3、31.9、
29.6〜29.0、25.8、24.9、22.6、14.1
【０１８４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1744〜1732、1651〜1624、807.5
【０１８５】
元素分析：Ｃ＝65.22％（65.13％）、Ｈ＝9.98％（10.07）
【０１８６】
＜実施例１７＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、長鎖アルキル基含有モノエポキサイド（ダイセル化学社製の商品名「ＡＯＥＸ２４」）１９６ｇ（１．０モル）、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．５の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１８７】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物２８．０ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、４−ジメチルアミノピリジン３．１ｇ、セバシン酸１０．１ｇ（０．０５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１モル）のテトラヒドロフラン１００ml溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。以下の操作は、実施例１６と同様にして、式
【０１８８】
【化２４】
【０１８９】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１７）１５ｇを得た。Ｒｆ値は、０．５であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１９０】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.46(2H)、6.14(2H)、5.88(2H)、5.14(2H)、4.35(2H)、4.27(2H)、
2.32(4H)、1.59(4H)、1.51(4H)、1.34〜1.25(42H)、0.85(6H)
【０１９１】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.6、173.3、171.3、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、
71.5、63.1、35.4、31.9、31.0〜29.0、25.8、24.9、22.6、14.1
【０１９２】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1738、1651〜1624、807.5
【０１９３】
＜実施例１８＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、ステアリルグリシジルエーテル３２６ｇ（１．０モル）、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．１の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１９４】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物４０．０ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、４−ジメチルアミノピリジン３．１ｇ、ダイマー酸２５．０ｇ（０．０５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１モル）のテトラヒドロフラン１００ml溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。以下の操作は、実施例１６と同様にして、式
【０１９５】
【化２５】
【０１９６】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物３５ｇ（Ａ−１８）を得た。Ｒｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１９７】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.46(2H)、6.14(2H)、5.88(2H)、5.33(2H)、4.35(2H)、4.27(2H)、
3.57(4H)、3.45(4H)、2.32(4H)、2.28(4H)、1.62(4H)、1.59(4H)、
1.48(4H)、1.42〜1.25(96H)、0.85(12H)
【０１９８】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.6、173.3、171.3、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、
71.5、70.5、63.1、35.4、31.9、35.0〜26.0、25.8、24.9、22.6、15.4、
14.1
【０１９９】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2926、2857、1738、1651〜1624、1176、807.5
【０２００】
＜実施例１９〜４０＞（液晶デバイス）
実施例１〜１８で得た側鎖型ラジカル重合性化合物を用い、表−２〜表−４に示した組成で、各原料を配合し、実施例用の調光層形成材料を調製した。これらの調光層形成材料を、１１．０μｍのガラスファイバー製スペーサーが塗布された２枚のＩＴＯ電極ガラス基板に挟み込み、調光層形成材料を均一な溶液状態に保つように基板全体を温度調節し、４０mＷ／cm2の紫外線を６０秒照射して、ラジカル重合性化合物を硬化させて、透明性高分子物質及び液晶材料から成る厚さが約１１μｍの調光層を有する液晶デバイスを得た。
【０２０１】
得られた液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係の測定結果を、表２〜表４にまとめて示した。
【０２０２】
また、表５には、実施例２０で作製した液晶デバイスを、測定温度０℃、２５℃及び５０℃で測定した結果を示した。
【０２０３】
＜比較例１＞
ラジカル重合性化合物として、ラジカル重合性２重結合間に側鎖を持たない１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社製の商品名「ＨＤＤＡ」）を用いた以外は、実施例と同様にして液晶デバイスを製造し、実施例と同様に、評価を行ない、その結果を表４に示した。
【０２０４】
＜比較例２＞
ラジカル重合性化合物として、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド平均４モル付加物のジアクリレート（東亜合成化学社製の商品名「Ｍ２１０」）を用いて実施例と同様にして液晶デバイスを製造し、実施例と同様に、評価を行ない、その結果を表４に示した。
【０２０５】
＜比較例３＞
ラジカル重合性化合物として、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社製の商品名「Ｒ−１６７」）を用いて実施例と同様にして液晶デバイスを製造し、実施例と同様に、評価を行ない、その結果を表４に示した。
【０２０６】
＜比較例４＞
ラジカル重合性化合物として、３，３−ジメチロールヘプタンジアクリレート（第一工業製薬社製の商品名「Ｃ９Ａ」）を用いて実施例と同様にして液晶デバイスを製造し、実施例と同様に、評価を行ない、その結果を表４に示した。
【０２０７】
【表２】
【０２０８】
【表３】
【０２０９】
【表４】
【０２１０】
表中、液晶材料「ＰＮ−００５」は、ロディック社製のネマチック液晶材料であり、「イルガキュアー６５１」は、チバガイギー社製の２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンから成る光重合開始剤であり、「ＨＤＤＡ」は、日本化薬社製の１，６−ヘキサンジオールジアクリレートであり、「Ｍ２１０」は、東亜合成化学社製のビスフェノールＡのエチレンオキサイド平均４モル付加物のジアクリレートであり、「Ｒ−１６７」は、日本化薬社製のエピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレートであり、「Ｃ９Ａ」は、第一工業製薬社製の３，３−ジメチロールヘプタンジアクリレートである。
【０２１１】
＜実施例４１＞
実施例１９で製造した液晶デバイスを、製造１日後と８０℃１週間放置後に印加電圧と光透過率の関係を測定した結果、以下の通りであった。
【０２１２】
作製１日後
Ｖ90 ＝１０．２Ｖ、Ｔ0＝３．０、Ｔ100＝８８．０
【０２１３】
８０℃（１週間後）
Ｖ90 ＝９．９Ｖ、 Ｔ0＝３．２、Ｔ100＝８８．０
【０２１４】
＜比較例５＞
ラジカル重合性化合物として、３，３−ジメチロールヘプタンジアクリレート（第一工業製薬社製の商品名「Ｃ９Ａ」）１２．２重量部及びラウリルアクリレート１３．０重量部を用いた以外は、比較例４と同様にして、液晶デバイスを製造し、製造１日後と８０℃１週間放置後に、印加電圧と光透過率の関係を測定した結果、以下の通りであった。
【０２１５】
製造１日後
Ｖ90 ＝１４．６Ｖ、Ｔ0＝１５．８、Ｔ100＝８８．０
【０２１６】
８０℃（１週間後）
Ｖ90 ＝１０．２Ｖ、Ｔ0＝１２．２、Ｔ100＝８７．５
【０２１７】
＜実施例４２＞
実施例２０で作製した液晶デバイスを、測定温度０℃、２５℃、５０℃で評価を行ない、その結果を表５に示した。
【０２１８】
＜比較例６＞
【０２１９】
式
【０２２０】
【化２６】
【０２２１】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１９）を
【０２２２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.10(2H)、5.86(2H)、5.64(2H)、4.24(4H)、3.71(4H)、
3.55(4H)、2.33(4H)、1.55(4H)、1.3〜1.24(32H)、0.88(6H)
【０２２３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.7、173.5、165.5、165.3、131.5、131.3、128.4、128.1、81.2、
70.63、70.56、70.22、34.3、29.6〜29.0、25.8、24.9、14.6
【０２２４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1652〜1620、1176、807.9
【０２２５】
元素分析：Ｃ＝66.22％（66.49％）、Ｈ＝10.32％（10.19）
【０２２６】
、実施例１９〜４０と同様にして、液晶デバイスを製造し、実施例４２と同じ３種類の測定温度で評価を行ない、その結果を表５に示した。
【０２２７】
【表５】
【０２２８】
【発明の効果】
本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物は、液晶材料と透明性高分子物質から成る調光層を有する液晶デバイスの透明性高分子物質の構成材料として用いた場合、偏光板が不要で、表示画面が明るく、高急峻性、高コントラストで、かつ１０Ｖrms以下という低電圧駆動が可能で、 かつ、温度による特性変化が小さい大面積薄型液晶デバイスを製造することができる。さらに、高抵抗であるため、電圧保持率を向上させることができ、画面のちらつきをなくすことができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、大面積になし得る液晶デバイスに関するものであって、更に詳しくは、視野の遮断、開放及び明かりもしくは照明光の透過制限、遮断、透過を電気的又は熱的に操作でき、建築物の窓や、ショーウィンドウなどで視野遮断のスクリーンや、採光コントロールのカーテンに利用や、文字や図形を表示し、高速応答性を以って電気的に表示を切り換えることによって、広告板や装飾表示板や、時計、コンピューター末端の表示装置、プロジェクションの表示装置として利用される液晶デバイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
偏光板及び配向処理を必要とせず、明るくコントラストの良い大型で廉価な液晶デバイスとして、特表昭５８−５０１６３１号公報等には、液晶のカプセル化によりポリマー中に液晶を分散させて、フィルム化したものを調光層に用いた液晶デバイスが開示され、また、特開平１−１９８７２５号公報には、液晶材料の連続層中に三次元網目状の透明性高分子物質を介在させたものを調光層に用いた液晶デバイスが開示されている。これらの中でも、後者の液晶デバイスは、しきい値電圧を示し、駆動電圧を低電圧化できることことから、大型で廉価な表示材料として注目されている。
【０００３】
しかしながら、後者の液晶デバイスは、その駆動電圧が低電圧であるといえども、その駆動しうる電圧の範囲は１０〜３０Ｖであり、汎用の液晶表示装置駆動用のＩＣドライバーを使用するには極めて困難であった。
【０００４】
この問題点を解決するために、特開平６−３２７６１号公報には、三次元網目状の透明性高分子物質として、一般式（IV）
【０００５】
【化４】
（式中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立的に脂肪族基、脂環族基、芳香族基、複素環基又はそれらの置換体を表わし、Ｒ8は−Ｈ又は−ＣＨ3を表わし、Ｘは−Ｏ−又は−ＣＯＯ−を表わし、Ｙは−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は環を形成していても良い−Ｎ−を表わし、ｎは２〜４の整数を表わす。）
で表わされる側鎖型重合性化合物を含有する重合性組成物からなる重合物を用いた液晶デバイスが提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平６−３２７６１号公報に記載の液晶デバイスは、低電圧駆動が可能であったが、まだ十分でなく、たま、低温域において電気光学特性が悪化するという問題点があった。
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、十分な低電圧駆動性を有し、高コントラストで、低温域における電気光学特性が改善された液晶デバイスを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決するために、液晶デバイスの調光層に使用する重合性組成物について鋭意検討した結果、調光層の透明性高分子物質として、特定の構造を有する側鎖型ラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成を重合してなる高分子物質を用いた液晶デバイスが、低電圧駆動、高急峻性、高コントラストを示し、かつ、温度による特性変化が小さいことを見い出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
即ち、本発明は上記課題を解決するために、（１）一般式（Ｉ）
【００１１】
【化５】
（式中、Ｒ1 は−ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−を表わし、Ｒ 2 は、炭素原子数４〜２０の直鎖状及び／又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ 3 は脂肪族基を表し、Ｒ4及びＲ5は−Ｈ又は−ＣＨ3 を表わし、Ｘは −ＣＨ2−、エーテル結合、又はエステル結合を表わし、Ｙはエーテル結合又はエステル結合を表わし、ｎは２〜４の整数を表わし、ｐ及びｑは０又は１を表わす。）で表わされる側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００１３】
（２）一般式（II）
【００１４】
【化６】
（式中、Ｒ1 は−ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−を表わし、Ｒ 2 は、炭素原子数４〜２０の直鎖状及び／又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ 3 は脂肪族基を表し、Ｒ4及びＲ5は−Ｈ又は−ＣＨ3 を表わし、Ｘは −ＣＨ2−、エーテル結合、又はエステル結合を表わし、Ｙはエーテル結合又はエステル結合を表わし、ｎは２〜４の整数を表わす。）で表わされる一般式（Ｉ）におけるｐ＝０及びｑ＝１である上記（１）記載の側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００１６】
（３）一般式（III）
【００１７】
【化７】
（式中、Ｒ1 は−ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−を表わし、Ｒ 2 は、炭素原子数４〜２０の直鎖状及び／又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ 3 は脂肪族基を表し、Ｒ4及びＲ5は−Ｈ又は−ＣＨ3 を表わし、Ｘは −ＣＨ2−、エーテル結合、又はエステル結合を表わし、Ｙはエーテル結合又はエステル結合を表わし、ｎは２〜４の整数を表わす。）で表わされる一般式（Ｉ）におけるｐ＝１及びｑ＝０である上記（１）記載の側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００１９】
（４）エポキシ基を有する化合物と（メタ）アクリロイル基を有するカルボン酸から成るエポキシアクリレートと、カルボン酸又はカルボン酸クロライドとの反応生成物である上記（１）、（２）又は（３）記載の側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００２０】
（５）Ｒ2 が炭素原子数４〜２０の飽和アルキル基である上記（１）、（２）、（３）又は（４）記載の側鎖型ラジカル重合性化合物、
【００２１】
（６）電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板と、これらの基板間に支持された、液晶材料（Ｂ）及び透明性高分子物質からなる調光層で構成する液晶デバイスにおいて、透明性高分子物質が、
一般式（Ｉ’）
【００２２】
（７）液晶材料の連続層中に３次元網目状の透明性高分子から成る調光層を有する上記（６）記載の液晶デバイス、
を提供する。
【００２３】
【発明の実施の形態】
本発明の一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、ｐ及びｑの値によって製造方法が異なるので、ｐ及びｑの値が異なる化合物を表わす一般式（II）及び一般式（III）で表わされる化合物に大別して、その製造方法を説明する。
【００２４】
（１）一般式（Ｉ）においてｐ＝０及びｑ＝１である一般式（II）の化合物
一般式（II）で表わされる側鎖型重合性化合物は、例えば、多価エポキシ基を有する化合物（ａ）と、エポキシ基と反応し得る活性水素を有するラジカル重合性化合物（ｂ）とを反応させ、更に、生成した水酸基と、水酸基と反応し得る基を有する化合物（ｃ）とを反応させることにより容易に合成することができるが、具体的には、以下の通りである。
【００２５】
（１−１）Ｘがエーテル結合で、Ｙがエステル結合である場合
ネオペンチルグリコージグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル等の多価グリシジルエーテル化合物（ａ−１）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）をグリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃の条件下で反応させることによって、水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。この反応においては、反応温度が１２０℃以上となるとアクリル基が重合してしまう恐れがあるので、できるだけ低温で行なうことが好ましい。
【００２６】
次に、この水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．２当量のカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸などのモノカルボン酸（ｃ−１）及びこれらの酸塩化物（ｃ−２）を反応させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造する。この反応において、カルボン酸（ｃ−１）を使用する場合は、水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．２当量のカルボン酸及びジシクロヘキシルカルボジイミドを加え、ジメチルアミノピリジンを触媒として、無水トルエン下、室温で１昼夜反応させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。この反応は公知であり高い収率が得られる。この反応に関する参考文献としては、ビー・ネイセス（B.Neises）、ダブリュー・ステイグリッヒ（W.Steglich）による「アンゲワァンデテ・ケミー・インターナショナル・エディション・イン・イングリッシュ（Angewandte Chemie International Edition in English）第17巻第522頁（1978年）、 丹羽、小川、山田による「テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Lett.） 第30巻第4985頁（1989年）等が挙げられる。一方、酸塩化物（ｃ−２）を使用する場合は、水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．１当量の酸塩化物及び１．１当量のトリエチルアミンを加え、無水イソプロピルエーテル下で４時間環流させることにより側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００２７】
（１−２）Ｘがエステル結合で、Ｙがエステル結合である場合
長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル（商品名ＩＰＳ−２２Ｇ、岡村製油社製）、ダイマー酸ジグリシジルエステル、セバシン酸ジグリシジルエステル等の多価グリシジルエステル化合物（ａ−２）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）を、グリシジル基１当量に対して１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィンやＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃の条件下で反応させて水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。次に、水酸基を有するラジカル重合性化合物を上記（１−１）と同様にして、カルボン酸（ｃ−１）及びカルボン酸塩化物（ｃ−２）と反応させることにより側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００２８】
（１−３）Ｘがエーテル結合で、Ｙがエーテル結合である場合
上記（１−１）と同様に、多価グリシジルエーテル化合物（ａ−１）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）をグリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃の条件下で反応させることによって、水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。
【００２９】
次に、この水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．５当量の塩化ドデシル、塩化ラウリル、塩化オクチル等の塩化アルキル（ｃ−３）及び水酸基含有ラジカル重合性化合物の水酸基と同当量の水酸化ナトリウムを加え、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイドを触媒として、無水トルエン下でオイルバスで６０℃に保ちながら４時間反応させることによって側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３０】
（１−４）Ｘが−ＣＨ2−で、Ｙがエステル結合である場合
上記（１−１）において、多価グリシジルエーテル化合物（ａ−１）に代えて、１，２，３，４−ジエポキシブタン、１，２，７，８−ジエポキシオクタン等のエポキシ化合物（ａ−３）を用いる以外は上記（１−１）と同様にして側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３１】
（１−５）Ｘが−ＣＨ2−で、Ｙがエーテル結合である場合
上記（１−３）において、多価グリシジルエーテル化合物（ａ−１）に代えて、１，２，３，４−ジエポキシブタン、１，２，７，８−ジエポキシオクタン等のエポキシ化合物（ａ−３）を用いる以外は上記（１−３）と同様にして側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３２】
（２）一般式（Ｉ）においてｐ＝１及びｑ＝０である一般式（III）の化合物
一般式（III）で表わされる側鎖型ラジカル重合性化合物は、モノエポキシ基を有する化合物（ａ′）と、エポキシ基と反応し得る活性水素を有するラジカル重合性化合物（ｂ）とを反応させ、更に、生成した水酸基と、水酸基と反応し得る基を１分子中に２以上有する化合物（ｃ′）とを反応させることにより容易に製造することができるが、具体的には、以下の通りである。
【００３３】
（２−１）Ｘがエステル結合でＹがエーテル結合である場合
ブチルグリシジルエーテル、セチルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル等のモノグリシジルエーテル化合物（ａ−４）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）を、グリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃で反応させて、水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。
【００３４】
次に、この水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．２当量のセバシン酸、アジピン酸、テレフタル酸、ダイマー酸等の多価カルボン酸（ｃ−４）及びこれらの酸塩化物（ｃ−５）を反応させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。カルボン酸を使用する場合、水酸基を有するラジカル重合性化合物に水酸基１当量に対して１．２当量のカルボン酸及びジシクロヘキシルカルボジイミドを加え、ジメチルアミノピリジンを触媒として、無水トルエン下、室温で１昼夜反応させる。この反応は公知であり、高い収率が得られる。また、酸塩化物を使用する場合、水酸基を有するラジカル重合性化合物に、水酸基１当量に対して１．１当量の酸塩化物及び１．１当量のトリエチルアミンを加え、無水イソプロピルエーテル下で４時間環流させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３５】
（２−２）Ｘがエステル結合で、Ｙがエステル結合である場合
ラウリル酸グルシジルエステル、シクロヘキサンカルボン酸グリシジルエステル、ミリスチル酸グリシジルエステル等のモノグリシジルエステル化合物（ａ−５）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）を、グリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃の条件下で反応させて水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。
【００３６】
次に、水酸基を有するラジカル重合性化合物を、上記（２−１）と同様にして、カルボン酸（ｃ−４）又はカルボン酸塩化物（ｃ−５）と反応させることにより、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３７】
（２−３）Ｘがエーテル結合で、Ｙがエーテル結合である場合
上記（２−１）と同様にして、モノグリシジルエーテル化合物（ａ−４）に、（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー等のアクリル基含有カルボン酸（ｂ−１）を、グリシジル基１当量に対し１．１当量を加え、トリフェニルフォスフィン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等を触媒として、８０〜１２０℃で反応させて、水酸基を有するラジカル重合性化合物を製造する。反応温度が１２０℃よりも高くなると、アクリル基が重合してしまう恐れがあるので、この反応は、できるだけ低温で行なうことが好ましい。
【００３８】
次に、水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して１．５当量の１，４−ジクロロブタン、１，６−ジクロロヘキサン等の塩化化合物（ｃ−６）及び水酸基を有するラジカル重合性化合物の水酸基と同当量の水酸化ナトリウムを加え、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイドを触媒として、無水トルエン下でオイルバスで６０℃に保ちながら４時間反応させることによって、側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００３９】
（２−４）Ｘがエステル基で、Ｙが−ＣＨ2−である場合
上記（２−１）において、モノグリシジルエーテル化合物（ａ−４）に代えて、１，２−エポキシヘキサン、１，２−エポキシデカン、長鎖アルキル基のエポキシ化合物（商品名ＡＯＥＸ２４、ＡＯＥＸ６８、ダイセル化学社製）等のエポキシ化合物（ａ−６）を用いる以外は、上記（２−１）と同様にして側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００４０】
（２−５）Ｘがエステル基で、Ｙが−ＣＨ2−である場合
上記（２−３）において、モノグリシジルエーテル化合物（ａ−４）に代えて、１，２−エポキシヘキサン、１，２−エポキシデカン、長鎖アルキル基のエポキシ化合物（商品名ＡＯＥＸ２４、ＡＯＥＸ６８、ダイセル化学社製）等のエポキシ化合物（ａ−６）を用いる以外は、上記（２−３）と同様にして側鎖型ラジカル重合性化合物を製造することができる。
【００４１】
上記反応において使用する多価エポキシ基を有する化合物（ａ）としては、上記の他に、（メチル）エピクロルヒドリンと多価アルコール及び多価フェノールとの反応により製造することができ、あるいは不飽和基を有する化合物を過酸化水素、過酢酸、メタクロロ過安息香酸等で酸化することにより製造することができる。より具体的には、（メチル）エピクロルヒドリンと、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ及びそのエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド変性物などとから合成されるエピビス型のエポキシ樹脂；フェノール、ビフェノールなどと、（メチル）エピクロルヒドリンとの反応物；テレフタル酸、イソフタル酸、ピロメリット酸の芳香族（メチル）グリシジルエステル化合物などが挙げることができる。また、（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロピレングリコール、（ポリ）ブチレングリコール、（ポリ）テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコールなどのグリコール類、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオールなどの脂肪族多価アルコールと、（メチル）エピクロルヒドリンとの反応生成物であるグリシジルエーテル化合物；アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、長鎖二塩基酸などの多価カルボン酸の脂肪族（メチル）グリシジルエステル化合物；１，２，７，８−ジエポキシオクタン、３、９ージビニルスピロ（ｍ−ジオキサン）ジエポキシドなどが挙げられる。
【００４２】
また、上記反応において使用する水酸基と反応しうる基を有する化合物（ｃ）としては、ハロゲン化物、カルボン酸、カルボン酸塩化物等が挙げられる。具体的な化合物としては、ギ酸、酢酸、酪酸、カプリル酸、カプロン酸、ラウリル酸、ステアリン酸、シクロヘキサンカルボン酸、ミリスチル酸、イソステアリン酸、パルミチン酸、２−エチルヘキサン酸、２−デシルドデカン酸、２−ドデシルテトラデカン酸、３−ペンチルオクタン酸、３−ヘプチルデカン酸、３−ノニルドデカン酸、安息香酸、ｐ−トルイル酸、α−フェニル酪酸等のカルボン酸及びこれらの酸塩化物、ミリスチルクロライド、ラウリルクロライド、ステアリルクロライド等のハロゲン化物が挙げられる。
【００４３】
上記反応において使用するモノエポキシ基を有する化合物（ａ′）としては、例えば、カプリル酸、ミリスチル酸、ラウリル酸、ステアリル酸、イソステアリル酸等の脂肪族カルボン酸の（メチル）グリシジルエステル；安息香酸等の芳香族カルボン酸の（メチル）グリシジルエステル；ブチル（メチル）クリシジルエーテル、セチル（メチル）グリシジルエーテル、ステアリル（メチル）グリシジルエーテル、モルホリノ（メチル）グリシジルエーテル、２−エチルヘキシル（メチル）グリシジルエーテル、フェニル（メチル）グリシジルエーテル等のグルシジルエーテル；長鎖アルキル基のエポキシ化合物である「ＡＯＥＸ２４」、「ＡＯＥＸ６８」（ダイセル化学社製）などが挙げられる。
【００４４】
上記反応において使用する水酸基と反応し得る基を１分子中に２以上有する化合物（ｃ′）としては、例えば、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、ピロメリット酸、マレイン酸、長鎖二塩基酸、ダイマー酸及びこれらの酸塩化物等が挙げられる。
【００４５】
本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物は、上記の方法で合成することができるが、低駆動電圧や高散乱性などの光学特性の点からより好ましくは、側鎖Ｒ2が炭素原子数４〜２０の直鎖状及び分岐状のアルキル基である２官能体の（メタ）アクリルエステルモノマーがより好ましい。
【００４６】
本発明の液晶デバイスは、透明性高分子物質と液晶材料からなる調光層を有する。液晶デバイスの調光層は、該透明性高分子物質が、液晶材料中に粒子状、繊維状に分散するものでも良く、また、液晶材料を透明性高分子物質中に液滴状に分散させたものでも良いが、液晶材料の連続層中に三次元網目状構造の透明性高分子物質を形成したものが好ましい。これらの種類の調光層を有する液晶デバイスは、調光層形成材料となる液晶及びラジカル重合性組成物（Ａ）の種類及びその比率、更に重合条件等により作り分けることが可能である。
【００４７】
本発明の液晶デバイスは、例えば、電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板の間に、本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成物（Ａ）及び液晶材料（Ｂ）を含有する調光層形成材料を挟持した後、調光層形成材料に熱又は活性エネルギー線を照射することによって、ラジカル重合性組成物（Ａ）を重合させ、液晶材料（Ｂ）及び透明性高分子物質からなる調光層を形成させることによって製造することができる。
【００４８】
透明性高分子物質は、堅固なものに限らず、目的に応じ得る限り、可撓性、柔軟性、弾性を有するものであっても良い。
【００４９】
ラジカル重合性組成物（Ａ）を重合して形成される透明性高分子物質は、本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物のみでも十分であるが、より低い駆動電圧を得る目的で、その他のラジカル重合性化合物と併用しても良い。そのようなラジカル重合性化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メチルカルビトール（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、モルホリノエチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、３，３−ジメチロールペンタンジ（メタ）アクリレート、３，３−ジメチロールヘプタンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のアクリルエステルモノマーやＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、等のアクリルアミド化合物が挙げられる。
【００５０】
液晶材料（Ｂ）は、単一の液晶性化合物や、２種以上の液晶性化合物や液晶性化合物以外の物質も含んだ混合物であっても良く、通常この技術分野で液晶材料として認識されるものであれば良く、そのうちの正の誘電率異方性を有するものが好ましい。用いられる液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が好ましく、特にネマチック液晶が好ましい。また、その性能を改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチック液晶、カイラルスメクチック液晶等、カイラル化合物等が適宜含まれていても良い。
【００５１】
液晶材料（Ｂ）は、以下に示した化合物群より構成される配合組成物であり、液晶材料の特性、即ち、等方性液体と液晶の相転移温度、融点、粘度、複屈折率、誘電異方性（Δε）を考慮し、又は重合性組成物等との溶解性等を調節するこを目的として適宜選択、配合して用いることができる。
【００５２】
液晶材料（Ｂ）としては、安息香酸エステル系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン酸系、ビフェニルシクロヘキサン酸系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、トラン系、アルケニル系、フルオロ系等の各種液晶化合物が用いられる。
【００５３】
そのような液晶化合物としては、例えば、４−置換安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸４’−置換ビフェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置換シクロヘキシルエステル、４−置換４”−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル４’−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル）−５−置換ピリミジン等が挙げられる。
【００５４】
調光層中の液晶材料（Ｂ）の含有量は、５０〜９９重量％の範囲が好ましく、６０〜９０重量％の範囲が特に好ましい。
【００５５】
ラジカル重合性組成物（Ａ）の重合手段としては、熱、紫外線などの活性エネルギー線が挙げられる。熱重合による場合は、重合開始剤（Ｃ）として熱重合開始剤（Ｃ１）が必要であり、熱重合開始剤（Ｃ１）としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、１，１−ジ（ターシャリーブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４’−ジ（ターシャリーブチルパーオキシ）バレレート、ジクミルパーオキサイドの如き過酸化物類；７−アゾビスイソブチルニトリルの如きアゾ化合物類；テトラメチルチウラムジスルフィド等が挙げられる。
【００５６】
また、活性エネルギー線を用いて重合させる場合は、製造工程が容易であるので好ましい。活性エネルギー線として紫外線を用いる場合には、重合開始剤（Ｃ）として光重合開始剤（Ｃ２）をラジカル重合性組成物（Ａ）中に添加することが通常必要である。光重合開始剤（Ｃ２）としては、分子内結合開裂型と分子内水素引き抜き型の２種に大別できる。前者の例としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン系；ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系；ベンジル、メチルフェニルグリオキシエステル等があげられる。一方、後者の例としては、ベンゾフェノン、ο−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４，４′−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系；ミヒラーケトン、４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系；１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノン、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノンなどが挙げられる。
【００５７】
重合開始剤（Ｃ）の添加量は、ラジカル重合性組成物（Ａ）の０．０１〜１０重量％の範囲が好ましく、１〜５重量％の範囲が特に好ましい。ラジカル重合性組成物（Ａ）に紫外線を照射する場合、上記の光重合開始剤（Ｃ２）の添加だけでも硬化するが、硬化性をより向上させるために、光増感剤（Ｄ）を併用することが好ましい。光増感剤（Ｄ）としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のアミン類が挙げられる。光増感剤（Ｄ）の配合量は、ラジカル重合性組成物中０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％である。
【００５８】
また、ラジカル重合性組成物（Ａ）には、上記以外に酸化防止剤、紫外線吸収剤、非反応性のオリゴマーや無機充填剤、有機充填剤、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、可塑剤、シランカップリング剤等を添加しても良い。
【００５９】
本発明で使用する基板は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属であってもよく、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチックフィルムの如きものであったもよい。そして、基板は２枚が対向して適当な間隔を隔て得るものである。その少なくとも一方は透明性を有し、それらの２枚の間に挟持される調光層を、外界視覚できるものでなければならない。ただし、完全な透明性を必須とするものではない。もし、デバイスの一方の側から他方の側へ通過する光に対して作用させる目的で、この液晶デバイスが使用される場合は、２枚の基板は、共に適当な透明性を持つ。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜な電極がその全面又は部分的に配置されてもよい。ただし、プラスチックの如き柔軟性を有する材料には、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定したうえで本発明の液晶デバイスに用いることができる。
【００６０】
２枚の基板間には、液晶材料（Ｂ）及び透明性高分子物質から成る調光層が介在されるが、２枚の基板間には、通常、周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介在させるのが望ましい。
【００６１】
スペーサーとしては、例えば、プラスチックビーズ、シリカビーズ、アルミナ等種々の液晶セル用のものを用いることができる。
【００６２】
本発明の液晶デバイスの調光層の厚さは、５〜１００ミクロンの範囲がこのましく、より好ましくは、６〜５０ミクロンの範囲が良い。
【００６３】
また、調光層は、低電圧駆動性、高速応答性等の面から、液晶材料の連続層中に透明性高分子物質が三次元網目状構造を形成してなるものが好ましい。液晶ドロプレットの大きさ、あるいは三次元網目構造の平均網目の大きさは、０．２〜５ミクロンの範囲が好ましく、０．５〜３ミクロンの範囲が特に好ましい。
【００６４】
液晶材料の連続層と該連続層中に均一な三次元網目状構造を有する透明性高分子物質を含有する調光層を基板上に形成する方法としては、例えば、
（１）ラジカル重合性組成物（Ａ）、液晶材料（Ｂ）及び必要に応じて重合開始剤（Ｃ）からなる調光層形成材料の均一溶液を、電極層を有する二枚の基板間に挟持させ、これに活性エネルギー線を照射するか、熱的に重合させて、三次元網目状の透明性高分子物質を含有する層を形成する。
（２）一方の基板の電極層上にスピンコーター、バーコーター、アプリケーター等のコーターを使用して調光層形成材料の均一溶液を塗布し、次いで他方の基板を重ねてもよく、これに活性エネルギー線を照射するか、又は熱的に重合硬化させて、三次元網目状の透明性高分子物質を含有する層を形成する。
【００６５】
本発明で用いる活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線、可視光線、マイクロ波、高周波等をいうが、ラジカル性活性種を生成させうるならば、いかなるエネルギー種でもかまわない。紫外線を発生するものとしては、例えば超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀ーキセノンランプ、ショートアーク灯、等が挙げられ、ラジカル性活性種を発生させる化合物の吸収波長を考慮して選択すればよい。
【００６６】
特に、紫外線による光重合法は、好適である。また、調光層形成材料の等方性液体状態を保持しながら紫外線を照射することは、均一な調光層を形成する上で好ましい。
【００６７】
さらに、光照射方法としては、時間的、平面的に均一に照射することは基盤間に介在するラジカル重合性組成物（Ａ）に瞬間的に強い光を照射して重合を進行させ、これによって網目の大きさを均一にする上で効果的である。すなわち、適切な強度でパルス状に紫外線を照射することにより、均一な三次元網目構造を有する透明性高分子物質を液晶層中に形成することができ、その結果、得られた液晶デバイスは、明確なしきい値電圧と急峻性を有するものとなり、時分割駆動が可能となる。
【００６８】
本発明の液晶デバイスは、調光層中に占める液晶材料の比率が高く、連続層を形成している場合には、低駆動電圧であり、電圧印加時の透明性が高い。
【００６９】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例の範囲に限定されるものではない。なお、以下の実施例において「％」及び「部」は夫々「重量％」及び「重量部」を表わし、評価特性の記号、意味及び内容を下記の表１に示した。
【００７０】
【表１】
また、紫外線の照度は、ウシオ電機社製の受光器「ＵＶＤ−３６５ＰＤ」付きユニメータＵＩＴ−１０１」を用いて測定した。
まず、本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物の合成例を示す。
【００７２】
＜実施例１＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールエポキシアクリレート（日本化薬株式会社製の商品名「Ｒ−１６７」、水酸基価２６８．７ＫＯＨmg／ｇ）２１ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用い５℃に保った。次に、塩化ｎ−オクタノイル１６．３ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させ反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去して得られた濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【００７３】
【化８】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１）１５ｇを得た。なお、移動相には、トルエン／酢酸エチルの混合液を用い、トルエン／酢酸エチルの体積分率が９：１のときの薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【００７５】
〈物性値〉
1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.43(2H)、6.12(2H)、5.84(2H)、5.24(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
3.58(4H)、3.46(4H)、2.32(4H)、1.63(4H)、1.59(4H)、1.3〜1.25(20H)、
0.87(6H)
【００７６】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、71.63、
70.56、69.99、68.95、63.1、62.7、34.3、31.9、29.6〜29.0、25.8、
24.9、22.6、14.1
【００７７】
赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1643〜1620、1173、807.5
【００７８】
元素分析：Ｃ＝64.22％（65.20％）、Ｈ＝9.31％（9.26％）、（）内は理論値
【００７９】
＜実施例２＞
実施例１において、塩化ｎ−オクタノイル１６．３ｇに代えて、塩化ラウロイル２１．８（０．１モル）を用いた以外は、実施例１と同様にして、式
【００８０】
【化９】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−２）２０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．５であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【００８２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.10(2H)、5.86(2H)、5.24(2H)、4.34(2H)、4.26(2H)、
3.51(4H)、3.45(4H)、2.31(4H)、1.64(4H)、1.60(4H)、1.3〜1.24(36H)、
0.87(6H)
【００８３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.6、173.3、165.5、165.3、131.3、131.1、128.1、128.1、70.63、
70.56、70.05、68.85、63.1、63.1、34.3、31.9、29.6〜29.0、25.8、
24.9、22.6、14.6
【００８４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1652〜1620、1176、807.9
元素分析：Ｃ＝68.01％（68.26％）、Ｈ＝10.22％（10.09）
【００８５】
＜実施例３＞
実施例１において、塩化ｎ−オクタノイル１６．３ｇに代えて、塩化ステアロイル３０．３（０．１モル）を用いた以外は、実施例１と同様にして、式
【００８６】
【化１０】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−３）２２ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．５であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【００８８】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.43(2H)、6.19(2H)、5.89(2H)、5.30(2H)、4.39(2H)、4.26(2H)、
3.58(4H)、3.50(4H)、2.39(4H)、1.61(4H)、1.61(4H)、1.45〜1.25(60H)、
0.87(6H)
【００８９】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.9、173.7、165.8、165.6、131.9、131.7、128.2、128.1、78.63、
90.56、69.99、68.95、63.7、62.7、34.3、31.9、30.6〜29.2、25.8、
24.9、22.7、14.6
【００９０】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2935、2864、1747、1652〜1625、1175、807.8
【００９１】
元素分析：Ｃ＝71.32％（71.54％）、Ｈ＝10.96％（10.81）
【００９２】
＜実施例４＞
実施例１において、塩化ｎ−オクタノイル１６．３ｇに代えて、塩化ベンゾイル１０．５（０．１モル）を用いた以外は、実施例１と同様にして、淡黄色液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−４）１１ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．３であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【００９３】
【化１１】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：8.15(4H)7.45(4H)、7.30(2H)、6.45(2H)、6.22(2H)、5.96(2H)、5.34(2H)、
4.32(2H)、4.28(2H)、3.59(4H)、3.50(4H)、1.63(4H)、1.28(4H)
【００９５】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：168.9、168.6、165.9、165.6、133.8、131.5、131.3、130.9、128.9、
128.2、128.0、71.93、70.66、70.0、68.95、63.1、62.7、29.8、25.8、
24.9
【００９６】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2929、2842、1742、1643〜1620、1605、1589、1173、807.4
【００９７】
元素分析：Ｃ＝59.12％（59.82％）、Ｈ＝6.58％（6.52）
【００９８】
＜実施例５＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスに、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル（日本油脂社製の商品名「エピオールＴＭＰ−１００」）１００ｇ（０．３３モル）、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度を保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。反応混合液を、５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．５、水酸基価２９４の淡褐色透明液状生成物を得た。
【００９９】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物２６．０ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、トリエチルアミン２０．０ｇ（０．２０モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化ｎ−オクタノイル２４．５ｇ（０．１５モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させて反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１００】
【化１２】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−５）３３ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１０２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.44(3H)、6.20(3H)、5.89(3H)、5.29(3H)、4.38(3H)、4.29(3H)、
3.58(6H)、3.48(6H)、2.34(6H)、1.60(6H)、1.35〜1.25(26H)、0.89(12H)
【０１０３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.6、173.4、165.7、165.4、131.5、131.3、128.6、128.4、71.68、
70.53、69.99、68.95、63.1、62.7、41.4、34.5、31.4、29.6〜29.0、
25.8、24.9、22.8、14.6
【０１０４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2920、2852、1745、1650〜1622、1180、807.1
【０１０５】
元素分析：Ｃ＝64.20％（64.30％）、Ｈ＝9.03％（8.92）
【０１０６】
＜実施例６＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールエポキシアクリレート（日本化薬株式会社製の商品名「Ｒ−１６７」、水酸基価２６８．７ＫＯＨmg／ｇ）２１ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、シクロヘキサンカルボン酸１２．８ｇ（０．１モル）、テトラヒドロフラン５００ml及び４−ジメチルアミノピリジン６．０ｇを触媒として加え、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１０モル）のテトラヒドロフラン５０ml溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、室温で２４時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、析出したジシクロヘキシル尿素を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１０７】
【化１３】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−６）３５ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．３であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１０９】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.44(2H)、6.11(2H)、5.86(2H)、5.26(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
3.60(4H)、3.48(4H)、2.42(2H)、1.65(4H)、1.62(8H)、
1.42〜1.35(12H)、1.31(4H)
【０１１０】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.5、173.2、165.9、165.6、131.53、131.3、128.4、128.3、71.63、
70.56、69.99、68.95、63.1、62.7、42.4、、34.9、29.6〜29.0、25.8、
24.9、22.6
【０１１１】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2930、2861、1744、1652〜1622、1176、807.5
【０１１２】
元素分析：Ｃ＝64.42％（64.76％）、Ｈ＝8.53％（8.41）
＜実施例７＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、２塩基酸のエポキシアクリレート（岡村製油株式会社製の商品名「ＩＰＳ−２２ＧＡ」、水酸基価１７５．２ＫＯＨmg／ｇ）３２ｇ、ｐ−メトキシフェノール３０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化ラウロイル２１．９ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させて反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１１３】
【化１４】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−７）２０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１１５】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.50(2H)、6.19(2H)、5.91(2H)、5.41(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
4.21(4H)、2.35(4H)、2.34(4H)、1.60(4H)、1.59(4H)、1.57(2H)、
1.4〜1.21(56H)、0.87(12H)
【０１１６】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、162.5、131.3、131.2、128.2、128.1、
69.9、68.5、63.1、63.0、62.7、34.3、33.6、33.1、31.9、29.6〜29.0、
25.8、24.9、22.6、14.8、14.1
【０１１７】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2926、2854、1743、1649〜1625、1172、807.9
【０１１８】
元素分析：Ｃ＝70.8.％（70.2％）、Ｈ＝10.54％（10.47）
【０１１９】
＜実施例８＞
実施例７において、塩化ラウロイル２１．９ｇに代えて、塩化イソステアロイル３０．３（０．１モル）を用いた以外は、実施例７と同様にして、式
【０１２０】
【化１５】
で表わされる淡黄色液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−８）２０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１２２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.51(2H)、6.19(2H)、5.90(2H)、5.42(2H)、4.33(2H)、4.27(2H)、
4.20(4H)、2.73(2H)、2.34(4H)、1.69(4H)、1.59(4H)、1.57(2H)、
1.55(4H)、1.35〜1.21(36H)、0.89〜0.86(48H)
【０１２３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.7、173.5、165.7、165.3、162.5、131.5、131.2、128.2、128.1、
69.9、68.5、63.1、63.0、62.7、41.4、40.5、34.3、33.6、33.0、31.9、
29.6〜29.2、26.0〜24.9、22.6、14.8〜14.3
【０１２４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2853、1743、1651〜1626、1172、807.5
【０１２５】
元素分析：Ｃ＝73.1％（73.7％）、Ｈ＝10.15％（10.08）
【０１２６】
＜実施例９＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、２塩基酸のエポキシアクリレート（岡村製油株式会社製の商品名「ＩＰＳ−２２ＧＡ」、水酸基価１７５．２ＫＯＨmg／ｇ）３２ｇ、ｐ−メトキシフェノール３０mg、４−ジメチルアミノピリジン３．１ｇ、３−ノニルドデカン酸３２．７ｇ（０．１モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１モル）のテトラヒドロフラン１００ml溶液を２時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、室温で２４時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、析出したジシクロヘキシル尿素を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１２７】
【化１６】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−９）３５ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１２９】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.51(2H)、6.20(2H)、5.94(2H)、5.42(2H)、4.33(2H)、4.26(2H)、
4.22(4H)、2.35(4H)、2.34(4H)、1.81(2H)、1.60(4H)、1.60(4H)、
1.57(2H)、1.5〜1.22(88H)、0.88(18H)
【０１３０】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、162.5、131.3、131.2、128.2、128.1、
69.9、68.5、63.1、63.0、62.7、41.2、34.3、33.6、33.1、31.9、
29.9〜29.0、25.8〜24.9、22.6、14.8、14.5
【０１３１】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2926、2856、1743、1653〜1625、1172、807.5
【０１３２】
元素分析：Ｃ＝73.0％（73.46％）、Ｈ＝11.21％（11.11）
【０１３３】
＜実施例１０＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル４６２．５ｇ（１モル）、アクリル酸１８０ｇ（２．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１８０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．６１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度を保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．６、水酸基価１７５０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１３４】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物３０ｇ、ｐ−メトキシフェノール１０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化オクタノイル１６．３ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させて反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１３５】
【化１７】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１０）１９ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．３であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１３７】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：7.23(4H)、7.15(4H)、6.99(4H)、6.88(4H)、6.82(4H)、6.45(2H)、
6.18(2H)、5.88(2H)、5.26(2H)、4.33(2H)、4.26(2H)、4.12(4H)、
2.34(4H)、1.78(6H)、1.59(4H)、1.25(16H)、0.87(6H)
【０１３８】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1643〜1620、1605、1587、1173、807.5
元素分析：Ｃ＝69.97％（70.02％）、Ｈ＝5.82％（5.70）
【０１３９】
＜実施例１１＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、１，２，７，８−ジエポキシオクタン１４２ｇ（１モル）、アクリル酸１８０ｇ（２．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１８０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．６１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温させ、同温度を保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価０．５、水酸基価３７０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１４０】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物１５ｇ、ｐ−メトキシフェノール１０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化ラウロイル２１．９ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、５時間還流させて反応を完結させた。反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、０．１Ｎ塩酸溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１４１】
【化１８】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１１）１５ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１４３】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.11(2H)、5.86(2H)、5.16(2H)、4.35(2H)、4.27(2H)、
2.34(4H)、1.72(4H)、1.59(4H)、1.32〜1.25(36H)、0.89(6H)
【０１４４】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、70.56、
68.95、63.1、62.7、34.3、32.6、31.9、29.6〜29.0、25.8、24.9、
22.6、14.1
【０１４５】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2927、2858、1742、1651〜1625、807.5
【０１４６】
元素分析：Ｃ＝73.2％（73.8％）、Ｈ＝10.89％（10.67）
【０１４７】
＜実施例１２＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、１，２，７，８−ジエポキシオクタン７１ｇ（１モル）、アクリル酸ダイマー（東亜合成株式会社製の商品名「Ｍ５６００」）（２．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１８０mg、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．６１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．０、水酸基価２５０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１４８】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに上記液状生成物２２．５ｇ、ｐ−メトキシフェノール１０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、塩化ラウロイル２１．９ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。以後の操作は、実施例１１と同様にして、式
【０１４９】
【化１９】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１２）２０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．３であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１５１】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.11(2H)、5.86(2H)、5.21(2H)、4.41(4H)、4.37(2H)、
4.29(2H)、2.46(4H)、2.34(4H)、1.72(4H)、1.59(4H)、1.32〜1.25(36H)、
0.88(6H)
【０１５２】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、165.7、165.4、162.0、131.3、131.2、128.2、128.1、
70.56、68.95、64.2、63.1、62.7、35.2、34.3、32.6、31.9、29.6〜29.0、
25.8、24.9、22.6、14.1
【０１５３】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2927、2858、1748、1651〜1625、807.5
【０１５４】
元素分析：Ｃ＝66.11％（66.52％）、Ｈ＝9.42％（9.31）
【０１５５】
＜実施例１３＞
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、β−エピクロルヒドリン変性ビスフェノールＡ（大日本インキ化学工業株式会社の商品名「エピクロンＨＭ−８１」）１８５ｇ、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価０．７、水酸基価２０４の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１５６】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物２７．５ｇ、ｐ−メトキシフェノール１０mg、トリエチルアミン１５．１ｇ（０．１５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用い５℃に保った。次に、塩化ベンゾイル１０．５ｇ（０．１モル）を１時間かけてゆっくり滴下した。以後の操作は、実施例１１と同様にして、式
【０１５７】
【化２０】
で表わされる淡黄色液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１３）２２ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１５９】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：8.51(4H)、7.43(4H)、7.30(2H)、7.23(4H)、6.88(4H)、6.82(4H)、
6.45(2H)、6.19(2H)、5.88(2H)、4.33(2H)、4.28(2H)、4.12(4H)、
1.78(6H)、1.24(2H)、0.87(6H)
【０１６０】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1643〜1620、1606、1587、1180、808.0
【０１６１】
元素分析：Ｃ＝71.21％（71.12％）、Ｈ＝5.70％（5.77）
【０１６２】
＜実施例１４＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、エピクロルヒドリン変性水添ビスフェノールＡ（新日本理化社製の商品名「リカレジンＨＢＥ−１００」）１８２ｇ、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．０、水酸基価２４０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１６３】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物２３．０ｇ、塩化ラウリル２０．４ｇ（０．１モル）、触媒としてテトラーｎ−ブチルアンモニウムブロマイド０．３ｇ、トルエン３００ml仕込、室温で撹拌した。次に、水酸化ナトリウム４．０ｇ（０．１モル）を加え、６０℃で２４時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、反応混合液を純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去して、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１６４】
【化２１】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１４）２４ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエーテル化されていることを確認した。
【０１６６】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.44(2H)、6.14(2H)、5.86(2H)、5.24(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
3.64(4H)、3.60(2H)、3.58(4H)、1.63(4H)、1.59(8H)、1.53(2H)、
1.35〜1.22(44H)、0.89(12H)
【０１６７】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：165.8、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、78.2、71.63、70.56、
69.99、68.2、63.1、62.7、34.1、31.9、29.6〜29.0、25.8、24.9、22.6、
14.1、14.0
【０１６８】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2927、2856、1744、1643〜1620、1175、807.7
【０１６９】
元素分析：Ｃ＝73.22％（73.57％）、Ｈ＝11.13％（11.05）
【０１７０】
＜実施例１５＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、１，２，７，８−ジエポキシオクタン１４２ｇ（１モル）、アクリル酸１８０ｇ（２．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１８０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．６１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価０．５、水酸基価３７０の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１７１】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物１５．０ｇ、塩化ラウリル２０．４ｇ（０．１モル）、触媒としてテトラーｎ−ブチルアンモニウムブロマイド０．３ｇ、トルエン３００mlを仕込み、室温で撹拌した。次に、水酸化ナトリウム４．０ｇ（０．１モル）を加え、６０℃で２４時間撹拌し、反応を完結させた。反応終了後、反応混合液を純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去して、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１７２】
【化２２】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１５）１０ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．５であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエーテル化されていることを確認した。
【０１７４】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.12(2H)、5.86(2H)、4.35(2H)、4.27(2H)、3.62(2H)、
3.43(4H)、1.60(4H)、1.55(4H)、1.34〜1.25(40H)、0.87(6H)
【０１７５】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：165.6、165.4、131.2、131.0、128.2、128.1、70.56、70.40、70.38、
68.95、63.1、62.7、34.3、32.6、32.2、31.9、29.6〜29.0、25.8、24.9、
22.6、14.1
【０１７６】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2927、2858、1742、1651〜1625、1176、807.5
【０１７７】
元素分析：Ｃ＝75.35％（75.41％）、Ｈ＝7.80％（7.85）
【０１７８】
＜実施例１６＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、ラウリン酸グリシジルエステル２５７ｇ（１．０モル）、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価０．８の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１７９】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物３３．０ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、４−ジメチルアミノピリジン３．１ｇ、セバシン酸１０．１ｇ（０．０５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１モル）のテトラヒドロフラン１００ml溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バスを外し、室温で２４時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、析出したジシクロヘキシル尿素を濾別し、濃縮した。濃縮液をトルエン２００mlに溶解させ、純水及び飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使用）を用いて精製して、式
【０１８０】
【化２３】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１６）２８ｇを得た。薄層プレートのＲｆ値は、０．４であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１８２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.43(2H)、6.12(2H)、5.86(2H)、5.11(2H)、4.33(2H)、4.25(2H)、
4.22(4H)、2.36(4H)、2.32(4H)、1.59(8H)、1.34〜1.25(38H)、0.85(6H)
【０１８３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.4、173.1、171.5、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、
70.56、69.99、68.95、63.1、62.7、62.3、35.4、34.3、31.9、
29.6〜29.0、25.8、24.9、22.6、14.1
【０１８４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1744〜1732、1651〜1624、807.5
【０１８５】
元素分析：Ｃ＝65.22％（65.13％）、Ｈ＝9.98％（10.07）
【０１８６】
＜実施例１７＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、長鎖アルキル基含有モノエポキサイド（ダイセル化学社製の商品名「ＡＯＥＸ２４」）１９６ｇ（１．０モル）、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．５の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１８７】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物２８．０ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、４−ジメチルアミノピリジン３．１ｇ、セバシン酸１０．１ｇ（０．０５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１モル）のテトラヒドロフラン１００ml溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。以下の操作は、実施例１６と同様にして、式
【０１８８】
【化２４】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１７）１５ｇを得た。Ｒｆ値は、０．５であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１９０】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.46(2H)、6.14(2H)、5.88(2H)、5.14(2H)、4.35(2H)、4.27(2H)、
2.32(4H)、1.59(4H)、1.51(4H)、1.34〜1.25(42H)、0.85(6H)
【０１９１】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.6、173.3、171.3、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、
71.5、63.1、35.4、31.9、31.0〜29.0、25.8、24.9、22.6、14.1
【０１９２】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1738、1651〜1624、807.5
【０１９３】
＜実施例１８＞
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、ステアリルグリシジルエーテル３２６ｇ（１．０モル）、アクリル酸１０８ｇ（１．５モル）、ｐ−メトキシフェノール１５０mg及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．３１ｇを入れ、８０℃で撹拌した。次に、反応液を１１０℃にゆっくり昇温し、同温度に保ちながら、１０時間撹拌して反応を完結させた。次に、反応混合液を５％水酸化ナトリウム溶液３００mlで洗浄し、更に、純水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、有機溶媒を留去して、酸価１．１の淡褐色透明液状生成物を得た。
【０１９４】
次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記液状生成物４０．０ｇ、ｐ−メトキシフェノール２０mg、４−ジメチルアミノピリジン３．１ｇ、ダイマー酸２５．０ｇ（０．０５モル）及びテトラヒドロフラン５００mlを加え、窒素気流下で、水氷バスを用いて５℃に保った。次に、ジシクロヘキシルカルボジイミド２０．６ｇ（０．１モル）のテトラヒドロフラン１００ml溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。以下の操作は、実施例１６と同様にして、式
【０１９５】
【化２５】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物３５ｇ（Ａ−１８）を得た。Ｒｆ値は、０．６であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より３２００〜３６００cm-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエステル化されていることを確認した。
【０１９７】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.46(2H)、6.14(2H)、5.88(2H)、5.33(2H)、4.35(2H)、4.27(2H)、
3.57(4H)、3.45(4H)、2.32(4H)、2.28(4H)、1.62(4H)、1.59(4H)、
1.48(4H)、1.42〜1.25(96H)、0.85(12H)
【０１９８】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.6、173.3、171.3、165.7、165.4、131.3、131.2、128.2、128.1、
71.5、70.5、63.1、35.4、31.9、35.0〜26.0、25.8、24.9、22.6、15.4、
14.1
【０１９９】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2926、2857、1738、1651〜1624、1176、807.5
【０２００】
＜実施例１９〜４０＞（液晶デバイス）
実施例１〜１８で得た側鎖型ラジカル重合性化合物を用い、表−２〜表−４に示した組成で、各原料を配合し、実施例用の調光層形成材料を調製した。これらの調光層形成材料を、１１．０μｍのガラスファイバー製スペーサーが塗布された２枚のＩＴＯ電極ガラス基板に挟み込み、調光層形成材料を均一な溶液状態に保つように基板全体を温度調節し、４０mＷ／cm2の紫外線を６０秒照射して、ラジカル重合性化合物を硬化させて、透明性高分子物質及び液晶材料から成る厚さが約１１μｍの調光層を有する液晶デバイスを得た。
【０２０１】
得られた液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係の測定結果を、表２〜表４にまとめて示した。
【０２０２】
また、表５には、実施例２０で作製した液晶デバイスを、測定温度０℃、２５℃及び５０℃で測定した結果を示した。
【０２０３】
＜比較例１＞
ラジカル重合性化合物として、ラジカル重合性２重結合間に側鎖を持たない１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社製の商品名「ＨＤＤＡ」）を用いた以外は、実施例と同様にして液晶デバイスを製造し、実施例と同様に、評価を行ない、その結果を表４に示した。
【０２０４】
＜比較例２＞
ラジカル重合性化合物として、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド平均４モル付加物のジアクリレート（東亜合成化学社製の商品名「Ｍ２１０」）を用いて実施例と同様にして液晶デバイスを製造し、実施例と同様に、評価を行ない、その結果を表４に示した。
【０２０５】
＜比較例３＞
ラジカル重合性化合物として、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社製の商品名「Ｒ−１６７」）を用いて実施例と同様にして液晶デバイスを製造し、実施例と同様に、評価を行ない、その結果を表４に示した。
【０２０６】
＜比較例４＞
ラジカル重合性化合物として、３，３−ジメチロールヘプタンジアクリレート（第一工業製薬社製の商品名「Ｃ９Ａ」）を用いて実施例と同様にして液晶デバイスを製造し、実施例と同様に、評価を行ない、その結果を表４に示した。
【０２０７】
【表２】
【表３】
【表４】
表中、液晶材料「ＰＮ−００５」は、ロディック社製のネマチック液晶材料であり、「イルガキュアー６５１」は、チバガイギー社製の２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンから成る光重合開始剤であり、「ＨＤＤＡ」は、日本化薬社製の１，６−ヘキサンジオールジアクリレートであり、「Ｍ２１０」は、東亜合成化学社製のビスフェノールＡのエチレンオキサイド平均４モル付加物のジアクリレートであり、「Ｒ−１６７」は、日本化薬社製のエピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレートであり、「Ｃ９Ａ」は、第一工業製薬社製の３，３−ジメチロールヘプタンジアクリレートである。
【０２１１】
＜実施例４１＞
実施例１９で製造した液晶デバイスを、製造１日後と８０℃１週間放置後に印加電圧と光透過率の関係を測定した結果、以下の通りであった。
【０２１２】
作製１日後
Ｖ90 ＝１０．２Ｖ、Ｔ0＝３．０、Ｔ100＝８８．０
【０２１３】
８０℃（１週間後）
Ｖ90 ＝９．９Ｖ、 Ｔ0＝３．２、Ｔ100＝８８．０
【０２１４】
＜比較例５＞
ラジカル重合性化合物として、３，３−ジメチロールヘプタンジアクリレート（第一工業製薬社製の商品名「Ｃ９Ａ」）１２．２重量部及びラウリルアクリレート１３．０重量部を用いた以外は、比較例４と同様にして、液晶デバイスを製造し、製造１日後と８０℃１週間放置後に、印加電圧と光透過率の関係を測定した結果、以下の通りであった。
【０２１５】
製造１日後
Ｖ90 ＝１４．６Ｖ、Ｔ0＝１５．８、Ｔ100＝８８．０
【０２１６】
８０℃（１週間後）
Ｖ90 ＝１０．２Ｖ、Ｔ0＝１２．２、Ｔ100＝８７．５
【０２１７】
＜実施例４２＞
実施例２０で作製した液晶デバイスを、測定温度０℃、２５℃、５０℃で評価を行ない、その結果を表５に示した。
【０２１８】
＜比較例６＞
【０２１９】
式
【０２２０】
【化２６】
で表わされる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−１９）を
【０２２２】
〈物性値〉
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：6.42(2H)、6.10(2H)、5.86(2H)、5.64(2H)、4.24(4H)、3.71(4H)、
3.55(4H)、2.33(4H)、1.55(4H)、1.3〜1.24(32H)、0.88(6H)
【０２２３】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒 重クロロホルム）
δ：173.7、173.5、165.5、165.3、131.5、131.3、128.4、128.1、81.2、
70.63、70.56、70.22、34.3、29.6〜29.0、25.8、24.9、14.6
【０２２４】
ＩＲ（ＫＢｒ）
cm-1：2925、2854、1742、1652〜1620、1176、807.9
【０２２５】
元素分析：Ｃ＝66.22％（66.49％）、Ｈ＝10.32％（10.19）
【０２２６】
、実施例１９〜４０と同様にして、液晶デバイスを製造し、実施例４２と同じ３種類の測定温度で評価を行ない、その結果を表５に示した。
【０２２７】
【表５】
【発明の効果】
本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物は、液晶材料と透明性高分子物質から成る調光層を有する液晶デバイスの透明性高分子物質の構成材料として用いた場合、偏光板が不要で、表示画面が明るく、高急峻性、高コントラストで、かつ１０Ｖrms以下という低電圧駆動が可能で、 かつ、温度による特性変化が小さい大面積薄型液晶デバイスを製造することができる。さらに、高抵抗であるため、電圧保持率を向上させることができ、画面のちらつきをなくすことができる。
Claims (5)
- 一般式（Ｉ）
- 前記一般式（Ｉ）において、ｐ＝０及びｑ＝１である請求項１記載の側鎖型ラジカル重合性化合物。
- 前記一般式（Ｉ）において、ｐ＝１及びｑ＝０である請求項１記載の側鎖型ラジカル重合性化合物。
- 電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板と、これらの基板間に支持された液晶材料及び透明性高分子物質からなる調光層を有する液晶デバイスにおいて、透明性高分子物質が、一般式（Ｉ’）
- 液晶材料の連続層中に３次元網目状の透明性高分子から成る調光層を有する請求項４記載の液晶デバイス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18369397A JP4029440B2 (ja) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | 側鎖型ラジカル重合性化合物及びそれを用いた液晶デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18369397A JP4029440B2 (ja) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | 側鎖型ラジカル重合性化合物及びそれを用いた液晶デバイス |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1129527A JPH1129527A (ja) | 1999-02-02 |
| JPH1129527A5 JPH1129527A5 (ja) | 2005-05-19 |
| JP4029440B2 true JP4029440B2 (ja) | 2008-01-09 |
Family
ID=16140297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18369397A Expired - Lifetime JP4029440B2 (ja) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | 側鎖型ラジカル重合性化合物及びそれを用いた液晶デバイス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4029440B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4683248B2 (ja) * | 2000-09-28 | 2011-05-18 | Ｄｉｃ株式会社 | 側鎖型ラジカル重合性化合物、及びそれを用いた液晶デバイス |
| JP4736217B2 (ja) * | 2001-03-28 | 2011-07-27 | Ｄｉｃ株式会社 | 側鎖型ラジカル重合性化合物、及びそれを用いた液晶デバイス |
| JP4868104B2 (ja) * | 2001-08-30 | 2012-02-01 | 日産化学工業株式会社 | シクロブタンテトラカルボン酸の（メタ）アクリレート化合物及びその製造法 |
| GB0128052D0 (en) | 2001-11-22 | 2002-01-16 | Drug Discovery Lab As | Compounds |
| JP4539108B2 (ja) * | 2004-02-16 | 2010-09-08 | Ｄｉｃ株式会社 | 重合性化合物、及び重合性組成物 |
| JP2005250110A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | 光散乱型液晶デバイス、及び調光層形成材料 |
| JP4623358B2 (ja) * | 2004-03-05 | 2011-02-02 | Ｄｉｃ株式会社 | 光散乱型液晶デバイス、及び調光層形成材料 |
| JP5019092B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2012-09-05 | Ｄｉｃ株式会社 | 重合性化合物及び重合性組成物 |
| JP4911336B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2012-04-04 | Ｄｉｃ株式会社 | 高分子分散型液晶表示素子 |
| JP5098142B2 (ja) * | 2005-09-29 | 2012-12-12 | Ｄｉｃ株式会社 | 重合性化合物の製造方法 |
| JP4929663B2 (ja) * | 2005-09-29 | 2012-05-09 | Ｄｉｃ株式会社 | 重合性化合物の製造方法 |
| JP2007326933A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Dainippon Ink & Chem Inc | エポキシビニルエステル樹脂、その製造法、感光性樹脂組成物、その硬化物、酸ペンダント型エポキシビニルエステル樹脂、アルカリ現像性感光性樹脂組成物、及びその硬化物 |
| JP6042118B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2016-12-14 | ポーラ化成工業株式会社 | 新規な三価アルコールのエステル |
| JP2019189667A (ja) * | 2018-04-18 | 2019-10-31 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
-
1997
- 1997-07-09 JP JP18369397A patent/JP4029440B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1129527A (ja) | 1999-02-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4029440B2 (ja) | 側鎖型ラジカル重合性化合物及びそれを用いた液晶デバイス | |
| JP5549174B2 (ja) | 重合性ナフタレン化合物 | |
| JP5509678B2 (ja) | 重合性化合物及び該化合物を用いた重合性組成物 | |
| JP3355680B2 (ja) | アクリレート化合物とそれを用いた液晶デバイス | |
| JP4736217B2 (ja) | 側鎖型ラジカル重合性化合物、及びそれを用いた液晶デバイス | |
| JP2011093812A (ja) | 重合性化合物 | |
| JP4403362B2 (ja) | 光散乱型液晶デバイス | |
| CN108138050A (zh) | 向列液晶组合物和使用其的液晶显示元件 | |
| JP4683248B2 (ja) | 側鎖型ラジカル重合性化合物、及びそれを用いた液晶デバイス | |
| KR100508053B1 (ko) | 액정 겔, 겔화제, 액정 디바이스 및 액정 디바이스의 제조 방법 | |
| JP4770038B2 (ja) | 重合性液晶化合物、及び光学異方体 | |
| JP2010222280A (ja) | 重合性ビフェニル化合物 | |
| JP4547598B2 (ja) | 調光層形成材料及び液晶デバイス | |
| JPH05264980A (ja) | 液晶デバイス及びその製造方法 | |
| JP5099396B2 (ja) | 光散乱型液晶デバイス | |
| JPH05188355A (ja) | 液晶デバイス及びその製造方法 | |
| JP2000072717A (ja) | 側鎖型ラジカル重合性化合物及びそれを用いた液晶デバイス | |
| JP4539108B2 (ja) | 重合性化合物、及び重合性組成物 | |
| CN115247068B (zh) | 一种包含可聚合化合物的液晶组合物及其应用 | |
| JPH07109456A (ja) | 液晶デバイス及びその製造方法 | |
| JP3790929B2 (ja) | 重合性液晶化合物 | |
| CN102040521A (zh) | 聚合性化合物 | |
| JP5055720B2 (ja) | 高分子分散型液晶表示素子用組成物及び高分子分散型液晶表示素子 | |
| JPH06194633A (ja) | 液晶デバイスの製造方法 | |
| JP3477880B2 (ja) | 液晶デバイス及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040707 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040707 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050621 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070213 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070416 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070612 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070807 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070925 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071008 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101026 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111026 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111026 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121026 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121026 Year of fee payment: 5 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121026 Year of fee payment: 5 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121026 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121026 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131026 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |