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JP4040783B2 - Blind hole forming method for printed circuit board - Google Patents
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、外層銅箔と内層銅箔を接続するためのブラインドホールをレーザにより加工する場合におけるプリント基板のブラインドホール形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
多層プリント基板では、外層銅箔(上層銅箔)から内層銅箔(下層銅箔)に至る穴(以下、ブラインドホールという。)を形成してからめっきを行い、めっき層を介して外層銅箔と内層銅箔を接続する。外層銅箔と内層銅箔を確実に接続するためには、めっき液をブラインドホールの内部に十分に入れる必要がある。また、めっき層形成後、ブラインドホールの内部を樹脂で確実に埋める必要がある。このため、ブラインドホールの形状を、いわゆるすり鉢状に形成することが要求されている。
【0003】
従来は、ブラインドホールを加工しようとする部分の外層銅箔を予めエッチングにより除去して窓(ウインドウ)を形成しておき、この窓を通してレーザ(たとえばCO2レーザ)を照射することにより、内層銅箔までの絶縁物すなわち、エポキシあるいはポリイミド等の樹脂を除去するコンフォーマルマスク法が採用されてきた。しかし、外層銅箔に窓を形成するためには、フォトマスクを製作する必要があるだけでなく、レジストの塗布、フォトマスクの位置合わせ、露光、現像、焼き付け、エッチング処理、洗浄などの多くの加工工程が必要になり、高価である。
【0004】
そこで、本願出願人は、特願平10−325167号により、予め外層銅箔の表面に凹凸を形成しておき、CO2レーザのレーザ光を外層銅箔の上から照射することによりブラインドホールを加工することを提案した。この方法では、レーザ加工後、エッチング処理により外層銅箔の板厚を薄くしてから、さらにデスミア処理によりブラインドホール内部の樹脂表面を平坦に仕上げ、その後めっき層を形成する。
【0005】
図6は、外層銅箔が厚いプリント基板を上記特願平10−325167で提案した方法により穴明けしたときのブラインドホールの断面図である。ブラインドホール1は外層銅箔2に明けられる穴1aと、樹脂3の穴1aから内層銅箔4に至る空洞部1bとで構成される。穴1aに対応する外層銅箔2を除去するために必要なエネルギは、空洞部1bに対応する樹脂3を除去するためために必要なエネルギに比べて数倍大きい。このため、外層銅箔2の板厚が厚い場合、外層銅箔2の内側の樹脂3が抉られ、空洞部1bの径が穴1aの径よりも大きくなることがある。また、穴1aの入口周辺に銅の飛散物が付着して土手5が形成されることもある。このような場合でも、、エッチングにより、図7に示すように、穴1aの入口周辺に形成された銅の飛散物は除去されると共に穴1aの径も広がり、外層銅箔2の裏側部分の樹脂3が表面に露出する。そして、表面に露出した樹脂3は、デスミア処理により、ブラインドホール1の内部の樹脂と共に除去される。そして、この方法によれば、外層銅箔2に窓を形成する必要がないため、ブラインドホールの加工工程を大幅に減らすことができた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、デスミア処理はブラインドホール1の内部に残った樹脂の滓を除去するだけでなく樹脂表面を3〜5μm程度除去する。このため、図8に示すように、穴1a近傍の外層銅箔2の裏側部分の樹脂3が必要以上に除去され、外層銅箔2が再び空洞部1bの上部にひさし状に突き出ことがあった。この状態でめっきをすると、めっき層6形成後のブラインドホールの形状が、図9に示すように、入り口で絞られたボトル状になった。
【0007】
本発明の目的は、上記従来技術における課題を解決し、レーザにより形成するブラインドホールの断面形状をすり鉢状にすることができるプリント基板のブラインドホール形成方法を提供するにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、請求項1の発明は、外層銅箔と内層銅箔を接続するブラインドホールを形成するプリント基板のブラインドホール形成方法において、外層銅箔および内層銅箔までの絶縁物をレーザにより穴明けする工程、加工した穴をデスミア処理する工程、外層銅箔と内層銅箔をエッチング処理する工程の順で形成し、前記エッチング処理する工程では、前記外層銅箔に形成した穴径が銅箔剥離部を除去できる穴径になるまで剛体銅箔剥離部、前記外層銅箔表面及び前記内層銅箔表面をエッチング処理することを特徴とする。
【0009】
また、請求項2の発明は、請求項1において、穴明けをするレーザがCO2レーザであることを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図示の実施の形態に基づいて説明する。
図1〜5は本発明のブラインドホール形成方法の加工手順に従った各工程におけるブラインドホールを形成する部分のプリント基板の断面図である。図1は、加工前を示しており、外層銅箔2の板厚Ttは4〜12μmであり、表面は粗化処理により1〜3μmの凹凸が、また、裏面は析出しためっきにより1〜7μmの凹凸があり、全体の板厚TTは板厚Ttよりも2〜10μm厚い7〜22μm程度である。内層銅箔4の表面と裏面にも外層銅箔2と同様の凹凸があり、全体の板厚TBは板厚TTよりも1〜3μm程度厚い7〜25μm程度である。
【0012】
図2は、レーザ加工直後を示している。ここでは、CO2レーザによりレーザ光を3回、すなわち、第1回の照射エネルギを大きなものとして外層銅箔2を除去し、第2回および第3回目は照射エネルギを小さなものとして樹脂3を除去することにより、ブラインドホールを形成している。図示の場合、第1回の照射エネルギが大きかったため、穴1aの外縁部には銅の付着により土手5が形成されている。また、第2回目および第3回目は照射エネルギが大きかったため、空洞部1bの最大直径DDは穴1aの直径DCよりも大径になり、外層銅箔2の裏側部分には樹脂3が層状(以下、層状樹脂3aという)に残り、内層銅箔4の表面には厚さが1μm程度の樹脂3あるいは樹脂3の残渣8が残っている。さらに、外層銅箔2の板厚が厚い場合、穴1a部分の外層銅箔2を除去するためにレーザのエネルギを大きくすると、外層銅箔2の局部的な温度上昇により、穴1a周辺の外層銅箔2の裏面には、長さLH(1〜3μm程度)の銅箔剥離部7が発生する場合がある。
【0013】
図3は、デスミア処理後を示している。図2で示す内層銅箔4の表面に付着していた樹脂3あるいは残渣8が除去されている。また、2点鎖線で示すデスミア前の形状に対して、空洞部1bの樹脂3表面が3〜5μm除去されている。また、層状樹脂3aが除去され、空洞部の上端の外径は広がり、外層銅箔2の穴1aの外縁部9がひさし状にLk(1〜5μm)だけ突き出した状態になる。なお、デスミア処理の前後において外層銅箔2および内層銅箔4の板厚や穴1aの直径は変化しない。
【0014】
図4はエッチング処理の途中経過を、図5はエッチング処理後を示している。エッチング処理により、図4における点線、1点鎖線、2点鎖線の順で各部の寸法が変化する。そして、最終的に、外層銅箔2の表面は仕上がり板厚Tteが元の板厚Ttの1/2程度の2〜6μmにまで表面を除去され、土手5もほぼ平坦になる。また、内層銅箔4の表面も同時に除去され、仕上がり板厚TBeが3〜9μm程度になる。なお、通常、内層銅箔4の表面が除去される深さは、外層銅箔2の表面が除去される深さよりも浅い。また、外縁部9は、エッチング液により表面、側面および裏面の三方からエッチングされ、ほぼ総てが除去される。そして、エッチング条件を外層銅箔2の仕上がり径DFが樹脂3の仕上がり径Df以上になるように選定すると、より効果的である。
【0015】
図5は、めっき処理後を示しており、めっき後のブラインドホール1がすり鉢状に形成されている。
【0016】
次に、実際の加工例を説明する。
【0017】
外層銅箔2の板厚Ttが5μmの場合、第1回目のCO2レーザを、エネルギー密度30J/cm2、パルス幅12μsで1パルス照射し、第2回目および第3回目をパルス幅3μsでそれぞれ1パルス照射(すなわち、第1回目の照射エネルギの1/4)した。その後、外層銅箔2を3μmエッチングして、外層銅箔2の板厚Tteを約2μmにすると、外縁部9を総て除去することができただけでなく、外層銅箔2の下側の仕上がり径DFは樹脂3の仕上がり径Dfに対して約+2〜+4μmに仕上がり、外層銅箔2の上側の仕上がり径は外層銅箔2の下側の仕上がり径DFに対して約+2〜+4μmにすることができた。
【0018】
また、外層銅箔2の板厚Ttが8μmの場合、エッチング処理量を増して、外層銅箔2の板厚Tteが2〜3μmになるまでエッチング処理することにより、土手6と同時に銅箔剥離部7も除去できた。すなわち、外層銅箔2と樹脂3との剥離長さLHが3μmであっても、剥離した部分からエッチング液が進入し、4〜6μmエッチングすることにより外層銅箔2の下側の仕上がり径DFを大きくでき、外層銅箔2の樹脂3から剥離した部分を除去できた。この結果、めっき後に外層銅箔2と樹脂3との剥離の発生を予防することができた。
【0019】
上記したように、本発明によれば、外層銅箔の表面からCO2レーザのレーザ光を照射することによりブラインドホールを加工し、しかもブラインドホールの形状をすり鉢状にすることができるから、ブラインドホールのすなわちプリント基板の品質が向上し、しかも、加工工程を大幅に減らすことができる。
【0020】
なお、上記では、CO2レーザの場合を説明したが、他のエキシマレーザあるいはUVレーザで加工する場合にも適用することができる。
【0021】
また、外層銅箔の表面に凹凸を設けたが、表面が平坦な場合にも適用することができる。
【0022】
さらに、上記の実施の形態では、エッチング処理により内層銅箔が薄くなり過ぎないようにするため、板厚TBを板厚Ttよりも3μm厚くしたが、エッチング処理を確実に管理できる場合には、板厚TBと板厚Ttを同じにしても良い。
【0023】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によればレーザにより形成するブラインドホールの断面形状をすり鉢状に形成でき、プリント基板の品質が向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る加工前のプリント基板の断面図である。
【図2】本発明に係るレーザ加工直後のプリント基板の断面図である。
【図3】本発明に係るデスミア処理後のプリント基板の断面図である。
【図4】本発明に係るエッチング処理の途中経過を示すプリント基板の断面図である。
【図5】本発明に係るエッチング処理後のプリント基板の断面図である。
【図6】従来技術の説明図である。
【図7】従来技術の説明図である。
【図8】従来技術の説明図である。
【図9】従来技術の説明図である。
【符号の説明】
1 ブラインドホール
2 外層銅箔
3 樹脂
4 内層銅箔
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for forming a blind hole in a printed circuit board when a blind hole for connecting an outer layer copper foil and an inner layer copper foil is processed by a laser.
[0002]
[Prior art]
In a multilayer printed circuit board, plating is performed after forming a hole (hereinafter referred to as a blind hole) from the outer layer copper foil (upper layer copper foil) to the inner layer copper foil (lower layer copper foil), and the outer layer copper foil is passed through the plating layer. And connect the inner layer copper foil. In order to securely connect the outer layer copper foil and the inner layer copper foil, it is necessary to sufficiently put the plating solution into the blind hole. In addition, after forming the plating layer, it is necessary to reliably fill the interior of the blind hole with resin. For this reason, it is required to form the blind hole in a so-called mortar shape.
[0003]
Conventionally, a portion of the outer layer copper foil in which the blind hole is to be processed is previously removed by etching to form a window, and a laser (for example, a CO 2 laser) is irradiated through the window to thereby form an inner layer copper. A conformal mask method has been adopted in which an insulator up to the foil, that is, a resin such as epoxy or polyimide is removed. However, in order to form a window in the outer layer copper foil, it is not only necessary to produce a photomask, but also a lot of resist application, photomask alignment, exposure, development, baking, etching, cleaning, etc. A processing step is required and is expensive.
[0004]
Therefore, according to Japanese Patent Application No. 10-325167, the applicant of the present application forms irregularities on the surface of the outer layer copper foil in advance, and irradiates the laser light of the CO 2 laser from above the outer layer copper foil to form the blind hole. Proposed to process. In this method, after laser processing, the thickness of the outer layer copper foil is reduced by etching, and then the resin surface inside the blind hole is finished flat by desmearing, and then a plating layer is formed.
[0005]
FIG. 6 is a cross-sectional view of a blind hole when a printed board having a thick outer layer copper foil is drilled by the method proposed in Japanese Patent Application No. 10-325167. The blind hole 1 is composed of a hole 1 a opened in the outer layer copper foil 2 and a cavity 1 b extending from the hole 1 a of the resin 3 to the inner layer copper foil 4. The energy required for removing the outer layer copper foil 2 corresponding to the hole 1a is several times larger than the energy required for removing the resin 3 corresponding to the cavity 1b. For this reason, when the plate | board thickness of the outer layer copper foil 2 is thick, the resin 3 inside the outer layer copper foil 2 is rubbed, and the diameter of the cavity part 1b may become larger than the diameter of the hole 1a. Further, the bank 5 may be formed by the scattered copper adhering around the entrance of the hole 1a. Even in such a case, as shown in FIG. 7, the copper scattered matter formed around the entrance of the hole 1 a is removed and the diameter of the hole 1 a is widened by etching. Resin 3 is exposed on the surface. Then, the resin 3 exposed on the surface is removed together with the resin inside the blind hole 1 by a desmear process. And according to this method, since it is not necessary to form a window in the outer layer copper foil 2, the blind hole processing step can be greatly reduced.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, the desmear treatment not only removes the resin residue remaining in the blind hole 1 but also removes the resin surface by about 3 to 5 μm. For this reason, as shown in FIG. 8, the resin 3 on the back side portion of the outer layer copper foil 2 in the vicinity of the hole 1a is removed more than necessary, and the outer layer copper foil 2 may protrude into the upper part of the cavity portion 1b again in an eaves shape. It was. When plating was performed in this state, the shape of the blind hole after the formation of the plating layer 6 became a bottle shape squeezed at the entrance as shown in FIG.
[0007]
An object of the present invention is to solve the above-described problems in the prior art and provide a method for forming a blind hole in a printed circuit board that can make a cross-sectional shape of a blind hole formed by a laser into a mortar shape.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is directed to a blind hole forming method for a printed circuit board in which a blind hole for connecting an outer layer copper foil and an inner layer copper foil is formed. Are formed in the order of the step of drilling with a laser, the step of desmearing the processed hole, the step of etching the outer layer copper foil and the inner layer copper foil, and in the step of etching, the hole formed in the outer layer copper foil The rigid copper foil peeling portion, the outer layer copper foil surface, and the inner layer copper foil surface are etched until the diameter reaches a hole diameter capable of removing the copper foil peeling portion .
[0009]
The invention of claim 2 is characterized in that, in claim 1, the laser for drilling is a CO 2 laser.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described based on the illustrated embodiments.
1 to 5 are cross-sectional views of a printed circuit board at a portion where a blind hole is formed in each step according to the processing procedure of the blind hole forming method of the present invention. FIG. 1 shows a state before processing, and the outer layer copper foil 2 has a plate thickness Tt of 4 to 12 μm, the surface is roughened by roughening treatment, and the back surface is 1 to 7 μm due to deposited plating. The overall plate thickness TT is about 7-22 μm which is 2-10 μm thicker than the plate thickness Tt. The front and back surfaces of the inner layer copper foil 4 also have irregularities similar to those of the outer layer copper foil 2, and the overall plate thickness TB is about 7 to 25 μm, which is about 1 to 3 μm thicker than the plate thickness TT.
[0012]
FIG. 2 shows immediately after laser processing. Here, the outer layer copper foil 2 is removed by using the CO 2 laser three times with the laser light, that is, the first irradiation energy is increased, and the resin 3 is applied with the irradiation energy being decreased in the second and third times. By removing, a blind hole is formed. In the case of illustration, since the first irradiation energy was large, the bank 5 was formed in the outer edge part of the hole 1a by adhesion of copper. In addition, since the irradiation energy was large in the second and third times, the maximum diameter DD of the cavity 1b was larger than the diameter DC of the hole 1a, and the resin 3 was layered on the back side portion of the outer copper foil 2 ( Hereinafter, the resin 3 having a thickness of about 1 μm or the residue 8 of the resin 3 remains on the surface of the inner layer copper foil 4. Further, when the thickness of the outer layer copper foil 2 is thick, if the laser energy is increased in order to remove the outer layer copper foil 2 in the hole 1a, the outer layer around the hole 1a is increased due to the local temperature rise of the outer layer copper foil 2. On the back surface of the copper foil 2, a copper foil peeling portion 7 having a length LH (about 1 to 3 μm) may occur.
[0013]
FIG. 3 shows the state after desmear processing. Resin 3 or residue 8 adhered to the surface of inner layer copper foil 4 shown in FIG. 2 is removed. Moreover, 3-5 micrometers of resin 3 surfaces of the cavity part 1b are removed with respect to the shape before desmear shown with a dashed-two dotted line. In addition, the layered resin 3a is removed, the outer diameter of the upper end of the hollow portion is expanded, and the outer edge portion 9 of the hole 1a of the outer layer copper foil 2 is projected in an eave shape by Lk (1 to 5 μm). Note that the thickness of the outer layer copper foil 2 and the inner layer copper foil 4 and the diameter of the hole 1a do not change before and after the desmear treatment.
[0014]
FIG. 4 shows the progress of the etching process, and FIG. 5 shows the state after the etching process. By the etching process, the dimensions of the respective parts are changed in the order of the dotted line, the one-dot chain line and the two-dot chain line in FIG. Finally, the surface of the outer layer copper foil 2 is removed until the finished plate thickness Tte is about 2 to 6 μm, which is about ½ of the original plate thickness Tt, and the bank 5 becomes almost flat. Further, the surface of the inner layer copper foil 4 is also removed at the same time, and the finished plate thickness TBe becomes about 3 to 9 μm. Normally, the depth at which the surface of the inner layer copper foil 4 is removed is shallower than the depth at which the surface of the outer layer copper foil 2 is removed. Further, the outer edge portion 9 is etched from the front surface, the side surface, and the back surface by the etching solution, and almost all of the outer edge portion 9 is removed. It is more effective to select the etching conditions such that the finished diameter DF of the outer layer copper foil 2 is equal to or larger than the finished diameter Df of the resin 3.
[0015]
FIG. 5 shows the state after the plating process, and the blind hole 1 after the plating is formed in a mortar shape.
[0016]
Next, an actual processing example will be described.
[0017]
When the thickness Tt of the outer layer copper foil 2 is 5 μm, the first CO 2 laser is irradiated with one pulse with an energy density of 30 J / cm 2 and a pulse width of 12 μs, and the second and third times with a pulse width of 3 μs. Each was irradiated with one pulse (ie, 1/4 of the first irradiation energy). After that, when the outer layer copper foil 2 was etched by 3 μm and the plate thickness Tte of the outer layer copper foil 2 was about 2 μm, not only the outer edge portion 9 could be removed, but also the lower side of the outer layer copper foil 2 The finished diameter DF is finished to about +2 to +4 μm with respect to the finished diameter Df of the resin 3, and the finished diameter on the upper side of the outer layer copper foil 2 is about +2 to +4 μm with respect to the finished diameter DF on the lower side of the outer layer copper foil 2. I was able to.
[0018]
Moreover, when the plate thickness Tt of the outer layer copper foil 2 is 8 μm, the copper foil is peeled off simultaneously with the bank 6 by increasing the etching amount and performing the etching process until the plate thickness Tte of the outer layer copper foil 2 becomes 2 to 3 μm. Part 7 could also be removed. That is, even if the peeling length LH between the outer layer copper foil 2 and the resin 3 is 3 μm, an etching solution enters from the peeled portion, and the finished diameter DF on the lower side of the outer layer copper foil 2 is etched by 4 to 6 μm. The portion peeled from the resin 3 of the outer layer copper foil 2 could be removed. As a result, it was possible to prevent the peeling between the outer layer copper foil 2 and the resin 3 after plating.
[0019]
As described above, according to the present invention, the blind hole can be processed by irradiating the laser light of the CO 2 laser from the surface of the outer layer copper foil, and the shape of the blind hole can be made into a mortar shape. The quality of the hole, that is, the printed circuit board is improved, and the processing steps can be greatly reduced.
[0020]
In the above description, the case of the CO 2 laser has been described. However, the present invention can also be applied to the case of processing with another excimer laser or UV laser.
[0021]
Moreover, although the unevenness | corrugation was provided in the surface of the outer layer copper foil, it is applicable also when the surface is flat.
[0022]
Furthermore, in the above embodiment, the thickness TB is 3 μm thicker than the thickness Tt in order to prevent the inner layer copper foil from becoming too thin by the etching process, but when the etching process can be reliably managed, The plate thickness TB and the plate thickness Tt may be the same.
[0023]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the cross-sectional shape of the blind hole formed by the laser can be formed in a mortar shape, and the quality of the printed circuit board can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a printed circuit board before processing according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a printed circuit board immediately after laser processing according to the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a printed circuit board after desmear processing according to the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a printed circuit board showing the progress of an etching process according to the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view of a printed circuit board after an etching process according to the present invention.
FIG. 6 is an explanatory diagram of a conventional technique.
FIG. 7 is an explanatory diagram of a conventional technique.
FIG. 8 is an explanatory diagram of the prior art.
FIG. 9 is an explanatory diagram of a prior art.
[Explanation of symbols]
1 Blind hole 2 Outer layer copper foil 3 Resin 4 Inner layer copper foil

Claims (2)

外層銅箔と内層銅箔を接続するブラインドホールを形成するプリント基板のブラインドホール形成方法において
外層銅箔および内層銅箔までの絶縁物をレーザにより穴明けする工程、
加工した穴をデスミア処理する工程、
外層銅箔と内層銅箔をエッチング処理する工程
の順で形成し、前記エッチング処理する工程では、前記外層銅箔に形成した穴径が銅箔剥離部を除去できる穴径になるまで当該銅箔剥離部、前記外層銅箔表面及び前記内層銅箔表面をエッチング処理することを特徴とするプリント基板のブラインドホール形成方法。
In the printed circuit board blind hole forming method for forming the blind hole connecting the outer layer copper foil and the inner layer copper foil,
A step of drilling an insulator to the outer layer copper foil and the inner layer copper foil with a laser;
A process of desmearing the machined holes,
The outer layer copper foil and the inner layer copper foil are formed in the order of the etching process. In the etching process, the copper foil is formed until the hole diameter formed in the outer layer copper foil becomes a hole diameter capable of removing the copper foil peeling portion. A method for forming a blind hole in a printed circuit board , comprising etching the peeling portion, the outer layer copper foil surface, and the inner layer copper foil surface .
穴明けをするレーザがCOレーザであることを特徴とする請求項1に記載のプリント基板のブラインドホール形成方法。 2. The method for forming a blind hole in a printed circuit board according to claim 1, wherein the laser for drilling is a CO2 laser.
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